JPH02218170A - Manufacture of semiconductor pressure sensor - Google Patents

Manufacture of semiconductor pressure sensor

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JPH02218170A
JPH02218170A JP3867589A JP3867589A JPH02218170A JP H02218170 A JPH02218170 A JP H02218170A JP 3867589 A JP3867589 A JP 3867589A JP 3867589 A JP3867589 A JP 3867589A JP H02218170 A JPH02218170 A JP H02218170A
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pressure sensor
semiconductor pressure
sensor chip
lead frame
bonded
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Seiji Takemura
竹村 誠次
Ryoji Takahashi
良治 高橋
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PURPOSE:To enable the sufficient thickness of a bonded layer for absorbing and relieving the thermal stress to be assured by a method wherein a semiconductor pressure sensor chip is bonded onto the diepad part of a leadframe wherein bumps are formed on specified positions. CONSTITUTION:The rear surface side of a semiconductor pressure sensor chip on whose front side the electrode parts 9 are formed is bonded onto the diepad part 2 of a leadframe on whose positions corresponding to the electrode parts 9 and the proper position for keeping the parallelism of the said sensor chip the bump 6a, 6b are formed and then the electrode parts 9 of the semiconductor sensor chip 7 and the lead parts 3 of the leadframe 1 are wire-bonded. Through these procedures, the sufficient thickness of a bonded layer 10 to absorb the thermal stress can be assured between the part of the diepad part 2 wherein the pump 6a, 6b are not formed and the semiconductor pressure sensor chip.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体圧力センサの製造方法に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor pressure sensor.

[従来の技術] 一般に、半導体圧力センサにおいては、ゲージ抵抗が埋
め込まれたダイヤフラム部を有する半導体圧力センサチ
ップは、前記ダイヤフラム部に加わる熱応力を吸収緩和
するためのシリコン単結晶からなるシリコン台座を介し
てリードフレームなどに取り付けられている。
[Prior Art] Generally, in a semiconductor pressure sensor, a semiconductor pressure sensor chip having a diaphragm portion in which a gauge resistor is embedded has a silicon pedestal made of silicon single crystal for absorbing and relieving thermal stress applied to the diaphragm portion. It is attached to a lead frame etc. via the wire.

このような半導体圧力センサの製造は、半導体圧力セン
サチップをシリコン台座にグイボンドし、さらに、この
シリコン台座をリードフレームなどにグイボンドした後
、半導体圧力センサチップの電極部とリードフレームと
のワイヤボンディングを行うようにしている。
Manufacturing such a semiconductor pressure sensor involves bonding a semiconductor pressure sensor chip to a silicon pedestal, then bonding this silicon pedestal to a lead frame, etc., and then wire bonding the electrode part of the semiconductor pressure sensor chip and the lead frame. I try to do it.

[発明が解決しようとする課題〕 このように従来の製造方法では、熱応力を吸収緩和する
ためのシリコン台座を設けているために、その分コスト
が高くなるとともに、グイボンドを2回行わねばならず
、製造工程が複雑になるなどの難点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] In this way, in the conventional manufacturing method, a silicon pedestal is provided to absorb and relieve thermal stress, which increases the cost and requires that Guibond be performed twice. First, there are drawbacks such as a complicated manufacturing process.

このため、シリコン台座を設けることなく、半導体圧力
センサチップを、直接リードフレームにグイボンドする
ことが考えられるが、この場合に、熱応力を吸収緩和す
るために、シリコン樹脂などからなるグイボンド材を使
用してその厚みを厚くすると、その後の半導体圧力セン
サチップの電極部とリードフレームとのワイヤボンディ
ングの際のエネルギーが接着層から吸収されて逃げてし
まい、配線不良が生じるなどの問題がある。
For this reason, it is conceivable to directly bond the semiconductor pressure sensor chip to the lead frame without providing a silicon pedestal, but in this case, a Guibond material made of silicone resin or the like is used to absorb and relieve thermal stress. If the thickness is increased, energy during subsequent wire bonding between the electrode portion of the semiconductor pressure sensor chip and the lead frame will be absorbed by the adhesive layer and will escape, resulting in problems such as wiring defects.

本発明は、上述の点に鑑みて為されたものであって、シ
リコン台座を設けることなく、半導体圧力センサチップ
をリードフレームに直接グイボンドできるようにすると
ともに、ワイヤボンディングの際に配線不良が生じない
ようにすることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and allows a semiconductor pressure sensor chip to be directly bonded to a lead frame without providing a silicon pedestal. The aim is to prevent this from happening.

[課題を解決するための手段] 本発明では、上述の目的を達成するために、表面側に電
極部が形成されている半導体圧力センサチップの裏面側
を、前記電極部に対応する位置および前記半導体圧力セ
ンサチップの平行度を保つに適当な位置に突起が形成さ
れているリードフレームのダイパッド部に、接着材によ
って接着し、前記半導体圧力センサチップの前記電極部
と前記リードフレームのリード部とをワイヤボンディン
グするようにしている。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above-mentioned object, in the present invention, the back side of a semiconductor pressure sensor chip having an electrode part formed on the front side is located at a position corresponding to the electrode part and at a position corresponding to the electrode part. The electrode part of the semiconductor pressure sensor chip and the lead part of the lead frame are bonded with an adhesive to the die pad part of the lead frame, which has protrusions formed at appropriate positions to maintain the parallelism of the semiconductor pressure sensor chip. I'm trying to do wire bonding.

[作用] 上記構成によれば、ダイパッド部の突起が形成されてい
ない部分と半導体圧力センサチップとの間では、熱応力
を吸収できるに十分な厚みの接着層を確保できるととも
に、ダイパッド部の半導体圧力センサチップの電極部に
対応する位置には、突起が形成されているので、この部
分の接着層の厚みは薄く、この突起が半導体圧力センサ
チップの受けとなり、半導体圧力センサチップの電極部
とリードフレームのリード部のワイヤボンディングの際
に、エネルギーが吸収されてしまうことがなく、配線不
良が生じることもない。
[Function] According to the above configuration, an adhesive layer having a thickness sufficient to absorb thermal stress can be ensured between the portion of the die pad portion where no protrusion is formed and the semiconductor pressure sensor chip, and the adhesive layer of the semiconductor pressure sensor chip of the die pad portion can be secured. Since a protrusion is formed at a position corresponding to the electrode part of the pressure sensor chip, the thickness of the adhesive layer in this part is thin, and this protrusion serves as a support for the semiconductor pressure sensor chip, and it is connected to the electrode part of the semiconductor pressure sensor chip. Energy is not absorbed during wire bonding of the lead portion of the lead frame, and wiring defects do not occur.

[実施例] 以下、図面によって本発明の実施例について、詳細に説
明する。
[Examples] Examples of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第1図は、本発明の一実施例に適用されるリードフレー
ムlの平面図であり、第2図はその側面図であり、第3
図は第1図の切断面線A−Aから見た拡大断面図である
FIG. 1 is a plan view of a lead frame l applied to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a side view thereof, and FIG.
The figure is an enlarged sectional view taken along the section line A--A in FIG.

これらの図1こおいて、2は半導体圧力センサチップが
装着されるチップ装着部、いわゆる、ダイパッド部、3
はインナーリード、4はタイバー 5は外部リードであ
る。
In FIG. 1, 2 is a chip mounting part where a semiconductor pressure sensor chip is mounted, so-called die pad part; 3
is the inner lead, 4 is the tie bar, and 5 is the outer lead.

このリードフレーム!においては、半導体圧力センサチ
ップが接着されるダイパッド部2には、半導体圧力セン
サチップの電極部の真下に対応する位置に、突起6aが
形成されるとともに、半導体圧力センサを装着した際に
、高さのバランス、すなわち、平行度が保てるような適
当な位置に、突起6bが形成される。
This lead frame! In the die pad section 2 to which the semiconductor pressure sensor chip is attached, a protrusion 6a is formed at a position directly below the electrode section of the semiconductor pressure sensor chip, and when the semiconductor pressure sensor is attached, The protrusion 6b is formed at an appropriate position so that the balance of the length, that is, the parallelism can be maintained.

これらの突起6a 、6bの突出高さは、熱応力を緩和
できるに十分な接着材の層厚に対応した高さに選ばれる
。この実施例では、これらの突起6a、6bは、第3図
に示されるように、プレス成型によって形成される。
The protrusion heights of these protrusions 6a and 6b are selected to correspond to a layer thickness of the adhesive material sufficient to alleviate thermal stress. In this embodiment, these protrusions 6a, 6b are formed by press molding, as shown in FIG.

この実施例の半導体圧力センサの製造方法では、第4図
の平面図および第5図の側面図に示されるように、半導
体圧力センサチップ7は、リードフレーム1のダイパッ
ド部2に半田等の金属やシリコン樹脂等の接着材(グイ
ボンド材)10によって熱応力を緩和できるに十分な層
厚で接着され、さらに、金等の金属細線8によって、半
導体圧力センサチップ7上の接続用電極部9とリードフ
レームlのインナーリード3とをワイヤボンディングす
る。
In the method for manufacturing a semiconductor pressure sensor of this embodiment, as shown in the plan view of FIG. 4 and the side view of FIG. It is bonded to the connecting electrode portion 9 on the semiconductor pressure sensor chip 7 by a thin metal wire 8 such as gold or the like with an adhesive material (Guibond material) 10 such as silicone resin or silicone resin with a layer thickness sufficient to alleviate thermal stress. Wire bonding is performed with the inner leads 3 of the lead frame l.

このようにリードフレームlに突起6a、6bを形成す
ることによって、突起6a 、6b以外の部分には、熱
応力を緩和するに十分な厚みの接着材lOの層が確保さ
れるとともに、ワイヤボンディングされる半導体圧力セ
ンサチップ7の電極部9に相当する部分には、突起6a
が形成されているので、ワイヤボンディングの際のエネ
ルギーが吸収されることもない。
By forming the protrusions 6a and 6b on the lead frame l in this manner, a layer of the adhesive lO having a thickness sufficient to alleviate thermal stress is ensured in areas other than the protrusions 6a and 6b, and a layer of the adhesive lO is secured for wire bonding. The portion corresponding to the electrode portion 9 of the semiconductor pressure sensor chip 7 is provided with a protrusion 6a.
is formed, so energy during wire bonding is not absorbed.

なお、ワイヤボンディングされた後、成形されたケース
等を使用して所定の形状に埋め込み、タイバー4を切断
することによって外部リード5を独立させてセンサが完
成する。
After wire bonding, the sensor is completed by embedding it in a predetermined shape using a molded case and cutting the tie bar 4 to make the external lead 5 independent.

第6図は、本発明の他の実施例に適用されるリードフレ
ームI。の平面図、第7図はその側面図、第8図は第6
図の切断面線A−Aから見た断面図であり、上述の実施
例に対応する部分には、同一の参照符を付す。上述の実
施例では、突起6a。
FIG. 6 shows a lead frame I applied to another embodiment of the present invention. 7 is its side view, and 8th is its 6th plan view.
It is a sectional view taken along the section line A-A in the figure, and parts corresponding to the above-described embodiments are given the same reference numerals. In the embodiment described above, the protrusion 6a.

6bをプレス成型によって形成したけれども、この実施
例では、突起を形成する部分以外のダイパッド部2゜を
エツチングするようにしており、これによって、突起6
ao、6b、)を形成するものである。その他の構成は
、上述の実施例と同様である。
6b is formed by press molding, but in this embodiment, the die pad portion 2° other than the portion where the protrusion is formed is etched.
ao, 6b,). The other configurations are the same as those in the above embodiment.

上述の実施例では、リードフレーム1.ioのダイパッ
ド部2,2゜には、半導体圧力センサチップ7の電極部
9に相当する位置および平行度を保つのに適当な位置に
突起6a 、6b 、6a o、6b oが形成された
けれども、本発明の他の実施例として、平行度が保てる
場合には、電極部9に相当する位置のみに突起6a 、
6a 0を形成してもよい。
In the embodiments described above, the lead frame 1. Protrusions 6a, 6b, 6ao, 6bo were formed on the die pad portions 2, 2° of the io at positions corresponding to the electrode portions 9 of the semiconductor pressure sensor chip 7 and at appropriate positions to maintain parallelism. As another embodiment of the present invention, if parallelism can be maintained, the projections 6a,
6a0 may be formed.

また、裏面受圧形の半導体圧力センサの場合には、ダイ
パッド部2.2oに、気体や液体の導通用の穴が形成さ
れることになるが、この場合にも本発明を適用できるの
は勿論である。
In addition, in the case of a backside pressure receiving type semiconductor pressure sensor, a hole for conducting gas or liquid is formed in the die pad portion 2.2o, but the present invention can of course be applied to this case as well. It is.

[発明の効果コ 以上のように本発明方法によれば、半導体圧力センサチ
ップを、所定の位置に突起が形成されているリードフレ
ームのダイパッド部に接着し、その後、前記電極部とリ
ードフレームとをワイヤボンディングするようにしてい
るので、熱応力を吸収緩和できるに十分な接着層の厚み
を確保できるとともに、ワイヤボンディングの際にエネ
ルギーが逃げて配線を不良を生じることもない。したが
って、シリコン台座を設ける従来例に比べて部品点数を
削減できるととらに、製造工程が簡素化されてコストの
低減を図ることができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the method of the present invention, a semiconductor pressure sensor chip is bonded to a die pad portion of a lead frame in which projections are formed at predetermined positions, and then the electrode portion and the lead frame are bonded together. Since the bonding layer is wire-bonded, it is possible to ensure a sufficient thickness of the adhesive layer to absorb and relieve thermal stress, and there is no possibility that energy will escape during wire-bonding and cause defects in the wiring. Therefore, the number of parts can be reduced compared to the conventional example in which a silicon pedestal is provided, and the manufacturing process can be simplified and costs can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例に適用されるリードフレーム
の平面図、第2図は第1図の側面図、第3図は第1図の
切断面線A−Aから見た拡大断面図、第4図は第1図の
リードフレームに半導体圧力センサチップを取り付けた
状態を示す平面図、第5図は第4図の側面図、第6図は
本発明の他の実施例に適用されるリードフレームの平面
図、第7図は第6図の側面図、第8図は第6図の切断面
線A−Aから見た断面図である。 1.1.・・・リードフレーム、2,2.・・・ダイパ
ッド部、6a 、6b 、6a o、6b o−・・突
起、7・・・半導体圧力センサチップ、9・・・電極部
。 第3図
FIG. 1 is a plan view of a lead frame applied to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a side view of FIG. 4 is a plan view showing the semiconductor pressure sensor chip attached to the lead frame of FIG. 1, FIG. 5 is a side view of FIG. 4, and FIG. 6 is applied to other embodiments of the present invention. 7 is a side view of the lead frame shown in FIG. 6, and FIG. 8 is a sectional view taken along the section line A--A of FIG. 6. 1.1. ...Lead frame, 2,2. ...Die pad part, 6a, 6b, 6a o, 6b o-...Protrusion, 7...Semiconductor pressure sensor chip, 9...Electrode part. Figure 3

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1) 表面側に電極部が形成されている半導体圧力セ
ンサチップの裏面側を、前記電極部に対応する位置およ
び前記半導体圧力センサチップの平行度を保つに適当な
位置に突起が形成されているリードフレームのダイパッ
ド部に、接着材によって接着し、前記半導体圧力センサ
チップの前記電極部と前記リードフレームのリード部と
をワイヤボンディングすることを特徴とする半導体圧力
センサの製造方法。
(1) Protrusions are formed on the back side of the semiconductor pressure sensor chip, which has an electrode part formed on the front side, at a position corresponding to the electrode part and at an appropriate position to maintain the parallelism of the semiconductor pressure sensor chip. A method for manufacturing a semiconductor pressure sensor, characterized in that the electrode part of the semiconductor pressure sensor chip and the lead part of the lead frame are bonded to a die pad part of the lead frame with an adhesive, and wire bonded to the lead part of the lead frame.
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