JPH01136980A - Buffing and cleaning agent - Google Patents

Buffing and cleaning agent

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JPH01136980A
JPH01136980A JP29396687A JP29396687A JPH01136980A JP H01136980 A JPH01136980 A JP H01136980A JP 29396687 A JP29396687 A JP 29396687A JP 29396687 A JP29396687 A JP 29396687A JP H01136980 A JPH01136980 A JP H01136980A
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JP
Japan
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buffing
cleaning agent
difluoroethane
alcohol
methyl
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JP29396687A
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Japanese (ja)
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Akio Asano
浅野　昭雄
Kazuki Jinushi
地主　一樹
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AGC Inc
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Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
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    • C23G5/02809—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

PURPOSE:To produce the above buffing and cleaning agent capable of effectively removing the abrasives deposited on metallic parts, etc., by using the azeotropic composition consisting of 1,1,2-trichloro-2,2-difluoroethane and 1,2-dichloro-1- fluoroethane as the effective components of the agent. CONSTITUTION:The buffing and cleaning agent is prepared by using the azeotropic composition consisting of one kind between 1,1,2-trichloro-2,2- difluoroethane (R122) and tetrachloro-1,2-difluoroethane (R112) and 1,2-dichloro-1- fluoroethane (R141) as the effective components of the agent. At this time, the ratio R112/R141 is controlled to about 66/34 and the ratio R112/R112/R141 to about 17/83, and about 0-50wt.% of at least one kind selected from hydrocarbons (n-pentane, etc.), alcohols (methanol, etc.), ketones (acetone, etc.), chlorinated hydrocarbons (methylene chloride, etc.), and esters (methyl acetate, etc.) is incorporated in accordance with the purposes.

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はバフ研磨剤を用いて研磨した金属部品等に付着
した研磨剤類を除去するために用いるバフ研磨洗浄剤に
関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a buffing cleaning agent used for removing abrasives adhering to metal parts etc. polished using a buffing agent.

［従来の技術］ 精密金属部品、装飾部品等のバフ研磨工程でω【磨削類
が使われるが、これらが付着したままでは製品とはなら
ない場合が多い。従って、このような部品の仕」―げ工
程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。溶剤の種
類としては１、１，　Ｉ−トリクロルエタンが広く使わ
れている。[Prior art] In the buffing process of precision metal parts, decorative parts, etc., ω [abrasives] are used, but in many cases, products cannot be produced if these remain attached. Therefore, in the finishing process of such parts, organic solvents are used for cleaning. As a type of solvent, 1,1,I-trichloroethane is widely used.

［発明の解決しようとする問題点］ 本発明は従来使用されていた１、　１，　Ｉ−トリクロ
ルエタンは地下水汚染の点から好ましくないため、その
使用雀を抑えるべく１，１，ｌ−トリクロルエタンにか
わる新規のバフ研磨洗浄剤を提供することを目的とする
ものである。[Problems to be Solved by the Invention] Since the 1,1,I-trichloroethane that has been conventionally used is undesirable from the standpoint of contaminating ground water, the present invention solves the problem of using 1,1,1-trichloroethane in order to suppress its use. The object of the present invention is to provide a new buffing cleaning agent that can replace the conventional buffing cleaning agent.

Ｅ問題点を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
１，１，２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエタン（
以下Ｒ１２２という）又はテトラクロロ−１，２−ジフ
ルオロエタン（以下Ｒ１１２という）の１種と１，２−
シクロロートフルオロエタン（以下ＲＩ４１という）と
の共沸組成物を有効成分とじて含有するバフ研磨洗浄剤
を提供するものである。Means for Solving Problem E] The present invention has been made to achieve the above-mentioned object,
1,1,2-trichloro-2,2-difluoroethane (
(hereinafter referred to as R122) or tetrachloro-1,2-difluoroethane (hereinafter referred to as R112) and 1,2-
The present invention provides a buffing cleaning agent containing an azeotropic composition with cyclorotofluoroethane (hereinafter referred to as RI41) as an active ingredient.

本発明のバフ研磨洗浄剤の有効成分であるＲ１２２／Ｒ
１４１・約６６／３４の共沸組成物又はＲ１２２Ｒ１４
１・約ＩＴ／８３の共沸組成物（共沸割合は重量％）は
、適度な溶解力がある等の利点を有する優れた溶剤であ
る。これら２種の共沸組成物はそれぞれ単独で又はこれ
らの混合物として用いることができる。R122/R, which is an active ingredient of the buffing cleaning agent of the present invention
141.Azeotropic composition of about 66/34 or R122R14
The azeotropic composition of 1.about.IT/83 (azeotropic ratio is weight %) is an excellent solvent having advantages such as a moderate dissolving power. These two types of azeotropic compositions can be used individually or as a mixture thereof.

本発明のバフ研磨洗浄剤には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる。例えば、研磨
剤の除去効果を高めるために、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類等の有
機溶剤から選ばれる少なくとも１種を含有させることが
できる。これらの有機溶剤のバフ研磨洗浄剤中の含有割
合は、０〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％、
さらに好ましくは２０〜３０重量％である。本発明の共
沸組成物と有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場
合には、その共沸組成での使用が好ましい。The buffing cleaning agent of the present invention can contain various other components depending on various purposes. For example, in order to enhance the removal effect of the abrasive, at least one kind selected from organic solvents such as hydrocarbons, alcohols, ketones, chlorinated hydrocarbons, or esters can be included. The content of these organic solvents in the buffing cleaning agent is 0 to 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight,
More preferably, it is 20 to 30% by weight. When an azeotropic composition exists in the mixture of the azeotropic composition of the present invention and an organic solvent, it is preferable to use the azeotropic composition.

炭化水素類としては炭素数１−１５の直鎖又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イ
ソペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチル
ペンタン、２．２−ジメチルブタン、２．３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキ
サン、２．４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２−
メチルへブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへブ
タン、２．２−ジメチルヘキサン％２．５−ジメチルヘ
キサン、３．３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−
エチルペンタン、３−メチル−３−エチルペンタン、２
、３．３−　トリメチルペンタン、２．３．４−トリメ
チルペンタン、２．２．３−　トリメチルペンタン、イ
ソオクタン、ノナン、　２，２．５−トリメチルヘキサ
ン、デカン、ドデンカン、１−ペンテン、２−ペンテン
、１−ヘキセン、ｌ−オクテン、１−ノネン、１−デセ
ン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン
、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン、ａ−ピネン、ジ
ペンテン、デカリン、テトラリン、アミレン、アミルナ
フタレン等から選ばれるものである。より好ましくは、
ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−へブタン等である。The hydrocarbons are preferably linear or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbons having 1 to 15 carbon atoms, such as n-pentane, isopentane, n-hexane, isohexane, 2-methylpentane, 2,2-dimethylbutane, 2.3-dimethylbutane, n-hebutane, isohebutane, 3-methylhexane, 2.4-dimethylpentane, n-octane, 2-
Methylhebutane, 3-methylhebutane, 4-methylhebutane, 2.2-dimethylhexane%2.5-dimethylhexane, 3.3-dimethylhexane, 2-methyl-3-
Ethylpentane, 3-methyl-3-ethylpentane, 2
, 3.3-trimethylpentane, 2.3.4-trimethylpentane, 2.2.3-trimethylpentane, isooctane, nonane, 2,2.5-trimethylhexane, decane, dodencane, 1-pentene, 2-pentene , 1-hexene, l-octene, 1-nonene, 1-decene, cyclopentane, methylcyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, bicyclohexane, cyclohexene, a-pinene, dipentene, decalin, tetralin, amylene, amyl It is selected from naphthalene and the like. More preferably,
These include n-pentane, n-hexane, n-hebutane, and the like.

アルコール類としては、炭素数ｌ〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール％ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｃ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、Ｌｅｒｔ−ブチルア
ルコール。The alcohols are preferably linear or cyclic saturated or unsaturated alcohols having 1 to 17 carbon atoms, such as methanol, ethanol% n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, 5ec-butyl alcohol, isobutyl alcohol, Lert-butyl alcohol.

ペンチルアルコール、５ｅｃ−アミルアルコール、ｌ−
エチル−１−プロパツール、２−メチル−１−ブタノー
ル、イソペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−ペンチルアル
コール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルア
ルコール、トヘキサノール、２−メチル−１−ペンタノ
ール、４−メチル−２−ペンタノール、２−エチル−１
−ブタノール、ｌ−ヘプタツール、２−ヘプタツール、
３−ヘプタツール、ｌ−オクタノール、２−オクタツー
ル、２−エチル−１−ヘキサノール、１−ノナノール、
３．５．５−トリメチル−１−ヘキサノール、ｌ−デカ
ノール、１−ウンデカノール、ｌ−ドデカノール、アリ
ルアルコール、プロパルギルアルコール、ベンジルアル
コール、シクロヘキサノール、ｌ−メチルシクロヘキサ
ノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシ
クロヘキサノール、４−メチルシクロヘキサノール、ａ
−テルピネオール、アビニチノール、２．６−シメチル
ー４−ヘプタツール、トリメチルノニルアルコール、テ
トラデシルアルコール、ヘプタデシルアルコール等から
選ばれるものである。より好ましくはメタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール等である。Pentyl alcohol, 5ec-amyl alcohol, l-
Ethyl-1-propatol, 2-methyl-1-butanol, isopentyl alcohol, tert-pentyl alcohol, 3-methyl-2-butanol, neopentyl alcohol, tohexanol, 2-methyl-1-pentanol, 4- Methyl-2-pentanol, 2-ethyl-1
-butanol, l-heptatool, 2-heptatool,
3-heptatool, l-octanol, 2-octatool, 2-ethyl-1-hexanol, 1-nonanol,
3.5.5-Trimethyl-1-hexanol, l-decanol, 1-undecanol, l-dodecanol, allyl alcohol, propargyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, l-methylcyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3- Methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, a
- selected from terpineol, avinitinol, 2,6-dimethyl-4-heptatool, trimethylnonyl alcohol, tetradecyl alcohol, heptadecyl alcohol and the like. More preferred are methanol, ethanol, isopropyl alcohol and the like.

ケトン類としては、Ｒ−ＣＯ−Ｒ’　、　Ｒ−ＣＯ，Ｒ
−ＣＤ−Ｒ’　−ｒ−ｒ−ｃｌｌｓ−ｔ ＣＯ−Ｒ″、Ｒ−ＣＯ−Ｒ’、　Ｒ−ＣＯ−Ｒ″（ここ
で、Ｒ，Ｒ’、ＩＩ″は炭素数１〜９の飽和又は不飽和
炭化水素基）のいずれかの一般式で示されるものが好ま
しく、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン
、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチル−ロープチ
ルケトン、メチルエチルケトン、２−ヘプタノン％４−
ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセトン
、メシチルオキシド、ホロン、メチル−ｎ−アミルケト
ン、エチルブチルケトン、メチルへキシルケトン、シク
ロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソホロン。Ketones include R-CO-R', R-CO,R
-CD-R' -r-r-clls-t CO-R'', R-CO-R', R-CO-R'' (where R, R', II'' are saturated carbon atoms of 1 to 9 or an unsaturated hydrocarbon group), and those represented by the general formula of acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, 3-pentanone, 2-hexanone, methyl rope methyl ketone, methyl ethyl ketone, 2-heptanone%4-
Heptanone, diisobutyl ketone, acetonylacetone, mesityl oxide, holone, methyl-n-amyl ketone, ethyl butyl ketone, methylhexyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, isophorone.

２．４−ペンタンジオン、ジアセトンアルコール。2.4-pentanedione, diacetone alcohol.

アセトフェノン、フェンチョン等から選ばれるものであ
る。より好ましくはアセトン、メチルエチルケトン等で
ある。It is selected from acetophenone, fenchen, etc. More preferred are acetone, methyl ethyl ketone and the like.

塩素化炭化水素類としては、炭素数！〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メヂレン、四
塩化炭素、１，１−ジクロルエタン、１，２−ジクロロ
エタン、　１，１，ｌｌ−リクロＪＬｆｆ−タン、１，
１，２−トリクロルエタン、１，１，１，２−テトラク
ロルエタン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、ペ
ンタクロルエタン、１，１−ジクロルエチレン、１，２
−ジクロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロ
ルエチレン等から選ばれるものである。より好ましくは
塩化メチレン、１、１，１　）ジクロルエタン、トリク
ロルエチレン、テトラクロルエチレン等である。For chlorinated hydrocarbons, the number of carbons! -2 saturated or unsaturated, chlorinated hydrocarbons are preferred, such as methylene chloride, carbon tetrachloride, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, 1,1,ll-lichloroJLff-thane, 1,
1,2-trichloroethane, 1,1,1,2-tetrachloroethane, 1,1,2.2-tetrachloroethane, pentachloroethane, 1,1-dichloroethylene, 1,2
- selected from dichloroethylene, trichlorethylene, tetrachlorethylene, etc. More preferred are methylene chloride, 1,1,1) dichloroethane, trichlorethylene, tetrachloroethylene, and the like.

エステル類としては、次の一般式で示される■ ものが好ましく、Ｒ，−Ｃ口０−Ｌ＋　Ｒ１−Ｃ−Ｒ３
−Ｃｏｎ−Ｒ４゜ＯＲ。The esters are preferably those represented by the following general formula, where R, -C0-L+ R1-C-R3
-Con-R4°OR.

ＤＯＲ４ （ここでＲ＋、　Ｒｘ、　Ｒｊ、　Ｒａ、　Ｒｉ、　Ｒ
ｅは１１又は０］１又は炭素数１〜１９の飽和ないし、
不飽和結合を有する炭化水素基。） 具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢ｍ　５ｅｃ−ブチル、酢
酸ペンチル、酢酸イソペンチル、３−メトキシブチルア
セテート、酸１１ｓｅｃ−ヘキシル、２−エチルブチル
アセテート、２−エチルヘキシルアセテート、酢酸シク
ロヘキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロ
ピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イ
ソペンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪
酸イソペンチル、イソ醋酸イソブチル、２−ヒドロキシ
−２−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル
、ステアリン酸ペンチル、−安息香酸メチル、安忌香酸
エチル、安息香酸プロピル、安息６酸ブチル、安息香酸
イソペンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エチル
、アビエチン酸ベンジル、アジピン酸ビス−２−エチル
ヘキシル、γ−ブチロラクト、シュウ酸ジエチル、シュ
ウ酸ジブチル、シュウ酸ジベンチル、マロン酸ジエチル
、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン
酸ジブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セ
バシン酸ジブデル、セバシン酸ビス−２−エチルヘキシ
ル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジ
ブチル。DOR4 (here R+, Rx, Rj, Ra, Ri, R
e is 11 or 0]1 or saturated with 1 to 19 carbon atoms,
A hydrocarbon group with unsaturated bonds. ) Specifically, methyl formate, ethyl formate, propyl formate,
Butyl formate, isobutyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, m5ec-butyl acetate, pentyl acetate, isopentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 11sec-hexyl acid, 2-ethyl butyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, cyclohexyl acetate, benzyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, isopentyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, isopentyl butyrate, isobutyl isoacetate, 2 - ethyl hydroxy-2-methylpropionate, butyl stearate, pentyl stearate, - methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, butyl hexabenzoate, isopentyl benzoate, benzyl benzoate, ethyl abietate, Benzyl abietate, bis-2-ethylhexyl adipate, γ-butyrolact, diethyl oxalate, dibutyl oxalate, dibentyl oxalate, diethyl malonate, dimethyl maleate, diethyl maleate, dibutyl maleate, dibutyl tartrate, tributyl citrate , dibdel sebacate, bis-2-ethylhexyl sebacate, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate.

フタル酸ビス−２−エチルヘキシル、フタル酸ジオクチ
ル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸メチル
、酢酸エチル等である。Some are selected from bis-2-ethylhexyl phthalate, dioctyl phthalate, and the like. More preferred are methyl acetate, ethyl acetate and the like.

本発明のバフ研磨洗浄剤には、各種の洗浄助剤、水、界
面活性剤、安定剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少
ない水素含有塩素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混
合してもよい。洗浄方法としては、手拭き、浸？Ｌ１１
、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法
を採用することができる。The buffing cleaning agent of the present invention may further contain various cleaning aids, water, surfactants, stabilizers, or hydrogen-containing chlorinated fluorinated hydrocarbons that have little effect on ozone destruction. As for the cleaning method, hand wiping or soaking? L11
, spraying, shaking, ultrasonic cleaning, steam cleaning, and other conventional methods can be used.

［実施例］ 実施例１〜７ 下記第１表に示すバフ研磨洗浄剤を用いて研磨剤の除去
試験を行なった。[Examples] Examples 1 to 7 An abrasive removal test was conducted using the buffing cleaning agents shown in Table 1 below.

腕時計のフレームをバフ研磨剤（ＧＳ−１，創研工業（
ｍｔ！３）で研磨後、バフ研磨洗浄剤に浸漬し、３分間
超音波をかけた後、これを取り出し研磨剤の除去状況を
観察した。その結果を第１表に示す。Buff the watch frame with a polishing agent (GS-1, Soken Kogyo)
mt! After polishing in step 3), it was immersed in a buffing cleaning agent, subjected to ultrasonic waves for 3 minutes, and then taken out to observe the removal of the polishing agent. The results are shown in Table 1.

第１表 （）内は混合比［重量％］ ○：良好に除去できる　Δ：少量残存 ×：かなり残存 ［発明の効果］ 本発明のバフ研磨洗浄剤は実施例から明らかなように研
磨剤の除去効果の優れたものである。Table 1 () shows the mixing ratio [wt%] ○: Good removal Δ: Small amount remaining It has an excellent removal effect.

又、従来使用されていた１、１，１−トリクロルエタン
に比べ、金属、プラスチック及びエラストマー等から成
る研磨剤を除去すべき物品に悪影′響を与えることが少
ない点でイｆ利である。Furthermore, compared to the conventionally used 1,1,1-trichloroethane, it has an advantage in that it has less negative impact on the articles to be removed, which are made of metals, plastics, elastomers, etc. .

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] （１）１，１，２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエ
タン又はテトラクロロ−１，２−ジフルオロエタンの１
種と１，２−ジクロロ−１−フルオロエタンとの共沸組
成物を有効成分として含有するバフ研磨洗浄剤。(1) 1 of 1,1,2-trichloro-2,2-difluoroethane or tetrachloro-1,2-difluoroethane
A buffing cleaning agent containing as an active ingredient an azeotropic composition of seeds and 1,2-dichloro-1-fluoroethane. （２）バフ研磨洗浄剤中には、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類から選
ばれる少なくとも１種が含まれている特許請求の範囲第
１項記載のバフ研磨洗浄剤。(2) The buff according to claim 1, wherein the buffing cleaning agent contains at least one selected from hydrocarbons, alcohols, ketones, chlorinated hydrocarbons, or esters. Abrasive cleaning agent.
JP29396687A 1987-11-24 1987-11-24 Buffing and cleaning agent Pending JPH01136980A (en)

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JP29396687A JPH01136980A (en) 1987-11-24 1987-11-24 Buffing and cleaning agent

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5120470A (en) * 1989-04-27 1992-06-09 Daikin Industries, Ltd. Solvent composition comprising a chloropentafluoropropane and a chlorofluoroethane

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US5120470A (en) * 1989-04-27 1992-06-09 Daikin Industries, Ltd. Solvent composition comprising a chloropentafluoropropane and a chlorofluoroethane

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