JPH0222502A - 光干渉測定装置 - Google Patents

光干渉測定装置

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JPH0222502A
JPH0222502A JP17104988A JP17104988A JPH0222502A JP H0222502 A JPH0222502 A JP H0222502A JP 17104988 A JP17104988 A JP 17104988A JP 17104988 A JP17104988 A JP 17104988A JP H0222502 A JPH0222502 A JP H0222502A
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JP
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light
frequency
optical path
laser
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JP17104988A
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Masakazu Suematsu
末松 雅一
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Kowa Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光干渉測定装置、特に半導体レーザを光源とし
て得られる干渉縞を観測して測長を行なう光干渉測定装
置に関するものである。
[従来の技術] 半導体レーザ(以下LDという)は、ガスレーザなどに
比べて装置の構成が簡単安価かつ小型軽量であり、光通
信、音響用、ないし映像用光ディスクなどの光源として
広く用いられている。また、光学干渉計用の光源への応
用も最近では盛んに研究されている。
特に、2つの反射部材への光路長を干渉縞の観測を介し
て測定する干渉測長装置では、半導体レーザ素子の注入
電流あるいは素子温度に依存する発振波長特性を利用す
るものが知られている。
この種の装置では、半導体レーザの発振光を一定の光路
差を有する干渉計に入射して干渉縞を形成し、注入電流
または素子温度を制御して波長走査を行ない、これにと
もなう干渉縞の時間変化信号(以下縞変化信号という)
を検出し、この信号の位相変化量から干渉計の光路差を
求める方法である。
[発明が解決しようとする課題] 上記のような従来構造で得られる正弦波状の精麦化信号
の周期の数は諸掛なすぎ、フリンジカウンティング法な
どを用いる場合充分な測定精度を得るのが困難であフた
また、上記構成において、波長走査は半導体レーザ素子
への注入電流を変化させることにより行なうが、注入電
流の変化により発振波長と共に出力光強度も変わってし
まうため、検出される精麦化信号は干渉縞の変化に関す
る情報を含むとともに光源の出力光の強度情報を含むも
のとなる。
たとえば、第5図に示すように半導体レーザ素子の注入
電流iを周期Tの3角波状に変化させた場合、干渉縞形
成面の1点において受光素子により光強度変化として得
られる精麦化信号は第6図のようになる。このような検
出信号から位相変化量を求めると、信号の撮幅が小さい
領域では位相変化が曖昧になるので測定誤差が増大する
問題がある。
本発明の課題は以上の2つの問題を解決し、半導体レー
ザ素子を用いる干渉測長において波長走査にともなう光
強度の影響を補正し、また、位相変化測定にかわる方法
を用いて正確に測長を行なえるようにすることである。
[課題を解決するための手段] 以上の課題を解決するために、本発明においては、半導
体レーザ素子が発生するレーザ光を複数の光反射手段に
照射し、これらの反射手段からの反射光を干渉させ干渉
縞を形成し、半導体レーザ素子の注入電流を周期的に変
化させてレーザ光の波長走査を行ない、レーザ光の波長
変化にともなう前記干渉縞の時間変化する干渉縞強度変
化信号の周波数を測定し、この周波数に基づき前記反射
手段間の光路差を測定する光干渉測定装置において、前
記レーザ光の光束の一部を分割する手段と、この分割手
段により分割された光束の強度の時間変化を測定する手
段と、この測定手段により得られた光強度変化信号によ
り前記干渉縞強度変化信号を除算する手段と、この除算
手段の出力信号の周波数を測定し測定された周波数に基
づき前記光路差を演算する制御手段を設けた構成を採用
した。
[作 用] 以上の構成によれば、光路差演算の際、半導体レーザ素
子の波長走査にともなう光強度変化の影響を前記の除算
処理により補正できる。
[実施例] 以下、図面に示す実施例に基づき、本発明の詳細な説明
する。
第1図は本発明を採用した干渉測定装置の構成を示して
いる。
第1図において、レーザ光源は単一モード発振のLD素
子3で、ATM (温度調節回路)2で温度制御を受け
る。ATM2はLD素子3の温度を所望の一定値に制御
する。制御温度値はコンピュータ18により決定される
また、LD素子3の駆動電流は、LD駆動回路1により
制御され、この駆動電流を変化させてLD素子3の発振
波長を調節する。LD素子3は注入電流の変化によって
導波路の屈折率が変化して発振波長が変化する。
LD素子3から出射される発散光はビームスプリッタ5
に入射され、2つの光に分けられる。
ビームスプリッタ5によって反射される光は光量調節フ
ィルタ6を介して受光素子7で受光し、可変利得増幅器
8で信号を増幅してレーザ光源の光強度変化信号9を得
る。この光強度変化信号9は除算回路1フに入力される
一方、ビームスプリッタ5を透過したレーザ光は干渉計
19内に導かれる。ここでは、干渉計19としてマイケ
ルソン型の干渉計を例示する。
干渉計19に入射したレーザ光はビームスプリッタ10
で2つの光束に分けられる。2つの光束はそれぞれ固定
鏡11と可動鏡12によフて光路差をつけて反射され、
ビームスプリッタ10によって再び1つになって干渉し
、入射方向と直交した方向に出射される。
干渉計を出射したレーザ光を光量調節フィルタ13に通
して受光素子14で受光し、増幅器15で信号を増幅し
て、固定鏡11、可動鏡12の所定の光路長に応じて形
成される干渉縞の強度変化信号(精麦化信号)16を得
る。
このようにして得られた2つの信号を除算回路17に入
力し、精麦化信号16を光強度変化信号9で割り、その
出力をコンピュータ18に取り入れて信号の解析を行う
除算回路17はアナログ回路から、コンピュータ18は
マイクロプロセッサ、メモリなどからなるコンピュータ
システムにより構成される。
次に以上の構成における動作につき詳細に説明する。ま
ず、干渉計19側の測長につき説明する。
波長λ。のレーザ光を干渉計19に入射して得られる固
定鏡11からの反射光と可動鏡12からの反射光は、光
路差をLとするとそれぞれ次式で表される。
但しA、Bは定数、φ。は周期 これら2つの反射光を干渉させて得られる干渉縞は、次
式で表される。
第2図に、(3)式より縦軸にI、横軸にLをとって表
したグラフを示す。
例えば、ここでLを0から4λ。まで変化させると、4
周期分の干渉縞が得られる。これは、N、=L/λ。=
4え。/λ。=4で示される。
ここで、第3図に波長がλ、=2人。になった場合のグ
ラフを示す。この場合には、Lを0から4λ。まで変化
させても2周期分の干渉縞の変化しか得られない。これ
は、N、=L/λ1=2λ1/λ1=2で示される。
第2図、第3図より明らかなように、今L=4え。で一
定にしておき、レーザ光の波長をλ。
からλ1まで変化させた時、干渉縞はn=No−N、=
2で2周期分変化する。この縞の変化分nは波長の変化
分と光路差に依存しているので、縞の変化分と波長の変
化分を求めることで光路差を求めることができる。これ
らの関係は、次式で与えられる。
いだの区間では、注入電流と発振波長とは直線関係にあ
る。以下に示す処理では、この直線部分を使用するもの
とする。
第5図に、半導体レーザに注入する注入電流の波形を示
す。注入電流を一定の割合で変化させて、一定の割合で
波長の走査を行う。半導体レーザの波長変化率をK(n
m/mA)とし、注入電流がioの時の発振波長をλ。
とすると、1o−io+Δiの時λ。→λo+にΔiと
なる。
これを(4)式に代入すると、次式が得られる。
本発明では、可変波長のコヒーレント光源として単一モ
ード発振の半導体レーザを用いている。
単一モード発振の半導体レーザの典型的な注入電流−発
振波長特性は第4図のようなものである。
直線的な波長可変範囲はモードホップによって制限され
るが、モードホップからモードホップのあ・・・ (5
) さらに、λ。>>KΔiなので、近似することによって
次式が得られる。
K Δ i            K  Δ in=
              L二     L・・・
 (6)(5)式または(6)式から、n、K、Δi、
λ0を測定することによって光路りを求めることができ
る。
しかしながら、前記のようにLD素子3は注入電流を変
化させると発振波長とともに出力光強度も変化する。こ
の補正を行なうため、符号5〜9.17で示される補正
系が設けられている。
ここで、注入電流による半導体レーザ光の出力光強度変
化をT(i)  発振波長の変化をλ(i)とおき、(
1)、(2)式を書き換えると次式が得られる。
但し、KI =定数 但し、K2 :定数 これらからできる干渉縞の強度は、次式のようになる。
2π (9)式をT ’ (i)で割ることによって次式が得
られる。
これより、干渉縞の強度変化である精麦化信号16を光
源の出力光強度9で割ると、精麦化信号16から光源出
力光強度変化の影響を取り除くことができることがわか
る。
ここで、精麦化信号16と出力光強度変化信号9の波形
をそれぞれ第6図、第7図に示す。
また、割算回路17によって精麦化信号16(第6図)
を出力光強度変化信号9(第7図)で除算すると、出力
信号波形は第8図に示すようになる。
第8図から明らかなように、精麦化信号のエンベロープ
の変化は多少残るが、三角波状のバイアス変化は大幅に
取り除くことができるので、周波数解析の際の誤差を大
幅に低減することができる。
除算回路17の出力端子に得られる補正後の信号(第8
図)の周波数fを第5図の注入電流変化波形の周波数1
/Tで除したfTがnに対応する。従って、第8図の補
正後の信号の周波数fを求め、先の(5)式、または(
6)式においてn=fTと置くことにより、光路差しを
得るこ、とができる(λ0およびKについてはあらかじ
め測定した定数を用いる)。
以下に、第8図の補正後の信号周波数の解析方法につい
て第17図のフローチャート図を参照して説明する。第
17図の手順はコンピュータ18で行なわれる処理手順
を示したものである。
本実施例では、コンピュータ18によるFFT(高速フ
ーリエ変換)、あるいはMEM (最大エントロピー法
)演算によって周波数解析を行なう。
前者のFFTには2つの方法があり、1つは次に示す方
法である。
(1)まず、注入電流の任意の半周期T/2(波形の任
意の折返点から次の折返点:例えば第8図のt a z
 t bまで)の間に得られた補正後の出力信号波形(
第9図)を取り出してコンピュータ18に記録する。い
うまでもなく、コンピュータ18の内部表現では、図示
のような波形はA/D変換により量子化されたデータ列
として扱われる(第17図ステップS1)、。
(2)この信号データに第10図に示すように適当な窓
関数(ハニング関数、ガウス関数など)を重畳する(ス
テップS2)。
(3)さらに第11図に示すように、信号データの前後
に所定の等しい時間分だけゼロデータを加えて信号の時
間長を長くする(ステップS3)、ここでは、注入電流
変化の周期T/2のm倍に時間長を延長している。
(4)第11図のように処理されたデータ列を、公知の
FFT演算処理により周波数解析してパワースペクトル
を求め、信号周波数のピークを求める。第12図はFF
T演算により得られた信号周波数fmaxを示している
(ステップS4)。
(5)得られたfmaxと、Tの積をnとし、(5)、
ないしく6)式に基づく演算を行ない、光路差を得る(
ステップS5)。
以上のようにして、半導体レーザ素子の波長走査に伴う
光強度の影響を補正した上、補正後の少ない周期数の正
弦波信号であっても正確に精麦化信号の周波数を求め、
これに基づき光路差を測定することができる。
次に、FFT法によるもう1つの周波数解析方法につき
第18図のフローチャート図を参照して説明する。第1
8図は第17図同様にコンピュータ18の処理手順を示
している。
(1)第13図に示される除算回路17から得られる補
正後の出力信号を任意の周期分だけコンピュータに取り
込む(第18図ステップ511)。前記同様に、人力さ
れた波形はコンピユータ18内部では量子化されたデー
タ列により表現される。
(2)信号データの中で注入電流変化の折返に伴う信号
の急激な位相変化部分のデータ(第14図符号D)のみ
を、残フたデータが正弦波状につながるように削除する
(第14図)。この急激な位相変化部分は、微分波形の
解析などを介して検出できる(ステップ512)。
(3)残ったデータを第15図に示すように接続して、
正弦波状に整った信号データに作り換える(ステップ5
13)。
(4)これをFFT演算により周波数解析し第16図に
示すようにパワースペクトルを求め、信号周波数fを求
める(ステップ514)。
(5)前記同様に周波数fと周期Tから光路差を求める
(ステップ515)。
この方法によれば、1番目の方法に比べて測定に用いる
データ量を増やすことができるため、演算精度を向上で
きる。
また、MEM法の場合には補正後の出力信号を注入電流
の任意の半周期(任意の折返点から次の折返点まで)の
間だけコンピュータに取り込んでMEMで周波数解析を
行い、信号周波数のピークを求めることができる。
以上に示したように、レーザ光束を分割し測定した光強
度変化信号で精麦化信号を除算し、その結果骨られる信
号の周波数を測定し、この周波数値に基づき測長演算を
行なうため、波長走査の際の光強度を除去でき、測定精
度を向上できる。上記実施例ではアナログ回路により除
算を行なうので、リアルタイムで高速な処理が可能であ
る。
また、周波数測定に上記のようなFFT法あるいはME
M法を用いることで、検出される精麦化信号の周期の数
が少なくても、充分な精度で周波数測定が可能である。
特に、従来方式において精度を向上させるため精麦化信
号の周期数を増大させるには、光路差をかなり大きくし
なければならないが、本実施例によれば測定される光路
差が小さい場合でも充分精度の高い測定が可能である。
なお、以上ではマイケルソン型の干渉計で説明したが、
フィゾー型、トワイマン・グリーン型、マツハ、・ツエ
ンダ−型など、他の干渉計でも適用できる。
また、第、1図では精麦化信号16を光源出力光強度変
化信号で割る際に割算回路を用いているが、光強度変化
信号9および精麦化信号16をA/D変換を介してコン
ピュータ18に取す込み、コンピュータ18のデジタル
演算によって行うこともできる。
さらに、第1図に示すビームスプリッタ5.10にはキ
ューブ・ビームスプリッタ、ウェッジ付ハーフミラ−な
どを用いる。特にフィゾー干渉計などにおいてはビーム
スプリッタ101.:偏光ビームスプリッタを用いても
よく、その場合には各反射鏡との間にλ/4板を挿入す
る。これにより、光源側への戻り光がなくなり、LD素
子3の発振波長が安定化され、正確な測定が可能である
以上では、干渉縞を形成する可動鏡および固定鏡の光路
長を測定する構造を示したが、これらの反射部材を種々
の被測定部材に置き換えることにより、各種の測長を行
なえるのはいうまでもない。たとえば、眼科測定装置に
おいて、角膜および眼底での光路差の異なる反射光によ
り形成される干渉縞の観測を介して眼軸長を測定する場
合にも同様の技術を実施できる。
[発明の効果] 以上から明らかなように、本発明によれば、半導体レー
ザ素子が発生するレーザ光を複数の光反射手段に照射し
、これらの反射手段からの反射光を干渉させ干渉縞を形
成し、半導体レーザ素子の注入電流を周期的に変化させ
てレーザ光の波長走査を行ない、レーザ光の波長変化に
ともなう前記干渉縞の時間変化する干渉縞強度変化信号
の周波数を測定し、この周波数に基づき前記反射手段間
の光路差を測定する光干渉測定装置において、前記レー
ザ光の光束の一部を分割する手段と、この分割手段によ
り分割された光束の強度の時間変化を測定する手段と、
この測定手段により得られた光強度変化信号により前記
干渉縞強度変化信号を除算する手段と、この除算手段の
出力信号の周波数を測定し測定された周波数に基づき前
記光路差を演算する制御手段を設けた構成を採用してい
るので、光路差演算の際、半導体レーザ素子の波長走査
にとも、なう光強度変化の影響を前記の除算処理により
補正でき、正確な測定が可能になる。特に、光路中の大
気のゆらぎや、装置の光学系の不要な干渉縞、あるいは
半導体レーザ素子の温度条件などによる精度化信号の光
強度変化分も除去できるため、測定精度は大きく向上さ
れる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を採用した光干渉測定装置のブロック図
、第2図、第3図は第1図の装置において得られる干渉
縞の特性を示した波形図、第4図はLD素子の注入電流
に依存する波長特性を示した線図、第5図はLD素子の
注入電流波形を示した波形図、第6図は精度化信号の波
形図、第7図はLD素子の注入電流に応じた光強度変化
を示した波形図、第8図は精度化信号を光強度変化で除
して得た補正後の波形図、第9図〜第12図はFFT法
による第1の周波数解析方法を説明する波形図、第13
図〜第16図はFFT法による第2の周波数解析方法を
説明する波形図、第17図、第18図はそれぞれ上記第
1および第2の周波数解析処理を示したフローチャート
図である。 1・・・LD駆動回路  2・・・ATV3・・・LD
素子    4・・・コリメートレンズ5・・・ビーム
スプリッタ 6・・・光量調節フィルタ 7・・・受光素子    8・・・可変利得増幅器9・
・・光強度変化信号 10・・・ビームスプリッタ 11・・・固定鏡    12・・・可動鏡13・・・
光量調節フィルタ 14・・・受光素子 15・・・増幅器    16・・・精度化信号17・
・・除算回路   18・・・コンピュータ19・・・
干渉計 FF T I:!う第1の覇jL匁 %1RfTen J1勿6 第9図 朶110 第10口 第120 第17図 I!18図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)半導体レーザ素子が発生するレーザ光を複数の光反
    射手段に照射し、これらの反射手段からの反射光を干渉
    させ干渉縞を形成し、半導体レーザ素子の注入電流を周
    期的に変化させてレーザ光の波長走査を行ない、レーザ
    光の波長変化にともなう前記干渉縞の時間変化する干渉
    縞強度変化信号の周波数を測定し、この周波数に基づき
    前記反射手段間の光路差を測定する光干渉測定装置にお
    いて、前記レーザ光の光束の一部を分割する手段と、こ
    の分割手段により分割された光束の強度の時間変化を測
    定する手段と、この測定手段により得られた光強度変化
    信号により前記干渉縞強度変化信号を除算する手段と、
    この除算手段の出力信号の周波数を測定し測定された周
    波数に基づき前記光路差を演算する制御手段を設けたこ
    とを特徴とする光干渉測定装置。 2)前記周波数測定が高速フーリエ変換法または最大エ
    ントロピー法に基づく演算処理により行なわれることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の光干渉測定装
    置。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0225719A (ja) * 1988-07-15 1990-01-29 Advantest Corp 光スペクトラムアナライザ
WO2010119562A1 (ja) * 2009-04-17 2010-10-21 Koyama Naoyuki レーザ測距方法及びレーザ測距装置
WO2010119561A1 (ja) * 2009-04-17 2010-10-21 Koyama Naoyuki レーザ測距方法及びレーザ測距装置
WO2010131339A1 (ja) * 2009-05-13 2010-11-18 Koyama Naoyuki レーザ測距方法及びレーザ測距装置
WO2010131337A1 (ja) * 2009-05-13 2010-11-18 Koyama Naoyuki レーザ測距方法及びレーザ測距装置
WO2010131338A1 (ja) * 2009-05-13 2010-11-18 Koyama Naoyuki レーザ測距方法及びレーザ測距装置
JP2017110933A (ja) * 2015-12-14 2017-06-22 浜松ホトニクス株式会社 干渉観察装置および干渉観察方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58123485A (ja) * 1982-01-19 1983-07-22 Mitsubishi Electric Corp レ−ダ装置
JPS61149803A (ja) * 1984-12-24 1986-07-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 干渉測定装置
JPS61202128A (ja) * 1985-03-06 1986-09-06 Hitachi Ltd 半導体レ−ザヘテロダイン干渉計

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58123485A (ja) * 1982-01-19 1983-07-22 Mitsubishi Electric Corp レ−ダ装置
JPS61149803A (ja) * 1984-12-24 1986-07-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 干渉測定装置
JPS61202128A (ja) * 1985-03-06 1986-09-06 Hitachi Ltd 半導体レ−ザヘテロダイン干渉計

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0225719A (ja) * 1988-07-15 1990-01-29 Advantest Corp 光スペクトラムアナライザ
WO2010119562A1 (ja) * 2009-04-17 2010-10-21 Koyama Naoyuki レーザ測距方法及びレーザ測距装置
WO2010119561A1 (ja) * 2009-04-17 2010-10-21 Koyama Naoyuki レーザ測距方法及びレーザ測距装置
WO2010131339A1 (ja) * 2009-05-13 2010-11-18 Koyama Naoyuki レーザ測距方法及びレーザ測距装置
WO2010131337A1 (ja) * 2009-05-13 2010-11-18 Koyama Naoyuki レーザ測距方法及びレーザ測距装置
WO2010131338A1 (ja) * 2009-05-13 2010-11-18 Koyama Naoyuki レーザ測距方法及びレーザ測距装置
JP2017110933A (ja) * 2015-12-14 2017-06-22 浜松ホトニクス株式会社 干渉観察装置および干渉観察方法
US11156448B2 (en) 2015-12-14 2021-10-26 Hamamatsu Photonics K.K. Interference observation device and interference observation method

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