JPH02220427A - 除振台 - Google Patents
除振台Info
- Publication number
- JPH02220427A JPH02220427A JP4031989A JP4031989A JPH02220427A JP H02220427 A JPH02220427 A JP H02220427A JP 4031989 A JP4031989 A JP 4031989A JP 4031989 A JP4031989 A JP 4031989A JP H02220427 A JPH02220427 A JP H02220427A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure
- movement
- gravity
- oscillation
- center
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims abstract description 16
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 15
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract 4
- 230000005012 migration Effects 0.000 abstract 2
- 238000013508 migration Methods 0.000 abstract 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005316 response function Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Automatic Control Of Machine Tools (AREA)
- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
電子ビーム露光装置のような移動部を伴う装置を載せる
除振台に関し、 該装置の重心移動に起因する振動を確実に除去すること
を目的とし、 談合の支持部にクッション部を有し、かつ予め該移動部
の重心移動に対応するように該クッション部への圧力補
正を行う手段をそなえるように構成される。
除振台に関し、 該装置の重心移動に起因する振動を確実に除去すること
を目的とし、 談合の支持部にクッション部を有し、かつ予め該移動部
の重心移動に対応するように該クッション部への圧力補
正を行う手段をそなえるように構成される。
本発明は、電子ビーム露光装置やステッパのような移動
部(例えばステージの移動)を伴う装置を載せる除振台
に関する。
部(例えばステージの移動)を伴う装置を載せる除振台
に関する。
一般に電子ビーム露光装置のように高精度の位置決めを
必要とする装置では、除振台により外部の振動を除去す
るように構成されている。
必要とする装置では、除振台により外部の振動を除去す
るように構成されている。
第3図は従来技術における除振台の1例を示すもので、
1は台部であって、該台部1には、上記電子ビーム露光
装置のような移動部(例えば移動ステージなど)を伴う
装置9が載置される。2は該台部1を支えるクッション
部、3は固定脚部であって例えば該台部1の四隅に設け
られる。該クッション部2には配管8を通してガスが送
入されるが、該配管8の途中に、テコの原理を応用した
バルブ部7が配設される。すなわち4はテコ部、5は該
テコの支点、6はテコ押えである。
1は台部であって、該台部1には、上記電子ビーム露光
装置のような移動部(例えば移動ステージなど)を伴う
装置9が載置される。2は該台部1を支えるクッション
部、3は固定脚部であって例えば該台部1の四隅に設け
られる。該クッション部2には配管8を通してガスが送
入されるが、該配管8の途中に、テコの原理を応用した
バルブ部7が配設される。すなわち4はテコ部、5は該
テコの支点、6はテコ押えである。
このような構成によって、例えば該台部1が下がると該
テコ部4を介してバルブ部7内のバルブが開き、該バル
ブの開度に応じてガスを補給し、これにより該台部1の
下がりを戻すように作動する。
テコ部4を介してバルブ部7内のバルブが開き、該バル
ブの開度に応じてガスを補給し、これにより該台部1の
下がりを戻すように作動する。
ところで上記電子ビーム露光装置などでは一定のフィー
ルドを露光する毎にステージ送りを行っており、かかる
ステージ移動に伴って装置の重心が移動する。
ルドを露光する毎にステージ送りを行っており、かかる
ステージ移動に伴って装置の重心が移動する。
この場合、上述したようなテコを利用した受動的制御に
よる通常の除振台では、該装置の重心が移動した後に始
めてこれに応答するため応答速度が充分でなく、ステー
ジ移動のたびに除振台全体が捕れてしまう。
よる通常の除振台では、該装置の重心が移動した後に始
めてこれに応答するため応答速度が充分でなく、ステー
ジ移動のたびに除振台全体が捕れてしまう。
近年、上記したような露光装置に求められる位置精度が
0.01ミクロン程度にまでなってきているが、これを
達成するには極力振動を低減する必要がある。しかし上
記従来の除振台では、台が下がることにより始めてそれ
に対する戻しが働くという受動的な制御であるため、ど
うしても応答が遅くなる傾向があり、上記振動を充分に
低減することができないという問題点があった。
0.01ミクロン程度にまでなってきているが、これを
達成するには極力振動を低減する必要がある。しかし上
記従来の除振台では、台が下がることにより始めてそれ
に対する戻しが働くという受動的な制御であるため、ど
うしても応答が遅くなる傾向があり、上記振動を充分に
低減することができないという問題点があった。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明はかかる課題を解決するためになされたもので、
該移動部を伴う装置の重心移動に起因する除振台全体の
振動を極力低減させるようにしたものである。
該移動部を伴う装置の重心移動に起因する除振台全体の
振動を極力低減させるようにしたものである。
上記課題を解決するために本発明においては、移動部を
伴う装置を載せる台であってその支持部にクッション部
を有し、更に予め該移動部の重心移動に対応するように
該クッション部への圧力補正を行う手段をそなえるよう
に構成される。
伴う装置を載せる台であってその支持部にクッション部
を有し、更に予め該移動部の重心移動に対応するように
該クッション部への圧力補正を行う手段をそなえるよう
に構成される。
一般にステージ移動においては、予め「現在位置」と「
目的位置」とが分っている。すなわち現在の重心の位置
と目的の位置に移動した後の重心の位置は予め分ってい
る。そこで除振台の各クッション部の圧力を油圧等で制
御する予備圧搾機構と、該予備圧搾機構からの圧力をス
テージの現在位置と目的位置から割り出した重心移動の
変化に応じて補正するように制御する機構とによって上
記圧力補正手段を構成するとよい。
目的位置」とが分っている。すなわち現在の重心の位置
と目的の位置に移動した後の重心の位置は予め分ってい
る。そこで除振台の各クッション部の圧力を油圧等で制
御する予備圧搾機構と、該予備圧搾機構からの圧力をス
テージの現在位置と目的位置から割り出した重心移動の
変化に応じて補正するように制御する機構とによって上
記圧力補正手段を構成するとよい。
上記構成によれば、ステージ移動など予め予測のつく重
心移動を割り出して、予めそれに対応するように該クッ
ション部への圧力補正が行われるため、該移動を伴う装
置自身の重心移動による振動をも確実に除去することが
でき、高精度の位置決めを行うことができる。
心移動を割り出して、予めそれに対応するように該クッ
ション部への圧力補正が行われるため、該移動を伴う装
置自身の重心移動による振動をも確実に除去することが
でき、高精度の位置決めを行うことができる。
第1図は本発明の1実施例としての除振台の構成を示す
もので、上記第3図と共通する部分には共通の符号が付
されている。
もので、上記第3図と共通する部分には共通の符号が付
されている。
10は制御装置であって、該制御装置10に現在位置と
目的位置をデータとして与えると、該移動装置9(例え
ばステージ各ユニット)の重量より計算して該移動装置
の重心の移動の仕方が算出される。これによって該移動
装置の移動の際に、該除振台の傾きが起きないように、
該除振台のクッション部2に圧力を与えるように、該制
御装置10から油圧機構11に制御信号Cが送出される
。
目的位置をデータとして与えると、該移動装置9(例え
ばステージ各ユニット)の重量より計算して該移動装置
の重心の移動の仕方が算出される。これによって該移動
装置の移動の際に、該除振台の傾きが起きないように、
該除振台のクッション部2に圧力を与えるように、該制
御装置10から油圧機構11に制御信号Cが送出される
。
これにより該油圧機構11の油圧が制御されてピストン
12の移動を制御し、配管8を介してガスが送入されて
いる圧力室13のガス圧が調整され、それに応じて該ク
ッション部2に所定のガス圧が付与される。なお14は
圧力計であり、該圧力室13の圧力を該圧力計14を介
して該制御装置10にフィードバック信号Fとして返送
し、その結果に応じて該ガス圧力の再補正を行うように
して、上記与圧系の動作おくれを監視することもできる
。
12の移動を制御し、配管8を介してガスが送入されて
いる圧力室13のガス圧が調整され、それに応じて該ク
ッション部2に所定のガス圧が付与される。なお14は
圧力計であり、該圧力室13の圧力を該圧力計14を介
して該制御装置10にフィードバック信号Fとして返送
し、その結果に応じて該ガス圧力の再補正を行うように
して、上記与圧系の動作おくれを監視することもできる
。
第2図は、上記制御装置100制御動作の手順を例示す
るもので、いま該除振台のi番目の脚部に必要な支持力
が関数fi(x、y)(ここでx、yは該移動装置の重
心が位置する座標を表すものとする)で表されるとして
、先ずステップlでは該移動部の現在の座標位置(Xo
、 Va)を該関数に入力してfl(Xo 、
yo) (ここで1は例えば1乃至4)を求める。なお
この値は通常前回のサイクルで求められている。次いで
ステップ2で、該移動部の次の移動先の座標位置(x+
、yt)を該関数に入力してfl(x+ 、 yt
)を求める。次いでステップ3で該移動部の現在位置と
次の移動位置とにおける、各脚部に必要な支持力の差を
Δfi=f+(x+ 、yt)−fi(xo、yo)と
して求める。
るもので、いま該除振台のi番目の脚部に必要な支持力
が関数fi(x、y)(ここでx、yは該移動装置の重
心が位置する座標を表すものとする)で表されるとして
、先ずステップlでは該移動部の現在の座標位置(Xo
、 Va)を該関数に入力してfl(Xo 、
yo) (ここで1は例えば1乃至4)を求める。なお
この値は通常前回のサイクルで求められている。次いで
ステップ2で、該移動部の次の移動先の座標位置(x+
、yt)を該関数に入力してfl(x+ 、 yt
)を求める。次いでステップ3で該移動部の現在位置と
次の移動位置とにおける、各脚部に必要な支持力の差を
Δfi=f+(x+ 、yt)−fi(xo、yo)と
して求める。
このΔf1は該移動装置の重心の移動に伴って各脚部に
付与すべき圧力差に対応するから、ステップ4で該圧力
差Δfi に応じて各脚部に付与すべき支持力【すなわ
ち与圧系からの与圧状態)を変化させる。な右この際、
各脚部に対応する与圧系のおくれを考慮して、該圧力差
の算出にあたり所定の応答関数をとり込みむことも可能
であり、このようにして上記制御装置へのフィードバッ
クを省略することもできる。以上のようにして該制御装
置による1サイクルの制御が終了し、該移動装置の移動
に応じて該制御サイクルが繰返し実行される。
付与すべき圧力差に対応するから、ステップ4で該圧力
差Δfi に応じて各脚部に付与すべき支持力【すなわ
ち与圧系からの与圧状態)を変化させる。な右この際、
各脚部に対応する与圧系のおくれを考慮して、該圧力差
の算出にあたり所定の応答関数をとり込みむことも可能
であり、このようにして上記制御装置へのフィードバッ
クを省略することもできる。以上のようにして該制御装
置による1サイクルの制御が終了し、該移動装置の移動
に応じて該制御サイクルが繰返し実行される。
本発明によれば、ステージ移動など予めその動きが算出
できる移動部の移動に伴う振動要因を確実に除去するこ
とができるので、該移動部の高精度な位置決めを行うこ
とができる。したがって本発明の除振台を半導体デバイ
スの開発に不可欠な装置であるステッパや電子ビーム露
光装置などに適用することによって高品質の露光を行う
ことができる。
できる移動部の移動に伴う振動要因を確実に除去するこ
とができるので、該移動部の高精度な位置決めを行うこ
とができる。したがって本発明の除振台を半導体デバイ
スの開発に不可欠な装置であるステッパや電子ビーム露
光装置などに適用することによって高品質の露光を行う
ことができる。
第1図は、本発明の1実施例としての除振台の全体構成
図、 第2図は、該第1図の装置にふける制御装置の制御動作
手順をフローチャートで示す図、第3図は、従来技術と
しての除振台の1例を示す図である。 (符号の説明) l・・・除振台の台部、 2・・・クツシト2部、
3・・・固定脚部、 4・・・テコ部、7・・
・バルブ部、 9・・・移動装置、10・・・
制御装置、 12・・・ピストン、 11・・・油圧機構、 13・・・圧力室。
図、 第2図は、該第1図の装置にふける制御装置の制御動作
手順をフローチャートで示す図、第3図は、従来技術と
しての除振台の1例を示す図である。 (符号の説明) l・・・除振台の台部、 2・・・クツシト2部、
3・・・固定脚部、 4・・・テコ部、7・・
・バルブ部、 9・・・移動装置、10・・・
制御装置、 12・・・ピストン、 11・・・油圧機構、 13・・・圧力室。
Claims (1)
- 1、移動部を伴う装置を載せる台であってその支持部に
クッション部を有し、かつ予め該移動部の重心移動に対
応するように該クッション部への圧力補正を行う手段を
そなえることを特徴とする除振台。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4031989A JP2882414B2 (ja) | 1989-02-22 | 1989-02-22 | 除振台 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4031989A JP2882414B2 (ja) | 1989-02-22 | 1989-02-22 | 除振台 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02220427A true JPH02220427A (ja) | 1990-09-03 |
JP2882414B2 JP2882414B2 (ja) | 1999-04-12 |
Family
ID=12577293
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4031989A Expired - Fee Related JP2882414B2 (ja) | 1989-02-22 | 1989-02-22 | 除振台 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2882414B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006266353A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Nabeya:Kk | アクティブ姿勢制御方法 |
JP2006292147A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Kurashiki Kako Co Ltd | 気体ばね式除振装置 |
JP2009298557A (ja) * | 2008-06-13 | 2009-12-24 | Olympus Corp | 防振部材支持型直進フィーダ |
-
1989
- 1989-02-22 JP JP4031989A patent/JP2882414B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006266353A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Nabeya:Kk | アクティブ姿勢制御方法 |
JP2006292147A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Kurashiki Kako Co Ltd | 気体ばね式除振装置 |
JP2009298557A (ja) * | 2008-06-13 | 2009-12-24 | Olympus Corp | 防振部材支持型直進フィーダ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2882414B2 (ja) | 1999-04-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4821205A (en) | Seismic isolation system with reaction mass | |
EP0557100B1 (en) | Stage driving system | |
EP0054623B1 (en) | Antechamber mechanism for electron beam writing apparatus | |
KR100636755B1 (ko) | 이중 격리 시스템을 갖는 리소그래피 공구 및 그를 구성하기 위한 방법 | |
JPH06216003A (ja) | ステージ装置 | |
JP2004144196A (ja) | 精密位置決め装置及びこれを用いた加工機 | |
KR20120046054A (ko) | 진동 제어 장치, 리소그래피 장치, 및 물품의 제조 방법 | |
EP1124078B1 (en) | Active anti-vibration apparatus and exposure apparatus | |
JP2019027482A (ja) | アクティブ除振装置 | |
JP2009212314A (ja) | 制振装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
EP0054624A1 (en) | Elevator drive mechanism | |
JP2008115966A (ja) | アクティブ除振装置 | |
JPH02220427A (ja) | 除振台 | |
JP2003202051A (ja) | 除振装置 | |
JP2676526B2 (ja) | X線露光装置 | |
JPH0888167A (ja) | 可動体の位置決め制御装置及び定盤の姿勢制御装置及びそれらを使用した半導体露光装置 | |
JP2000208402A (ja) | 除振装置 | |
EP0202880A2 (en) | Seismic Isolation system, including microlithography system for submicron design rule | |
JPH118181A (ja) | 投影型露光装置 | |
JP3281222B2 (ja) | 移動ステージ制御装置 | |
JPH06181158A (ja) | 除振台の制御装置 | |
JPH02199813A (ja) | 露光装置 | |
JP4327520B2 (ja) | アクティブ除振装置 | |
JP2002372098A (ja) | 除振装置および制御方法 | |
JPH10135126A (ja) | 静的変形抑止機能を備えた除振装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |