JPH02218562A - 研磨布の製法 - Google Patents

研磨布の製法

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Publication number
JPH02218562A
JPH02218562A JP3583189A JP3583189A JPH02218562A JP H02218562 A JPH02218562 A JP H02218562A JP 3583189 A JP3583189 A JP 3583189A JP 3583189 A JP3583189 A JP 3583189A JP H02218562 A JPH02218562 A JP H02218562A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyurethane
sheet
cloth
polishing
nonwoven fabric
Prior art date
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Pending
Application number
JP3583189A
Other languages
English (en)
Inventor
Takahiko Togashi
富樫 高彦
Kiyoaki Ikei
池井 清明
Nobuyasu Hirota
広田 靖保
Gisaburo Takizawa
滝澤 義三郎
Tetsuji Senda
千田 哲司
Shinji Yamaguchi
山口 信司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujimi Kenmazai Kogyo Co Ltd
Fujimi Inc
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Original Assignee
Fujimi Abrasives Co Ltd
Fujimi Kenmazai Kogyo Co Ltd
Mitsubishi Rayon Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujimi Abrasives Co Ltd, Fujimi Kenmazai Kogyo Co Ltd, Mitsubishi Rayon Co Ltd filed Critical Fujimi Abrasives Co Ltd
Priority to JP3583189A priority Critical patent/JPH02218562A/ja
Publication of JPH02218562A publication Critical patent/JPH02218562A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は合成繊維不織布を基材としてポリウレタンによ
る多孔質体で結合せしめた研磨布の製法に関する。
(従来の技術) 従来、板ガラス、金属、半導体、セラミックス等の表面
の超精密な平面を得るために用いられる一次研磨布の製
法としては、不織布等の繊維交絡体の空隙にポリウレタ
ンの溶剤溶液を含浸し、湿式法にて凝固、乾燥させて微
細気孔を無数に有するポリウレタン多孔質体を結合させ
、これをスライスする方法がよく知られてbる。
このようにして得られた研磨布はポリウレタンの微細気
孔が研磨砥粒を含んだ研磨材液を保持すると共に研磨層
を貫流排出せしめるのに適しており、多用されている。
(発明が解決しようとする課題) しかし、この様な研磨布は十分な硬度がなく、研磨中に
被研磨体の周辺が中心部より、より研磨されてしまう、
いわゆる縁だれ現象を起し、被研磨体の面精度に斑が生
じ、周辺部が使用不能となりロスの大きいものとなる。
特に最近のように高圧、高速、高効率研磨が要求される
場合は、この傾向が明瞭忙現われ大きな問題となってい
る。
この様な問題点を解決するためにポリウレタンの含浸量
を多くする方法や不織布等の基材に熱硬化性樹脂を予め
付与しておく方法等が提案されているが、ポリウレタン
の含浸量を多くすれば目詰抄が大きくなり又、予め熱硬
化性樹脂を付与する方法は予備加工直後に得られな硬さ
と厚みが、後のポリウレタン含浸工程や、スライス工程
などでマングルやローラーなどを通過するたびにシート
の形態が崩れたり、へたりを生じて低下するという問題
がある。また、充分硬くした基布を含浸加工その他で取
扱うことは作業が極めて困難となり、実用時にみて縁だ
れ現象の解決とはなり得なり0 本発明はこのような問題点を解決し、縁だれがなく、か
つ他の研磨性能を低下させることのない研磨布を得るこ
とを目的とする。
(課題を解決するための手段) 本発明は合成繊維からなる不織布にポリウレタン溶剤溶
液を含浸し、湿式法にて凝固、乾燥して不縁布を微細気
孔を内在するポリウレタン多孔質体で結合せしめたシー
トを形成し、次いで所定の厚さにスライスした後、引続
いて反応性メラミンの水溶液を付与してキユアリングす
ることを特徴とする研磨布の製法である。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明に用する不織布はポリ異ステル、ナイロン、アク
リル等合成繊維を用いたものであればよく、ステーブル
又はフィラメントのいずれからなるものであってもよい
。不織布の厚さ、目付等についても特に限定されないが
、好ましくは厚さ2〜8 sm、日付量500〜1[1
00f/♂程度である。不織布に含浸するポリウレタン
及びその溶剤としては、従来の研磨布の製法に用いられ
ている公知のポリエステル系、ポリエーテル系のポリウ
レタンを用いることができる。
不織布へのポリウレタン付着fは、含浸後の絞υ率によ
って設定すればよく、使用目的に合せ選定されるが、−
収約には25〜80 wt11程度が好ましい。
ポリウレタン溶剤溶液を含浸させた不織布は公知の湿式
法による凝固、乾燥を施すことによって、不織布が微細
気孔を内在するホIJウレタン多孔質体で一体的に結合
されたシートが形成される。次いでこのシートの表層を
除去した後、1〜3fiの厚さにスライスする。シート
の厚みの小さい場合や、厚さの大きい研磨布を製造する
場合は、表層の除去のみとすればよい。このようにして
得られたスライス状シートの片面又は両面に反応性メラ
ミンの水溶液を付与し、キユアリング(熱処理)を施す
。本発明に用すられる反応性メラミンとしては例えばト
リメチロールメラミン、ヘキサメチロールメラミン等が
挙げられる。反応性メラミンの一部はキユアリングによ
ってポリウレタンに架橋剤として作用してポリウレタン
の硬度を上げると共に、過剰なメラミン樹脂はポリウレ
タン多孔質体に浸透して硬質の骨格や皮膜を形成したり
、あるいは不織布構成繊維相互を固定し、シート表面の
硬度が相剰的に向上したものとなる。このようにして得
られた研磨布は硬度が80°以上となる。
尚、本発明におAて反応性メラミンを水溶液状として付
与するのはシートへの反応性メラミンの付与を均斉にす
ると同時に硬度の選択を容易にするためである。
メラミン水溶液におけるメラミンの濃度は付与手段と付
着量及び用途によって異なるが、−般には10〜50 
wt4の範囲が好ましく、10wt4未満では硬度が不
足し、50壬を越えると目づまりを起すと共に、研磨時
にスリップして研磨効率を落したり、スクラッチが発生
することになり、好ましくない。
(実施例) 以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1 ポリエステル繊維からなる厚さA5M、目付650 t
/m”の不織布に、ポリエーテルポリウレタンのジメチ
ルホルムアミド溶液を樹脂体e量で50 wt4となる
様にして含浸し、引続き水浴中で凝固させ、乾燥して1
.2−の厚さにスライスして得たシートに、トリメチロ
ールメラミン15wtチ、有機アンモニウム塩触媒t 
5 wt4の水溶液を絞り率100チになる様にパッド
し、引続き120℃で5分乾燥し、次すでオーブンで1
50℃で5分間キユアリングを行なった。
得られたシートは表1の通り、満足すべき充分な硬度が
得られた。
別に、ポリウレタンを架橋結合させ、硬度を上げる目的
で■イソシアネー)12Wt1iヲ含む架橋剤3重量部
を前記ポリウレタンと併用して含浸する、■トリメチロ
ールメラミン3重景部をポリウレタンと併用して含浸す
る、を行ったところ、含浸後の乾燥で硬くなり、続く後
工程での取扱いが難かしく長尺物で連続的に加工するに
は問題であった。また、スライス後のショアー硬度とし
ては両者共、不充分で目標とする硬度に達しなかった。
研磨試験の結果、表1の通り、本発明によるものは充分
な硬度があるために、縁だれが少なく、良好な結果が得
られた。
実施例2 実施例1で得られたスライスシートの表面にトリメチロ
ールメラミン30 wtl 、有mアンモニウム塩触謀
5 wtlの水溶液をグラビアコーターで12097m
”付与した後乾燥し、オーブンで150℃、5分間キユ
アリングを行った。得られ九ンートの硬度は表1の通り
、充分高く研磨試験の結果も縁だれ性が大幅に改良され
た。
表   1 新旧時間:20分 (発明の効果) 本発明の方法によって得られた研磨布は硬度が80°以
上あり、かつ研磨布全体がメラミンの架橋により一体的
に結合されているので形体安定性がよく、高圧研磨条件
に耐え、緑だれ等の発生を大幅に抑制することができる
。又メラミンの架橋は多孔質体の通気性を損なわないも
のであり研磨効率を損なわない研磨布を得ることができ
る。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 合成繊維からなる不織布にポリウレタン溶剤溶液を含浸
    し、湿式法にて凝固、乾燥して不織布を微細気孔を内在
    するポリウレタン多孔質体で結合せしめたシートを形成
    し、次いで所定の厚さにスライスした後、引続いて反応
    性メラミンの水溶液を付与してキュアリングすることを
    特徴とする研磨布の製法。
JP3583189A 1989-02-15 1989-02-15 研磨布の製法 Pending JPH02218562A (ja)

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JP3583189A JPH02218562A (ja) 1989-02-15 1989-02-15 研磨布の製法

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JP3583189A JPH02218562A (ja) 1989-02-15 1989-02-15 研磨布の製法

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JPH02218562A true JPH02218562A (ja) 1990-08-31

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ID=12452907

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JP3583189A Pending JPH02218562A (ja) 1989-02-15 1989-02-15 研磨布の製法

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JP (1) JPH02218562A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04183578A (ja) * 1990-11-15 1992-06-30 Fuji Spinning Co Ltd 研磨用基体の製造法
JP2008126363A (ja) * 2006-11-21 2008-06-05 Nippon Polyurethane Ind Co Ltd ポリウレタン研磨パッドの製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04183578A (ja) * 1990-11-15 1992-06-30 Fuji Spinning Co Ltd 研磨用基体の製造法
JP2008126363A (ja) * 2006-11-21 2008-06-05 Nippon Polyurethane Ind Co Ltd ポリウレタン研磨パッドの製造方法

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