JPH02212566A - インクジエツト記録方法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明のインクジェット記録方法に関し、特に色相を耐
光性の優れた画像を形成するインクジェット記録方法に
関する。
光性の優れた画像を形成するインクジェット記録方法に
関する。
(従来の技術)
インクジェットによる記録は、材料費が安価であること
、高速記録が可能なこと、記録時の騒音が少ないこと、
カラー記録が容易であることなどの特徴を存し、今後の
発展が期待されている記録法である。反面細いノズルよ
りインクを吐出させるために、ノズル詰りを起しゃすく
信転性に欠ける欠点を持っている。目詰りの原因の一つ
は、インク溶剤の蒸発によるインク中の固型分の析出に
よるものである。現在インクジェット用インクとして、
水と水混和性有機溶剤を溶媒とする水性インクが主とし
て使用されているが、比較的溶媒の蒸発が早くノズル目
詰りが発生しやすい、これを解決するために、インク溶
剤に高沸点の有機溶剤を使用した油性インクの採用によ
り、インク溶剤の蒸発を少なくする方法が考えられる。
、高速記録が可能なこと、記録時の騒音が少ないこと、
カラー記録が容易であることなどの特徴を存し、今後の
発展が期待されている記録法である。反面細いノズルよ
りインクを吐出させるために、ノズル詰りを起しゃすく
信転性に欠ける欠点を持っている。目詰りの原因の一つ
は、インク溶剤の蒸発によるインク中の固型分の析出に
よるものである。現在インクジェット用インクとして、
水と水混和性有機溶剤を溶媒とする水性インクが主とし
て使用されているが、比較的溶媒の蒸発が早くノズル目
詰りが発生しやすい、これを解決するために、インク溶
剤に高沸点の有機溶剤を使用した油性インクの採用によ
り、インク溶剤の蒸発を少なくする方法が考えられる。
油性インクに使用する色素は、有機溶剤に対する溶解性
が高いこと、色相が優れていること、光や熱に安定であ
ること、人体に対する毒性が低いこと、純度が高く安価
に入手できることなどの要件を兼ね備えている必要があ
る。これらの要件を満たす色素を選択することは相当な
困難を伴なうが、特にマゼンタ色相を示す色素は種類が
少なく、良好なマゼンタ色相を見出すことは非常に龍し
い。
が高いこと、色相が優れていること、光や熱に安定であ
ること、人体に対する毒性が低いこと、純度が高く安価
に入手できることなどの要件を兼ね備えている必要があ
る。これらの要件を満たす色素を選択することは相当な
困難を伴なうが、特にマゼンタ色相を示す色素は種類が
少なく、良好なマゼンタ色相を見出すことは非常に龍し
い。
特に色相と耐光性が共に満足のいくマゼンタ色素は見い
だされていなかった。
だされていなかった。
(本発明が解決しようとする!IB)
本発明の目的は前記従来の欠点を解決することにあり、
特に良好な色相および耐光性の優れた画像を形成するの
に適したインクジェット記録法を得ることにある。
特に良好な色相および耐光性の優れた画像を形成するの
に適したインクジェット記録法を得ることにある。
(課題を解決するための手段)
下記一般式口→で表わされる色素を含むインクジェット
用(己録液により記録を行なうことにより前記の欠点が
解決されることが判明し、本発明を成すに至った。
用(己録液により記録を行なうことにより前記の欠点が
解決されることが判明し、本発明を成すに至った。
一般式(I)
式中、R,はイ槌ダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリ
ル基、ベンゾチアゾリル基、イソチアゾリル基、ベンゾ
イソチアゾリル基、ピリドイソチアゾリル基1、チエニ
ル基、またはチアジアゾリル基を表わし、R1はハロゲ
ン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、シアノ基、アシルアミノ基、スルホニル
アミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、ウレイド基
、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニ
ル基、アシル基、アミノ基、水酸基ヲ表わし、R3、R
,は水素原子、アルキル基、アリール基を表わす、R3
とR4は互いに結合して環を形成してもよく、また、R
2とR3および/又はR2とR4が結合して環を形成し
てもよい。nはOまたは1〜3の整数を表わす。
ル基、ベンゾチアゾリル基、イソチアゾリル基、ベンゾ
イソチアゾリル基、ピリドイソチアゾリル基1、チエニ
ル基、またはチアジアゾリル基を表わし、R1はハロゲ
ン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、シアノ基、アシルアミノ基、スルホニル
アミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、ウレイド基
、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニ
ル基、アシル基、アミノ基、水酸基ヲ表わし、R3、R
,は水素原子、アルキル基、アリール基を表わす、R3
とR4は互いに結合して環を形成してもよく、また、R
2とR3および/又はR2とR4が結合して環を形成し
てもよい。nはOまたは1〜3の整数を表わす。
上記の多基の水素原子はさらに他の置換基で置換されて
いてもよい。
いてもよい。
以下に一般式(I)について詳しく説明する。
R,で表わされる基は、適当な置換基〔例えばシアノ、
チオシアノ、二;・口、フルオロ、クロロ、ブロモ、炭
素数1〜6のアルキル(直鎖、分枝、環状のいずれであ
ってもよい、また更にアルコキシ、ハロゲン原子、アリ
ール、ビニル、シアノ、アルコキシカルボニル、アルキ
ルカルボニルオキシ、アシルアミノ、スルホンアミド、
カルバモイル、スルファモイル、アミノ、ヒドロキシ等
の置換基によって置換されてもよい0例えば、メチル、
エチル、イソプロピル、ペンチル、シアノ、メチル、シ
アンエチル、メトキシエチル、クロロエチル、アリル、
ベンジル等、)、炭素数1〜6のアルコキシ(例えば°
メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、メトキソエトキ
シ等、)、炭素数1〜6のアシル(例えばホルミル、ア
セチル、プロピオニル、イソブチリル、ベンゾイル等)
、炭素数1〜6のアルキルチオ(例えばメチルチオ、エ
チルチオ、ペンチルチオ等)、炭素数6〜12のアリー
ルチオ(例えばフェニルチオ等)、炭素数1〜6のアル
キルスルホニル(例えばメチルスルホニル、エチルスル
ホニル、ブチルスルホニル等)、f素1k 6〜12の
了り−ルスルホニル(例えばフェニルスルホニル等)、
炭素数1〜12のカルバモイル(例エバメチルカルバモ
イル、エチルカルバモイル、ブチルカルバモイル、ジメ
チルカルバモイル、フェニルカルバモイル等) 、R素
数1〜12のスルファモイル(例えばメチルスルファモ
イル、エチルスルファモイル、ブチルスルファモイル、
ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等)
、炭素数1〜12のアシルアミノ(ホルミルアミノ、ア
セチルアミノ、ブチリルアミノ、ベンゾイルアミノ等)
、炭素数1−12のスルホニルアミノ (メチルスルホ
ニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニ
ルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等)、炭素数2〜
6のアルコキシカルボニル(メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ペンチル
オキシカルボニル等)、炭素数2〜6のアルキルカルボ
ニルオキシ(メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニ
ルオキシ、ペンチルカルボニルオキシ等)〕により置換
されることができる。
チオシアノ、二;・口、フルオロ、クロロ、ブロモ、炭
素数1〜6のアルキル(直鎖、分枝、環状のいずれであ
ってもよい、また更にアルコキシ、ハロゲン原子、アリ
ール、ビニル、シアノ、アルコキシカルボニル、アルキ
ルカルボニルオキシ、アシルアミノ、スルホンアミド、
カルバモイル、スルファモイル、アミノ、ヒドロキシ等
の置換基によって置換されてもよい0例えば、メチル、
エチル、イソプロピル、ペンチル、シアノ、メチル、シ
アンエチル、メトキシエチル、クロロエチル、アリル、
ベンジル等、)、炭素数1〜6のアルコキシ(例えば°
メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、メトキソエトキ
シ等、)、炭素数1〜6のアシル(例えばホルミル、ア
セチル、プロピオニル、イソブチリル、ベンゾイル等)
、炭素数1〜6のアルキルチオ(例えばメチルチオ、エ
チルチオ、ペンチルチオ等)、炭素数6〜12のアリー
ルチオ(例えばフェニルチオ等)、炭素数1〜6のアル
キルスルホニル(例えばメチルスルホニル、エチルスル
ホニル、ブチルスルホニル等)、f素1k 6〜12の
了り−ルスルホニル(例えばフェニルスルホニル等)、
炭素数1〜12のカルバモイル(例エバメチルカルバモ
イル、エチルカルバモイル、ブチルカルバモイル、ジメ
チルカルバモイル、フェニルカルバモイル等) 、R素
数1〜12のスルファモイル(例えばメチルスルファモ
イル、エチルスルファモイル、ブチルスルファモイル、
ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等)
、炭素数1〜12のアシルアミノ(ホルミルアミノ、ア
セチルアミノ、ブチリルアミノ、ベンゾイルアミノ等)
、炭素数1−12のスルホニルアミノ (メチルスルホ
ニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニ
ルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等)、炭素数2〜
6のアルコキシカルボニル(メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ペンチル
オキシカルボニル等)、炭素数2〜6のアルキルカルボ
ニルオキシ(メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニ
ルオキシ、ペンチルカルボニルオキシ等)〕により置換
されることができる。
特に好ましい置換基はシアノ、チオシアノ、シアノメチ
ル、ニトロおよびメチルである。
ル、ニトロおよびメチルである。
R7で表わされる基の好ましい具体例は以下のとおりで
ある。
ある。
4.5−ジシアノ−イミダゾルー2−イル1−エチル−
4,5−ジシアノ−・イミダゾルー2−イル 1−シアノメチル−4,5−ジシアノ−イミダゾルー2
−イル 1−エチル−3,4−ジシアノ−ピラゾル−5−イル 3−シアノメチル−4−シアノ−ピラゾル−5イ ル 1−シアノメチル−3,4−ジシアノ−ピラゾル−5−
イル 143−ジ(シアノメチル)−4−シアノ−ピラゾル−
5−イル 5−ニトロ−チアゾリル−2−イル 6−ニドロペンゾチアゾルー2−イル 6−クロロ−ベンゾチアゾルー2−イル6−メトキシ−
ベンゾチアゾルー2−イル4.6−ジブロモ−ベンゾチ
アゾルー2−イル6−チオジアツーペンゾチアゾルー2
−イル6−フルオロスルホニル−ベンゾチアゾルー2イ
ル 6−メチルスルホニル−ベンゾチアゾルー2−イル 5.6−および6,7−シクロローペンゾチアゾルー2
−イル 4〜シアノ−イソチアゾルー5−イル 3−メチル−4−シアノ−イソチアゾルー5イル 5〜ニトロ−2,1−ベンゾイソチアゾルー3〜イル 5−ニトロ−7−ブロモ−2,!−ペンツイソチアゾル
ー3−イル ピリド(2,3−c)イソチアゾルー3−イル6−ジア
ツービリド(2,3−c)イソチアゾルー3−イル 6−ニトロ−ピリド(2,3−c)イソチアゾルー3−
イル 5〜メチル−6−ジアツービリド(2,3−c)イソチ
アゾルー3−イル 5−メトキシ−6−シアツーピリド(2,3−C〕イソ
チアゾルー1−イル 3.5−ダニトローチエン−2−イル 3.5−ジシアノ〜チェンー2−イル 3−シアノ−5−二トローチェンー2−イル3−ホルミ
ル−5〜ニトローチェン−2−イル3−カルボキシ−5
−ニトロ−チエソー2−イルR,によって表わされる特
に好ましい基は1−シアノメチル−3,4−ジシアノピ
ラゾル−5−イル;4−シアノイソチアゾルー5−イル
;3−メチル−4−シアノ−イソチアゾルー5−イル;
場合により5および/または6位でシアン、ニトロ、メ
チルおよびメトキシから選択された基によって置換され
た、ピリド(2,3−c)イソチアゾルー3−イル:お
よび3および5位でシアノ、ニトロ、メチルアミノカル
ボニルから選択された1個以上の基によってrIt換さ
れかつ場合により4位でメチルまたはメトキシによって
置換されたチエニー2−イルであるが、その中でも最も
好ましい基は3−メチル−4−シアノ−イソチアゾルー
5−イルである。
4,5−ジシアノ−・イミダゾルー2−イル 1−シアノメチル−4,5−ジシアノ−イミダゾルー2
−イル 1−エチル−3,4−ジシアノ−ピラゾル−5−イル 3−シアノメチル−4−シアノ−ピラゾル−5イ ル 1−シアノメチル−3,4−ジシアノ−ピラゾル−5−
イル 143−ジ(シアノメチル)−4−シアノ−ピラゾル−
5−イル 5−ニトロ−チアゾリル−2−イル 6−ニドロペンゾチアゾルー2−イル 6−クロロ−ベンゾチアゾルー2−イル6−メトキシ−
ベンゾチアゾルー2−イル4.6−ジブロモ−ベンゾチ
アゾルー2−イル6−チオジアツーペンゾチアゾルー2
−イル6−フルオロスルホニル−ベンゾチアゾルー2イ
ル 6−メチルスルホニル−ベンゾチアゾルー2−イル 5.6−および6,7−シクロローペンゾチアゾルー2
−イル 4〜シアノ−イソチアゾルー5−イル 3−メチル−4−シアノ−イソチアゾルー5イル 5〜ニトロ−2,1−ベンゾイソチアゾルー3〜イル 5−ニトロ−7−ブロモ−2,!−ペンツイソチアゾル
ー3−イル ピリド(2,3−c)イソチアゾルー3−イル6−ジア
ツービリド(2,3−c)イソチアゾルー3−イル 6−ニトロ−ピリド(2,3−c)イソチアゾルー3−
イル 5〜メチル−6−ジアツービリド(2,3−c)イソチ
アゾルー3−イル 5−メトキシ−6−シアツーピリド(2,3−C〕イソ
チアゾルー1−イル 3.5−ダニトローチエン−2−イル 3.5−ジシアノ〜チェンー2−イル 3−シアノ−5−二トローチェンー2−イル3−ホルミ
ル−5〜ニトローチェン−2−イル3−カルボキシ−5
−ニトロ−チエソー2−イルR,によって表わされる特
に好ましい基は1−シアノメチル−3,4−ジシアノピ
ラゾル−5−イル;4−シアノイソチアゾルー5−イル
;3−メチル−4−シアノ−イソチアゾルー5−イル;
場合により5および/または6位でシアン、ニトロ、メ
チルおよびメトキシから選択された基によって置換され
た、ピリド(2,3−c)イソチアゾルー3−イル:お
よび3および5位でシアノ、ニトロ、メチルアミノカル
ボニルから選択された1個以上の基によってrIt換さ
れかつ場合により4位でメチルまたはメトキシによって
置換されたチエニー2−イルであるが、その中でも最も
好ましい基は3−メチル−4−シアノ−イソチアゾルー
5−イルである。
R1はハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子
)、アルキル基(炭素数1−12.例えばメチル、エチ
ル、ブチル、イソプロピル、ヒドロキシメチル、ヒドロ
キシエチル、メトキシエチル、シアノエチル、トリフル
オロメチル、ベンジル2、シクロヘキシル等)、アルコ
キシ基(炭素数1〜120例えばメトキシ、エトキシ、
イソプロポキシ、メトキシエトキシ、ヒドロキシエトキ
シ、アリルオキシ、ベンジルオキシ等)、アリール基(
炭素数6〜150例えばフェニル、4−トリル、4−メ
トキシフェニル、4−クロロフェニル、2−メトキシフ
ェニル等)、アリールオキシ基(炭素数6〜15.例え
ばフェノキシ、4−メチルフェノキシ、4−メトキシフ
ェニル、2−メトキシフェニル等)、シアノ基、アシル
アミノ基(炭素数1〜300例えばアセチルアミノ、プ
ロピオニルアミノ、イソブチリルアミノ、トリフルオロ
アセチルアミノ、ヘプタフルオロブチリルアミノ、ヘキ
サハイドロベンゾイルアミノ、4−(t−アミル)フェ
ノキシアセチルアミノ、2.4−ジ(t−アミル)フェ
ノキシアセチルアミノ、4−〔2,4−ジ((−アミル
)フェノキシコブチルアミノ、2− (2,4−ジ(t
−アミル)フェノキシコブチルアミノ、4−ピバロイル
アミノフェノキシアセチルアミノ、シンナモイルアミノ
、クロトニルアミノ、3− (3−ペンタデシルフェノ
キシ)プロピオニルアミノ、ベンゾイルアミノ、4−ト
ルイルアミノ、4−ピバロイルオキシベンゾイルアミノ
、2−アセチルアミノベンゾイルアミノ、4−オクチル
スルホニルアミノベンゾイルアミノ、3− (2−(2
,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルアミノ】ベ
ンゾイルアミノ、3−ミリストイルアミノベンゾイルア
ミノ、2−フランカルボニルアミノ、2−テトラヒドロ
フランカルボニルアミノ、ニコチノイルアミノ、イソニ
コチノイルアミノ、2−チオフェンカルボニルアミノ)
、スルホニルアミノ基(炭素数1〜20゜例えばメチル
スルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、ブチルス
ルホニルアミノ、トリフルオロメチルスルホニルアミノ
、フェニルスルホニルアミノ、4−メチルフェニルスル
ホニルアミノ、4−ドデシルフヱニルスルホニルアミノ
、4−メトキシフェニルスルホニルアミノ、4−オクチ
ルオキシスルホニルアミノ等)、アルコキシカルボニル
アミノ基(炭素数2〜250例えばメトキシカルボニル
アミノ、エトキシカルボニルアミノ、イソプロポキシカ
ルボニルアミノ、オクチルオキシカルボニルアミノ、メ
トキシエトキシカルボニルアミノ、2− (2,4−ジ
ー【−アミルフェノキシ)エトキシカルボニルアミノ、
4−(2,4−ジー【−アミルフェノキシ)ブトキシカ
ルボニルアミノ等)、ウレイド基(炭素数1−10.例
えば3−メチルウレイド、3,3−ジメチルウレイド、
1,3−ジメチルウレイド等)、アルキルチオ基(炭素
数1〜100例えばメチルチオ、ブチルチオ等)、了り
−ルチオ基(炭素数6〜15゜例えばフェニルチオ、p
−トリルチオ等)、アルコキシカルボニル基(炭素数2
〜250例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、
メトキシエトキシカルボニル、2− (2,4−ジー【
−アミルフエノキシ)エトキシカルボニル、4−(2,
4−ジー【−アミルフェノキシ)ブトキシカルボニル等
)、カルバモイル基(炭素数2〜25、例えばメチルカ
ルバモイル、ジメチルカルバモイル、ブチルカルバモイ
ル、オクチルカルバモイル、メトキシエチルカルバモイ
ル、3−(2゜4−ジー【−アミルフェノキシ)プロピ
ルカルバモイル、2−エチルへキシルカルバモイル、フ
ェニルカルバモイル等)、スルファモイル(炭貴B1〜
250例えばメチルスルファモイル、ジエチルスルファ
モイル、ブチルスルファモイル、オクチルスルファモイ
ル、メトキシエチルスルファモイル、3−(2,4−ジ
−t−アミルフェノキシ)プロピルスルファモイル、フ
ェニルスルファモイル等)、スルホニル基(炭素数1〜
100例えばメチルスルホニル、ブチルスルホニル、フ
ェニルスルホニル等)、アシル基(炭素数1〜10.例
えばアセチル、トリフルオロアセチル、ブチリル等)、
アミノ基(炭素数θ〜10.例えばメチルアミン、ジメ
チルアミノ、ブチルアミノ等)、水酸基を表わす。
)、アルキル基(炭素数1−12.例えばメチル、エチ
ル、ブチル、イソプロピル、ヒドロキシメチル、ヒドロ
キシエチル、メトキシエチル、シアノエチル、トリフル
オロメチル、ベンジル2、シクロヘキシル等)、アルコ
キシ基(炭素数1〜120例えばメトキシ、エトキシ、
イソプロポキシ、メトキシエトキシ、ヒドロキシエトキ
シ、アリルオキシ、ベンジルオキシ等)、アリール基(
炭素数6〜150例えばフェニル、4−トリル、4−メ
トキシフェニル、4−クロロフェニル、2−メトキシフ
ェニル等)、アリールオキシ基(炭素数6〜15.例え
ばフェノキシ、4−メチルフェノキシ、4−メトキシフ
ェニル、2−メトキシフェニル等)、シアノ基、アシル
アミノ基(炭素数1〜300例えばアセチルアミノ、プ
ロピオニルアミノ、イソブチリルアミノ、トリフルオロ
アセチルアミノ、ヘプタフルオロブチリルアミノ、ヘキ
サハイドロベンゾイルアミノ、4−(t−アミル)フェ
ノキシアセチルアミノ、2.4−ジ(t−アミル)フェ
ノキシアセチルアミノ、4−〔2,4−ジ((−アミル
)フェノキシコブチルアミノ、2− (2,4−ジ(t
−アミル)フェノキシコブチルアミノ、4−ピバロイル
アミノフェノキシアセチルアミノ、シンナモイルアミノ
、クロトニルアミノ、3− (3−ペンタデシルフェノ
キシ)プロピオニルアミノ、ベンゾイルアミノ、4−ト
ルイルアミノ、4−ピバロイルオキシベンゾイルアミノ
、2−アセチルアミノベンゾイルアミノ、4−オクチル
スルホニルアミノベンゾイルアミノ、3− (2−(2
,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルアミノ】ベ
ンゾイルアミノ、3−ミリストイルアミノベンゾイルア
ミノ、2−フランカルボニルアミノ、2−テトラヒドロ
フランカルボニルアミノ、ニコチノイルアミノ、イソニ
コチノイルアミノ、2−チオフェンカルボニルアミノ)
、スルホニルアミノ基(炭素数1〜20゜例えばメチル
スルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、ブチルス
ルホニルアミノ、トリフルオロメチルスルホニルアミノ
、フェニルスルホニルアミノ、4−メチルフェニルスル
ホニルアミノ、4−ドデシルフヱニルスルホニルアミノ
、4−メトキシフェニルスルホニルアミノ、4−オクチ
ルオキシスルホニルアミノ等)、アルコキシカルボニル
アミノ基(炭素数2〜250例えばメトキシカルボニル
アミノ、エトキシカルボニルアミノ、イソプロポキシカ
ルボニルアミノ、オクチルオキシカルボニルアミノ、メ
トキシエトキシカルボニルアミノ、2− (2,4−ジ
ー【−アミルフェノキシ)エトキシカルボニルアミノ、
4−(2,4−ジー【−アミルフェノキシ)ブトキシカ
ルボニルアミノ等)、ウレイド基(炭素数1−10.例
えば3−メチルウレイド、3,3−ジメチルウレイド、
1,3−ジメチルウレイド等)、アルキルチオ基(炭素
数1〜100例えばメチルチオ、ブチルチオ等)、了り
−ルチオ基(炭素数6〜15゜例えばフェニルチオ、p
−トリルチオ等)、アルコキシカルボニル基(炭素数2
〜250例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、
メトキシエトキシカルボニル、2− (2,4−ジー【
−アミルフエノキシ)エトキシカルボニル、4−(2,
4−ジー【−アミルフェノキシ)ブトキシカルボニル等
)、カルバモイル基(炭素数2〜25、例えばメチルカ
ルバモイル、ジメチルカルバモイル、ブチルカルバモイ
ル、オクチルカルバモイル、メトキシエチルカルバモイ
ル、3−(2゜4−ジー【−アミルフェノキシ)プロピ
ルカルバモイル、2−エチルへキシルカルバモイル、フ
ェニルカルバモイル等)、スルファモイル(炭貴B1〜
250例えばメチルスルファモイル、ジエチルスルファ
モイル、ブチルスルファモイル、オクチルスルファモイ
ル、メトキシエチルスルファモイル、3−(2,4−ジ
−t−アミルフェノキシ)プロピルスルファモイル、フ
ェニルスルファモイル等)、スルホニル基(炭素数1〜
100例えばメチルスルホニル、ブチルスルホニル、フ
ェニルスルホニル等)、アシル基(炭素数1〜10.例
えばアセチル、トリフルオロアセチル、ブチリル等)、
アミノ基(炭素数θ〜10.例えばメチルアミン、ジメ
チルアミノ、ブチルアミノ等)、水酸基を表わす。
これらの中で特に好ましいものはアゾ基のオルト位につ
いたn−1の炭素数2〜25のアシルアミノ基又はメチ
ル基である。
いたn−1の炭素数2〜25のアシルアミノ基又はメチ
ル基である。
Rff、R4は水素原子、アルキル基(炭素数1〜25
0例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、t−ブチル、オクチル、2−エチルヘキシル、
シクロペンチル、シクロヘキシル、ヒドロキシエチル、
シアノエチル、メチルスルボニル、アミノエチル、エチ
ルスルホニルアミノエチル、フェニルスルホニルアミノ
エチル、4−ドデシルフェニルスルホニルアミノエチル
、エトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルエチ
ル、3−(エトキシカルボニル)プロピル、イソブチル
オキシカルボニルエチル、イソアミルオキシカルボニル
エチル、2−エチルへキシルオキシカルボニルエチル、
ステアリルオキシカルボニルエチル、2−(2,4−ジ
−t−アミルフェノキシ)エチルオキシカルボニルエチ
ル、メトキシエチル、エトキシエチル、アリルオキシエ
チル、イソブトキシエチル、ヘキシルオキシエチル、ヘ
キシルオキシエトキシエチル、2,4−ジー(−アミル
フェノキシエチル、4−(4−t−アミルフェノキシ)
ブチル、3− (L−オクチルフェノキシ)プロピル、
3.5.5−)リメチルヘキシル、アセトキシエチル、
プロピオニルオキシエキシ、ピバロイルオキシプロビル
、オクタノイルオキシエチル、ベンゾイルオキシエチル
、2.4−ジ−t−アミルアセトキシエチル、4〜(2
,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルオキシエチ
ル、アリル、クロチル、ゲラニル、シトロネリル、ベン
ジル、2−フェネチル、3−メトキシベンジル、4−ブ
ト牛ジベンジル、4−ドデシルベンジル、4−アセチル
アミノベンジル、4−ピバロイルアミノベンジル、4−
(I0−ウンデセノイルアミノ)ベンジル、4− (2
,4−ジ−t−アミルフェノキシアセチルアミノ)ベン
ジル、4−、(4−(2,4−ジ−t−アミルフェノキ
シ)ブチリルアミノコベンジル、4− (2−(2;
4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルアミノコベ
ンジル、4−トリフルオロアセチルベンジル、4−へブ
タフルオロブチリルアミノベンジル、4−(インバルミ
トイルアミノ)ベンジル、4−(ヘキサハイドロベンゾ
イルアミノ)ベンジル、4−(2−エチルヘキサノイル
アミノ)ベンジル、2−(4−アセチルアミノフェニル
)エチル、2−(4−ブチリルアミノフェニル)エチル
、2−(4−(2−エチルヘキサノイルアミノ)フェニ
ル〕エチル、2− (4−<2.4−ジー仁−アミルフ
ェノキシアセチル)フェニル〕エチル、4−メチルスル
ホニルアミノベンジル、4−へキシルスルホニルアミノ
ベンジル、4−ドデシルスルホニルアミノベンジル、2
− (4−メチルスルファモイルフェニル)エチル、2
− (4−(2−エチルへキシルスルファモイル)フヱ
ニル〕エチル、2− +4− (3−(2,4−ジー【
−アミルフェノキシ)プロピルスルファモイル〕フェノ
キシ)エチル、フルフリル、テトラヒドロフルフリル等
)、アリール基(炭素数6〜250例えばフェニル、4
−トリル等)を表わす。
0例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、t−ブチル、オクチル、2−エチルヘキシル、
シクロペンチル、シクロヘキシル、ヒドロキシエチル、
シアノエチル、メチルスルボニル、アミノエチル、エチ
ルスルホニルアミノエチル、フェニルスルホニルアミノ
エチル、4−ドデシルフェニルスルホニルアミノエチル
、エトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルエチ
ル、3−(エトキシカルボニル)プロピル、イソブチル
オキシカルボニルエチル、イソアミルオキシカルボニル
エチル、2−エチルへキシルオキシカルボニルエチル、
ステアリルオキシカルボニルエチル、2−(2,4−ジ
−t−アミルフェノキシ)エチルオキシカルボニルエチ
ル、メトキシエチル、エトキシエチル、アリルオキシエ
チル、イソブトキシエチル、ヘキシルオキシエチル、ヘ
キシルオキシエトキシエチル、2,4−ジー(−アミル
フェノキシエチル、4−(4−t−アミルフェノキシ)
ブチル、3− (L−オクチルフェノキシ)プロピル、
3.5.5−)リメチルヘキシル、アセトキシエチル、
プロピオニルオキシエキシ、ピバロイルオキシプロビル
、オクタノイルオキシエチル、ベンゾイルオキシエチル
、2.4−ジ−t−アミルアセトキシエチル、4〜(2
,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルオキシエチ
ル、アリル、クロチル、ゲラニル、シトロネリル、ベン
ジル、2−フェネチル、3−メトキシベンジル、4−ブ
ト牛ジベンジル、4−ドデシルベンジル、4−アセチル
アミノベンジル、4−ピバロイルアミノベンジル、4−
(I0−ウンデセノイルアミノ)ベンジル、4− (2
,4−ジ−t−アミルフェノキシアセチルアミノ)ベン
ジル、4−、(4−(2,4−ジ−t−アミルフェノキ
シ)ブチリルアミノコベンジル、4− (2−(2;
4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルアミノコベ
ンジル、4−トリフルオロアセチルベンジル、4−へブ
タフルオロブチリルアミノベンジル、4−(インバルミ
トイルアミノ)ベンジル、4−(ヘキサハイドロベンゾ
イルアミノ)ベンジル、4−(2−エチルヘキサノイル
アミノ)ベンジル、2−(4−アセチルアミノフェニル
)エチル、2−(4−ブチリルアミノフェニル)エチル
、2−(4−(2−エチルヘキサノイルアミノ)フェニ
ル〕エチル、2− (4−<2.4−ジー仁−アミルフ
ェノキシアセチル)フェニル〕エチル、4−メチルスル
ホニルアミノベンジル、4−へキシルスルホニルアミノ
ベンジル、4−ドデシルスルホニルアミノベンジル、2
− (4−メチルスルファモイルフェニル)エチル、2
− (4−(2−エチルへキシルスルファモイル)フヱ
ニル〕エチル、2− +4− (3−(2,4−ジー【
−アミルフェノキシ)プロピルスルファモイル〕フェノ
キシ)エチル、フルフリル、テトラヒドロフルフリル等
)、アリール基(炭素数6〜250例えばフェニル、4
−トリル等)を表わす。
これらの中で特に好ましいものは炭素数2〜30のil
I!換もしくは非置換のアルキル基である。
I!換もしくは非置換のアルキル基である。
またR5とR6が結合して環を形成するもの等)また、
R8とR3および/又はR2とR4がも好ましい例とし
て挙げることができる。
R8とR3および/又はR2とR4がも好ましい例とし
て挙げることができる。
以下に本発明に用いられる一般式(r)で表わされる色
素の具体例を示す、(化合物例1〜40は、一般式(I
)の置換基を具体的に示す形で表わす、)本発明はこれ
らに限定されるものではない。
素の具体例を示す、(化合物例1〜40は、一般式(I
)の置換基を具体的に示す形で表わす、)本発明はこれ
らに限定されるものではない。
本発明に用いる色素はR,−NH!をジアゾ化(Rt)
a 一般的な方法により容易に合成できる。
a 一般的な方法により容易に合成できる。
本発明に使用される記録液の液媒体は、通常の有機溶剤
が所望に応じて適宜選択して使用される。
が所望に応じて適宜選択して使用される。
具体的には、たとえば、エタノール、ペンタノール、ヘ
プタツール、オクタツール、シクロヘキサノール、ベン
ジルアルコール、フェニルエチルアルコール、フェニル
プロピルアルコール、フルフリルアルコール、アニスア
ルコールなどのアルコール類、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエー
テル、ジエチレングリコール千ノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリ
コールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ
フェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル
、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコー
ルモノエチルアセテート、エチレングリコールジアセテ
ート、プロピレングリコールジアセテートなどのグリコ
ール誘1体、ペンジルメチルケ(・ン、ベンジルアセト
ン、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノンなどのケ
トン類、ブチルフェニルエーテル、ベンジルエチルエー
テル、ヘキシルエーテルなどのエーテル類、酢酸エチル
、酢酸アミル、酢酸ベンジル、酢酸フェニルエチル、酢
酸フェノキシエチル、フェニル酢酸エチル、プロピオン
酸ベンジル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル、ラウリ
ン酸エチル、ラウリン酸ブチル、ミリスチン酸イソプロ
ピル、バルミチン酸イソプロピル、リン酸トリエチル、
リン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジプロピル、ジエチル
マロン酸ジエチル、コハク酸ジエチル、コハク酸ジブチ
ル、グルタル酸ジメチル、グルタル酸ジエチル、アジピ
ン酸ジエチル、アジピン酸ジプロピル、アジピン酸ジブ
チル、アジピン酸ジ(2−メトキシエチル)、セバシン
酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル
、マレイン酸ジオクチル、フマル酸ジエチル、フマル酸
ジオクチル、ケイ皮酸3−ヘキセニルなどのエステル類
、石油エーテル、石油ベンジル、テトラリン、デリカン
、t−アミルベンゼン、ジメチルナフタリンなどの炭化
水素系溶剤、アセトニトリル、ホルムアミド、N−N−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン、プロピレンカーボネート、N−メチル−2−ピロ
リドン、N−エチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2
−ピロリドン、N、N−ジエチルドデカンアミドなどの
極性溶媒があげられる。これらの溶剤は単独で使用して
もよいし、2種以上を混合して使用してもよい、溶剤と
してエステル基を2個含存するものが好ましく、溶剤の
沸点は140℃以上のものが特に好ましい。
プタツール、オクタツール、シクロヘキサノール、ベン
ジルアルコール、フェニルエチルアルコール、フェニル
プロピルアルコール、フルフリルアルコール、アニスア
ルコールなどのアルコール類、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエー
テル、ジエチレングリコール千ノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリ
コールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ
フェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル
、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコー
ルモノエチルアセテート、エチレングリコールジアセテ
ート、プロピレングリコールジアセテートなどのグリコ
ール誘1体、ペンジルメチルケ(・ン、ベンジルアセト
ン、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノンなどのケ
トン類、ブチルフェニルエーテル、ベンジルエチルエー
テル、ヘキシルエーテルなどのエーテル類、酢酸エチル
、酢酸アミル、酢酸ベンジル、酢酸フェニルエチル、酢
酸フェノキシエチル、フェニル酢酸エチル、プロピオン
酸ベンジル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル、ラウリ
ン酸エチル、ラウリン酸ブチル、ミリスチン酸イソプロ
ピル、バルミチン酸イソプロピル、リン酸トリエチル、
リン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジプロピル、ジエチル
マロン酸ジエチル、コハク酸ジエチル、コハク酸ジブチ
ル、グルタル酸ジメチル、グルタル酸ジエチル、アジピ
ン酸ジエチル、アジピン酸ジプロピル、アジピン酸ジブ
チル、アジピン酸ジ(2−メトキシエチル)、セバシン
酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル
、マレイン酸ジオクチル、フマル酸ジエチル、フマル酸
ジオクチル、ケイ皮酸3−ヘキセニルなどのエステル類
、石油エーテル、石油ベンジル、テトラリン、デリカン
、t−アミルベンゼン、ジメチルナフタリンなどの炭化
水素系溶剤、アセトニトリル、ホルムアミド、N−N−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン、プロピレンカーボネート、N−メチル−2−ピロ
リドン、N−エチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2
−ピロリドン、N、N−ジエチルドデカンアミドなどの
極性溶媒があげられる。これらの溶剤は単独で使用して
もよいし、2種以上を混合して使用してもよい、溶剤と
してエステル基を2個含存するものが好ましく、溶剤の
沸点は140℃以上のものが特に好ましい。
本発明に使用される記録液には他のマゼンタ色素が所望
に応じて適宜添加されてもよい。
に応じて適宜添加されてもよい。
本発明の記録液には、種々の添加剤が所望に応じて適宜
添加されてもよい、その様な添加剤としては、粘度調整
剤、表面張力調整剤、比抵抗調整剤、皮膜形成剤、紫外
線吸収剤、酸化防止剤、退色防止剤などが挙げられる。
添加されてもよい、その様な添加剤としては、粘度調整
剤、表面張力調整剤、比抵抗調整剤、皮膜形成剤、紫外
線吸収剤、酸化防止剤、退色防止剤などが挙げられる。
退色防止剤として好ましいものの例としては、2−(2
’−ヒドロキシフェニル)−ベンゾトリアゾール類(例
えば、5−クロロ−2−(4’6′−ジーtert−ブ
チルー2′−ヒドロキシ)ベンゾトリアゾール)、ハイ
ドロキノン類およびその誘導体(例えば、2.5−ジー
tert−へキシルハイドロキノン、2.5−ジーte
rt−へキシルハイドロキノン、ジブチルエーテル)、
その他のフェノール類およびその誘導体(例えば ヒンダードアミン類(例えば などが挙げられる。
’−ヒドロキシフェニル)−ベンゾトリアゾール類(例
えば、5−クロロ−2−(4’6′−ジーtert−ブ
チルー2′−ヒドロキシ)ベンゾトリアゾール)、ハイ
ドロキノン類およびその誘導体(例えば、2.5−ジー
tert−へキシルハイドロキノン、2.5−ジーte
rt−へキシルハイドロキノン、ジブチルエーテル)、
その他のフェノール類およびその誘導体(例えば ヒンダードアミン類(例えば などが挙げられる。
フルカラー画像を形成するために、本発明のマゼンタ色
調記録液は、シアン色調およびイエロー色調記録液と共
に用いることができる。また、色調を整えるためさらに
ブラック色調記録液と共に用いることもできる。これら
記録液に使用される色素として、たとえば特願昭61−
2115252などに記録されている色素(モノアゾ、
ポリアゾ、金属錯塩アゾ、ピラゾロンアゾ、アミノピラ
ゾールアゾ、スチルベンアゾ、チアゾールアゾ系の各種
アゾ色調、アントロン、アントラキノン誘導体から成る
アントラキノン色素、インジゴ、チオインジゴ誘導体か
ら成るインジゴイド色素、フタロシアニン色素、ジフェ
ニルメタン、トリフェニルメタン、キサンチン、アクリ
ジン系のカルボニウム色素、アジン、オキサジン、チア
ジン系のキノンイミン色素、ポリメチン、アゾメチン系
のメチン色素、ベンゾキノン及びナフトキノン色素、ナ
フタルイミド色素、ペリノン色素など)のうちシアン色
調、イエロー色調またはブラック色調のものを使用する
ことができるが、特に好ましいものは以下の通りである
。
調記録液は、シアン色調およびイエロー色調記録液と共
に用いることができる。また、色調を整えるためさらに
ブラック色調記録液と共に用いることもできる。これら
記録液に使用される色素として、たとえば特願昭61−
2115252などに記録されている色素(モノアゾ、
ポリアゾ、金属錯塩アゾ、ピラゾロンアゾ、アミノピラ
ゾールアゾ、スチルベンアゾ、チアゾールアゾ系の各種
アゾ色調、アントロン、アントラキノン誘導体から成る
アントラキノン色素、インジゴ、チオインジゴ誘導体か
ら成るインジゴイド色素、フタロシアニン色素、ジフェ
ニルメタン、トリフェニルメタン、キサンチン、アクリ
ジン系のカルボニウム色素、アジン、オキサジン、チア
ジン系のキノンイミン色素、ポリメチン、アゾメチン系
のメチン色素、ベンゾキノン及びナフトキノン色素、ナ
フタルイミド色素、ペリノン色素など)のうちシアン色
調、イエロー色調またはブラック色調のものを使用する
ことができるが、特に好ましいものは以下の通りである
。
シアン色素;特願昭62−17449’7に記載の下記
一般式(n)で表わされるシアン色調金属フタロシアニ
ン色素。
一般式(n)で表わされるシアン色調金属フタロシアニ
ン色素。
一般式(■)
MPc−f−3O1NH−R)。
式中、Mは金属原子を表わし、Pcはフタロシアニン環
を表わし、Rは窒素原子に隣接する炭素原子が第3級で
あるアルキル基を表わし、又、nは1〜4の整数を表わ
す。
を表わし、Rは窒素原子に隣接する炭素原子が第3級で
あるアルキル基を表わし、又、nは1〜4の整数を表わ
す。
および/または特願昭62−172431に記載の下記
一般式(III)で表わされるシアン色調インドアニリ
ン色素。
一般式(III)で表わされるシアン色調インドアニリ
ン色素。
一船式(III)
Rh Rs
式中、R+ 、Rt 、Rsは水素原子、アルキル基、
アルキルオキシ基、アリール基、ハロゲン原子、アシル
アミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルフ
ァモイル基、ウレイド基を表わす。
アルキルオキシ基、アリール基、ハロゲン原子、アシル
アミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルフ
ァモイル基、ウレイド基を表わす。
R8とR1は一緒になって5または6員炭素環又は5ま
たは6員含窒素へテロ環を形成してもよい。
たは6員含窒素へテロ環を形成してもよい。
R1は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン
原子を表わす。
原子を表わす。
Rs 、R,はアルキル基を表わす、R1とR6は一緒
になって含窒素へテロ環を形成してもよい。
になって含窒素へテロ環を形成してもよい。
R1−R1のアルキルは直鎖、分枝、環状いずれでもよ
い、またR1〜R,の水素原子、ハロゲン原子以外各々
の基の水素原子はアルキルオキシ基、アリールオキシ基
、ハロゲン原子、水酸基、アシルアミノ基、カルバモイ
ル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、シアノ基
、スルホニル基、ウレイド基、エステル基、アシル基、
アミノ基、アルキルアミノ基、了り−ルアミノ基により
置換されてもよい。
い、またR1〜R,の水素原子、ハロゲン原子以外各々
の基の水素原子はアルキルオキシ基、アリールオキシ基
、ハロゲン原子、水酸基、アシルアミノ基、カルバモイ
ル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、シアノ基
、スルホニル基、ウレイド基、エステル基、アシル基、
アミノ基、アルキルアミノ基、了り−ルアミノ基により
置換されてもよい。
イエロー色素;特願昭62−172433に記載の下記
一般式(I’V)で表わされる色素。
一般式(I’V)で表わされる色素。
一般式(mV)
一般式(V)
式中、R1は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、了
り−ル基、カルボン酸エステル基又はカルバモイル基を
表わし、R1は水素原子、アルキル基又はアリール基を
表わし、R8はアリール基を表わす、但し、R,、R,
又はR1のいずれにもスルホン酸基を含まないこととす
る。
り−ル基、カルボン酸エステル基又はカルバモイル基を
表わし、R1は水素原子、アルキル基又はアリール基を
表わし、R8はアリール基を表わす、但し、R,、R,
又はR1のいずれにもスルホン酸基を含まないこととす
る。
ブランク色素;特願昭62−172432に記載の一般
式(V)で表わされるブランク色調色素。
式(V)で表わされるブランク色調色素。
式中、Zl−Zllはそれぞれ最低1個の5〜7員の芳
香環又は複素環を完成するのに必要な複数個の原子を表
わす。
香環又は複素環を完成するのに必要な複数個の原子を表
わす。
Z′は最低1個の5〜7員の芳香環又は複素環を表わし
、その際このZ′はアゾ結合に対する結合個所に隣接す
る位置において、(I)キレート比圧として働く窒素原
子を当該核の環内に有するか、さもなければ、(ii)
キレート比圧として働く窒素原子が直接的に結合してい
る炭素原子を当該核の環内に有する。Gは1つの陰電荷
を有する金属キレート化基を表わす、Mは3価の6座間
位金属イオンを表わす。
、その際このZ′はアゾ結合に対する結合個所に隣接す
る位置において、(I)キレート比圧として働く窒素原
子を当該核の環内に有するか、さもなければ、(ii)
キレート比圧として働く窒素原子が直接的に結合してい
る炭素原子を当該核の環内に有する。Gは1つの陰電荷
を有する金属キレート化基を表わす、Mは3価の6座間
位金属イオンを表わす。
本発明に使用される記録液は、溶媒体成分あるいは各種
添加剤が適宜加えられ、所望の物性値に調合されること
によって、種々のインクジェット記録装置に適用される
。
添加剤が適宜加えられ、所望の物性値に調合されること
によって、種々のインクジェット記録装置に適用される
。
本発明に使用される記録液を静電を利用したインクジェ
ット記録装置に適用する場合は、記録液の比抵抗を10
S〜1011Ω・備に調整することが好ましく、101
〜101Ω・備が特に好ましい、また記録液の粘度は1
〜30cpに調整することが好ましく、3〜20C,p
が特に好ましい(25℃測定)。
ット記録装置に適用する場合は、記録液の比抵抗を10
S〜1011Ω・備に調整することが好ましく、101
〜101Ω・備が特に好ましい、また記録液の粘度は1
〜30cpに調整することが好ましく、3〜20C,p
が特に好ましい(25℃測定)。
インク吸収層を形成する物質として、有機高分子微粒子
、無機顔料、熱硬化性樹脂、有機顔料、有機高分子エマ
ルジョン、水溶性有機高分子、紫外線吸収剤、光安定剤
、酸化防止剤、退色防止剤、蛍光染料、塗布助荊などが
挙げられ、これらを目的に応じて適宜使用できる。
、無機顔料、熱硬化性樹脂、有機顔料、有機高分子エマ
ルジョン、水溶性有機高分子、紫外線吸収剤、光安定剤
、酸化防止剤、退色防止剤、蛍光染料、塗布助荊などが
挙げられ、これらを目的に応じて適宜使用できる。
有機高分子微粒子は、使用する記録液の液媒体に少なく
とも一部溶解されるものであり、ビニル樹脂(たとえば
ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合物、塩
化ビニル−塩化ビニリデン共重合物、ポリ酢酸ビニル、
エチレン−酢酸ビニル共重合物)、スチレン樹脂(たと
えばポリスチレン、スチレン−アクリル酸エステル共重
合物、スチレン、ブタジェン共重合物、スチレン−アク
リロニトリル共重合物、スチレン−無水マレイン酸共重
合物)、アクリル樹脂(たとえばポリアクリル酸エステ
ル、メチルメタクリレート、ブタジェン共重合物、ポリ
アクリロニトリル)などが挙げられる。
とも一部溶解されるものであり、ビニル樹脂(たとえば
ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合物、塩
化ビニル−塩化ビニリデン共重合物、ポリ酢酸ビニル、
エチレン−酢酸ビニル共重合物)、スチレン樹脂(たと
えばポリスチレン、スチレン−アクリル酸エステル共重
合物、スチレン、ブタジェン共重合物、スチレン−アク
リロニトリル共重合物、スチレン−無水マレイン酸共重
合物)、アクリル樹脂(たとえばポリアクリル酸エステ
ル、メチルメタクリレート、ブタジェン共重合物、ポリ
アクリロニトリル)などが挙げられる。
有機高分子微粒子は中空粒子、カプセル粒子、2種の有
機高分子のコアーシェル粒子であってもよい、有機高分
子微粒子の粒径は0.2μ〜10μ特に0.4μ〜5μ
が適当である。有機高分子微粒子中に、紫外線吸収剤、
光安定剤、酸化防止剤、蛍光染料などを含有させてもよ
い。
機高分子のコアーシェル粒子であってもよい、有機高分
子微粒子の粒径は0.2μ〜10μ特に0.4μ〜5μ
が適当である。有機高分子微粒子中に、紫外線吸収剤、
光安定剤、酸化防止剤、蛍光染料などを含有させてもよ
い。
無機顔料としてはカオリン、クレー、酸性白土、タルク
、炭酸カルシウム、シリカ、合成ケイ酸アルミニウム、
合成ケイ酸カルシウム、アルミナホワイド、水酸化アル
ミニウム、珪藻土、ゼオライト、硫酸バリウム、酸化亜
鉛、チタンホワイト、リトポンなどが使用できる。熱硬
化性樹脂顔料としては、尿素樹脂微粒子、メラミン樹脂
微粒子、ベンゾグアナミン樹脂微粒子などが使用できる
。
、炭酸カルシウム、シリカ、合成ケイ酸アルミニウム、
合成ケイ酸カルシウム、アルミナホワイド、水酸化アル
ミニウム、珪藻土、ゼオライト、硫酸バリウム、酸化亜
鉛、チタンホワイト、リトポンなどが使用できる。熱硬
化性樹脂顔料としては、尿素樹脂微粒子、メラミン樹脂
微粒子、ベンゾグアナミン樹脂微粒子などが使用できる
。
有機高分子エマルジ5ンとしては、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合物、
ポリスチレン、スチレン−アクリル酸エステル共重合物
、ポリアクリル酸エステル、スチレン−ブタジェン共重
合物、メチルメタクリレート−ブタジェン共重合物、ポ
リアクリロニトリル、ポリエチレン、ポリアミド、ポリ
エステルなどが使用できる。水溶性有機高分子としては
、でんぷん、アルギン酸ソーダ、ゼラチン、カゼイン、
メチルセルロ−ス ース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコ
ール、ポリアクリル酸ソータ、エチレン−無水マレイン
酸共重合物、スチレン−無水マレイン酸共重合物、酢酸
ビニル−無水マレイン酸共重合物、ポリアクリルアミド
、ポリスチレンスルホン酸ソーダ、ポリビニルベンジル
トリメチルアンモニウムクロラド、ポリエチレンイミン
、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルピロリドンなど
が使用できる。
リ塩化ビニリデン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合物、
ポリスチレン、スチレン−アクリル酸エステル共重合物
、ポリアクリル酸エステル、スチレン−ブタジェン共重
合物、メチルメタクリレート−ブタジェン共重合物、ポ
リアクリロニトリル、ポリエチレン、ポリアミド、ポリ
エステルなどが使用できる。水溶性有機高分子としては
、でんぷん、アルギン酸ソーダ、ゼラチン、カゼイン、
メチルセルロ−ス ース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコ
ール、ポリアクリル酸ソータ、エチレン−無水マレイン
酸共重合物、スチレン−無水マレイン酸共重合物、酢酸
ビニル−無水マレイン酸共重合物、ポリアクリルアミド
、ポリスチレンスルホン酸ソーダ、ポリビニルベンジル
トリメチルアンモニウムクロラド、ポリエチレンイミン
、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルピロリドンなど
が使用できる。
インク吸収層を形成する物質中に少なくとも1種の有機
高分子微粒子を含有させることが好ましい。
高分子微粒子を含有させることが好ましい。
インク吸収層の塗布層は、インク吸収層の吸収容量、イ
ンク吐出量に応じて、通常1〜40g/d,特に5〜1
5g/r/が適している。
ンク吐出量に応じて、通常1〜40g/d,特に5〜1
5g/r/が適している。
通常、水または有機溶剤を分散媒として塗布するが、空
気を分散媒として静電塗工を行なうことも可能である。
気を分散媒として静電塗工を行なうことも可能である。
塗布材は、エアーナイフコーター、ブレードコーター、
ロールコータ−、バーコーター、カーテンコーターなど
を使用することができる.目的に応じて、性能の異なる
2種以上の塗布液を多層塗布しても良い.塗布後の乾燥
温度は、有機高分子微粒子が粒子形態を保つ範囲で設定
することが必要である.塗布乾燥後、マシンカレンダー
、グロスカレンダー、スーパーカレンダーなどによって
、インク吸収層表面の平滑化処理を行なっても良い。
ロールコータ−、バーコーター、カーテンコーターなど
を使用することができる.目的に応じて、性能の異なる
2種以上の塗布液を多層塗布しても良い.塗布後の乾燥
温度は、有機高分子微粒子が粒子形態を保つ範囲で設定
することが必要である.塗布乾燥後、マシンカレンダー
、グロスカレンダー、スーパーカレンダーなどによって
、インク吸収層表面の平滑化処理を行なっても良い。
また、エンボシングロールによって、インク吸収層表面
に凹凸をつけることもできる。
に凹凸をつけることもできる。
支持体としては、紙、布、プラスチックフィルム、金属
フィルム、金属板、木板、ガラス板などが使用できる.
紙は木材バルブを主体とするが、合成バルブ、合成繊維
、無機繊維を混合しても良い.紙の添加剤として、ロジ
ン、アルキルケテンダイマー、アルケニルコハク酸など
のサイズ剤、クレー、タルク、炭酸カルシウムなどの填
料、でんぷん、ポリアクリルアミドなどの紙力増強剤、
染料、蛍光染料などを目的に応じて使用する.紙に、で
んぷん、ポリビニルアルコール、スチレン−無水マレイ
ン酸共重金物などのサイズプレス塗布を行なっても良い
。
フィルム、金属板、木板、ガラス板などが使用できる.
紙は木材バルブを主体とするが、合成バルブ、合成繊維
、無機繊維を混合しても良い.紙の添加剤として、ロジ
ン、アルキルケテンダイマー、アルケニルコハク酸など
のサイズ剤、クレー、タルク、炭酸カルシウムなどの填
料、でんぷん、ポリアクリルアミドなどの紙力増強剤、
染料、蛍光染料などを目的に応じて使用する.紙に、で
んぷん、ポリビニルアルコール、スチレン−無水マレイ
ン酸共重金物などのサイズプレス塗布を行なっても良い
。
本発明を以下の実施例にて更に具体的に説明する。
実施例1
市販束コート原紙(坪量64g/n()に、スチレン−
アクリル酸エステル共重合物の中空微粒子(粒子径0.
3〜0.4μ)43部(Iifl型分重量分重量比同じ
)気相法無水シリカ(粒子径12mμ)17部、スチレ
ン−ブタジェン共重合物ラテックス12部、ポリ酢酸ビ
ニルラテックス18部、ポリメチルメタクリレート微粒
子(粒子径約8μ)10部よりなる塗布液を、固型分量
がlOg/rrrとなるようにワイヤーバーを使用して
塗布しインクジェット記録用紙−1を調製した。
アクリル酸エステル共重合物の中空微粒子(粒子径0.
3〜0.4μ)43部(Iifl型分重量分重量比同じ
)気相法無水シリカ(粒子径12mμ)17部、スチレ
ン−ブタジェン共重合物ラテックス12部、ポリ酢酸ビ
ニルラテックス18部、ポリメチルメタクリレート微粒
子(粒子径約8μ)10部よりなる塗布液を、固型分量
がlOg/rrrとなるようにワイヤーバーを使用して
塗布しインクジェット記録用紙−1を調製した。
この記録用紙に、下記成分より作られたインク液を、ノ
ズル孔径50μのヘッドを設置した静電加速型インクジ
ェット装置を用いて、ドツト本数8本/−にてインクジ
ェット記録を行なった。
ズル孔径50μのヘッドを設置した静電加速型インクジ
ェット装置を用いて、ドツト本数8本/−にてインクジ
ェット記録を行なった。
このインク液の比抵抗は3.6X10’Ω・国(25℃
)、粘度は”1.lcp (25℃)であった、このイ
ンク液の吐出性は良好であり、鮮明で濃度の高いマゼン
タ画像が得られた。
)、粘度は”1.lcp (25℃)であった、このイ
ンク液の吐出性は良好であり、鮮明で濃度の高いマゼン
タ画像が得られた。
この画像を室内光に3ケ月放置しておいた後の濃度低下
率は工%以下であった。このインクで印写した紙を水中
にlO分間浸しても画像のニジミや流れは認められなか
った。
率は工%以下であった。このインクで印写した紙を水中
にlO分間浸しても画像のニジミや流れは認められなか
った。
実施例2
下記の組成からなるインク液B−8を調製した。
〔インク液C〕
〔インク液D〕
これらの各インク液を実施例−1と同様にインフジエラ
I・記録用紙に印写した。インク液B−Dともに良好な
吐出性を示し、それぞれ鮮明なマゼンタ画像が得られた
。これらの画像を室内光に3ケ月放買しておいた後の濃
度低下率は1%以下であった。これらのインクで印写し
た紙を水中に10分間浸しても画像のニジミや流れは認
められなかった。
I・記録用紙に印写した。インク液B−Dともに良好な
吐出性を示し、それぞれ鮮明なマゼンタ画像が得られた
。これらの画像を室内光に3ケ月放買しておいた後の濃
度低下率は1%以下であった。これらのインクで印写し
た紙を水中に10分間浸しても画像のニジミや流れは認
められなかった。
実施例3
実施例1と同じ原紙に、ポリスチレン微粒子(ダウケミ
カル製PLASTICPIGMENT722) 50部
(固型分重量比、以下同じ)湿式法シリカ(平均粒径2
.7μ)15部、ポリメチルメタクリレート徽粒子(粒
径8μ)10部、ポリ酢酸ビニルラテックス25部より
なる塗布液を、固型分量がLog/n?となるようにワ
イヤーバーを使用して塗布し、インクジェット記録用紙
−2を調製した。
カル製PLASTICPIGMENT722) 50部
(固型分重量比、以下同じ)湿式法シリカ(平均粒径2
.7μ)15部、ポリメチルメタクリレート徽粒子(粒
径8μ)10部、ポリ酢酸ビニルラテックス25部より
なる塗布液を、固型分量がLog/n?となるようにワ
イヤーバーを使用して塗布し、インクジェット記録用紙
−2を調製した。
この記録用紙に、下記成分より作られたインク液を用い
て実施例1と同様にインクジェット記録を行なった。
て実施例1と同様にインクジェット記録を行なった。
一ルからなり、重量比で75 : 25の割合で含有し
ている塗布層を設けたインクジェット記録用紙に実施例
1と同様にして印写した。但し、インク液は下記組成の
もとを用いた。
ている塗布層を設けたインクジェット記録用紙に実施例
1と同様にして印写した。但し、インク液は下記組成の
もとを用いた。
このインク液の比抵抗は3.2X10’ Ω・備(25
℃)、粘度は?、4cp (25℃)であった。
℃)、粘度は?、4cp (25℃)であった。
このインク液の吐出性は良好であり、鮮明で濃度の高い
マゼンタ画像が得られた。この画像を3ケ月放置してお
いた後の濃度低下率は1%以下であった。
マゼンタ画像が得られた。この画像を3ケ月放置してお
いた後の濃度低下率は1%以下であった。
実施例4
主として酸化ケイ素微粒子とポリビニルアルコこのイン
ク液の比抵抗は3.TX10’Ω・CI(25℃)、粘
度は7,2cp (25°C)であった、このインク液
の吐出性は良好であり、鮮明で濃度の高いマゼンタ画像
が得られた。この画像を室内光に3ケ月放置しておいた
後の濃度低下率は3%以下であった。
ク液の比抵抗は3.TX10’Ω・CI(25℃)、粘
度は7,2cp (25°C)であった、このインク液
の吐出性は良好であり、鮮明で濃度の高いマゼンタ画像
が得られた。この画像を室内光に3ケ月放置しておいた
後の濃度低下率は3%以下であった。
実施例5
下記の組成よりなるインク液G−1を調製した。
〔インク液H〕
やかなシアン、イエローおよびマゼンタ画像を形成し、
また2種のインクが同等に重なった部分は、鮮やかな緑
、赤および青の画像を形成した。またこれらの中間色の
色再現も満足すべきものであった。インク液(I)を単
独で印写した部分は濃度の高いブラック画像を形成し、
このインク液と上記のインク液が重なった部分は「黒の
しまり」が良好なカラー画像を形成した。
また2種のインクが同等に重なった部分は、鮮やかな緑
、赤および青の画像を形成した。またこれらの中間色の
色再現も満足すべきものであった。インク液(I)を単
独で印写した部分は濃度の高いブラック画像を形成し、
このインク液と上記のインク液が重なった部分は「黒の
しまり」が良好なカラー画像を形成した。
これらの各インク液を実施例1のインク液と共に、実施
例1で用いたと同じ静電加速型インクジェット装置に設
置し、インクジェット記録紙に印写した。インク液(G
)、(H)および実施例1のインク液を単独で印写した
部分は、それぞれ鮮7N、 CglJs C!l4NH3OtC1ls1゜ 2゜ 3゜ 事件の表示 発明の名称 補正をする者 平成 年譜 顆第5ixPy号 インクジェット記録方法 事件との関係
例1で用いたと同じ静電加速型インクジェット装置に設
置し、インクジェット記録紙に印写した。インク液(G
)、(H)および実施例1のインク液を単独で印写した
部分は、それぞれ鮮7N、 CglJs C!l4NH3OtC1ls1゜ 2゜ 3゜ 事件の表示 発明の名称 補正をする者 平成 年譜 顆第5ixPy号 インクジェット記録方法 事件との関係
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 記録液を液滴状に噴射して記録するインクジェット記録
方法において、下記一般式( I )で表わされる色素を
含むインクジェット用記録液により記録を行なうことを
特徴とするインクジェット記録方法。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R_1はイミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾ
リル基、ベンゾチアゾリル基、イソチアゾリル基、ベン
ゾイソチアゾリル基、ピリドイソチアゾリル基、、チエ
ニル基、またはチアジアゾリル基を表わし、R_2はハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、
アリールオキシ基、シアノ基、アシルアミノ基、スルホ
ニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、ウレイ
ド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スル
ホニル基、アシル基、アミノ基、水酸基を表わし、R_
3、R_4は水素原子、アルキル基、アリール基を表わ
す、R_3とR_4は互いに結合して環を形成してもよ
く、また、R_2とR_3および/又はR_2とR_4
が結合して環を形成してもよい。nは0または1〜3の
整数を表わす。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1031599A JPH02212566A (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | インクジエツト記録方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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- 1989-02-10 JP JP1031599A patent/JPH02212566A/ja active Pending
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