JPH02221389A - Buffing detergent - Google Patents

Buffing detergent

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JPH02221389A
JPH02221389A JP4185689A JP4185689A JPH02221389A JP H02221389 A JPH02221389 A JP H02221389A JP 4185689 A JP4185689 A JP 4185689A JP 4185689 A JP4185689 A JP 4185689A JP H02221389 A JPH02221389 A JP H02221389A
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JP
Japan
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dichloro
buffing
detergent
trifluoropropene
alcohol
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JP4185689A
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Japanese (ja)
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Shunichi Samejima
鮫島　俊一
Tateo Kitamura
健郎 北村
Naohiro Watanabe
渡辺　直洋
Akio Asano
浅野　昭雄
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To produce a new buffing detergent not polluting underground water by incorporating unsatd. chlorofluorohydrocarbon having a specified number of carbon atoms as an effective component. CONSTITUTION:A buffing detergent contg. one or more kinds of 3C unsatd. chlorofluorohydrocarbons such as 1-chloro-2-fluoropropene, 2,3-dichloro-3,3- difluoropropene, 1,1-dichloro-3,3,3-trifluoropropene and 1,2-dichloro-3,3,3- trifluoropropene as effective components is prepd. At least one kind of org. solvent selected among hydrocarbons such as n-pentane, alcohols such as methanol, ketones such as acetone, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, esters such as methyl acetate, etc., may be incorporated into the detergent by about 0-50wt.%. The detergent is fit to remove abrasive materials sticking to metal parts, etc.

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、バフ研磨剤を用いて研磨した金属部品等に付
着した研磨剤類を除去するなめに用いるバフ研磨洗浄剤
に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a buffing cleaning agent used to remove abrasives adhering to metal parts and the like that have been polished using a buffing agent.

［従来の技術］ 精密金属部品、装飾部品等のバフ研磨工程で、研磨剤類
が使われるが、これらが付着したままでは、製品とはな
らない場合が多い、従って、通常このような部品の仕上
げ工程では、有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。そ
の有機溶剤としては１、１．１−　）シクロロエタンが
広く使われている。[Prior art] Abrasives are used in the buffing process of precision metal parts, decorative parts, etc., but if these remain attached, the product will not be finished in many cases.Therefore, the finishing of such parts is usually In the process, cleaning is performed using an organic solvent. As the organic solvent, 1,1,1-)cycloethane is widely used.

［発明が解決しようとする課題］ 本発明は、従来使用されていた１、　１．１−トリクロ
ロエタンが地下水汚染の点から好ましくないなめ、その
使用量を抑えるべく、ｉ、　１．　ｉ−トリクロロエタ
ンにかわる新規のバフ研磨剤を提供するとこを目的とす
るものである。[Problems to be Solved by the Invention] The present invention aims to reduce the amount of 1,1,1-trichloroethane used since it is undesirable from the standpoint of groundwater contamination. The object of the present invention is to provide a new buffing agent that can replace i-trichloroethane.

［課題を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
炭素数が３である不飽和塩素化弗素化炭化水素を有効成
分として含有するバフ研磨洗浄剤を提供するものである
０本発明の不飽和塩素化弗素化炭化水素としては、１−
クロロ−２−フルオロプロペン（ｂ、ｐ、　５９℃）、
２．３−ジクロロ−３，３−ジフルオロ１０ペン（ｂ、
　ｐ、　５７℃）、１．１−ジクロロ−３，３，３−）
リフルオロプロペン（ｂ、　ｐ、　５４℃）、　１，２
−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ｂ、
　ｐ、　５３℃）、１．３−ジクロロ−１，３，３−ト
リフルオロプロペン（ｂ、　ｐ、　５７℃）、１．３−
ジクロロ−２，３，３−トリフルオロプロペン（ｂ、　
ｐ、　６７℃）、３，３−ジクロロ−１，１，３−トリ
フルオロプロペン（ｂ、　ｐ、　５２℃）、３．３−ジ
クロロ−２，３−ジフルオロプロペン（ｂ、　ｐ、　５
４℃）等の含水素不飽和塩素化弗素化炭化水素から選ば
れる１種叉は２種以上の混合物が好ましい。[Means for Solving the Problems] The present invention has been made to achieve the above-mentioned objects, and
The unsaturated chlorinated fluorinated hydrocarbon of the present invention provides a buffing cleaning agent containing as an active ingredient an unsaturated chlorinated fluorinated hydrocarbon having 3 carbon atoms.
Chloro-2-fluoropropene (b, p, 59°C),
2,3-dichloro-3,3-difluoro10pene (b,
p, 57°C), 1,1-dichloro-3,3,3-)
Lifluoropropene (b, p, 54°C), 1,2
-dichloro-3,3,3-trifluoropropene (b,
p, 53°C), 1,3-dichloro-1,3,3-trifluoropropene (b, p, 57°C), 1.3-
Dichloro-2,3,3-trifluoropropene (b,
p, 67°C), 3,3-dichloro-1,1,3-trifluoropropene (b, p, 52°C), 3,3-dichloro-2,3-difluoropropene (b, p, 5
One type or a mixture of two or more types selected from hydrogen-containing unsaturated chlorinated fluorinated hydrocarbons such as 4° C.) is preferred.

本発明のバフ研磨洗浄剤には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる。The buffing cleaning agent of the present invention can contain various other components depending on various purposes.

例えば、研磨剤の除去効果を高めるために、炭化水素類
、アルコール類、ケトン類、ハロゲン化炭化水素類叉は
エステル類等の有機溶剤から選ばれる少なくとも１種を
含有させることができる。これらの有機溶剤のバフ研磨
洗浄剤中の含有割合は、０〜５０重量％、好ましくは１
０〜４０重景％、重量に好ましくは２０〜３０重量％で
ある０本発明の塩素化弗素化炭化水素類と有機溶剤との
混合物に共沸組成が存在する場合には、その共沸組成で
の使用が特に好ましい。For example, in order to enhance the removal effect of the abrasive, at least one organic solvent selected from hydrocarbons, alcohols, ketones, halogenated hydrocarbons, or esters can be included. The content of these organic solvents in the buffing cleaning agent is 0 to 50% by weight, preferably 1% by weight.
0 to 40% by weight, preferably 20 to 30% by weight, if an azeotropic composition exists in the mixture of the chlorinated fluorinated hydrocarbons and organic solvent of the present invention; Particularly preferred is use in .

炭化水素類としては、炭素数１〜１５の直鎖叉は環状の
飽和叉は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、
イソペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、ネオヘキ
サン、２．３−ジメチルブタン、３−メチルペンタン、
ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキサン、２
．４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２−メチルへ
ブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへブタン、２
，２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチルヘキサン、
３，３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−エチルペ
ンタン、３−メチル−３−エチルペンタン、２．３．３
−トリメチノにペンタン、２．３．４−トリメチルペン
タン、２．２．３−トリメチルペンタン、イソオクタン
、ノナン、２．２．５−　トリメチルヘキサン、デカン
、ドデカン、１−ペンテン、２−ペンテン、１−ヘキセ
ン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、シクロペ
ンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチ
ルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビシクロヘ
キサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペンテン、デ
カリン、テトラリン、アミジノ、アミルナフタレン等か
ら選ばれるものである。より好ましくはｎ−ペンタン、
ネオヘキサン、２．３−ジメチルブタン、ｎ−ヘキサン
、シクロペンタン、シクロヘキサン、ｎ−へブタン等で
ある。The hydrocarbons are preferably linear or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbons having 1 to 15 carbon atoms, such as n-pentane,
Isopentane, n-hexane, isohexane, neohexane, 2,3-dimethylbutane, 3-methylpentane,
n-hebutane, isohebutane, 3-methylhexane, 2
．． 4-dimethylpentane, n-octane, 2-methylhebutane, 3-methylhebutane, 4-methylhebutane, 2
, 2-dimethylhexane, 2.5-dimethylhexane,
3,3-dimethylhexane, 2-methyl-3-ethylpentane, 3-methyl-3-ethylpentane, 2.3.3
-trimethinopentane, 2.3.4-trimethylpentane, 2.2.3-trimethylpentane, isooctane, nonane, 2.2.5- trimethylhexane, decane, dodecane, 1-pentene, 2-pentene, 1- From hexene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, cyclopentane, methylcyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, bicyclohexane, cyclohexene, α-pinene, dipentene, decalin, tetralin, amidino, amylnaphthalene, etc. It is chosen. More preferably n-pentane,
These include neohexane, 2,3-dimethylbutane, n-hexane, cyclopentane, cyclohexane, n-hebutane, and the like.

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状叉は、環
状の飽和叉は不飽和アルコール類が好ましく、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアル
コール、５ｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチル
アルコール、ペンチルアルコール、５ｅｃ−アミルアル
コール、１−エチル−１−プロパツール、２−メチル−
１−ブタノール、イソペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−
ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネ
オペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル
−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、
２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、２−
ヘプタツール、３−ヘプタツール、１−オクタツール、
２−オクタツール、２−エチル−１−ヘキサノール、１
−ノナノール、３．５．５−　）ジメチル−１−ヘキサ
ノール、１−デカノール、１−ウンデカノール、１−ド
デカノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコー
ル、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１−メ
チルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノー
ル、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロ
ヘキサノール、α−テルピネオール、アとニチノール、
２．６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメチルノニ
ルアルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシル
アルコール等から選ばれるものである。より好ましくは
、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等
である。The alcohols are preferably chain or cyclic saturated or unsaturated alcohols having 1 to 17 carbon atoms, such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, and 5ec- Butyl alcohol, tert-butyl alcohol, pentyl alcohol, 5ec-amyl alcohol, 1-ethyl-1-propanol, 2-methyl-
1-butanol, isopentyl alcohol, tert-
Pentyl alcohol, 3-methyl-2-butanol, neopentyl alcohol, 1-hexanol, 2-methyl-1-pentanol, 4-methyl-2-pentanol,
2-ethyl-1-butanol, 1-heptatool, 2-
heptatool, 3-heptatool, 1-octatool,
2-octatool, 2-ethyl-1-hexanol, 1
-nonanol, 3.5.5-) dimethyl-1-hexanol, 1-decanol, 1-undecanol, 1-dodecanol, allyl alcohol, propargyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 1-methylcyclohexanol, 2-methylcyclo Hexanol, 3-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, α-terpineol, atonitinol,
It is selected from 2,6-dimethyl-4-heptatool, trimethylnonyl alcohol, tetradecyl alcohol, heptadecyl alcohol, and the like. More preferred are methanol, ethanol, isopropyl alcohol and the like.

１〜９の飽和叉は不飽和炭化水素基）のいずれかの一般
式で示されるものが好ましく、アセトン、メチルエチル
ケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサ
ノン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、
２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチルケトン
、アセトニルアセトン、メシチルオキシド、ホロン、メ
チル−〇−アミルケトン、エチルブチルケトン、メチル
へキシルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキ
サノン、イソホロン、２．４−ベンタンジオン、ジアセ
トンアルコール、アセトフェノン、フェンチョン等から
選ばれるものである。より好ましくは、アセトン、メチ
ルエチルケトン等である。1 to 9 saturated or unsaturated hydrocarbon groups) are preferred, including acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, 3-pentanone, 2-hexanone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone,
2-heptanone, 4-heptanone, diisobutyl ketone, acetonylacetone, mesityl oxide, holon, methyl-〇-amyl ketone, ethyl butyl ketone, methylhexyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, isophorone, 2,4-bentanedione, di It is selected from acetone alcohol, acetophenone, fenchen, etc. More preferred are acetone, methyl ethyl ketone and the like.

ハロゲン化炭化水素類としては、炭素数１〜４の飽和叉
は不飽和のハロゲン化炭化水素類が好ましく、ジクロロ
メタン、四塩化炭素、クロロホルム、１．１−ジクロロ
エタン、１．２−ジクロロエタン、１、１．１−　）ジ
クロロエタン、１．１．２−トリクロロエタン、１．１
．１．２−テトラクロロエタン、１．１．２．２−テト
ラクロロエタン、ペンタクロロエタン、１．１−ジクロ
ロエチレン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン、
ｃｉｓ−１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン、１−クロロプロパン、２−
クロロプロパン、１−ブロモプロパン、２−ブロモプロ
パン等から選ばれるものである。より好ましくは、ジク
ロロメタン、１．１．１−　トリクロロエタン、ｔｒａ
ｎｓ−１，２−ジクロロエチレン、ｃｉｓ−１，２−ジ
クロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエ
チレン、２−ブロモプロパン等である。The halogenated hydrocarbons are preferably saturated or unsaturated halogenated hydrocarbons having 1 to 4 carbon atoms, such as dichloromethane, carbon tetrachloride, chloroform, 1.1-dichloroethane, 1.2-dichloroethane, 1, 1.1-) dichloroethane, 1.1.2-trichloroethane, 1.1
．． 1.2-tetrachloroethane, 1.1.2.2-tetrachloroethane, pentachloroethane, 1.1-dichloroethylene, trans-1,2-dichloroethylene,
cis-1,2-dichloroethylene, trichlorethylene, tetrachlorethylene, 1-chloropropane, 2-
It is selected from chloropropane, 1-bromopropane, 2-bromopropane, etc. More preferably dichloromethane, 1.1.1-trichloroethane, tra
These include ns-1,2-dichloroethylene, cis-1,2-dichloroethylene, trichlorethylene, tetrachlorethylene, 2-bromopropane, and the like.

エステル類としては、次の一般式で示されるものが好ま
しく、ＲＩ−ＣＯＯ−Ｆｔ２、ＣＯＯＲａ Ｒｒ　−ＣＯＯ−Ｒ２−ＣＯ０−Ｒ３、（ＣＯＯＲ＋　
）　２、◎−〇〇ＯＲ＋ ＣＯＯＲ２ （ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６はＨ叉
は炭素数１〜１９の飽和ないし、不飽和結合を有する炭
化水素基）。As the esters, those represented by the following general formula are preferable, including RI-COO-Ft2, COORa Rr -COO-R2-CO0-R3, (COOR+
) 2, ◎-〇〇OR+COOR2 (here, R1, R2, R3, R4, R5, R6 are H or a hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms and having a saturated or unsaturated bond).

具体的には、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、
蟻酸ブチル、蟻酸イソブチル、蟻酸ペンチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸８６Ｃ−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸イソペンチル、３−メトキシブチルアセ
テート、酢酸５ｅｃ−ヘキシル、２−エチルブチルアセ
テート、２−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロヘ
キシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソペ
ンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イ
ソペンチル、イソ酪酸イソブチル、２−しドロキシ−２
−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、ス
テアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル
、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソペ
ンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エチル、アビ
エチン酸ベンジル、アジピン酸ビス−２−エチルヘキシ
ル、γ−ブチロラクト、シュウ酸ジエチル、シュウ酸ジ
ブチル、シュウ酸ジベンチル、マロン酸ジエチル、マレ
イン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブ
チル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシン
酸ジブチル、セバシン酸ビス−２−エチル、フタル酸ジ
メチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル。Specifically, methyl formate, ethyl formate, propyl formate,
Butyl formate, isobutyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, 86C-butyl acetate, pentyl acetate, isopentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 5ec-hexyl acetate, 2 -Ethyl butyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, cyclohexyl acetate, benzyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, isopentyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, isopentyl butyrate, isobutyl isobutyrate, 2- Shidroxy-2
- Ethyl methylpropionate, butyl stearate, pentyl stearate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, butyl benzoate, isopentyl benzoate, benzyl benzoate, ethyl abietate, benzyl abietate, bis adipate - 2-ethylhexyl, γ-butyrolact, diethyl oxalate, dibutyl oxalate, dibentyl oxalate, diethyl malonate, dimethyl maleate, diethyl maleate, dibutyl maleate, dibutyl tartrate, tributyl citrate, dibutyl sebacate, bis sebacate -2-ethyl, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate.

フタル酸ビス−２−エチルヘキシル、フタル酸ジオクチ
ル等から選ばれるものである。より好ましくは、酢酸メ
チル、酢酸エチル等である。It is selected from bis-2-ethylhexyl phthalate, dioctyl phthalate, and the like. More preferred are methyl acetate, ethyl acetate and the like.

本発明のバフ研磨洗浄剤には、各種の洗浄助剤、水、界
面活性剤、安定剤あるいは、オゾン破壊に対する影響の
少ない含水素塩素化弗素化炭化水素類をさらに添加混合
してもよい、洗浄方法としでは、手拭き、浸漬、スプレ
ー法、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用
することができ［実施例コ 実施例１〜１３ 下記第１表に示すバフ研磨洗浄剤を用いて研磨剤の除去
試験を行なった。The buffing cleaning agent of the present invention may further contain various cleaning aids, water, surfactants, stabilizers, or hydrogen-containing chlorinated fluorinated hydrocarbons that have little effect on ozone depletion. As a cleaning method, usual methods such as hand wiping, dipping, spraying, shaking, ultrasonic cleaning, and steam cleaning can be used [Examples 1 to 13 Buffing cleaning agents shown in Table 1 below] An abrasive removal test was conducted using

腕時計のフレームをバフ研磨剤（ＧＳ−１、創研工業■
製）で研磨後、バフ研磨洗浄剤に浸漬し、３分間超音波
をかけた後、これを取り出し研磨剤の除去状況を目視に
より観察した。その結果を第１表に示す。Buffing agent for watch frames (GS-1, Soken Kogyo■
After polishing with a buff polishing agent (manufactured by Kawasaki Co., Ltd.), the specimen was immersed in a buffing cleaning agent, subjected to ultrasonic waves for 3 minutes, and then taken out and visually observed to see how the polishing agent had been removed. The results are shown in Table 1.

［発明の効果コ 本発明のバフ研磨洗浄剤は、実施例から明らかなように
研磨剤の除去効果の優れたものである。[Effects of the Invention] The buffing cleaning agent of the present invention has an excellent abrasive removal effect, as is clear from the Examples.

叉、従来使用されていた１、１．１−）リクロロエタン
に比べ１、金属、プラスチック、及びエラストマー等か
ら成る研磨剤を除去すべき物品に悪影響を与えることが
少ない点で有利である。Moreover, compared to the conventionally used 1,1.1-)lichloroethane, it is advantageous in that the abrasive agent made of metals, plastics, elastomers, etc. has less adverse effect on the articles to be removed.

第１表 Δ：微量残存 Ｘ：力なり残存Table 1 Δ: Trace amount remaining X: Survival with power

Claims (1)

【特許請求の範囲】 １、炭素数が３である不飽和塩素化弗素化炭化水素を有
効成分として含有するバフ研磨洗浄剤。 ２、不飽和塩素化弗素化炭化水素が１−クロロ−２−フ
ルオロプロペン、２，３−ジクロロ−３，３−ジフルオ
ロプロペン、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフル
オロプロペン、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフ
ルオロプロペン、１，３−ジクロロ−１，３，３−トリ
フルオロプロペン、１，３−ジクロロ−２，３，３−ト
リフルオロプロペン、３，３−ジクロロ−１，１，３−
トリフルオロプロペン、３，３−ジクロロ−２，３−ジ
フルオロプロペンである請求項１に記載のバフ研磨洗浄
剤。 ３、バフ研磨洗浄剤中に、炭化水素類、アルコール類、
ケトン類、ハロゲン化炭化水素類、叉はエステル類から
選ばれる少なくとも１種が含まれている請求項１に記載
のバフ研磨洗浄剤。[Claims] 1. A buffing cleaning agent containing an unsaturated chlorinated fluorinated hydrocarbon having 3 carbon atoms as an active ingredient. 2. The unsaturated chlorinated fluorinated hydrocarbon is 1-chloro-2-fluoropropene, 2,3-dichloro-3,3-difluoropropene, 1,1-dichloro-3,3,3-trifluoropropene, 1 , 2-dichloro-3,3,3-trifluoropropene, 1,3-dichloro-1,3,3-trifluoropropene, 1,3-dichloro-2,3,3-trifluoropropene, 3,3 -dichloro-1,1,3-
The buffing cleaning agent according to claim 1, which is trifluoropropene or 3,3-dichloro-2,3-difluoropropene. 3. Hydrocarbons, alcohols,
The buffing cleaning agent according to claim 1, which contains at least one selected from ketones, halogenated hydrocarbons, and esters.
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