JPH02232833A - 光ディスク用レプリカ基板、スタンパおよびその原盤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光学的に情報を記録し再生することが町能なサ
／プルサーボ方式の光ディスクにかかＩノ、特に、光デ
ィスクを構成するレプリカ基板、レプリカ基板を作製す
るためのスタンパ、およびその原盤に関する。

〔従来の技術〕

情報を記録し再生することが可能な光ディスクにおける
トラッキングサーボ方弐Ｋは、連続溝サーボ方式とサン
プルサーボ方式の２方式がある。

これらの方式については、例えば、１９８６年１２月１
５日に発行された日経エレクトロニクスの第１６５頁か
ら第１７０頁に記載の「連続溝方式とサンプル・サーボ
方式の２本立てに」なる文献に述べられている。このう
ち、連続溝サーボ方式は従来から開発されてきた方式で
あるが、サンプルサーボ方式はトラッキング安定性が良
いという利点があり、注目されている。

ここで、サンプルサーポ方式の従来技術について説明す
る。第５図はサンプルサーボ方式における元ディスクを
ｍ成する従来のレプリカ基板を示す平面図であり、同図
（ａ）はレプリカ基板の全体を模式的に示し、同図（ｂ
）はレプリカ基板の主要部を拡大して示している。

第５図（ａ）に示すように、サンプルサーボ方式におけ
る光ディスクのレプリカ基板１１上には、あらかじめ仮
想トラックに沿って所々にセクタアドレス部１６やサン
プルマーク領域１７が設けられている。このセクタアド
レスｓ１６は仮想トランクの一周上に５２箇所程度存在
し、一方のサンプルマーク領域１７は仮想トラックの一
周上に１５７６箇所程度必要である。そして、各サンプ
ルマーク領域１７には、第５図（ｂ）に示すように、仮
想トラック中心線１８に沿ってサンプルマーク１２．１
３とクロックビット１５とが対になって存在する。

ここで、サンプルマーク１２，１３は、仮想トラック中
心線１８から左右に対称に振られたウオプルピットとし
て形成されており、また、クロックビット１５は、その
中心が仮想トラック中心線１８上に位置するように形成
されている。以下、サンプルマーク１２，１３をウォプ
ルピットと呼ぶことにする。

これらウォブルピット１２．１３とクロックビット１５
の各ビット長ｔは時間軸で９Ｏｎ．であり、例えば、デ
ィスク半径５０■、ディスク回転数１８０Ｏｒｐｍにお
いてはα５μｍとなる。また、各ビットの光学的ビット
深さはλ／４（λは情報記録再生時に用いられるレーザ
光の波長であり、通常８３０ｎｍである）である。

以上のようなサンプルサーボ方式の光ディスクを用いて
記録・再生を行う際には、記録再生ヘッド（図示せず）
からレプリカ基板１１上にレーザ光を照射して、その反
射光を検出し、クオブルビット１２と１５からの反射光
量が同一となる位置に前記記録再生ヘッドがくるように
、その記録再生ヘッドのトラッキング制御を行う。こう
することによって、記録再生ヘッドはクロックビット１
５の中心を通る仮想トラック中心＠１８上を走査するこ
とができる。そして、クロックビット１５からの反射光
量を検出することによってクロックデータの検出を行っ
ている。

〔発明が解決しようとする課題〕

サンプルサーボ方弐Ｋおける光ディスクにおいて、最も
重要となるのはウォプルビッ｝１２．１５の形成位置で
ある。すなわち、もしウォブルピット１２．１３の形成
位置がクロックピット１５の中心を通る仮想トラック中
心線１８に対して左右対称になっていないと、ウォプル
ピッ｝１２．１３の形成方法に由来して、ウォプルビッ
｝１２．１３の大きさ（形状）が互いに異なってしまう
ことになる。このように、ウォプルピット１２．１３の
形成位置が仮想トラック中心線１８に対して左右に対称
な位置になく、しかも、ウォプルビット１２，１５の大
きさ（形状）が互いに異なっていれば、言うまでもなく
、正確なトラッキング制御を行うことができない。

そこで、光ディスクの作製工程中において、ウォプルビ
ッ｝．１２．１３の龜り幅（ウォブル量）、すなわち、
仮想トラック中心線１８からウォプルビッ｝１２．１３
の各々の中心までの距離を測定して、クオブルビッ｝１
２．１３の作製状況を評価することは大変重要なことで
ある。

しかしながら、従来技術によるサンプルサーボ方式にお
ける光ディスクでは、ディスク上にはビットのみしか存
在しないため、上記したようにウォプルピッ｝１２．１
３の振り幅を測定するには、仮想トラック中心線１８が
その中心を通るクロックビット１５を基準にして測定す
るしか方法がない。ところが、クロックビット１５とウ
ォブルビット１２．１３との間には相当な距離（時間軸
でのピット長ｔの７〜８倍の距離）があるため、どのク
ロックビットとどのウォプルビットとが対になっている
かについてさえ判断するのが困難であり、従って、ウォ
プルビッ｝１２．１３の振り幅を実際に測定するのは非
常に困難であった。

本発明の目的は、上記した従来技術の問題点を解消し、
サンプルサーボ方式における光ディスクの作製工程中に
おいて、ウォプルビットの振り幅（ウォブル童）が測定
でき、クオプルピットの作製状況を評価することのでき
る光ディスク用レプリカ基板、スタンパ、およびその原
盤を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的は、′９″ノブルサーボ方弐Ｋおける光ディス
クを構成するレプリカ基板を作製するための原盤の一部
の領域に、ウォプル信号を印加して変調したレーザ光に
より形成された偏向量モニタ用グループと、前記ウォプ
ル信号を印加しないレーザ光により形成された基準グル
ープとを一対として隣接するトラックに設けることによ
り、達底される。

〔作用〕

前述のごとく、従来技術では、サンプルサーボ方式にお
ける光ディスク上にはピットのみしか存在しないため、
ウォプルピットの振り幅（ウォブル量）を測定しようと
すれば、仮想トラック中心線がその中心を通るクロック
ビットを基準にして測定するしか方法がなく、実際に測
定することは非常に困難であった。

これに対して、本発明では、光ディスク作製用の原盤の
一部の領域に上記のような偏向量モニタ用グループと基
本グループとを設けたので、これらグループ形状は、原
盤を基に作展されるスタンバおよびスタンバを用いて作
製されるレプリカ基板Ｋも転写されることから、このグ
ループを基準にタオブル量を測定評価することができる
。

従ワで、サンプルサーボ方弐Ｋおける光ディスクの作製
工程中において、前記グループを基準とすることでウォ
ブルビットの振り幅を容易に測定でき、クオプルピット
の作裂状況をディスク作製プロセスの途中で評価するこ
とが可能となる。

〔実施例〕

以下、本発明の第１の実施例として、光ディスクのレプ
リカ基板を作製するためのガラス原盤に本発明を適用し
た例をとりあげて説明する。

第１図は本発明の第１の実施例のガラス原盤の一部の領
域を拡大して示した部分拡大平面図である。図において
、２．３はウォブルピット、５はクロックピット、９は
ウォプル信号を印加しないレーザ光で形成した基準グル
ープ、１ｏはクオプル信号を印加したレーザ光で形成し
た偏向量モニタ用グループである。

本実施例では、レプリカ基板を作製するためのガラス原
盤において、第１図Ｋ示すように、光ディスクのユーザ
エリアとなるべき領域の外の領域に、偏向量モニタ用グ
ループ１０と基珈グループ９とを１トラックごとに交互
に隣接させて形成してある． 第２図は、上記のごときピットおよびグループをガラス
原盤上に形成するためのレーザ露光装置の光学系路を概
略的に示した構成図である。図Ｋおいて、２０はレーザ
光源、２１，２５．２７はミラ２２．２４はコリメート
レンズ、２８は対物レンズ、２３は信号変調器（以下，
ＡＯＭと記す）、２６はビーム偏向器（以下、ＡＯＤと
記す）、２９はガラス原盤である。なお、ＡＯＭ２３と
ＡＯＤ２６は１０光学素子からなるものである。

次に、第２図の動作について説明する。レーザ光源２０
から出射されたレーザビームはミラー２１で反射し、レ
／ズ２２により平行光から収束光となり、ＡＯＭ２３に
入射する。ＡＯＭ２３から出射するビームは、形成すべ
きビット（すなわち、ウォブルピット、クロックピット
）に応じて変調されている。つまり、ＡＯＭ２３は、ビ
ットを形成したいときには入射ビームを通過させ、それ
以外のときには入射ビームを遮断するようになっている
。

次いで，ＡＯＭ２５から出射したビームは、レンズ２４
により再び平行光に戻され、ミラー２５を経てＡＯＤｌ
６に入射する。ＡＯＤ２６は、ウォブルピットＫ対応す
るビームが入射したときのみ、当該ウォブルビットの振
ｌノ方向くビームを偏向させる。

また、本発明Ｋよるグループ群を設けるときには、ＡＯ
Ｍ２３に対して、入射ビームを常に出射するような変調
信号（ＤＣ信号）を加えることによＣバガラス原盤２９
上にグループ群を形成することができる。

第１図に示した芙施例では、前記ユーザエリア外におい
て、ＡＯＭ２３にＤＣ信号を加えるとともに、ＡＯＤ２
６へは１トラックごとに偏向信号の印加、遮断を繰り返
して、偏向故モニタ用グループ１０と基準グループ９と
のグループ群を設けている。

上記のようにして形成されたグループ群のうち、ウォプ
ル信号を加えないで形成した基準グループは、クオプル
ピットの仮想トラック中心線からの振り幅量の対称性を
評価するための基準となる。

すなわち、第１図において、ユーザエリア外に形成した
基準グループ９の中心と、ウォプル信号を加えて形成し
た偏向量モニタ用グループ１０の距離ＬＩ　＋　Ｌ２　
ｒ　ＬＳを求めることにより、ウォプルビット２の振り
幅に対応する（　Ｌ，−Ｌ２）と、ウォブルビット５の
撮り幅に対応する（　Ｌ２−Ｌ，　）との差が零であれ
ば、ウォプルピット２，５は仮想トラック中心線９′に
対して１，＝１２となり、対称であると判断することが
できる。また、前記した差が零でないときは、光軸のず
れ、あるいはＡＯＤ２６への印加信号が適正でないと予
想することができる。

以上述べたように、ガラス原盤２９上に、偏向量モニタ
用グループ１０と基準グループ９とを対としたグループ
群を設けることにより、プロセスの条件が適正であるか
否かを、ディスク作製プロセスの途中で判断することが
可能となる．次に、本発明の第２の実施例として、本発
明を径５．２５インチ追記形光ディスクのレプリカ基板
に適用した例をとりあげて説明する。

第３図（ａ）は該実施例のレプリカ基板の全体を模式的
Ｋ示した平面図、同図（ｂ）はその部分拡大図である。

第３図（ａ）に示すレプリカ基板１は、前述の第１の実
施例のように作製されたガラス原盤を基にしてスタンバ
を作製し、次Ｋ，その作製したスタ／パを用いて、ボリ
カーポネートを射出成形することにより作製される．な
お、レプリカ基板１は、内径が１５−、外径が１３０−
、基板厚さが１．２鴎のものである。

また、このレプリカ基板１上には、仮想トラック中心線
に沿って所々にセクタアドレス部１６（６２箇／周）や
、サンプルマーク領域１７（１５７６箇／周）が形成さ
れており、ディスク半径の２９一の位置から６１瓢の位
置までがユーザエリア４となっている。そして、サンプ
ルマーク領域１７のユーザエリア４内には、第３図（ｂ
）に示すように，仮想トラック中心線９′に沿ってウォ
プルビット２．３とクロックビット５とが対になって形
成されている。また、ユーザエリア４の外においては、
ユーザエリア内周部および外周部に約１０トラック分の
基準グループ９と偏向量モニタ用グループ１０を含むグ
ループ群（図示せず）を設けている。これらのウォプル
ピット２，５ならびにクロックビット５、および上記グ
ループ群の光学的深さはλ／４（λは再生ヘッドのレー
ザ波長）であり、トラックピッチＰは１．５μｍである
。

以上述べた第２の実施例では、基準グループを複数本設
けたが、本発明はこれに限るものではない。また、ユー
ザエリアの内周部と外周部にグループ群を設けたが、片
方のみとしても効果は変らない。

また、第２の実施例はレプリカ基板に本発明を適用した
例について説明したが、スタンパに適用しても有効であ
ることは言うまでもない。

第４図は本発明の第５の実施例を示した図である。第１
図に示した実施例の形態に対し、第４図に示す形態とす
ることによっても、ウォプルビット２．３のウォブル量
を測定し、評価することができる。すなわち、ユーザエ
リア外のウォプルビットを形成したトラック領域の少な
くとも１トラックに基準グループ９を形成することによ
り、第１図により説明した実施例と同様な効果を得るこ
とができる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、サンプルサーボ方式における光ディス
クの作製工程中に、ウォブルピットの振り幅量（ウォプ
ル量）が測定でき、ウォプルビットの作展状況を容易に
評価することができるので、光ディスクの良否判定を行
う時間を短縮することができるとともに、高精度な光デ
ィスクを作製することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例であるガラス原盤を示す
部分拡大平面図、第２図は第１図に記される実施例のガ
ラス原盤にビットおよびグルプな形成するためのレーザ
露光装置の光学系路概略的に示す構成図、第３図は本発
明の第２の施例であるレプリカ基板の全体を模式的に示
す面図とその部分拡大図、第４図は本発明のガラ原盤の
第５の実施例を示す部分拡大平面図、第図は従来のレプ
リカ基板を示す図である。 １・・・レプリカ基板 ２，５・・・ウォプルビット ５・・・クロックビット ９・・・基準グループ １０・・・偏向量モニタ用グループ ２　５　．・・信号ｆｌｌｌｌｉｉ（ＡＯＭ）２６・・
・ビーム偏向器（ＡＯＤ） ２９・・・ガラス原盤。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、仮想トラック中心線に対して内・外周側に振り分け
   て配置された１対のウォブルピットを基に記録再生ヘッ
   ドのトラッキング制御を行うサンプルサーボ方式による
   光ディスクのレプリカ基板の作製に用いる原盤であって
   、一部の領域に、ウォブルピット形成用信号を印加して
   変調したレーザ光により形成した第１のグループと、前
   記ウォブルピット形成用信号を印加しないレーザ光によ
   り仮想トラック中心線上に形成した第２のグループとを
   、隣接したトラックに少なくとも１対を設けたことを特
   徴とする光ディスク用原盤。 ２、ウォブルピットを形成されたトラックと隣接する仮
   想トラック中心線上に、グループを少なくとも１箇所以
   上設けたことを特徴とする請求項１記載の光ディスク用
   原盤。 ３、請求項１または２記載の光ディスク用原盤を用いて
   作製された、該原盤の表面形状をその表面に転写してな
   る光ディスク用スタンパ。 ４、請求項３記載の光ディスク用スタンパを用いて作製
   され、該スタンパの表面形状をその表面に転写してなる
   光ディスク用レプリカ基板。