JPH02228325A - ポリエーテルエーテルケトン―ポリアリ―レンスルフイドブロツクコポリマー - Google Patents

ポリエーテルエーテルケトン―ポリアリ―レンスルフイドブロツクコポリマー

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JPH02228325A
JPH02228325A JP2003687A JP368790A JPH02228325A JP H02228325 A JPH02228325 A JP H02228325A JP 2003687 A JP2003687 A JP 2003687A JP 368790 A JP368790 A JP 368790A JP H02228325 A JPH02228325 A JP H02228325A
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sum
halogen
sulfide
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JP2003687A
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ボルフガング・エーベルト
Knud Reuter
クヌート・ロイター
Karsten-Josef Idel
カルステン‐ヨゼフ・イーデル
Sabine Kern
ザビネ・ケルン
Guenther Weymans
ギユンター・バイマンス
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    • C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G75/02—Polythioethers
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    • C08G75/0245—Block or graft polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、末端ハロゲン原子を含有するポリエーテルエ
ーテルケトンブロックとジハロゲン化芳香族化合物から
製造した新規なブロックコポリアリーレンスルフィド、
好ましくはブロックコポリフェニレンスルフィドに関ス
ル。
ポリアリーレンスルフィド（ＰＡＳ）は、不活性で耐高
温性であるのみならずガラス繊維及び／又は他の鉱物で
高度に充填することが可能な熱可塑性グラスチックとし
てますます重要となりつつある。
これらのポリマー、特にポリバラフェニレンスルフィド
（ＰＰＳ）は、加工が容易なため、トランジスタ、コン
デンサ、マイクロチップなどの従来熱硬化性樹脂（ｄｕ
ｒｏｍｅｒｓ）のために残されていた用途への使用が増
大している。
流動が容易なタイプのＰＰＳはチップの被包に最も好適
である。それらは遅い結晶化により特徴付けられそして
容易に加工することができる。
高温で使用されるべきポリマーは、熱の下で高い寸法安
定性（ガラス転位温度）を持つべきであり且つ機械的応
力下にクリープを起こすべきではない。
ジハロゲノベンゼン、好ましくはｐ−ジクロロベンゼン
などのジハロゲン化芳香族化合物と末端ハロゲンを有す
るポリエーテルエーテルケトンブロックから製造された
ブロックコポリアリーレンスルフィト、特にブロックコ
ポリフェニレンスルフィドは、ポリ−ｐ−７二二レンス
ルフイドで普通に見出だされる８７℃より高いガラス転
位温度（Ｔｇ）と遅い結晶化を有する。
故に、本発明は、ジハロゲン化芳香族化合物、好ましく
は、 Ａ）、　　Ａ）とＢ）の和を基準として５ｏ−ｔ。
０重量％、特に好ましくは８０−１００重量％のジハロ
ゲン化芳香族化合物、好ましくは式ＣＩ）式中、 Ｘは、互いにメタ位置又はバラ位置にある塩素又は臭素
などのハロゲンを表す、 に相当するジハロゲノベンゼン、及び Ｂ）、Ａ）とＢ）の和を基準として０−５０重量％、好
ましくは０−２０重量％のジハロゲン化芳香族化合物、
好ましくは、式（ＩＩ）、式中、 Ｘは前記したとおりであり、 Ｒ１及びＲ１は、同一であるか又は相異なり、水素、Ｃ
，−Ｃ，−アルキル、Ｃ，−Ｃ，。−シクロアルキル、
Ｃ＠−Ｃ＋ｏ−アリール、Ｃ７Ｃ１＠−アルキルアリー
ル又はｃ　ｔ−ｃ　ｔｉ−アリールアルキルを表し、そ
して、互いにオルト位置にあるＲ１により表された２個
の基は相互に結合して芳香族環又はＮ、Ｏ又はＳなどの
へテロ原子を３個まで含有する複素環を形成していても
よく、そしてＲ１により表された基の１つは常に水素と
は異なる、 に相当するジハロゲノベンゼン、 Ｃ）場合により更に、（Ａ＋Ｂ）のジノ１０ゲン化芳香
族化合物の和を基準として０．０１−５モル％、好まし
くは０．０５−２．５モル％の、式（ｆｆ） Ａｒ”Ｘｐ　　　　（Ｉり 式中、 Ａｒ“は、芳香族Ｃ，−Ｃ，，基又は５−１４個の環原
子を持ち、３個までの環Ｃ原子がＮ、　０又はＳなどの
へテロ原子で代替されていてもよい複素環であり、 Ｘは塩素又は臭素などの）１０ゲンを表し、ｐは数３又
は４を表す、 のトリー及びテトラハロゲン化芳香族化合物、及び Ｄ）式（ＩＩＩ）、 （ＩＩＩ） 式中、 Ｙは、Ｆ、Ｃ１又はＢｒ好ましくはＦ又はＣｔなとのハ
ロゲンを表し、 Ｒ１，Ｒ１、Ｒ３及びＲ月よ、相互に独立に、式（ＩＩ
）で定義されたＲ１及びＲ２の基、好ましくはＨ又はメ
チルを表し、 Ｚは、単結合、随意に分岐していてもよいＣＩ−〇１．
−アルキリデン基、随意に分岐していてもよいＣｓ　　
Ｃｍ。−シクロアルキリデン、酸素、硫黄、Ｓｏ、Ｓｏ
ｎ又はＣＯを表し、その際Ｒ１は式（ｆｆ）で示された
意味を有し、ｐは、数ｌ又は０を表し、 ｎは、数１−１００表す、 に相当するポリエーテルエーテルケトンブロックから製
造されたブロックコポリアリーレンスルフィト、好マシ
くはブロックコポリフェニレンスルフィドに関する。
式（ＩＩＩ）において、２は、好ましくは随意に分岐し
ていてもよいＣ，−Ｃ，−アルキリデン又は随意に分岐
していてもよいＣ、−Ｃ、。−シクロアルキリデン、例
えば、式（Ｉｌｌａ）、 チルを表し、 ｑは、数０、ｌ、２又は３、好ましくは、０又はｌを表
す、 に相当する基、Ｓ又はＳＯ８を表す。式（ＩＩＩ）でｎ
により表された数は括弧内のブロックの分子量が約５０
０−１０．０００、好ましくは約１０００−６０００と
なるように選ばれる。
本発明に従うブロックコポリマーは、化学的に導入され
ている式（ＩＩＩ）のポリエーテルエーテルケトンブロ
ック１−５０重量％、好ましくは１−３０重量％を含有
する。
本発明は、ジハロゲン化芳香族化合物、好ましくは、式
（Ｉ） 式中、 Ｒ１、Ｒ６、Ｒ７及びＲ１は、相互に独立に、水素又は
Ｃ，−Ｃ４−アルキル、好ましくは水素又はメ式中、 Ｘは、互いにメタ位置又はパラ位置にある塩素又は臭素
などのハロゲン原子を表す、 に相当するジハロゲノベンゼン、及び ジハロゲン化芳香族化合物、好ましくは、式（ｎ）、 式中、 Ｘは前記したとおりであり、 Ｒ１及びＲ２は、同一であるか又は相異なり、水素、Ｃ
Ｉ　　Ｃ４−アルキル、Ｃａに＋。−シクロアルキル、
Ｃａ　　（：＋。−アリール、Ｃ７−Ｃ＋。
−アルキルアリール又はＣ７−Ｃ＋ａ−アリールアルキ
ルヲ表し、そして、互いにオルト位置ニあるＲ１により
表された２個の基は相互に結合して芳香族環又はＮＳＯ
又はＳなどのへテロ原子を３個まで含有する複素環を形
成してｌ／１てもよく、モしてＲ１により表された基の
１つは常に水素とは異なる、 に相当するジ／１０ゲノベンゼン０−５０重量％を、水
酸化ナトリウム又は水酸化カリウムなどのアルカリ金属
水酸化物０−１ｏ％及びアルカリ金属硫化水素、好まし
くは硫化水素ナトリウムもしくは硫化水素カリウム又は
その混合物０−０．５モルと一緒になったアルカリ金属
硫化物、好ましくは硫化ナトリウムもしくは硫化カリウ
ム又はその混合物などの硫黄供給体０．５−１．２５モ
ル、ここでジハロゲン化芳香族化合物対アルカリ金属硫
化物のモル比は０．７５：ｌ乃至１．２５：ｌの範囲と
することができる、及び ジハロゲン化芳香族化合物の和を基準として０−０．０
５モル％のトリー及びテトラハロゲン化芳香族化合物、
好ましくは、式（ＩＶ）ＡｒＸｎ　　　　　（ｒｖ） 式中、 Ａ「は、芳香族Ｃ，−Ｃ，、基又は５−１４個の環原子
を持ち、３個までの環Ｃ原子がＮ、Ｏ又はＳなどのへテ
ロ原子で代替されていてもよい複素環であり、 Ｘは塩素又は臭素などのハロゲンを表し、ｎは数３又は
４を表す、 に相当するトリー及びテトラハロゲノベンゼン、及び、 式（ＩＩ［）、 （ＩＩＩ） 式中、 Ｙは、Ｆ、ＣＩ又はＢ「好ましくはＦ又はＣＩなどのハ
ロゲンを表し、 Ｒｔ、Ｒ１、Ｒｓ及びＲ’ｌｉ、相互に独立に、式（Ｉ
［）で定義されたＲ１又はＲ２で表された基、好ましく
はＨ又はメチルを表し、 Ｚは、単結合、随意に分岐していてもよいＣ３−ＣＩＺ
−アルキリデン基、随意に分岐していてもよいＣＩ　　
ＣＩ。−シクロアルキリデン基、酸素、硫黄、５Ｏ１Ｓ
Ｏ，又はＣＯを表し、その際Ｒ１は式（ＩＩ）で示され
た意味を有し、 ｐは、数ｌ又は０を表し、 ｎは、数１−１００を表す、 に相当するポリエーテルエーテルケトンブロックと反応
させ、その際この反応を随意に連鎖調節剤の存在下に行
ってもよいことを特徴とする、本発明に従うポリアリー
レンスルフィドブロックコポリマー、好ましくは、ポリ
フェニレンスルフィドブロックコポリマーの製造方法に
関する。
常用の連鎖調節剤、例えばモノハロゲン化芳香族化合物
、モノメルカプト化合物及びその混合物（例えば西ドイ
ツ公開公報（ＤＥ−Ａ）第３５２９５００号、第３５２
９５０１号及び第３５２３４９８号）を使用することが
できる。
本方法は、アルカリ金属カルボン酸塩（例えばＮａｏＡ
ｃ％ＫＯＡｃ）、アルカリ金属りン酸塩（例えばＮａＨ
，ＰＯ，、Ｎａ５ＰＯ４）アルカリ金属・ホスホン酸塩
、アルカリ金属７ツ化物（例えばＮａＦｌＫＦ）又はア
ルカリ金属アルキルスルホネートなどの反応促進剤の存
在下に行うことができる。Ｎ。
Ｎ−ジアルキル−カルボン酸アミド、ラクタム、カルボ
ン酸の無水物及びエステルを存在させることもできる。
本方法は、随意に共溶媒を添加してＮ−アルキルラクタ
ムなどの二極性非プロトン性溶媒中で行うことができる
。アルカリ金属硫化物対溶媒のモル比はｌ：２乃至１：
１５の範囲にある。
反応は１５０−３００℃の温度で行う。
ポリエーテルエーテルケトンブロックは、溶液として又
は固体の形態でジハロゲン化芳香族化合物と一緒に反応
混合物に加えることができる。好ましくは、それらは反
応混合物の脱水の後反応混合物（例えばハロゲン化芳香
族化合物と硫黄供与体との）に加えられる。１つの特定
の態様では、ポリエーテルエーテルケトンブロックはジ
ハロゲン化芳香族化合物と硫黄供与体の重縮合反応の後
に加えることができる。
ポリエーテルエーテルケトンブロックは、公知であるか
又は公知の方法に類似した方法（例えば西ドイツ公開公
報第２２２００７９号及び第３８３３３８６号）により
製造することができる。
ポリエーテルエーテルケトンブロックの製造に使用され
るビスフェノール成分は、好ましくは、ヒドロキノン、
レゾルシノール フェニル類、ヒス−（ヒドロキシフェニル）−アルカン
類、ビス−（ヒドロキシフェニル）−シクロアルカン類
、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルフィド類、ビス
−（ヒドロキシフェニル）−エーテル類、ビス−（ヒド
ロキシフェニル）−ケトン類、ビス−（ヒドロキシフェ
ニル）−スルホキシド類、ビス−（ヒドロキシ−フェニ
ル）−スルホン類、又はσ。
ａ　　−ｔ”スー（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロ
ピルベンゼン類、例えば、４．４′−ジヒドロキシジフ
ェニル、４．４′−ジヒドロキシ−３．３′５、５′−
テトラメチルジフェニル、ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−メタン、ビス−（４−ヒドロキシ−３．５−ジ
メチルフェニル ｌ−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−エタン、１、
２−ｔ’スス−４−ヒドロキシフェニル）−エタン、１
．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３．５−ジメチル−フ
ェニル）−エタン、１．２−ビス−（４−ヒドロキシ−
３．５−ジメチルフェニル）−エタン、２−フェニル−
２．２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−エタン、
２−７エニルー２．２−ｔ’スス−４−ヒドロキシ−３
．５−ジメチルフェニル）ーエタン、２．２−ビス−（
４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２．゛２ービス
ー（４−ヒドロキシ−３．５−ジメチルフェニル）−フ
ロパン、、１．１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）
−シクロヘキサン、１．１−ビス−（４−ヒドロキシ−
３．５−ジメチルフェニル）−シクロヘキサン、３．３
．５−トリメチル−１．１−ビス−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−シクロヘキサン、３．３．５−トリメチル−
１．１−ビス−（４−ヒドロキシ−３．５−ジメチルフ
ェニル）−シクロヘキサン、３．３．５．５−テトラメ
チル−１．１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シ
クロヘキサン、３．３．５．５−テトラメチル−１．１
−ビス−（４−ヒドロキシ−３．５−ジメチルフェニル
）−シクロヘキサン、３．３−ジメチル−５−メチル−
１．１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロペ
ンタン、３．３−ジメチル−５−メチル−１．１−ビス
−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−シ
クロペンタン、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ス
ルホン、ビス−（４−ヒトａキシ−３．５−ジメチルフ
ェニル）ースルホン、ビス−（４−ヒドロキシフェニル
）−スルフィド、ビス−（４−ヒドロキシ−３．５−ジ
メチルフェニル）−スルフィト、ヒス−（４−ヒドロキ
シフェニル）−エーテル、ビス−（４−ヒドロキシ−３
．５−ジメチルフェニル）−エーテル、ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−ケトン、ビス−（４−ヒドロキシ
−３．５−ジメチルフェニル）−ケトン等である。
特に好ましいポリエーテルエーテルケトンブロックは、
４．４’　−ジフルオロベンゾフェノン又は４、４’−
ジクロロベンゾフェノンと、ビス−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−スルフィド、ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−スルホン、１．１−ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−シクロヘキサン、ビス−（４−ヒドロキシ−３
．５−ジメチルフェニル）−スルフィド、ビス−（４−
ヒドロキシ−３。
５−ジメチルフェニル）−スルホン、１．１−ビス−（
４−ヒドロキシ−３．５−ジメチルフェニル）−シクロ
ヘキサン、３．３．５−トリメチル−１゜ｌ−ビス−（
４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル７エ二ル）−シクロ
ヘキサン、３．３．５．５−テトラメチル−１，１−ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、３
，３．５．５−テトラメチル−１，■−ビスー（４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−シクロヘキサ
ン、３．３．５−トリメチル−１，１−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−シクロヘキサン、３，３．５−ト
リメチル−１，１−ビス−（４−ヒドロキシ−３，５−
ジメチルフェニル）−シクロペンタン及ヒ／又は３．３
゜５−トリメチル−１，１−ビス−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−シクロペンタンとの反応により製造される。
ＰＥＥＫ−ＰＡＳブロックコポリマーの製造は、ポリア
リーレンスルフィドの製造に使用される方法に類似した
方法により、例えばヨーロッパ特許公開公報（ＥＰ−Ａ
）第１２６３６９号、西ドイツ公開公報（ＤＥ−Ａ）第
３７０３３５０号、ヨーロッパ特許公開公報第１０９６
３７号、ヨーロッパ特許公開公報第１４２０２４号、ヨ
ーロッパ特許公開公報第１７１０２１号、米国特許（Ｕ
Ｓ−Ａ）第３３５４１２９号等と類似した方法で製造す
ることができる。
硫黄供与体として使用されるＮａ２Ｓ又はに！Ｓなどの
アルカリ金属硫化物は、好ましくは、その水和物又は水
性混合物又は水性溶液の形態で本方法において使用され
る。それらの脱水は部分的であってもよいが、完全であ
ることが好ましい。反応混合物中に存在する水は、直接
又は共沸混合物形成剤を使用して蒸留により除去される
。この共沸混合物形成剤は好ましくはジハロゲン化芳香
族化合物である。水を除去するために、すべての反応体
を一緒に混合し、次いで全混合物を脱水することができ
る。別法として、アルカリ金属硫化物は別個に成る割合
の反応体と共に又は単独で脱水することができる。
反応の１つの態様では、極性溶媒の存在下に連続的に反
応促進剤又はその混合物と一緒にし、水を同時に除去す
る。この方法を採用する場合には、反応は反応体を導入
する速度により制御され、この方法は水の長い残留時間
を回避させることを可能とする。
反応混合物が完全に脱水されれば、反応は圧力なしで又
は約３バールまでの低圧で行うことができる。溶媒又は
溶媒とジハロゲン化及び多ハロゲン化芳香族化合物との
混合物の沸点を越える反応温度を得るには、５０バール
までの高い圧力を使用することができる。
反応は連続的に又はバッチ式で行うことができる。反応
時間は、広い範囲内で、即ち、１−４８時間、好ましく
は１−１８時間の範囲で変えることができる。反応温度
は１５０−３００’Ｏ，好ましくは、１７０−２８０℃
である。
ポリエーテルエーテルケトンブロック（Ｐ　Ｅ　ＥＫ）
の添加は種々の方法により行うことができる。
例えば、ＰＥＥＫブロックは反応容器に導入する最初の
成分であってもよく、又は、それは脱水工程中に溶液に
加えるか又は好ましくは反応に使用する溶媒に脱水後に
加えることができる。種々のＰＥＥＫブロックの混合体
を使用することができる。
反応混合物の後処理及びブロックコポリアリーレンスル
フィドの単離は公知の方法で行うことができる。
ブロックコポリアリーレンスルフィドは、直接に又は例
えば水及び／又は希酸又はポリアリーレンスルフィドに
対して低い溶解度を持った有機溶媒の添加の後、濾過又
は遠心分離などの慣用の方法により反応溶液から分離す
ることができる。ブロックコポリアリーレンスルフィド
の分離は、般的には水による洗浄の後に行なわれる。水
による洗浄に加えて又は水による洗浄の後に、他の洗浄
液による洗浄又は抽出を行うこともできる。
ブロックコポリアリーレンスルフィドは、例えば上述の
如き洗浄に続く蒸留による溶媒の除去ｌこよっても得ら
れる 硫黄供与体として使用されるアルカリ金属硫化物は、例
えばＨａｓとアルカリ金属水酸化物とからも得られる。
反応溶液のアルカリ金属硫化物中に不純物として存在す
るアルカリ金属硫化水素（例えばＮａＨ５又はＫＨ５）
の割合に依存して、成る割合のアルカリ金属水酸化物（
例えばＮａＯＨ，ＫＯＨ）を加えることもできる。アル
カリ金属水酸化物を加える代わりに、反応条件下にアル
カリ金属水酸化物を分解放出又は形成する化合物を使用
することができる。
本発明に従って使用されるジハロゲン化芳香族化合物は
、ジハロゲノベンゼン又は、４．４’　−ジクロロジフ
ェニル４．４’−ジクロロジフェニルスルホン、４．４
’−ジフルオロジフェニルスルホン、４．４’　−ジフ
ルオロベンゾフェノン、及び４，４′−ジクロロベンゾ
フェノンなどのジハロゲノ芳香族化合物であることがで
きる。好ましくは、式（Ｉ）及び（ＩＩ）のジハロゲン
化ベンゼンが使用される。この場合に、メタ一対バラー
ジハロゲン化芳香族化合物の比は３０ニア０までである
ことができる。
好ましくは、ｐ−ジクロロベンゼン又はｐ−ジブロモベ
ンゼンなどのｐ−ジハロゲン化芳香族化合物が使用され
る。
分岐したポリアリーレンスルフィド／ＰＥＥＫブロック
コポリマーを製造するべき場合には、（Ｉ）＋（ＩＦ）
１モルを基準として少なくとも０．００５モルの式（Ｉ
Ｖ）のトリー又はテトラ−ハロゲン化芳香族化合物が使
用されるべきである。
下記のものは本発明に従って使用されるべき式（Ｉ）の
ジハロゲン化芳香族化合物の例である：ｐ−ジクロロベ
ンゼン、ｐ−ジブロモベンゼン、ｌ−クロロ−４−ブロ
モベンゼン、１．３−ジクロロベンゼン、１．３−ジブ
ロモベンゼン及びｌ−クロロ−３−ブロモベンゼン。こ
れらは個々に又は混合物として使用することができる。
１．４−ジクロロベンゼン及び／又は１．４−ジブロモ
ベンゼンが特に好ましい。
下記のものは本発明に従って使用されるべき式（ＩＩ）
のジハロゲン化芳香族化合物の例である：２゜５−’；
クロロトルエン、２．５−’；クロロキシレン、ｌ−エ
チル−２，５−ジクロロベンゼン、ｌ−エチル−２，５
−ジブロモベンゼン、ｌ−エチル−２−ブロモー５−ク
ロロベンゼン、１．２．４゜５−テトラメチル−３，６
−ジクロロベンゼン、ｌ−シクロヘキシル−２，５−ジ
クロロベンゼンｌ−７エニル−２．５−ジクロロベンゼ
ン、ｌ−ベンジル−２，４−ジクロロベンゼン、ｌ−フ
ェニル−２，５−ジブロモベンゼン、１−ｐ−トリル−
２，５−ジクロロベンゼン、１−ｐ−）リルー２゜５−
ジブロモベンゼン、■−へキシル−２，５−ジクロロベ
ンゼン、２．４−ジクロロトルエン、２．４−ジクロロ
キシレン、２，４−ジブロモクメン及びｌ−シクロヘキ
シル−３，５−ジクロロベンゼン。これらは個々に又は
混合物として使用することができる。
下記のものは本発明に従って使用されるべき式（ＩＩＩ
）のトリハロゲン化及びテトラハロゲン化芳香族化合物
の例である。１．２．３−トリクロロベンゼン、ｌ　、
２．４−トリクロロベンゼン、１，２．４−トリブロモ
ベンゼン、！、３．５−トリクロロー２．４．ｆｉ−）
リメチルベンゼン、１．２．３−トリクロロナフタレン
、１，２．４−トリクロロナフタレン、１．２．６−）
ジクロロナ７タレン、２，３゜４−トリクロロトルエン
、２．３．６−トリクロロトルエン、１．２，３．４−
テトラクロロす７タレン、１．２．４．５−テトラクロ
ロベンゼン、２゜２’　、４．４’−テトラクロロビフ
ェニル、２，４゜６−ドリクロロー１．３．５−トリア
ジン、１．３゜５−）！Ｊスス−４−クロロフェニル）
−ベンゼン等。
反応に使用する溶媒は、一般に反応条件下に有機反応体
及び随意の無機の反応体に対する十分な溶解度を持った
極性溶媒であればいずれでもよい。
好ましくはＮ−アルキルラクタムが使用される。
Ｎ−アルキルラクタムは、炭素構造上に置換基を有しそ
して反応条件下に不活性である３−１１個の炭素原子を
含むアミノ酸のラクタムである。
下記のものは好適なＮ−アルキルラクタムの例である。
Ｎ−メチルカプロラクタム、Ｎ−工・チルカプロラクタ
ム、Ｎ−イソプロビル力グロラクタム、Ｎ−インブチル
カプロラクタム、Ｎ−プロピルカプロラクタム、Ｎ−ブ
チルカプロラクタム、Ｎ−シクロへキシルカプロラクタ
ム、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピ
ロリドン、Ｎ−イソプロピル−２−ピロリドン、Ｎ−イ
ソブチル−２−ピロリドン、Ｎ−プロピル−２−ピロリ
ドン、Ｎ−ブチル−２−ピロリドン、Ｎ−シクロヘキシ
ル−２−ピロリドン、Ｎ−メチル−３−メチル−２−ピ
ロリドン、Ｎ−メチル−２，４，５−トリメチル−２−
ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ビペリドン、Ｎ−エチル
−２−ピペリドン、Ｎ−イソブチル−２−ピペリドン、
Ｎ−メチル−〇−メチルー２−ピペリドン、及びＮ−メ
チル−３−エチル−２−ピペリドン。
上記溶媒の混合物を使用することができる。
使用される連鎖停止剤は、モノハロゲン化化合物又はモ
ノメルカプト化合物、例えば、下記の化合物：３−クロ
ロジフェニル、３−ブロモジフェニル、４−クロロジフ
ェニル、４−ブロモジフェニル、３−クロロジフェニル
スルフィド、３−ブロモジフェニルスルフィド、４−ク
ロロジフェニルスルフィト、４−７’ロモジフエニルス
ルフイド、３−クロロジフェニルスルホン、３−ブロモ
ジフェニルスルホン、４−クロロジフェニルスルホン、
４−ブロモジフェニルスルホン、３−４０ロジフエニル
ケトン、（３−ブロモフェニル）フェニルケトン、（４
−４０ロフエニル）フェニルケトン、　（４−プロモフ
エニル）フェニルケトン、メルカプタン、例えば、ブチ
ルメルカプタン カプタン、ステアリルメルカプタン又はベンジルメルカ
プタン、チオフェノール、■ーメルカプトナフタレン、
２−メルカプトナフタレン、４−メルカプトジフェニル
、４−メルカプトジフェニルエーテル、４−メルカプト
ジフェニルスルホン、４−メルカプトジフェニルスルフ
ィド、４−メルカプトジフェニルケトン、２−メルカプ
トベンゾキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール
、及び２−メルカプトベンゾイミダゾール及びそれらの
アルカリ金属塩（例えば、Ｌｉ＋、Ｎａ−、Ｋ、及びＮ
Ｈ．メルカプチド及びアルカリ土金属塩（例えば、Ｃａ
−、Ｍｇ−、又はＺｎ−メルカプチド）。
例えば、フェノールも又ヨーロッパ特許公開公報第２２
９６２６号に記載のとおり好適な連鎖停止剤である。
反応は、更に、慣用の反応促進剤、例えばアルカリ金属
カルボン酸塩（西ドイツ公開公報第２５４３７４９号）
、ハロゲン化リチウム、又はアルカリ金属カルボン酸塩
（西ドイツ公開公報第２６２３３６２号）、塩化リチウ
ム又はカルボン酸リチウム（西ドイツ公開公報第２６２
３３６３号）、アルカリ金属カルボン酸塩と組み合わせ
たアルカリ金属炭酸塩（米国特許第４０３８２５９号）
、酢酸リチウム（西ドイツ公開公報第２６２３３３３号
）、トリアルキル金属ホスフェート（西ドイツ公開公報
第２９３０７９７号）、アルカリ金属フッ化物（西ドイ
ツ公開公報第３０１９７３２号）、アルカリ金属スルホ
ネート（米国特許第４０３８２６０号）、炭酸リチウム
及びホウ酸リチウム（米国特許第４０３０５１８号）、
特定の量のラクタム、カルボン酸の無水物及びエステル
（例えば、ヨーロッパ特許公開公報第１７１０２１号）
及びＮ，Ｎ−ジアルキルカルボン酸アミド、の存在下に
行うことができる。　新規なポリアリーレンスルフィド
ブロックコポリマーは、高いガラス転位温度と溶融物の
遅い結晶化の開始により特徴付けられる。
本発明に従うポリアリーレンスルフィドブロックコポリ
マーは、他のポリマー、好ましくはＰＰＳ及びＰＥＥＫ
と混合することができる。顔料及び充填剤、例えば、グ
ラファイト、金属粉、金属酸化物、ガラス粉末、粉末石
英、タルク、ガラス繊維、又は炭素繊維などの慣用の添
加剤及び、安定剤又は離型剤などのポリアリーレンスル
フィドへの通常の添加剤を加えることができる。
ポリアリーレンスルフィドのメルトフローは、一般に、
５ｋｇの重りを使用してＡＳＴＭ　　１２３８−７０に
従って３１６℃で測定され、モしてｇ／１０分として示
される。この方法は、新規なポリアリーレンスルフイド
ーボリエーテルエーテルケトンブロックコボリマーのメ
ルト７０−を決定するのにも使用された。
しかしながら、メルトフロー値が高ければ、この測定は
ポリマー溶融物の高い流出速度のため困難なことがある
。
この理由から、ポリマー溶融物の溶融粘度ｙｍは、イン
ストロン拳回転粘度計（Ｉｎｓｔｒｏｎ　Ｒｏｔａｒｙ
ｖｉｓｃｏｓｉｍｅｔａｒ）を使用して、剪断応力（Ｐ
ａ）に依存して３０６℃で測定した（Ｐ　ａ、　ｓ）ａ
この方法は、１Ｏ−１乃至Ｉ　Ｑ’Ｐａ、ｓの非常に広
い範囲にわたり溶融粘度を決定するのに使用することが
できる。上記インストロン・レオメータ（Ｉｎｓｔｒｏ
ｎ　Ｒｈｅｏｗｅｔｅｒ）では、ポリマーを固体板と回
転可能な円錐との間で溶融させ、円錐のトルクを決定す
る。剪断応力に依存して溶融粘度をトルク、角粘度（ａ
ｎｇｕｌａｒ　ｖｉｓｃｏｓｉｔｙ）及び装置の定数か
ら計算することができる。使用したレオメータはインス
トロンのモデル３２５０であり％２Ｃ１１の円錐直径及
び板直径を有していた。結果をｒａｍ　ＩＱ”Ｐａの剪
断応力で決定した溶融粘度として示す。
反応混合物から単離した後、本発明に従うポリアリーレ
ンスルフィドは、ｌ−５ＸｌＯ”Ｐａ、ｓ。
好ましくは５−ＩＸｌｏ”Ｐａ、ｓの溶融粘度を有する
。それらは、例えば、車両の部品、装備又は電気部品（
スイッチなど）、電子工学的パネル、―刷回路版、耐化
学品性及び耐候性部品及び装置、例えば、ポンプハウジ
ング及びポンプインペラ、エツチング浴用の皿、シール
リング及び事務機及びテレビジ１ン装置の部品、として
、及び家庭用品、パルプ、ボールベアリング部品、電子
部品用の埋め込み材料等として使用できるシート製品、
繊維及び射出成形品を製造するための通常の方法により
加工することができる。
ポリアリーレンスルフィドは、分子量と分子量分布を決
定するためのクロマトグラフィー法により分析すること
ができる。例えば、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰ
ＬＣ）及びゲルバーミエーシ１ンクロマトグラフィー（
ｃｐｃ）がこれらの目的に好適である。
本発明に従うコンパウンドは例えば、繊維、フィルム、
成形物の製造などの成形品の製造に使用することができ
る。
実施例 一般的方法 装置及び容器は、反応条件下に不活性な材料から作られ
るのが好ましく、例えば精製鋼タンクチタン又はジルコ
ニウム容器又はこれらの材料で被覆された容器又は場合
により貴金属で被覆された容器又は不活性ポリマーで被
覆された装置及びタンクである。反応条件下に安定な石
英及びガラス装置も使用できる。
ｐ−ジクロロベンゼン４８９．２ｇ（３，３３モル）及
びＮ−メチルカプロラクタム２．１５ｊ２を５ａの容器
に導入し、２１５℃に加熱し、硫化ナトリウム三水和物
９１９．５ｇ（７，１６モル）、水２６０ｇ、水酸化ナ
トリウム３．５ｇ（０，０８７５モル）及びＣ−カプロ
ラクタムｌ　ｌ　２．９ｇ（０゜８８モル）の混合物を
、溜め（ｓｕ■ｐ）の温度が２１５℃に維持されるよう
な速度で滴下により加える。
加えた水及び水和水をこのプロセスにおいて留去する。
ｐ−ジクロロベンゼン４８９．２ｇ（３，３３モル）を
硫化ナトリウムの添加中に加え、これを４時間にわたり
行う。更に２時間の撹拌の後、Ｎ−メチルカプロラクタ
ム４００ｍ（ｌに溶解したＰＥＥＫブロックを加える。
次いで加熱を２４０℃で７時間続けそして５Ｑ容器の内
容物をインプロパツール４０Ｑ中に排出する。ｐＨ１に
酸性化した後、沈でんしたポリマーを炉別し蒸留水で電
解質がなくなるまで洗浄する。ポリマーを真空中で１１
０℃で２４時間乾燥する。
ＤＳＣ測定により決定した特徴的物性は、ガラス温度Ｔ
ｇ、再冷却による再結晶温度Ｔｋ及び溶融エンタルピー
ΔＨｋであった。
実施例１ ４．４′−ジフルオロベンゾフェノン及び３゜３’　、
５．５’−テトラメチルビスフェノールＡから製造した
ＰＥＥＫ８０ｇを加える。
フッ素含有率：２％ 収量：６８８．７ｇ％’ｔｅａｔｓ：　ｌ　４０　Ｐａ
、　ｓＳＴｇ：９９．８℃、　Ｔｋ：２　Ｉ　６．４℃
、ΔＨｋ：３８　、　Ｉ　Ｊ　／ｇ 実施例２ ＰＥＥＫブロック１６０ｇを使用することを除いては実
施例Ｉと同じである。
（Ｆ−２％）、 収量ニア　９８　、７ｇ１’７ｍｍ１＋：５５　Ｐａ、
　ｓ、　Ｔｇ：１０４．６、Ｔｋ：２２６．０℃、 ΔＨｋ：３６　、６　Ｊ　／ｇ。
実施例３ ４．４′−ジフルオロベンゾフェノン及び３，３゜５−
トリメチル−１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル
）シクロヘキサンから製造したＰＥＥＫブロック４７．
５ｇを加える。
フッ素含有率コ１．３％、 収量：６７９ｇ１？−１−：２７　Ｐａ、　ｓ、　Ｔｇ
：９３　。
２℃、Ｔｋ：２３４．１℃、 ΔＨｋ：４４　、４　Ｊ　／ｇ、＋ 実施例４ ＰＥＥＫブロック９５ｇを加えることを除いては実施例
３と同じである。
フッ素含有率＝１．３％、 収量ニア　２５ｇｓ　’７ｍｍ＋＋：３２　Ｐ　ａ、　
Ｓｓ　Ｔｇ：９８’Ｃ，Ｔｋ：２３２　＋　３℃、ΔＨ
ｋ：４４　、４　Ｊ　／ｇ。
実施例５ ４．４’　−’；フルオロベンゾフェノン及び１．１−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンか
ら製造したＰＥＥＫブロック８０ｇを加える。
フッ素含有率＝１．６％、 収量＝７　ｏ　５　ｇ、ｑ　ｓｅｌ＋：　ｔ　ｌＰａ、
　ｓ、Ｔｇ：８８．７％、Ｔｋ：２３７．６℃、ΔＨｋ
：５２　、４　Ｊ　／ｇ。
実施例６ 実施例５と同様であるがフッ素含有率が０．８４％であ
るＰＥＥＫブロック８０ｇを加える。
収量：６９３ｇ、　ｖ、、＋＋ｌ　８　Ｐａ、　ｓ、　
Ｔｇ：９２℃、Ｔｋ：２１６．６℃、ΔＨｋ：４６　、
５　Ｊ　／ｇ。
実施例７ ４．４′−ジフルオロベンゾフェノン及びヒドロキノン
から製造したＰＥＥＫブロック８０ｇを加える。
フッ素含有率：２．６％、 収量ニア　０９ｇＳ’７ｍｇ＋＋：５７　Ｐａ、　ｓ。
Ｔｇ：９５．３°Ｏ，Ｔｋ：２３６．　　ｌ”ｃ、ΔＨ
ｋ：４　４　、　４７　　Ｊ　／ｇ。
本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。
１、Ａ）、　　Ａ）とＢ）の和を基準として５〇−１０
０重量％の、式（Ｉ） 式中、 Ｘは、互いにメタ位置又はパラ位置にある塩素又は臭素
などのハロゲンをｉｔ、 に相当するジハロゲン化芳香族化合物、及び、Ｂ）、Ａ
）とＢ）の和を基準として０−５０重量％の、式（ｎ）
、 式中、 Ｘは前記したとおりであり、 Ｒ１及びＲ２は、同一であるか又は相異なり、水素、Ｃ
，−Ｃ，−アルキル、Ｃ，−Ｃ，、−シクロアルキル、
Ｃ＊−Ｃｔｏ−アリール、Ｃ，−Ｇ、。
−アルキルアリール又はＣＦＣｌ２−アリールアルキル
を表し、そして、互いにオルト位置にあるＲ１により表
された２個の基は相互に結合して芳香族環又はＮ％Ｏ又
はＳなどのへテロ原子を３ｆｉまで含有する複素環を形
成していてもよく、モしてＲ１により表された基の１つ
は常に水素とは異なる、 に相当するジハロゲン化芳香族化合物、Ｃ）場合により
更に、（Ａ＋Ｂ）のジハロゲン化芳香族化合物の和を基
準として０．０１−５モル％の、式ＣＩり Ａｒ”Ｘｐ　　　　　（ＩＩ） 式中、 Ａｒ“は、芳香族Ｃ＃　−ＣＩ　４基又は５−１４個の
環原子を持ち、３個までの環Ｃ［子がＮＳＯ又はＳなど
のへテロ原子で代替されていてもよい複素環であり、 Ｘｌｉ塩素又は臭素などのハロゲンヲ表シ、ｐは数３又
は４を表す、 のトリー及びテトラハロゲン化芳香族化合物、及び Ｄ）式（ＩＩＩ）、 ｎは、数１−１００表す、 に相当するポリエーテルエーテルケトンブロック、から
製造されたブロックコポリアリーレンスルフィド。
２、　式（ＩＩＩ）のＺが、随意に分岐していてもよい
Ｃ，−Ｃ，−アルキリデン基又は随意に分岐していても
よいＣｓ−Ｃ＊。−シクロアルキリデン基、例えば、式
（Ｉ［［ａ）、 （ＩＩＩ） 式中、 Ｙは、Ｆ、ＣＩ又はＢｒなどのハロゲンを表し、Ｒ１、
Ｒ”、Ｒ”及びＲ’は、相互ｓ：　独立ｓ：、式（Ｉｔ
）でＲ１及びＲ″により表わされた基を表し、Ｚは、単
結合、随意に分岐していてもよい０１Ｃ１！−アルキリ
デン基、随意に分岐していてもよいＣ、−Ｃ、。−シク
ロアルキリデン基、酸素、硫黄、５Ｏ１ＳＯ８又はＣＯ
を表し、そしてＲ皇は式（ＩＩ）で示された意味を有し
、 ｐは、数！又は０を表し、 式中、 Ｒ％、Ｒ＠、Ｒ’及びＲ”は、相互ニ独立ニ、水素又は
Ｃｒ　−Ｃ４−アルキル基を表し、ｑは、数０．１，２
又は３を表す、 に相当する基、Ｓ又はＳ０２を表す上記ｌに記載のブロ
ックコポリアリーレンスルフィド。
３、Ａ）　　Ａ）＋Ｂ）の和を基準として５０−１００
重量％の、式（Ｉ） 式中、 Ｘは、互いにメタ位置又はバラ位置にある塩素又は臭素
などのハロゲンを表す、 に相当するジハロゲン化芳香族化合物、及びＢ）　　Ａ
）＋Ｂ）の和を基準として０−５０重量％の、 式（ＩＩ）、 式中、 Ｘは前記したとおりであり、 Ｒ１及びＲ２は、同一であるか又は相異なり、水素、Ｃ
，−Ｃ，−アルキル、Ｃ！−Ｃ１０−シクロアルキル、
Ｃ，−Ｃ，。−アリール、Ｃ１−Ｃｌ＠−アルキルアリ
ール又はＣ７Ｃｌ４−アリールアルキルを表し、そして
、互いにオルト位置にあるＲ１により表された２側の基
は相互に結合して芳香族環又はＮ、Ｏ又はＳなどのへテ
ロ原子を３個まで含有する複素環を形成していてもよく
、モしてＲ１により表された基の１つは常に水素とは異
なる、 に相当するジハロゲン化芳香族化合物、及びＣ）　場合
により更に、（Ａ＋Ｂ）のジハロゲン化芳香族化合物の
和を基準として０．０１−５モル％の、式（ＩＩ） ＡどＸｐ　　　　（ｆｆ） 式中、 Ａｒ”は、芳香族Ｃ＠ＣＩ４基又は５−１４個の環原子
を持ち、３個までの環Ｃ原子がＮ、０又はＳなどのへテ
ロ原子で代替されていてもよい複素環であり、 Ｘは塩素又は臭素などのハロゲンを表し、ｐは数３又は
４を表す、 のトリー及びテトラハロゲン化芳香族化合物を、水酸化
ナトリウム又は水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸
化物０−１Ｏ％とアルカリ土属硫化２水素又はその混合
物０−０．５モルと一緒の、アルカリ金属硫化物又はそ
の混合物などの硫黄供給体０．５−１．２５モル、その
際ジハロゲン化芳香族化合物対アルカリ金属硫化物のモ
ル比を０゜７５：ｌ乃至１．２５：１の範囲とすること
ができる、及び、 前記ジハロゲン化芳香族化合物の和を基準としてＯ−５
モル％の、式（ＩＶ） ＡｒＸｎ　　　　　（ＩＶ） 式中、 Ａｒは、芳香族Ｃｇ−ＣＩ４基又は５−１４個の環原子
を持ち、３個までの環Ｃ原子がＮ、Ｏ又はＳなどのへテ
ロ原子で代替されていてもよい複素環であり、 Ｘは塩素又は臭素などのハロゲンを表し、ｎは数３又は
４を表す、 に相当するトリー、ジー及びテトラハロゲン化化合物、
好ましくは、トリー、ジー及びテトラハロゲン化ベンゼ
ン、及び 式（ＩＦ）、 （Ｉ［［） 式中、 Ｙは、Ｆ、ＣＩ又はＢｒなどのハロゲンを表し、Ｒ１，
Ｒ１、Ｒ３及びＲ４は、相互に独立に、式（ｎ）でＲ１
又はＲ２により表わされた基を表し、２は、単結合、随
意に分岐していてもよいＣ１−０１□−アルキリデン基
、随意に分岐していてもよいＣ、−Ｃ、。−シクロアル
キリデン基、酸素、硫黄、５Ｏ１ＳＯ，又はＣＯを表し
、Ｒ１は式（ＩＦ）でＲ１について示された意味を有し
、 ｐは、数１又は０を表し、 ｎは、数１−１ｏｏ表す、 に相当するポリエーテルエーテルケトンブロックと反応
させ、その際この反応を随意に連鎖調節剤の存在下に行
ってもよいことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
のポリアリーレンスルフィドブロックコポリマーの製造
方法。
４、成形品を製造するだめの上記ｌに記載のブロックフ
ポリアリーレンスルフィドの使用。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、Ａ）、Ａ）とＢ）の和を基準として５０−１００重
    量％の、式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、 Ｘは、互いにメタ位置又はパラ位置にある塩素又は臭素
    などのハロゲンを表す、 に相当するジハロゲン化芳香族化合物、及びＢ）、Ａ）
    とＢ）の和を基準として０−５０重量％の、式（II）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中、 Ｘは前記したとおりであり、 Ｒ＾１及びＲ＾２は、同一であるか又は相異なり、水素
    、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、Ｃ＿５−Ｃ＿１＿０−シ
    クロアルキル、Ｃ＿６−Ｃ＿１＿０−アリール、Ｃ＿７
    −Ｃ＿１＿０−アルキルアリール又はＣ＿７−Ｃ＿１＿
    ４−アリールアルキルを表し、そして、互いにオルト位
    置にあるＲ＾１により表された２個の基は相互に結合し
    て芳香族環又はＮ、Ｏ又はＳなどのヘテロ原子を３個ま
    で含有する複素環を形成していてもよく、そしてＲ＾１
    により表された基の１つは常に水素とは異なる、 に相当するジハロゲン化芳香族化合物と、 Ｃ）場合により更に、（Ａ＋Ｂ）のジハロゲン化芳香族
    化合物の和を基準として０．０１−５モル％の、式（I
    X） Ａｒ″Ｘｐ（IX） 式中、 Ａｒ″は、芳香族Ｃ＿６−Ｃ＿１＿４基又は５−１４個
    の環原子を持ち、３個までの環Ｃ原子がＮ、Ｏ又はＳな
    どのヘテロ原子で代替されていてもよい複素環基であり
    、 Ｘは塩素又は臭素などのハロゲンを表し、 ｐは数３又は４を表す、 のトリ−及びテトラハロゲン化芳香族化合物、及び Ｄ）式（III）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 式中、 Ｙは、Ｆ、Ｃｌ又はＢｒなどのハロゲンを表し、Ｒ＾１
    、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は、相互に独立に、式（I
    I）でＲ＾１及びＲ＾２により表された基、好ましくは
    Ｈ又はメチルを表し、 Ｚは、単結合、随意に分岐していてもよい Ｃ＿１−Ｃ＿１＿２−アルキリデン基、随意に分岐して
    いてもよいＣ＿５−Ｃ＿２＿０−シクロアルキリデン基
    、酸素、硫黄、ＳＯ、ＳＯ＿２又はＣＯを表し、そして
    Ｒ＾１は式（II）で示された意味を有し、ｐは、数１又
    は０を表し、 ｎは、数１−１００表す、 に相当するポリエーテルエーテルケトンブロック、から
    製造されたブロックコポリアリーレンスルフィド。 ２、Ａ）Ａ）＋Ｂ）の和を基準として５０−１００重量
    ％の、式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、 Ｘは、互いにメタ位置又はパラ位置にある塩素又は臭素
    などのハロゲンを表す、 に相当するジハロゲン化芳香族化合物、及びＢ）Ａ）＋
    Ｂ）の和を基準として０−５０重量％の、　式（II）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中、 Ｘは前記したとおりであり、 Ｒ＾１及びＲ＾２は、同一であるか又は相異なり、水素
    、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、Ｃ＿５−Ｃ＿１＿０−シ
    クロアルキル、Ｃ＿６−Ｃ＿１＿０−アリール、Ｃ＿７
    −Ｃ＿１＿０−アルキルアリール又はＣ＿７−Ｃ＿１＿
    ４−アリールアルキルを表し、そして、互いにオルト位
    置にあるＲ＾１により表された２個の基は相互に結合し
    て芳香族環又はＮ、Ｏ又はＳなどのヘテロ原子を３個ま
    で含有する複素環を形成していてもよく、そしてＲ＾１
    により表された基の１つは常に水素とは異なる、に相当
    するジハロゲン化芳香族化合物、及びＣ）場合により更
    に、（Ａ＋Ｂ）のジハロゲン化芳香族化合物の和を基準
    として０．０１−５モル％の、式（IX） Ａｒ″Ｘｐ（IX） 式中、 Ａｒ″は、芳香族Ｃ＿６−Ｃ＿１＿４基又は５−１４個
    の環原子を持ち、３個までの環Ｃ原子がＮ、Ｏ又はＳな
    どのヘテロ原子で代替されていてもよい複素環であり、 Ｘは塩素又は臭素などのハロゲンを表し、 ｐは数３又は４を表す、 のトリ−及びテトラハロゲン化芳香族化合物を、水酸化
    ナトリウム又は水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸
    化物０−１０％とアルカリ金属硫化水素又はその混合物
    ０−０．５モルと一緒の、アルカリ金属硫化物又はその
    混合物などの硫黄供給体０．５−１．２５モル、その際
    ジハロゲン化芳香族化合物対アルカリ金属硫化物のモル
    比を０．７５：１乃至１．２５：１の範囲とすることが
    できる、及び、 前記ジハロゲン化芳香族化合物の和を基準として０−５
    モル％の、式（IV） ＡｒＸｎ（IV） 式中、 Ａｒは、芳香族Ｃ＿６−Ｃ＿１＿４基又は５−１４個の
    環原子を持ち、３個までの環Ｃ原子がＮ、Ｏ又はＳなど
    のヘテロ原子で代替されていてもよい複素環であり、 Ｘは塩素又は臭素などのハロゲンを表し、 ｎは数３又は４を表す、 に相当するトリ−、ジ−及びテトラハロゲン化化合物、
    好ましくはトリ−、ジ−及びテトラハロゲン化ベンゼン
    、及び 式（III）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 式中、 Ｙは、Ｆ、Ｃｌ又はＢｒなどのハロゲンを表し、Ｒ＾１
    、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は、相互に独立に、式（I
    I）でＲ＾１又はＲ＾２により表された基を表し、Ｚは
    、単結合、随意に分岐していてもよい Ｃ＿１−Ｃ＿１＿２−アルキリデン基、随意に分岐して
    いてもよいＣ＿５−Ｃ＿２＿０−シクロアルキリデン基
    、酸素、硫黄、ＳＯ、ＳＯ＿２又はＣＯを表し、Ｒ＾１
    は式（II）もＲ＾１について示された意味を有し、ｐは
    、数１又は０を表し、 ｎは、数１−１００表す、 に相当するポリエーテルエーテルケトンブロックと反応
    させ、その際この反応を随意に連鎖調節剤の存在下に行
    ってもよいことを特徴とする、特許請求の範囲第１項記
    載のポリアリーレンスルフィドブロックコポリマーの製
    造方法。 ３、成形品を製造するための特許請求の範囲第１項記載
    のブロックコポリアリーレンスルフィドの使用。
JP2003687A 1989-01-13 1990-01-12 ポリエーテルエーテルケトン―ポリアリ―レンスルフイドブロツクコポリマー Pending JPH02228325A (ja)

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