JPH0222877B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は反射炉内の温度不均一の溶湯を撹拌
するための一手段に関するものである。

一般にアルミニウム及びアルミニウム合金の溶
解、ないし溶解によつて得られる溶湯の保持には
重油、ガスなどを燃料とする反射炉が採用され
る。そして、この反射炉内での溶湯は部分的に温
度差が生じることによつて撹拌が要請される。こ
の撹拌は温度差の均一化のみならず、アルミ合金
では合金成分の均一化、表面部における酸化防
止、ないし、熱エネルギーの吸収の増進などの面
において重要性を有する。

ところで、反射炉のうちオープンウエル形反射
炉はアルミニウムの溶解ないし溶解された溶湯の
保有に好適で、加熱部とウエル部を有している。
そして、種湯を外部から導びくか、加熱部にて被
溶解金属の溶解のもとに得て以後被溶解アルミ材
をウエル部に浴させることにより周囲の溶湯から
の熱によつて酸化現象をもたらすことなく徐々に
溶解していく。この際、ウエル部の溶湯温度は開
放状態にあるとともに溶解エネルギーの消失によ
り加熱部の温度に比して低い。これらの加熱部及
びウエル部の温度差は熱伝導にて若干の補償は期
待できるが、依然としてかなりの温度差があつ
て、加熱部の溶湯と、ウエル部の溶湯との交換作
用が必要となる。

このための手段として炉底部に移動磁界発生用
誘導子を配すること、加熱部における高温の溶湯
を炉外に一旦導びき、これをオープンウエル部上
方より流下させることなどが採用されている。

ところが、従来の反射炉における加熱部とウエ
ル部に存する溶湯の流動撹拌作用はウエル部への
高温の溶湯の供給箇所が固定されている。このた
め、全体の溶湯としてはほぼ全体が一様で撹拌で
きるものの、例えばオープンウエル部の被溶解金
属が集中している箇所に的確に流下させることが
困難でウエル部における被溶解金属の溶解効率の
点において問題があつた。

この発明の目的は反射炉の加熱部より高温の溶
湯を側方に導びき、さらに斜上方に電磁樋の作用
によつて上昇させ、かつ案内樋によりウエル部上
方に高温の溶湯を流下させる構成において、上記
案内樋を可動にして最も被溶解金属が集中する箇
所に溶湯を的確に流下させることにある。

以下、図示する実施例について具体的に説明す
る。第１図、第２図はそれぞれこの発明を実施す
るためのアルミ反射炉の側面図及び平面図で、各
図において、１はアルミ反射炉本体で、加熱部１
ａ及びウエル部１ｂを備え、加熱部１ａの上方部
には排煙口１ｃを、ウエル部１ｂよりかなり内側
に入つた側方下部に通湯口１ｄを形成している。
２はバーナー装置で、反射炉１の加熱部１ａのウ
エル部１ｂとは反対方向上部に備えられ、加熱部
１ａの室内に火炎を放射し、加熱部１ａ内を強力
に加熱する。３は貯湯槽で、上記加熱部１ａに形
成されている通湯口１ｄから高温の溶湯を導び
く。４は電磁樋で、一方端は上記貯湯槽３の下底
部に位置し、この位置より斜上方に向い、ウエル
部１ｂの側上方部にまで延びている。５は蓋体
で、貯湯槽３及び電磁樋４を通過する途中の溶湯
の温度低下を防止する。６は上記電磁樋４の支柱
である。７はアルミ溶湯で、反射炉１の加熱部１
ａないしウエル部１ｂに蓄積され、当該溶湯７は
通湯口１ｄを通じて貯湯槽３にも流入する。な
お、上記電磁樋４のＡ−A′断面は第３図に示す
ような構成をなしている。すなわち、溶湯通路４
ａを形成する耐火材４ｂの下底部に、通路４ａ内
の溶湯７を推力をもたらす移動磁界発生用誘導子
４ｃを備えており、通路４ａの上面に上記蓋体５
が配置される。８は案内樋で、上記電磁樋４の溶
湯通路４ａ上端部より流出する溶湯７をウエル部
１ｂの上方部まで移送する。

さて、上記この発明の基となる構成は同一出願
人において権利化されているところであるが、以
下この発明の具体例について説明する。まず、第
４図は電磁樋４、案内樋８及び反射炉１のウエル
部１ｂの関係すなわち、案内樋８が電磁樋４先端
部に位置する中心Ｐに旋回可能に支持されている
状態を示しており、旋回中心部に電磁樋４先端部
より溶湯を受け、これをウエル部４ｂに案内す
る。そして、案内樋８はその先端が同第４図に示
すように溶湯の流れ方向に対して斜めにしておく
ことにより高温の溶湯の流下の及ぼすサービス範
囲の増大がはかれる。

一方、第５図ないし第７図は第４図とは異なる
実施態様を示しており、第５図は要部平面図、第
６図は第５図Ｂ−B′断面図、第７図は動作を説
明するための原理図で、電磁樋４の先端部の溶湯
落下口４ｘから流下する溶湯を受容する案内樋８
は例えば図示のように電磁樋４の長手方向と直角
方向に移動可能となつている。このための手段は
第６図に示すように、当該案内樋８の移動方向に
敷設してあるレール９に対し、案内樋８に備えて
いる車輪８ａが案内されるように構成してある。
従つて、案内樋８の先端部はウエル部１ｂにおい
て変位できる。第７図は第４図〜第６図に示す可
動案内樋８の先端部から被溶解金属Ｍに高温の溶
湯Ｒを注いでいる状態を示している。

上記構成において、まず、反射炉１の加熱部１
ａ内にアルミインゴツト（図示せず）を投入して
バーナー装置２から火炎を発生せしめること、ア
ルミインゴツトは徐々に溶解されてゆき、アルミ
溶湯７を造出していく。但し、この溶湯７は外部
で生成して反射炉１のウエル部１ｂより流入して
ベースメタル（下湯）を得てもよい。そして、こ
のベースメタルとしての溶湯７はバーナー装置２
によつて反射炉１の加熱部１ａにおいて加熱さ
れ、温度低下を補償する。そして、ある一定レベ
ルに溶湯７の量が達すると、通湯口１ｄから貯湯
槽３に反射炉１の加熱部１ａに存する高温の溶湯
７が流入する。そこで、上記貯湯槽３の底部より
ウエル部１ｂの側下方に向けて配置される電磁樋
４を動作させるべく誘導子４ｃに交流電力を供給
すると、貯湯槽３の底部に存する溶湯７にはうず
電流が発生し、このうず電流と誘導子４ｃから生
ずる移動磁界との相互作用により推力がもたらさ
れ、溶湯７は電磁樋４において斜上方に移送され
る。

さて、上記電磁樋４の先端部より流下する溶湯
は案内樋８に移行して当該案内樋の先端部に向け
て流れる。そこで、案内樋８は第４図、第５図に
示される各機構においては流出部の位置が、それ
ぞれ扇形状及び帯状に変位することにより、ウエ
ル部への溶湯落下ゾーンが自在に変化できる。

以上述べたように、この発明に係る反射炉内に
おける溶湯撹拌装置は、反射炉１の被溶解物を投
入するウエル部１ｂの上方部にまで、側方の溶湯
を導びく貯湯槽より電磁樋及び案内樋を順次介し
て溶湯を導びく構成において、上記案内樋を可動
的に支持するようにしたものである。このような
構成に基づいて、案内樋から流下する高温の溶湯
をウエル部１ｂ中の被溶解物の周囲に的確に注ぐ
ことができ、溶解効率の著しい向上をはかること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は側面図、第２図は平面図、第３図は第
２図のＡ−Ａ断面図、第４図はこの発明の実施態
様を示す要部平面図、第５図、第６図、第７図は
それぞれ他の実施態様を示す平面図、第５図のＢ
−Ｂ断面図、溶湯の流下状態を示す原理図であ
る。 １……反射炉本体、１ａ……加熱部、１ｂ……
ウエル部、１ｄ……通湯口、４……電磁樋、７…
…溶湯、８……案内樋、９……レール、Ｍ……被
溶解金属。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 反射炉加熱部側壁に形成された通湯口を介し
   て導びかれた溶湯を被溶解金属投入用ウエル部に
   向けて移送するための当該反射炉の側壁外部に設
   けられ、上方に傾斜する電磁樋、及びこの電磁樋
   先端部より流出する溶湯を上記ウエル部の上方部
   に導びく案内樋を備えた構成において、上記案内
   樋のウエル部に対する溶湯の流下地点を変位させ
   る手段を有する反射炉における溶湯撹拌装置。 ２ 案内樋のウエル部に対する溶湯の流下地点の
   変位手段として、電磁樋よりの溶湯流下点近傍を
   中心に案内樋を旋回可能にした特許請求の範囲第
   １項記載の反射炉における溶湯撹拌装置。 ３ 案内樋のウエル部に対する溶湯の流下地点の
   変位手段として電磁樋よりの溶湯受部とウエル部
   への溶湯流下部とが平行移動可能とした特許請求
   の範囲第１項記載の反射炉における溶湯撹拌装
   置。