JPH0224608Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案はワーク（被処理物）を連続的にラツピ
ング処理することができるラツピング装置に関す
る。

従来技術及びその問題点 従来、ワークをラツピングするためのラツピン
グ装置としては、第４図及び第５図に示したよう
に、下定盤ａの中央部に太陽ギアｂを配設すると
共に、下定盤ａの周縁部にインターナルギアｃを
配設し、これら太陽ギアｂとインターナルギアｃ
との間にキヤリアギアｄをこれら両ギアｂ，ｃに
それぞれ噛合させた状態で介装し、かつキヤリア
ギアｄの上側に上定盤ｅを配設したものが汎用さ
れている。この装置は、下定盤ａと上定盤ｅとを
それぞれ互に逆方向に回転させると共に、キヤリ
アギアｄを自転させて、このキヤリアギアｄに設
けたワーク挿入部に挿入したワークｆの表面をラ
ツプ剤ｇの研摩作用でラツピングするものであ
る。

この場合、ラツピング時間は通常５〜10分程度
であり、ラツピングされたワークは装置を停止し
て取り出し、次いで新たにラツピングするワーク
をワーク挿入部に入れ、装置を再度作動させてラ
ツプ作業を行なうものである。従つて、従来のラ
ツピング装置においてはラツプ作業は間欠的にな
らざるを得ず、ロツト生産を余儀なくされてい
た。このため、このようにラツプ作業が連続的に
行なわれず、１回当りラツピングされるワークは
少数であるので、多くのワークをラツピングする
ためには高価なラツピング装置を多数設置してラ
ツプ作業を行なう必要があつた。また、１つのワ
ークにつき荒ラツプ仕上げと精密ラツプ仕上げを
行なう場合は荒ラツプ用の装置と精密ラツプ用の
装置をそれぞれ用意しなければならなかつた。

また、従来のラツピング装置は定盤全面にワー
クが均一に接触しないため、ワークと接触する定
盤内側面に部分的摩耗による偏差が生じて平滑性
が失われるので、ひんぱんに定盤を修正し、その
内側面を平滑に保たなければならなかつた。

問題点を解決するための手段 本考案は上記事情に鑑みなされたもので、ワー
クを連続的にラツピングし得、しかも定盤修正の
手間をほとんどなくすことができて、ラツプ作業
を著しく能率化することができるラツピング装置
を提供することを目的とする。

即ち、本考案は、上記目的を達成するため、そ
れぞれ互に所定間隔を存して対向する回転可能に
配設された一対の定盤と、ワーク挿入部を有し、
前記定盤間を通過可能に配置された円盤状キヤリ
アギアと、前記キヤリアギアの両側方にそれぞれ
配置されてこのキヤリアギアと噛合する一対のエ
ンドレスギア又はラツクを有し、一方のエンドレ
スギア又はラツクの走行速度を他方のエンドレス
ギア又はラツクの走行速度よりも速くすると共
に、これら一対のエンドレスギア又はラツクの走
行方向を互に反対方向にすることによりキヤリア
ギアを自転させつつ前記定盤の径方向に沿つて走
行させる送り装置とを備え、前記送り装置の動作
でキヤリアギアを自転させつつ前記定盤の径方向
に沿つて定盤間を通過させる際、このキヤリアギ
アのワーク挿入部に挿入したワークをラツピング
するように構成したものである。

本考案の好適な実施態様によれば、一対の定盤
を互に所定間隔離間して複数組配設したラツピン
グ装置が提供される。

以下、本考案の一実施例につき第１図乃至第３
図を参照して説明する。

実施例 図中１，１′はそれぞれ互に所定間隔離間して
回転可能に配置した下定盤、２，２′はそれぞれ
前記下定盤１，１′の上方にこれら下定盤１，
１′と対向した状態で所定間隔離間して回転可能
に配置した上定盤であり、これら下定盤１，１′
及び上定盤２，２′には、それぞれ回転機構（図
示せず）と連結する回転軸３，３′，４，４′が固
定され、回転機構の作動により回転軸３，３′，
４，４′がそれぞれ回転し、これらと一体に下定
盤１，１′及び上定盤２，２′がそれぞれ回転する
ようになつている。なおこの場合、それぞれ対向
する下定盤１，１′と上定盤２，２′とは互に逆方
向に回転するよう回転機構が制御されるものであ
る。

前記一方の下定盤１の後方及び他方の下定盤
１′の前方並びに両下定盤１，１′間には、それぞ
れ受け台５ａ，５ｂ，５ｃがそのそれぞれの上面
を下定盤１，１′の上面水平レベルと一致して配
置されている。また、前記下定盤１，１′及び受
け台５ａ，５ｂ，５ｃ上には、複数個のキヤリア
ギア６が互に所定間隔を存して離間し、下定盤
１，１′と上定盤２，２′との間をこれら定盤とほ
ぼ接した状態で通り抜けられるように配設されて
いると共に、これらキヤリアギア６の両側方には
エンドレスギア（送り装置）７，７′が各キヤリ
アギア６と噛合した状態でそれぞれ配設されてい
る。なお、図中８，８′はそれぞれ駆動装置（図
示せず）と連結した駆動ギア、９，９′はそれぞ
れ誘導ギアであり、これらギア８，８′，９，
９′はそれぞれ前記エンドレスギア（送り装置）
７，７′と噛合しており、駆動装置の作動により
前記駆動ギア８，８′が回転し、これによりエン
ドレスギア（送り装置）７，７′が走行するもの
である。この場合、一方のエンドレスギア７と他
方のエンドレスギア７′とは互に反対方向に走行
すると共に、一方のエンドレスギア７が他方のエ
ンドレスギア７′よりも所定速度だけ速く走行す
るように駆動装置が制御され、これにより前記エ
ンドレスギア７，７′と噛合する各キヤリアギア
６が自転しつつ一方のエンドレスギア７内側の走
行方向に沿つて所定速度で走行するようになつて
いる。また、前記キヤリアギア６にはそれぞれワ
ーク挿入部１０が設けられ、これらにワーク１１
が挿入されるようになつている。

なお、図中１２はスプレー洗浄装置であり、こ
の洗浄装置１２からの洗浄液でワーク１１が洗浄
されると共に、ワーク１１を洗浄した洗浄液は受
け台５ｃに形成された排液孔１３を通つてその下
方に配設した排液槽１４内に流入するようになつ
ている。この場合、排液槽１４内の洗浄液は図示
していないが循環ポンプにより洗浄装置１２に返
送され、再使用されるようになつている。

また、図示していないが、各下定盤１，１′及
び上定盤２，２′とワーク１１との間にラツプ剤
を供給するラツプ剤供給装置が配設されている。

上述した装置を用いてワークをラツピングする
場合は、まずキヤリアギア６のワーク挿入部１０
にワーク１１を挿入し、駆動装置を作動させて駆
動ギア８，８′をそれぞれ回転させ、これに噛合
されたエンドレスギア７，７′をそれぞれ走行さ
せる。この場合、一方の駆動ギア８の方が他方の
駆動ギア８′より所定速度速く回転し、かつこれ
らギア８，８′の回転方向は互に逆方向となるよ
うに駆動装置が制御され、従つて一方のエンドレ
スギア７が他方のエンドレスギア７′より所定速
度速く走行し、かつこれらギア７，７′の走行方
向は互に逆方向となるため、エンドレスギア７，
７′にそれぞれ噛合された各キヤリアギア６がそ
れぞれ自転しながら一方のエンドレスギア７内側
の走行方向（図中矢印Ａ方向）に所定速度で走行
し、後方の受け台５ａから一方の上下定盤間、中
間受け台５ｃ、他方の上下定盤間を順次経て前方
の受け台５ｂに向けて進行する。

そして、このようにキヤリアギア６を走行させ
ながら、回転機構を作動させ、下定盤１，１′及
び上定盤２，２′をそれぞれ互に対向する上下定
盤が反対方向に回転するように回転させると共
に、各下定盤１，１′及び上定盤２，２′とワーク
１１との間にラツプ剤を供給する。これにより、
ワーク１１はキヤリアギア６の自転及び走行と一
体に自転、走行しつつまず一方の上下定盤間を通
過する際にその上下面がラツピングされ、更に他
方の上下定盤間を通過する際に再度上下面がラツ
ピングされるものである。

従つて、上述した装置を用いたワーク１１のラ
ツプ作業は自動的かつ連続的に行なわれ、後方の
受け台５ａにあるキヤリアギア６のワーク挿入部
１０にラツピングすべきワーク１１を挿入し、前
方の受け台５ｂにあるキヤリアギア６のワーク挿
入部１０からラツピングされたワーク１１を取り
出すことにより、装置を停止する必要なく次から
次にワーク１１をラツピングすることができる。

また、一方の上下定盤に供給するラツプ剤とし
て荒ラツプ用のものを使用し、他方の上下定盤に
供給するラツプ剤として精密ラツプ用のものを使
用することにより、ワーク１１は最初に荒ラツプ
仕上げされ、次いで連続的に精密ラツプ仕上げさ
れるもので、従つて上述した装置によれば荒ラツ
プ仕上げと精密ラツプ仕上げを一台の装置で連続
して行なうことができ、効率的なラツプ作業が達
成されるものである。

しかもこの場合、一方の上下定盤間と他方の上
下定盤間にはスプレー洗浄装置１２が配設され、
最初のラツピングが施されたワーク１１は洗浄装
置１２からの洗浄剤でスプレー洗浄された後、次
のラツピングが施されるので、良好なラツプ仕上
げが得られ、またこのように最初のラツピング後
にワーク１１を取り出して洗浄する必要がないの
で、この点でも連続ラツプ作業が確保される。

また、上述した装置によれば、各下定盤１，
１′及び上定盤２，２′がそれぞれ回転すると共
に、これらの回転している定盤１，１′，２，
２′の一直径方向を横切るようにしてキヤリアギ
ア６（ワーク１１）が自転しつつ走行し、従つて
各定盤１，１′，２，２′の内側全面にワーク１１
の上下面が均一に接触する状態になるので、各定
盤１，１′，２，２′の内側面に部分的摩耗により
偏差が生じることがなく、常に内側全面が良好な
平坦面を確保することになるため定盤の修正の必
要が殆んどなくなるものである。

なお、上述した装置において、送り装置として
エンドレスギアを用いたが、本考案はこれに限定
されるものではなく、例えばラツクを使用しても
よい。この場合、上記実施例ではキヤリアギアを
矢印Ａ方向に走行する場合につき説明したが、キ
ヤリアギアが矢印Ａ方向への走行に加え、必要に
よつてはこれと反対方向に走行するように駆動装
置を制御するようにしてもよい。また、キヤリア
ギアを一方に走行させる手段として、駆動装置を
制御するだけでなく、駆動ギア８，８′のギア比
やエンドレスギア７，７′のギア比を変えるなど
の手段を採用することができる。

更に、上記実施例では、２組の上下定盤を用い
たが、上下定盤数はこれに限られず、１組でもま
た３組以上でもよい。なお更に、上述した説明で
はワークの上下面をそれぞれラツピングするよう
にしたが、上述した装置は勿論片面ラツプ作業に
対しても好適に採用され、また上記実施例では一
対の定盤を上下に対向させて配設し、キヤリアを
水平方向に移動させるようにしたが、本考案はこ
れに限られず、一対の定盤を左右に対向させて配
設し、キヤリアを上下方向に移動させるなどのこ
ともでき、その他の上述した装置の構成について
も本考案の要旨の範囲で種々変更して差支えな
い。

考案の効果 以上説明したように、本考案はそれぞれ互に所
定間隔を存して対向する回転可能に配設された一
対の定盤と、ワーク挿入部を有し、前記定盤間を
通過可能に配置された円盤状キヤリアギアと、前
記キヤリアギアの両側方にそれぞれ配置されてこ
のキヤリアギアと噛合する一対のエンドレスギア
又はラツクを有し、一方のエンドレスギア又はラ
ツクの走行速度を他方のエンドレスギア又はラツ
クの走行速度よりも速くすると共に、これら一対
のエンドレスギア又はラツクの走行方向を互に反
対方向にすることによりキヤリアギアを自転させ
つつ前記定盤の径方向に沿つて走行させる送り装
置とを備え、前記送り装置の動作でキヤリアギア
を自転させつつ前記定盤の径方向に沿つて定盤間
を通過させる際、このキヤリアギアのワーク挿入
部に挿入したワークをラツピングするように構成
したので、ワークを連続的にラツピングし得、ま
た複数組の定盤を配設した場合には異なる仕上度
のラツプ作業も連続して行なうことができ、しか
もワークが定盤全面に均一に接触するので定盤修
正の手間も殆どなくなり、ラツプ作業を著しく能
率化することができると共に、ワークの自転によ
つてワーク表面にあらゆる角度から遊離砥粒を接
触させることができ、従つてワーク表面に無条痕
をを着けてワーク表面を平滑にするというラツピ
ングの本来の目的を確実に達成し得るもので、ア
ルミニウム製メモリデスク等のラツプ作業に好適
に用いられる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例を示す片側の送り装
置を省略した状態の概略側面図、第２図は第１図
−線に沿つた断面図、第３図は同例の全体概
略図、第４図は従来装置の概略側面図、第５図は
第４図−線に沿つた断面図である。 １，１′……下定盤、２，２′……上定盤、５
ａ，５ｂ，５ｃ……受け台、６……キヤリアギ
ア、７，７′……送り装置（エンドレスギア）、１
１……ワーク、１２……洗浄装置。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ それぞれ互に所定間隔を存して対向する回転
   可能に配設された一対の定盤と、ワーク挿入部
   を有し、前記定盤間を通過可能に配置された円
   盤状キヤリアギアと、前記キヤリアギアの両側
   方にそれぞれ配置されてこのキヤリアギアと噛
   合する一対のエンドレスギア又はラツクを有
   し、一方のエンドレスギア又はラツクの走行速
   度を他方のエンドレスギア又はラツクの走行速
   度よりも速くすると共に、これら一対のエンド
   レスギア又はラツクの走行方向を互に反対方向
   にすることによりキヤリアギアを自転させつつ
   前記定盤の径方向に沿つて走行させる送り装置
   とを備え、前記送り装置の動作でキヤリアギア
   を自転させつつ前記定盤の径方向に沿つて定盤
   間を通過させる際、このキヤリアギアのワーク
   挿入部に挿入したワークをラツピングするよう
   に構成したことを特徴とするラツピング装置。 ２ 一対の定盤を互に所定間隔離間して複数組配
   設した実用新案登録請求の範囲第１項記載のラ
   ツピング装置。 ３ 一の一対の定盤とこれと隣接する他の一対の
   定盤との間に洗浄装置を設けた実用新案登録請
   求の範囲第２項記載のラツピング装置。