JPH02246106A - 電子部品半田ディプ処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、リードフレーム付きの半導体集積回路素子や
、リードフレームのフレーム部分で連結されている多数
の電子部品の各リード部分に、またはプリント基板の鋼
層部分に半田の表面層を形成する工程において用いられ
る半田ディプ処理装置に関するものである。

従来の技術 リードフレームを用いて製造されまたは連結されている
電子部品の製造段階において、同部品のリード部分に半
田の表面層を形成することが一般に行われており、かか
る表面層は通常、ディプ（浸漬）処理によって形成され
る。

液槽内の溶融半田は常にヒータで加熱されており、半田
浴のためにキャリヤ等で液槽上に送り込まれた電子部品
は、そのリードフレーム部を下側にして下降し、溶融半
田に接触する。液槽内の溶融半田を噴流させておくこと
も行われており、この場合、溶融半田の表面酸化を軽減
させ得るとともに、前記接触を良好ならしめることがで
きる。

発明が解決しようとする課題 電子部品のリードフレーム部がコ字状の断面形状を有し
ている場合、その両翼部を同時に溶融半田に接触させる
ことができる。しかし、平坦なリードフレームを用いた
電子部品の場合は、その−方の翼部をディプ処理したの
ち、上下を反転させて他方の翼部をディプ処理しなけれ
ばならず、しかも、前記反転は、最初のディプ処理で翼
部に付着した溶融半田が完全に固化するのを待って行わ
なければならない。このため、工数および処理時間がか
さみ、処理能率の向上を図り難いという課題があった。

また、半田のディプ処理を必要とするのはリード部分だ
けであるのに、フレーム部分にまで溶融半田が付着して
しまい、はなはだ不経済という課題もあった。

さらに、リード部分から析出した不純物が液槽内の溶融
半田に混入して累積し、溶融半田の組成に経時変化を生
じやすいという課題もあった。

課題を解決するための手段 本発明によると、溶融半田を収容する液槽内に、前記溶
融半田に対して濡れのよいブロック体を、その頭部が前
記溶融半田の液面から突出するように配設される。前記
ブロック体は、前記溶融半田を前記液面よりも高い位置
に導くための垂直方向スリットを有するとともに、前記
頭部には電子部品を通過させるための水平方向スリット
を有し、前記水平方向スリットは前記垂直方向スリット
と断面Ｔ字状に合する構成となされる。

作用 このような構成であるので、液層内の溶融半田は、濡れ
のよいブロック体の垂直方向スリット内を通じて上昇し
、液面よりも高い水平方向スリット内に達して自体の表
面張力で保持される。そして、水平方向スリット内をリ
ードフレーム部のリード部分またはプリント基板が水平
位で通過することにより、その金属表面に溶融半田が接
触するのであり、水平位での半田浴が可能となる。しか
も、この半田浴に必要な溶融半田は、垂直方向スリット
を通し液槽内から順次に供給されていくため、リード部
分またはプリント基板側から析出した不純物が液槽内の
溶融半田に混入して累積するようなことがない。また、
半田浴はスリット内で進行していくため、溶融半田の表
面酸化を最少限に抑え得るのみならず、スリット内通過
時のしごき作用によって密着性の良い薄い半田層を能率
よく形成することができる。

また、かかるブロック体の２個を１対として左右対称に
並設しておくと、平坦リードフレームの両翼部をそれぞ
れのブロック体で同時にディプ処理することができるし
、ブロック体の幅または水平方向スリットの有効部奥行
をリードフレーム部のリード部分通過幅に合わせておく
だけで、半田層を必要とする部分にのみ半田ディプ処理
を施すことができ、半田の浪費を防ぐことができる。

実施例 つぎに、本発明を図面に示した実施例とともに説明する
。

第１図に示すように、溶融半田１を収容してなる液槽２
は、シーズヒータ３およびブロック体４を内蔵している
。鉛および亜鉛の共晶合金からなる溶融半田１に対して
濡れのよい鉄またはニッケル等の金属からなるブロック
体４は、第２図にも示すように複数の垂直方向スリット
５を有するとともに、溶融半田１の液面から突出した頭
部４ａに、一つの水平方向スリット６を有している。７
はブロック体吊り下げ金具を示す。水平方向スリット６
は、垂直方向スリット５と断面Ｔ字状に合しているとと
もに、その有効奥行Ａを決定するための空洞部８に連通
している。垂直方向スリット５のギャップ幅Ｂは０．１
２ｍｍ〜０．２聰に、そして、水平方向スリット６のギ
ャップ幅Ｃは０．１８Ｉｌ１ｍ〜０．２５ｍにそれぞれ
設定することができる。

垂直方向スリットＳ内に侵入した溶融半田は液面１ａを
越えて水平方向スリット６に達し、自体の表面張力で保
持される。そして、被加工電子部品９のリードフレーム
部１０のリード部分１０ａが水平方向スリット６内を水
平位で通過することにより、リード部分１０ａに溶融半
田が接触する。

垂直方向スリット５は複数存在するので、前記接触によ
る半田浴は繰り返し連続的に行われ、しかも、この半田
浴は水平方向スリット６内で進行してい（。一方、リー
ドフレーム１０の多数のリード部分１０ａは所定距離を
隔てて並んでいるので、垂直方向スリット５の上端がそ
こを通過するリード部分１０ａで閉じられても、それは
瞬時的なものであり、次の瞬間には新たな溶融半田が垂
直方向スリット５を通じて順次に供給されていく。また
、リードフレーム部１０のフレーム部分１０ｂは空洞部
８内を通過し、空洞部８内には溶融半田が存在しないの
で、フレーム部分１０ｂには溶融半田が付着しない。

垂直方向スリット５は、その全体または一部分が少々傾
斜していてもよく、途中で枝状に分岐していてもよい。

また、ブロック体４の奥行寸法りを水平方向スリット６
の奥行Ａに合わせてもよいが、空洞部８の側壁は被加工
電子部品を移送させる場合にガイドの役割を果たす。

水平方向スロット６の長手方向に対して垂直方向スリッ
ト５の上端が直角に合する要はなく、第３図に示す実施
例のように傾斜させておくと、垂直方向スリット−つ当
たりの溶融半田供給量を増やすことができる。垂直方向
スリットは一つであってもよい。

第４図に示す実施例のものでは、１対のブロック体４を
相対向するように組み合わせてなり、その中間部１１に
被加工電子部品の本体部分が通過するようになっている
。

被加工電子部品９のフレーム部１０をブロック体４内に
送り込み、かつ脱出させるための移送手段は、ブロック
体４の入口側および出口側に適数対のローラを設けるこ
とにより達成できる。各対の２個のローラは、リードフ
レーム部１０のフレーム部分１０ａを上下から挟んで被
加工電子部品を搬送させる。

なお、被加工電子部品は半導体製品に限られず、プリン
ト基板等であってもよい。

発明の効果 以上のように本発明によると、リードフレーム部のリー
ド部分等に対する水平位半田浴を水平方向スリット内で
達成できるのであり、溶融半田の表面酸化を最少限に抑
えて常に良好な半田表面層を形成することができる。ま
た、ブロック体の２個を１対として左右対称に並設する
ことによっては、平坦リードフレームの両翼部を同時に
半田浴させ得るのであり、ブロック体の幅または水平方
向スリットの有効部幅を、リードフレーム部のリード部
分通過幅に合わせておくだけで、リード部分にのみ半田
表面層を形成でき、溶融半田の浪費を防ぐことができる
。また、液槽内溶融半田の経時変化を防止し得るととも
に、密着性のよい薄い半田層を形成することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を実施した半田ディプ処理装置の斜視図
、第２図は同装置のブロック体と被加工電子部品との関
係を示す一部破断斜視図、第３図および第４図はそれぞ
れ本発明の他の実施例の要部の斜視図である。 １・・・・・・溶融半田、２・・・・・・液槽、４・・
・・・・ブロック体、５・・・・・・垂直方向スリット
、６・・・・・・水平方向スリット、９・・・・・・被
加工電子部品、１０・・・・・・リードフレーム部、１
０ａ・・・・・・リード部分、１０ｂ・・・・・・フレ
ーム部分。 特許出願人　　　　銭谷産業株式会社 ！−一一一溶扁火岑田 ２−−−−　　Ｊイｔ ６−−−−　フｐカに弓スリ、ト

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　溶融半田を収容する液槽内に、前記溶融半田に対して
   濡れのよいブロック体を、その頭部が前記溶融半田の液
   面から突出するように配設してなり、前記ブロック体は
   、前記溶融半田を前記液面よりも高い位置に導くための
   垂直方向スリットを有するとともに、前記頭部には電子
   部品を通過させるための水平方向スリットを有し、前記
   水平方向スリットは前記垂直方向スリットと断面Ｔ字状
   に合していることを特徴とする電子部品半田ディプ処理
   装置。