JPH02232362A - 要素を真空ボイラ内に引込みかつそこから引出す装置 - Google Patents

要素を真空ボイラ内に引込みかつそこから引出す装置

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JPH02232362A
JPH02232362A JP1107899A JP10789989A JPH02232362A JP H02232362 A JPH02232362 A JP H02232362A JP 1107899 A JP1107899 A JP 1107899A JP 10789989 A JP10789989 A JP 10789989A JP H02232362 A JPH02232362 A JP H02232362A
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cassette
partition plate
casing
lower case
vacuum
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JP1107899A
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Michael Walde
ミヒヤエル・ヴアルデ
Peter Zeidler
ペーター・ツアイドラー
Dirk Domroese
デイルク・ドームレーゼ
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Leybold AG
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、要素の表面を加工する九めに要素を高真空プ
ロセス室の真空ボイラ内に引込みかつそこから引出す装
置に関する。
従来の技術 一般的に、要素九とえばデータ記憶装置を高真空プロセ
ス室内でコーティング又はプラズマエッチングする際に
は、要素が浄化室の条件下で操作されることが著しく問
題であるということは周知である。要するに、要素は、
ダストあるいは汚れた周辺空気内に常に存在する浮遊物
又は粒子から完全に解放されなければならない。
それ故に従来では、複数のコーティング装置又はエッチ
ング装置が置かれている室を浄化室に改造するのが普通
である。すなわち、このような室を通って流れる空気が
、この室に入る前にフィルタを通過するようになってお
シ、この場合、室内に置かれ几全ての装置は特別に浄化
されなければならない。装置を操作するために必要な作
業員も特別な衣服が必要であり、いずれにせよ規定され
た行動方式に慣れなければならない。したしながら、こ
のような浄化室の条件下での要素の操作は、著しい費用
を必要とし、さらに幾つかの厄介な事を伴う。しかも、
このように設計された浄化室を清潔にしておくには著し
い制限がある。
汚染問題及び原料の流れの問題を解決するための第一歩
は、規格化されたボックス又はコンテナ内での要素の保
存及び搬送にある。要素を保持するためのカセットを含
むボックスは、その下側に、個々の装置における適切な
対応部材を備え之特別な閉鎖機構を有している。このよ
うに、装置室の内部には、外側の浄化室から仕切られた
小さな浄化室が生じる。装置にこのようなボックスを着
脱する際には、ボックスの閉鎖プレートと装置の閉鎖プ
レートとが同時に開かれ、従って粒子が、閉鎖プレート
のダストの付いた両外佃の間に閉じ込められ、最終的に
粒子は要素もしくは装置の内部に達してしまう。
発明が解決しようとする課題 本発明の課題は、要素で満九されていてボックス内に存
在するカセットの、局所的な浄化室から装置、ｔとえば
真空コーティング装置内への搬送を浄化室条件下で、し
かも最小の費用で可能にし、さらに要素の続く加工及び
要素の装置からカセットもしくはボックス内への引出し
を行なうような、前述の形式の装置を提供することであ
る。
課題を解決するだめの手段 前述の課題を解決するために講じた手段によれば、要素
が要素ホルダ、要素マガジン又はカセット内に配置され
ており、該カセットが装置の仕切プレート上に置かれて
おシ、さらに要素ホルダ、要素マガジン又はカセットが
下側で開いたケーシングによって取囲まれており、該ケ
ーシングの環状の縁部分が、装置を包囲する下ケースの
上側の壁部分上に支持されておク、しかも前記仕切プレ
ートは、行程装置によって鉛直及び／又は水平の方向で
走行可能であり、これに対してケーシングは、下ケース
上にシールして載せられて、カセットのための引込開口
を被っておシ、シかも仕切プレートが、下ケースと結合
された真空ざイラのための通路まで走行可能であシ、か
つこの通路が仕切プレートによって閉鎖可能である。
発明の効果 本発明の装置によって、カセットの引入れ及び引出し時
に、並びにボックスから真空室へのカセットの搬送時に
落ちる全てのダストが洗い流され、もしくはカセット及
び要素から遠ざけられ、このことによって要素のほとん
どダストのない加工が可能になる。
本発明の有利な構成によれば、行程装置は、水平に配置
され几レール又はピストンロッｒに沿って滑るよ９に支
承された搬送往復台によって構成されており、該搬送往
復台が行程シリンタ’ｋ：　ｍ　エていて、該行程シリ
ンダのピストンロノド又は行程ロンドが仕切プレートを
支持しており）仕切プレート自体には、ラムに作用する
実動ユニットが固定されており、さらに前記ラムの自由
端部に、カセットを保持するのに使用される支持プレー
トが配置されている。
さらに有利には、装置の下ケースが、該下ケースを浄化
する空気流のだめの出口を有しており）さらに導管を介
してモーター送風機ユニットに接続されている。
行程装置が少なくとも部分的に、下ケースの内側に配置
されていて孔又はリプ付薄板から成るケーゾによって取
囲まれており、さらに導管を介して流入する空気流が、
ケーシを貫流する際に少なくとも層状に形成される。要
するに、装置を有するカセットを搬送する際に下ケース
内に落ちる全てのダストが、下ケースを横方向に浄化す
る空気によって受取られて、下ケースの下側部分におけ
る出口から排出される。
さらに有利には、下ケースの上側の壁部分に支持された
、要素を保持するカセットの友めのケーシングが、カセ
ットの下側に設けられた開口を取囲むフレーム部分を有
しており）該フレーム部分の内径が、引込開口の内径に
ほほ相応する。それ故に、環状又はフレーム状のシール
を備えｔフレーム部分が上側の壁部分上に、ダスト、粉
化物又は類似のものが上側の壁部分に設けられた開口か
ら下ケース内に侵入することができないように不動に置
かれている。
有利な構成によれば、真空〆イラのだめの通路が、装置
の下ケースの上側の壁部分に配置されており、しかも通
路の内径は、仕切プレートの相応する幅より小さく、し
かしカセット底を受容するための支持プレートの相応す
る寸法より犬き〈なっている。
有利には、真空ボイラが搬送室を介して高真空プロセス
室と接続されており、しかも搬送室と、真空ざイラもし
くは高真空プロ七ス室との間の接続開口がスライダ又は
弁体を介して閉鎖可能でおり、さらに搬送室内に、搬送
アームが、該搬送アームに配置された要素ホルダと共に
旋回可能に支承されてお夛、該要素ホルダが、一面では
カセットの範囲まで、かつ他面では高真空プロセス室内
に設けられた要素支台又は支持ボルトの範囲まで運動可
能である。
各要素を真空ボイラ内に正確に配置するために、仕切プ
レートと結合されたモーター駆動ユニットが、電気的な
ステップ切換え装置を介した搬送アームの運動に関連し
てラムのステップ式送出を可能にし、しかも真空ボイラ
の高さは、カセット内の最も下側に配置された要素が搬
送アームの要素ホルダの旋回範囲１でなお運動できるよ
うに決められている。
実施例 第１図による装置は、引込開口１６を備え友上側の璧部
分１０を有するケース状の下ケース９と、該下ケース９
上に載せられた真空ボイラ１γと、下ケース９の近くに
配置されたモーターｘｉｓユニット８と、該モーター送
風機ユニット８を下ケース９と結合する導管１５と、真
空ボイラ１７をポンプセット（図示せず）と結合する吸
込み導管１８と、下ケース９の内室内に配置されていて
孔又はリプ付薄板１　４　．　１　４’から成る側壁を
有するケーゾ１９と、平行なピストンロッド２　０　．
　２　０’に保持されていてかつそれに沿ってガイドさ
れる搬送往４台５とから成っている。さらに、搬送往復
台５は、該搬送往復台に支持されていて行程シリンダ４
，４′と行程ロンド２１．２１’を備え九仕切グレート
１３を有しており、さらに該仕切プレート１３と結合さ
れた運動ユニット３を有している。
ｊ４１図に示すよりに、下ケース９の上側の壁部分１０
の引込開口１６の範囲に、カセット１１用の、下側で開
いたケーシング２２が載せられておシ、前記カセットは
カセット底１１′上に複数の要素２　３　．　２　３’
を有している。引込開口１６は、カセット１１を傳止さ
せる支持プレート２によって下方から閉じられ、しかも
支持プレート自体は、ベローズ６によって取囲まれたラ
ム２４上に静止して分り、該ラムはモータ＄動ユニツ｝
３ｅ介して鉛直方向で運動可能である。
第２図及び第６図から判るように、カセット１１は、行
程シリンダ４．４′内に送入される行程ロツド２１．２
１’によって仕切プレート１３を下降させることにより
下方の位置に運動されることができ、この位置で引込開
口１６はケーシング２２によって被われている。続いて
、平行に、水平に配置された２つのピストンロッド２　
０　．　２　０’に沿って、仕切プレート１３は矢印Ａ
の方向で右へ走行可能でちり、このことによってカセッ
ト１１は正に真空ボイラ１７の下側に位置決めされる。
次に、仕切プレート１３は両方の行程シリンダ４，４′
によって、第１図において矢印Ｃで示すように鉛直方向
で上方へ、該仕切プレート１３の上側が、上側の壁部分
１０の下側におけるフレーム状のシール２５に当接する
まで運動される。続いて、ラム２４は七ータ及び駆動部
から成るモーター駆動ユニット３によって第４図に示す
ように矢印Ｄの方向で鉛直方向に上方へ運動され、この
場合、支持プレート２上に配置されたカセット１１は真
空ボイラ１７の上方区分内まで上昇される。
第１図乃至第４図から判るように、下ケース９は矢印ａ
，ｂもしくはＣの方向で空気を流過されており、しかも
この空気はモーター送風機ユニット８から導管１５を介
して下ケース９内に送出される。下ケース９内では、空
気流ａが下ケースの全高にわたって均一に分配されて、
孔又はリブ付薄板１４を通って横方向で矢印ｂの方向に
、次いで下ケース９０反対側の孔又はリプ付薄板１４′
を通過し、続いて垂直に下ケースの内壁に沿って下方へ
流れて、矢印Ｃの方向で出口２６から自由な空気室内へ
流出する。この場合、モーター送風機ユニット８は、規
定の圧力及び速度を有する空気だけを導管１５内に送出
するのではなく、周囲から吸込まれた空気を太Ｉに浄化
し、もしくはダストヲ取除くこともできるように構成さ
れている。装置の全ての可動部分は下ケース９内に配置
されているので、下ケース９を層状に流過する空気が、
装置の内部における要素及び部分の生じる可能性のある
全ての粉化物を洗い落すようにし、従って下ケース９内
で完全な浄化室条件が与えられている。
第５図から判るように、第１図乃至第４図に示された装
渥の他に高真空プロセス室２７が配置されており、該高
真空プロセス室は引込み兼引出し装置２８を介して真空
ボイラ１７と接続される。カセット１１に積重ねられた
要素２３，２３′・・・・・・は、軸２９によって運動
する、要素ホルダ３１を備えた搬送アーム３０によって
カセット１１から耶出されて、旋回運動によって真空ざ
イラ１７から搬送室３２を通って高真空プロセス室２７
まで動力）されて、そこで支持ボルト３　３　．　３　
３’上に載せられる。要素２　３　．　２　３’を要素
ホルダ３１からつかんで離すことができるように、一面
ではカセット１１が、他面では支持ボルト　３　３　．
　３　３’がわずかに鉛直方向で運動可能である。高真
空プロセス室２７と真空ボイラ１７との間の搬送室３２
を介した不都合な圧力補償を排除することができるため
に弁体３４，３５が設けられており、該弁体はそれぞれ
、これらが矢印ＥもしくはＦの方向で運勤されるので、
搬送室３２と、真空ボイラ１７もしくは高真空プロセス
室２７との間の接続開口３３、３７を閉鎖することがで
きる。高真空プロセス室２７内にはコーティング源３８
が配置されており、該コーティング源によって要素２３
′は加工されることができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は下ケースの上に載せられたカセット用ケーシン
グと、下ケースの上側の壁部分に配置され危真空ボイラ
とを有する本発明の装置の断面図、第２図、第６図、第
４図は第１図による装置において、カセットヲそれぞれ
の搬送段階で示す図、第５図は第１図乃至第４図に示す
真空室と接続されるプロセス室及び該プロセス室を真空
室と接続する搬送装置を示す部分的に破断して示す図で
ある。 ２・・・支持プレート、３・・・モーター駆動ユニット
、４・４′・・・行程シリンダ、５・・・搬送往復台、
６・・・ペローズ、８・・・モーター送風機ユニット、
９・・・下ケース、１０・・・壁部分、１１・・・カセ
ット、１１′・・・カセット底、１３・・・仕切プレー
ト、１４・１４′・・・孔又はリプ付薄板、１５・・・
導管、１６・・・引込開口、１７・・・真空ボイラ、１
８・・・吸込み導管、１９・・・ケーゾ、２０・２０′
・・・ピストンロッド、２１・２１′・・・行程ロッド
、２２・・・ケーシング、２３・２３′・・・要素、２
４・・・ラム、２５−・・シ−ｋ、２６−・・出口、２
７・・・高真空プロセス室、２８・・・引込み兼引出し
装置、２９・・・軸、３ｏ・・・搬送アーム、３１・・
・要素ホルダ、３２・・・搬送室、３３・３３′・・・
支持ボルト、３４・３５・・・弁体、３６・３γ・・・
接続開口、３８川コーティング源。 日　下ケース １０　壁部分 １１　カセット １６　引込開口 １７　・真空ボイラ ２２　ケーシ／グ ２３・要素 ＦＩＧ．１ ９　下ケース １１　カセノト １７・真空ざイラ ２２　要素 ＦＩＧ．３ ９・・下ケース １０・壁部分 １１・・・カセント １３・・仕切プレート １７・・・真空ボイラ ２２・・ケーシング ２３・・・要素 ３９・・通路 ＦＩＧ．２ ９・下ケース １１・カセット １３　仕切プレート １７・真空ボイラ ２２　ケーシング ＦＩＧ．４

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、要素（２３、２３’、・・・・・・）の表面を加工
    するために要素を高真空プロセス室（２７）の真空ボイ
    ラ（１７）内に引込みかつそこから引出す装置において
    、要素（２３、２３’、・・・・・・）が要素ホルダ、
    要素マガジン又はカセット（１１）内に配置されており
    、該カセットが装置の仕切プレート（１３）上に置かれ
    ており、さらに要素ホルダ、要素マガジン又はカセット
    が下側で開いたケーシング（２２）によつて取囲まれて
    おり、該ケーシングの環状の縁部分が、装置を包囲する
    下ケース（９）の上側の壁部分（１０）上に支持されて
    おり、しかも前記仕切プレート（１３）は、行程装置（
    ２１、２１’；４、４’；５；２０、２０’）によって
    鉛直及び／又は水平の方向で走行可能であり）これに対
    してケーシング（２２）は、下ケース（９）上にシール
    して載せられて、カセット（１１）のための引込開口 （１６）を被っており、しかも仕切りプレート（１３）
    が、下ケース（９）と結合された真空ボイラ（１７）の
    ための通路（３９）まで走行可能であり、かつこの通路
    が仕切プレート（１３）によつて閉鎖可能であることを
    特徴とする、要素を真空ボイラ内に引込みかつそこから
    引出す装置。 ２、行程装置は、水平に配置されたレール又はピストン
    ロッド（２０、２０’）に沿って滑るよりに支承された
    搬送往復台（５）によつて構成されており、該搬送往復
    台が行程シリンダ（４、４’）を備えていて、該行程シ
    リンダのピストンロッド又は行程ロッド（２１、 ２１’）が仕切プレート（１３）を支持しており）仕切
    プレート自体には、ラム（２４）に作用する、駆動ユニ
    ット（３）が固定されており、さらに前記ラムの自由端
    部に、カセット（１１）を保持するのに使用される支持
    プレート（２）が配置されている請求項１記載の装置。 ３、装置の下ケース（９）が、該下ケースを浄化する空
    気流（ａ、ｂ、ｃ）のための出口 （２６）を有しており、さらに導管（１５）を介してモ
    ーター送風機ユニット（１８）に接続されている請求項
    １記載の装置。 ４、行程装置（２１、２１’；４、４’；５；２０、２
    ０’）が少なくとも部分的に、下ケース（９）の内側に
    配置されていて孔又はリブ付薄板 （１４、１４’）から成るケージ（１９）によつて取囲
    まれており、さらに導管（１５）を介して流入する空気
    流（ａ、ｂ、ｃ）が、ケージ（１９）を貫流する際に少
    なくとも層状に形成される請求項３記載の装置。 ５、下ケース（９）の上側の壁部分（１０）に支持され
    た、要素（２３）を保持するカセット（１１）のための
    ケーシング（２２）が、カセット（１１）の下側に設け
    られた開口を取囲むフレーム部分（４０）を有しており
    、該フレーム部分の内径が、引込開口（１６）の内径に
    ほぼ相応する請求項１から４までのいずれか１項記載の
    装置。 ６、真空ボイラ（１７）のための通路（３９）が、装置
    の下ケース（９）の上側の壁部分 （１０）に配置されており、しかも通路 （３９）の内径は、仕切プレート（１３）の相応する幅
    より小さく、しかしカセット底 （１１′）を受容するための支持プレート（２）の相応
    する寸法より大きくなつている請求項１から５までのい
    ずれか１項記載の装置。 ７、真空ボイラ（１７）が搬送室（３２）を介して高真
    空プロセス室（２７）と接続されており、しかも搬送室
    （３２）と、真空ボイラ（１７）もしくは高真空プロセ
    ス室（２７）との間の接続開口（３６、３７）がスライ
    ダ又は弁体（３４、３５）を介して閉鎖可能であり）さ
    らに搬送室（３２）内に、搬送アーム（３０）が、該搬
    送アームに配置された要素ホルダ（３１）と共に旋回可
    能に支承されており、該要素ホルダが、一面ではカセッ
    ト（１１）の範囲まで、かつ他面では高真空プロセス室
    （２７）内に設けられた要素支台又は支持ボルト（３３
    、３３’）の範囲まで運動可能である請求項１から６ま
    でのいずれか１項記載の装置。 ８、仕切プレート（１３）と結合されたモーター駆動ユ
    ニット（３）が、電気的なステップ切換え装置を介した
    搬送アーム（３０）の運動に関連してラム（２４）のス
    テップ式送出を可能にし、しかも真空ボイラ（１７）の
    高さは、カセット（１１）内の最も下側に配置された要
    素（２３）が搬送アーム（３０）の要素ホルダ（３１）
    の旋回範囲までなお運動できるよりに決められている請
    求項１から７までのいずれか１項記載の装置。
JP1107899A 1988-05-03 1989-04-28 要素を真空ボイラ内に引込みかつそこから引出す装置 Pending JPH02232362A (ja)

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DE3814924A DE3814924A1 (de) 1988-05-03 1988-05-03 Vorrichtung zum ein- und ausschleusen von substraten aus einem vakuumkessel
DE3814924.9 1988-05-03

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Publication Number Publication Date
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ID=6353441

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EP (1) EP0340345B1 (ja)
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