JPH0223606A - レチクル移動交換機 - Google Patents
レチクル移動交換機Info
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- JPH0223606A JPH0223606A JP63173021A JP17302188A JPH0223606A JP H0223606 A JPH0223606 A JP H0223606A JP 63173021 A JP63173021 A JP 63173021A JP 17302188 A JP17302188 A JP 17302188A JP H0223606 A JPH0223606 A JP H0223606A
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- Japan
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- Pending
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［概要］
本発明はウェハ基板上にレジストパターンヲ得るため露
光するレチクルをカセットから取り出して平板上に並べ
露光可能とし、所望のレチクルを能率良く交換させるレ
チクル移動交換機に関し、レチクルを所望のものに直ち
に交換することが出来、且つゴミなどの異物付着を少な
くしたレチクルの移動交換機を提供することを目的とし
、複数のレチクルカセットを所定状態に並べ、特定のカ
セットを搬送具により引き出してレチクルセット台上に
移動させるレチクル移動交換機において、複数のレチク
ルカセットより取り出した各レチクルを平板上で、略同
心円上に配置し、且つ平板筺体の上下面を光透過性の材
質で構成し、平板筺体におけるレチクル位置をレチクル
セット台と対応するように回転可能の構成としたことを
特徴とする。
光するレチクルをカセットから取り出して平板上に並べ
露光可能とし、所望のレチクルを能率良く交換させるレ
チクル移動交換機に関し、レチクルを所望のものに直ち
に交換することが出来、且つゴミなどの異物付着を少な
くしたレチクルの移動交換機を提供することを目的とし
、複数のレチクルカセットを所定状態に並べ、特定のカ
セットを搬送具により引き出してレチクルセット台上に
移動させるレチクル移動交換機において、複数のレチク
ルカセットより取り出した各レチクルを平板上で、略同
心円上に配置し、且つ平板筺体の上下面を光透過性の材
質で構成し、平板筺体におけるレチクル位置をレチクル
セット台と対応するように回転可能の構成としたことを
特徴とする。
［産業上の利用分野］
本発明はウェハ基板上にレジストパターンを得るため露
光するレチクルをカセットから取り出して平板上に並べ
露光可能とし、所望のレチクルを能率良く交換させるレ
チクル移動交換機に関する。
光するレチクルをカセットから取り出して平板上に並べ
露光可能とし、所望のレチクルを能率良く交換させるレ
チクル移動交換機に関する。
従来のレチクル移動交換機はレチクルカセノトを水平板
上に載置して、それを縦方向に重ねて構成し、上下左右
に動くロボットアームなどの搬送具により所望のレチク
ルをレチクルセット台上に移動させていた。そのためレ
チクルを交換する時間が長く要し、且つレチクルセット
台上に移動させるとき、ゴミが付くことがあった。その
ため短時間で交換可能で且つゴミの付き難い構成とする
ことが要望された。
上に載置して、それを縦方向に重ねて構成し、上下左右
に動くロボットアームなどの搬送具により所望のレチク
ルをレチクルセット台上に移動させていた。そのためレ
チクルを交換する時間が長く要し、且つレチクルセット
台上に移動させるとき、ゴミが付くことがあった。その
ため短時間で交換可能で且つゴミの付き難い構成とする
ことが要望された。
し従来の技術］
半導体素子による大規模集積回路を製造するため、レジ
ストの塗布によるホトリソグラフィ技術を多用している
。そのときレチクル上のパターンを１１５乃至１／１０
に縮小してウェハ基板上へパターンを作る。レチクルは
したがってウェハ上の原寸パターンの５〜１０倍の大き
さで製作されることが多く、ガラス基板上にクロムなど
の金属でパターンを形成している。また半導体デバイス
を作製して行くのに、レジストバターニング時、複数の
レチクルが必要となる。更に他品種の半導体デバイスを
作製するに当たっても、異なるレチクルが必要となる。
ストの塗布によるホトリソグラフィ技術を多用している
。そのときレチクル上のパターンを１１５乃至１／１０
に縮小してウェハ基板上へパターンを作る。レチクルは
したがってウェハ上の原寸パターンの５〜１０倍の大き
さで製作されることが多く、ガラス基板上にクロムなど
の金属でパターンを形成している。また半導体デバイス
を作製して行くのに、レジストバターニング時、複数の
レチクルが必要となる。更に他品種の半導体デバイスを
作製するに当たっても、異なるレチクルが必要となる。
第３図はそのような複数のレチクルを移動交換する移動
交換機を示す概要図である。
交換機を示す概要図である。
第３図において、１はレチクル移動交換機を全体的に示
すもの、２はレチクルセット台、３はロボットのような
レチクル搬送具、４１．４２−はレチクル、５１．５２
−はレチクルを内蔵したレチクルカセット、６は縮小レ
ンズ、７はウェハ基板を示す。レチクル移動交換機１は
レチクルカセット５１．５２−をそれぞれ載置した棚板
８１．８２−を有している。ウェハ基板に所定の露光を
与えるため、レチクルカセットの所定のもの例えば５２
をレチクルセット台２のレチクル置き場へｌＩ送具３が
上下左右に動き、レチクル位置７１・５２の下方に入り
込ませ、カセット５２内のレチクル４２を持ち上げる。
すもの、２はレチクルセット台、３はロボットのような
レチクル搬送具、４１．４２−はレチクル、５１．５２
−はレチクルを内蔵したレチクルカセット、６は縮小レ
ンズ、７はウェハ基板を示す。レチクル移動交換機１は
レチクルカセット５１．５２−をそれぞれ載置した棚板
８１．８２−を有している。ウェハ基板に所定の露光を
与えるため、レチクルカセットの所定のもの例えば５２
をレチクルセット台２のレチクル置き場へｌＩ送具３が
上下左右に動き、レチクル位置７１・５２の下方に入り
込ませ、カセット５２内のレチクル４２を持ち上げる。
搬送具３は図示しない動力源の動力によりレチクル４２
をレチクルセット台２のレチクル置き場に搬送する。図
示しない光源からの照明光をレンズ６を介してウェハ基
板７上にレチクルパターンを照射する。
をレチクルセット台２のレチクル置き場に搬送する。図
示しない光源からの照明光をレンズ６を介してウェハ基
板７上にレチクルパターンを照射する。
第４図はレチクルと搬送具の関係を示す概略上面図であ
る。第４図において第３図と同一符号は同様のものを示
し、搬送具としての搬送棒がレチクルの下方に入り込ん
だ状態を示している。
る。第４図において第３図と同一符号は同様のものを示
し、搬送具としての搬送棒がレチクルの下方に入り込ん
だ状態を示している。
［発明が解決しようとする課題］
第３図・第４図の構成において、搬送具３が所定の位置
に上下動してから、レチクルカセット内のレチクルを取
り出し、レチクルセット台上に搬送するまでには、可成
りの距離と時間を要する。
に上下動してから、レチクルカセット内のレチクルを取
り出し、レチクルセット台上に搬送するまでには、可成
りの距離と時間を要する。
そのため作業環境をクリーンにしていても、ゴミがレチ
クル上に付着する欠点があった。また次のレチクルと交
換するため、−旦、カセットへ戻して、次のレチクルカ
セットを持ち上げるか、引下げるかして搬送する必要が
あり、作業に長時間を要した。
クル上に付着する欠点があった。また次のレチクルと交
換するため、−旦、カセットへ戻して、次のレチクルカ
セットを持ち上げるか、引下げるかして搬送する必要が
あり、作業に長時間を要した。
本発明の目的は前述の欠点を改善し、レチクルを所望の
ものに直ちに交換することが出来、且つゴミなどの異物
付着を少なくしたレチクルの移動交換機を提供すること
にある。
ものに直ちに交換することが出来、且つゴミなどの異物
付着を少なくしたレチクルの移動交換機を提供すること
にある。
［課題を解決するための手段］
本発明のレチクル移動交換機は、複数のレチクルを直接
平板上で略同心円上に配置し、且つ平板の筺体の上下面
を光透過性の材質で構成し、平板筺体におけるレチクル
位置をレチクルセット台と対応するように回転可能の構
成としたことを特徴とする。
平板上で略同心円上に配置し、且つ平板の筺体の上下面
を光透過性の材質で構成し、平板筺体におけるレチクル
位置をレチクルセット台と対応するように回転可能の構
成としたことを特徴とする。
［作用コ
レチクル４１．４２−は筺体１０の内の平板９上にカセ
ットから取り出して置かれているから、所望のものを筺
体と共に回転させてレチクルセット台２は対応する位置
に置く。筺体の上下面が光透過性の材質であるからマス
ク用基板に対し露光処理を直ぐ行う。その後の所望のレ
チクルとは、平板を回転させるのみで直ちに交換でき、
レチクルの移動交換に搬送具を使用すること無く、短時
間にできる。そしてレチクル自体は外気に触れないため
、ゴミの付着する機会が殆ど起こらない。
ットから取り出して置かれているから、所望のものを筺
体と共に回転させてレチクルセット台２は対応する位置
に置く。筺体の上下面が光透過性の材質であるからマス
ク用基板に対し露光処理を直ぐ行う。その後の所望のレ
チクルとは、平板を回転させるのみで直ちに交換でき、
レチクルの移動交換に搬送具を使用すること無く、短時
間にできる。そしてレチクル自体は外気に触れないため
、ゴミの付着する機会が殆ど起こらない。
［実施例］
第２図はレチクルセット台、４１．４２−はレチクル、
９は平板、１０は平板を含む筺体、１１は平板筺体回転
用動力源を示す。レチクル４１゜４２−は平板９上で略
同心円上に配置されている。
９は平板、１０は平板を含む筺体、１１は平板筺体回転
用動力源を示す。レチクル４１゜４２−は平板９上で略
同心円上に配置されている。
レチクル４１．４２−のうち、所望のもの例えば４２が
レチクルセソ）台２の直上位置に来るように、平板９を
筺体１０と共に動力源１１により回転させる。レチクル
のその位置で図示しない光源からの光を照射してマスク
用基板を照射する。レチクル４２はカセットの中に戻す
こと無く次に所望のレチクルを平板９の回転により移動
交換させる。平板筺体は光透過性の良い材質例えば石英
ガラスを使用することが良く、必要に応じ側面の材質は
金属により強度を持たせる。またレチクルを平板上に七
ソトシた後、内部の空気は引き抜いて窒素などを封入す
ることがゴミの入り込むことを防ぐため望ましい。
レチクルセソ）台２の直上位置に来るように、平板９を
筺体１０と共に動力源１１により回転させる。レチクル
のその位置で図示しない光源からの光を照射してマスク
用基板を照射する。レチクル４２はカセットの中に戻す
こと無く次に所望のレチクルを平板９の回転により移動
交換させる。平板筺体は光透過性の良い材質例えば石英
ガラスを使用することが良く、必要に応じ側面の材質は
金属により強度を持たせる。またレチクルを平板上に七
ソトシた後、内部の空気は引き抜いて窒素などを封入す
ることがゴミの入り込むことを防ぐため望ましい。
［発明の効果］
このよ・うにして本発明によると、レチクルは平板筺体
内に配置されたまま回転させるのみで、所望のレチクル
をレチクルセット台上に持ってくることが早く出来る。
内に配置されたまま回転させるのみで、所望のレチクル
をレチクルセット台上に持ってくることが早く出来る。
そのため半導体集積回路製造用マスクに対し、或いはマ
スクを使って半導体ウェハに対し異物を転写することが
無くなり、製品の歩留まりを大いに向上することが出来
る。そして、平板の筺体を具備するのみで、個別のレチ
クルカセットを準備する必要が無く、またレチクルの搬
送具が不要という格別の効果を有する。
スクを使って半導体ウェハに対し異物を転写することが
無くなり、製品の歩留まりを大いに向上することが出来
る。そして、平板の筺体を具備するのみで、個別のレチ
クルカセットを準備する必要が無く、またレチクルの搬
送具が不要という格別の効果を有する。
第１図は本発明の実施例の構成を示す図、第２図は第１
図の主要部の側面図、 第３図は従来のレチクル移動交換機の概要を示す図、 第４図は第３図のレチクルと搬送具の関係を示す図であ
る。 １・・−レチクル移動交換機 ２・−レチクルセット台 ３・・・搬送具 ４１．４２− レチクル ９−・−平板 １〇−平）及筺体 レチクル−１動交換機 ３図
図の主要部の側面図、 第３図は従来のレチクル移動交換機の概要を示す図、 第４図は第３図のレチクルと搬送具の関係を示す図であ
る。 １・・−レチクル移動交換機 ２・−レチクルセット台 ３・・・搬送具 ４１．４２− レチクル ９−・−平板 １〇−平）及筺体 レチクル−１動交換機 ３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 複数のレチクルカセットを所定状態に並べ、特定のカセ
ットを搬送具により引き出してレチクルセット台上に移
動させるレチクル移動交換機において、 複数のレチクルカセットより取り出した各レチクル（４
１）（４２）・・・・・を平板（９）上で、略同心円上
に配置し、且つ平板筺体（１０）の上下面を光透過性の
材質で構成し、平板筺体（１０）におけるレチクル位置
をレチクルセット台（２）と対応するように回転可能の
構成としたこと を特徴とするレチクル移動交換機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63173021A JPH0223606A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | レチクル移動交換機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63173021A JPH0223606A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | レチクル移動交換機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0223606A true JPH0223606A (ja) | 1990-01-25 |
Family
ID=15952739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63173021A Pending JPH0223606A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | レチクル移動交換機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0223606A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011139102A (ja) * | 1999-10-08 | 2011-07-14 | Asml Holding Nv | リソグラフィシステム |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60243658A (ja) * | 1984-05-09 | 1985-12-03 | エヌ・ベー・フイリツプス・フルーイランペンフアブリケン | マスク交換装置 |
| JPS6286821A (ja) * | 1985-10-14 | 1987-04-21 | Nec Corp | 半導体製造装置 |
| JPS62198863A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-02 | Canon Inc | 露光装置 |
-
1988
- 1988-07-12 JP JP63173021A patent/JPH0223606A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60243658A (ja) * | 1984-05-09 | 1985-12-03 | エヌ・ベー・フイリツプス・フルーイランペンフアブリケン | マスク交換装置 |
| JPS6286821A (ja) * | 1985-10-14 | 1987-04-21 | Nec Corp | 半導体製造装置 |
| JPS62198863A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-02 | Canon Inc | 露光装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011139102A (ja) * | 1999-10-08 | 2011-07-14 | Asml Holding Nv | リソグラフィシステム |
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