JPH0221074A - 気密防振接続機構 - Google Patents
気密防振接続機構Info
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- JPH0221074A JPH0221074A JP63167649A JP16764988A JPH0221074A JP H0221074 A JPH0221074 A JP H0221074A JP 63167649 A JP63167649 A JP 63167649A JP 16764988 A JP16764988 A JP 16764988A JP H0221074 A JPH0221074 A JP H0221074A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
気密性と防振性を兼ね備えて機械部品間に接続する接続
機構に関し、 防振性の向上を目的とし、 振動発生部に設けられた磁性体の円環状突起と、振動発
生部に接続される部分に設けられ前記円環状突起が水平
方向及び上下方向に充分移動できる間隙をもって挿入さ
れ且つシール用の磁性流体が収容される円環状の溝を有
する非磁性部材と、該非磁性部材の底部に埋め込まれた
円環部を有し、電磁石を用いて前記円環状突起と共に磁
路を形成する磁性部材と、前記非磁性部材の溝の内側に
設けられた永久磁石とを具備して構成する。
機構に関し、 防振性の向上を目的とし、 振動発生部に設けられた磁性体の円環状突起と、振動発
生部に接続される部分に設けられ前記円環状突起が水平
方向及び上下方向に充分移動できる間隙をもって挿入さ
れ且つシール用の磁性流体が収容される円環状の溝を有
する非磁性部材と、該非磁性部材の底部に埋め込まれた
円環部を有し、電磁石を用いて前記円環状突起と共に磁
路を形成する磁性部材と、前記非磁性部材の溝の内側に
設けられた永久磁石とを具備して構成する。
本発明は気密性と防振性を兼ね備えて機械部品間を接続
する接続機構に関する。
する接続機構に関する。
近年、例えば半導体装置の製造時に用いられるＸ線露光
装置においては、パターン寸法の微細化に伴い、マスク
及びウェハーを支持するステージ部の低振動化が要求さ
れている。このため特に回転陽極Ｘ線源を用いる露光装
置では、回転陽極Ｘ線源からの振動がステージ部に伝わ
らないようにする必要がある。
装置においては、パターン寸法の微細化に伴い、マスク
及びウェハーを支持するステージ部の低振動化が要求さ
れている。このため特に回転陽極Ｘ線源を用いる露光装
置では、回転陽極Ｘ線源からの振動がステージ部に伝わ
らないようにする必要がある。
従来の回転陽極Ｘ線源を用いたｘｍ露光装置は、第４図
に示すように支持板１に支持された回転陽極Ｘ線源２と
、ステージ部３とよりなり、該ステージ部は防振台４と
その上に載置されたＸＹ子テーブル、チャック６、ウェ
ハー７、マスク８等が搭載されている。またＸ線源２の
Ｘ線取り出し口２ａとマスク８との間には空気によるＸ
線の減衰を避けるため、Ｘ線吸収の少ないＨｅ等のガス
を満した筒９が設けられている。そしてこの筒９はＸ線
源２からマスク８に振動が伝わらない様にゴム又は金属
ベローで作成し気密と防振を兼ねさせている。
に示すように支持板１に支持された回転陽極Ｘ線源２と
、ステージ部３とよりなり、該ステージ部は防振台４と
その上に載置されたＸＹ子テーブル、チャック６、ウェ
ハー７、マスク８等が搭載されている。またＸ線源２の
Ｘ線取り出し口２ａとマスク８との間には空気によるＸ
線の減衰を避けるため、Ｘ線吸収の少ないＨｅ等のガス
を満した筒９が設けられている。そしてこの筒９はＸ線
源２からマスク８に振動が伝わらない様にゴム又は金属
ベローで作成し気密と防振を兼ねさせている。
上記従来の回転陽極Ｘ線源を用いたＸＩｌ露光装置では
、大強度のＸ線の発生が可能であるが、筒９が充分な柔
軟性に欠けるため、マスク８に振動が伝わり、微細パタ
ーンの高精度での転写が困難であるという問題があった
。
、大強度のＸ線の発生が可能であるが、筒９が充分な柔
軟性に欠けるため、マスク８に振動が伝わり、微細パタ
ーンの高精度での転写が困難であるという問題があった
。
本発明は、気密性及び防振性が共に良好な気密防振接続
機構を提供することを目的とする。
機構を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の気密防振接続機構
は、防振発生部１０に設けられた磁性体の円環状突起２
１と、振動発生部に接続される部分１３に設けられ前記
円環状突起２１が水平方向及び上下方向に充分移動でき
る間隙をもって挿入され且つシール用の磁性流体２２が
収容される円環状の溝を有する非磁性部材２３と、該非
磁性部材の底部に埋め込まれた円環部を有し、電磁石２
４を用いて前記円環状突起２１と共に磁路を形成する磁
性部材２６と、前記非磁性部材２３の溝の内側に設けら
れた永久磁石２５とを具備して構成された気密防振接続
機構である。
は、防振発生部１０に設けられた磁性体の円環状突起２
１と、振動発生部に接続される部分１３に設けられ前記
円環状突起２１が水平方向及び上下方向に充分移動でき
る間隙をもって挿入され且つシール用の磁性流体２２が
収容される円環状の溝を有する非磁性部材２３と、該非
磁性部材の底部に埋め込まれた円環部を有し、電磁石２
４を用いて前記円環状突起２１と共に磁路を形成する磁
性部材２６と、前記非磁性部材２３の溝の内側に設けら
れた永久磁石２５とを具備して構成された気密防振接続
機構である。
振動発生部１０と、それに接続される部分１３との接続
時には、電磁石２４を励磁することにより振動発生部１
０に設けられた円環状突起２１と、振動発生部に接続さ
れる部分１３に設けられた磁性部材２６とに磁路が形成
され、円環状突起２１の先端と磁性部材２６の円環状部
分との間に磁性流体２２が集まり円環状の層となり、そ
の内側空間を気密に保持する。また磁性流体２２の層は
流体であるので外力によって容易に変形することができ
るので振動発生部１０の振動はそれに接続される部分１
３には伝わらず良好な防振性が得られる。また振動発生
部１０とそれに接続される部分１３との非接続時には永
久磁石２５が磁性流体２２を吸着保持するので非磁性部
材２３が溝からこぼれ出ることはない。
時には、電磁石２４を励磁することにより振動発生部１
０に設けられた円環状突起２１と、振動発生部に接続さ
れる部分１３に設けられた磁性部材２６とに磁路が形成
され、円環状突起２１の先端と磁性部材２６の円環状部
分との間に磁性流体２２が集まり円環状の層となり、そ
の内側空間を気密に保持する。また磁性流体２２の層は
流体であるので外力によって容易に変形することができ
るので振動発生部１０の振動はそれに接続される部分１
３には伝わらず良好な防振性が得られる。また振動発生
部１０とそれに接続される部分１３との非接続時には永
久磁石２５が磁性流体２２を吸着保持するので非磁性部
材２３が溝からこぼれ出ることはない。
第１図及び第２図は本発明の詳細な説明するための図で
あり、第１図は回転陽極Ｘ線源を用いたＸ線露光装置に
本発明を用いた場合を示す図、第２図は要部拡大図で第
２図（ａ）は断面図、（ｂ）は斜視図である。
あり、第１図は回転陽極Ｘ線源を用いたＸ線露光装置に
本発明を用いた場合を示す図、第２図は要部拡大図で第
２図（ａ）は断面図、（ｂ）は斜視図である。
第１図のＸ線露光装置において、１０は振動発生部であ
り、回転陽極Ｘ線源１１とそれを支持する支持部１２と
よりなる。１３は振動発生部に接続される部分であり、
防振台１４と、その上に設けられたＸＹテーブル１５と
、ウェハー１７を固定するチャック１６と、マスク１８
等を具備している。２０は振動発生部１０とそれに接続
される部分１３とを気密に接続する接続部であり、振動
発生部１０に設けられた円環状の突起２１と、振動発生
部に接続される部分１３に設けられた磁性流体２２を収
容する非磁性部材２３と、電磁石２４を有する円環状の
磁性部材２６と、前記非磁性部材２３の溝に設けられた
永久磁石２５とを具備しており、Ｘ線取り出し口１１ａ
とマスク１８との間の空間を気密に保持することができ
るようになっている。
り、回転陽極Ｘ線源１１とそれを支持する支持部１２と
よりなる。１３は振動発生部に接続される部分であり、
防振台１４と、その上に設けられたＸＹテーブル１５と
、ウェハー１７を固定するチャック１６と、マスク１８
等を具備している。２０は振動発生部１０とそれに接続
される部分１３とを気密に接続する接続部であり、振動
発生部１０に設けられた円環状の突起２１と、振動発生
部に接続される部分１３に設けられた磁性流体２２を収
容する非磁性部材２３と、電磁石２４を有する円環状の
磁性部材２６と、前記非磁性部材２３の溝に設けられた
永久磁石２５とを具備しており、Ｘ線取り出し口１１ａ
とマスク１８との間の空間を気密に保持することができ
るようになっている。
さらに第２図により接続部２０の詳細を説明する。
第２図（ａ）において、１０は振動発生部、１３は振動
発生部に接続される部分であり、２０が接続部である。
発生部に接続される部分であり、２０が接続部である。
該接続部２０は、振動発生部１０に設けられた円環状の
突起２１と、振動発生部に接続される部分１３に設けら
れた円環状の溝を有する非磁性部材２３と、その底部に
埋設された円環状の磁性部材２６とよりなり、前記円環
状の突起２１は純鉄又はパーマロイ等の高透磁率材料で
形成され第２図（ｂ）に示すように磁路となる棒状部２
１ａを有している。また非磁性部材２３は前Ｅ円環状突
起２１の先端が水平方向及び上下方向に充分移動できる
ような間隙をもって挿入され且つ磁性流体２２を収容す
る円環状の溝２３ａを有しており、その溝の一方の側の
壁には永久磁石２５が設けられている。また磁性部材２
６は、前記非磁性部材２３の底部に埋め込まれた円環状
部分に磁路となる棒状部２６ａを有し、その端部に電磁
石２４が設けられている。
突起２１と、振動発生部に接続される部分１３に設けら
れた円環状の溝を有する非磁性部材２３と、その底部に
埋設された円環状の磁性部材２６とよりなり、前記円環
状の突起２１は純鉄又はパーマロイ等の高透磁率材料で
形成され第２図（ｂ）に示すように磁路となる棒状部２
１ａを有している。また非磁性部材２３は前Ｅ円環状突
起２１の先端が水平方向及び上下方向に充分移動できる
ような間隙をもって挿入され且つ磁性流体２２を収容す
る円環状の溝２３ａを有しており、その溝の一方の側の
壁には永久磁石２５が設けられている。また磁性部材２
６は、前記非磁性部材２３の底部に埋め込まれた円環状
部分に磁路となる棒状部２６ａを有し、その端部に電磁
石２４が設けられている。
このように構成された本実施例の作用を第３図により説
明する。なお同図は第２図のＡ部を拡大して示した図で
ある。
明する。なお同図は第２図のＡ部を拡大して示した図で
ある。
第３図（ａ）は電磁石２４を励磁して振動発生部１０と
、それに接続される部分１３を接続する場合であり、電
磁石２４により、円環状の突起２１と磁性部材２６とに
磁路が形成され、それにより磁性流体２２は円環状の突
起２１の先端と磁性部材２６との間のギャップに集り両
者を橋絡する。これによりＸ線取り出し口とマスクの間
の空間を外部に対し気密に保持する。この場合磁性流体
２２は流体であるので外力に対して容易に変形すること
ができるため振動発生部１０の振動を接続される部分１
３に伝えることがない。
、それに接続される部分１３を接続する場合であり、電
磁石２４により、円環状の突起２１と磁性部材２６とに
磁路が形成され、それにより磁性流体２２は円環状の突
起２１の先端と磁性部材２６との間のギャップに集り両
者を橋絡する。これによりＸ線取り出し口とマスクの間
の空間を外部に対し気密に保持する。この場合磁性流体
２２は流体であるので外力に対して容易に変形すること
ができるため振動発生部１０の振動を接続される部分１
３に伝えることがない。
第３図（ｂ）は電磁石２４の励磁を止めた場合である。
この場合は円環状の突起２１と磁性部材２６との間には
磁路が形成されないため、磁性流体２２は非磁性部材２
３の溝側面に設けられた永久磁石２５に吸着保持される
。これにより振動発生部１０と、それに接続される部分
１３とを切放しても磁性流体２２が溝から流れ出すこと
はない。
磁路が形成されないため、磁性流体２２は非磁性部材２
３の溝側面に設けられた永久磁石２５に吸着保持される
。これにより振動発生部１０と、それに接続される部分
１３とを切放しても磁性流体２２が溝から流れ出すこと
はない。
以上説明した様に、本発明によれば、振動発生部と、そ
れに接続される部分の接続に磁性流体を用いているため
充分な気密性と防振性をもって接続でき、且つ簡単に分
離することも可能な気密防振接続機構を提供することが
できる。
れに接続される部分の接続に磁性流体を用いているため
充分な気密性と防振性をもって接続でき、且つ簡単に分
離することも可能な気密防振接続機構を提供することが
できる。
第１図及び第２図は本発明の詳細な説明するための図、
第３図は本発明の実施例の作用を説明するための図、
第４図は従来の回転陽極Ｘ線源を用いたＸ線露光装置を
示す図である。 図において、 １０は振動発生部、 １３は振動発生部に接続される部分、 ２０は接続部、 ２１は円環状の突起、 ２２は磁性流体、 ２３は非磁性部材、 ２４は電磁石、 ２５は永久磁石、 ２６は磁性部材 を示す。
示す図である。 図において、 １０は振動発生部、 １３は振動発生部に接続される部分、 ２０は接続部、 ２１は円環状の突起、 ２２は磁性流体、 ２３は非磁性部材、 ２４は電磁石、 ２５は永久磁石、 ２６は磁性部材 を示す。
Claims (1)
- １、振動発生部（１０）に設けられた磁性体の円環状突
起（２１）と、振動発生部に接続された部分（１３）に
設けられ前記円環状突起（２１）が水平方向及び上下方
向に充分に移動できる間隙をもって挿入され且つシール
用の磁性流体（２２）が収容される円環状の溝を有する
非磁性部材（２３）と、該非磁性部材（２３）の底部に
埋め込まれた円環部を有し電磁石（２４）を用いて前記
円環状突起（２１）と共に磁路を形成する磁性部材（２
６）と、前記非磁性部材（２３）の溝の内側に設けられ
た永久磁石（２５）とを具備して構成されたことを特徴
とする気密防振接続機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63167649A JPH0221074A (ja) | 1988-07-07 | 1988-07-07 | 気密防振接続機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63167649A JPH0221074A (ja) | 1988-07-07 | 1988-07-07 | 気密防振接続機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0221074A true JPH0221074A (ja) | 1990-01-24 |
Family
ID=15853680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63167649A Pending JPH0221074A (ja) | 1988-07-07 | 1988-07-07 | 気密防振接続機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0221074A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05234842A (ja) * | 1992-02-21 | 1993-09-10 | Canon Inc | 半導体製造装置 |
| WO2004081999A1 (ja) * | 2003-03-12 | 2004-09-23 | Nikon Corporation | 光学装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
| JP2012149676A (ja) * | 2011-01-18 | 2012-08-09 | Canon Inc | ベローズ機構 |
-
1988
- 1988-07-07 JP JP63167649A patent/JPH0221074A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05234842A (ja) * | 1992-02-21 | 1993-09-10 | Canon Inc | 半導体製造装置 |
| WO2004081999A1 (ja) * | 2003-03-12 | 2004-09-23 | Nikon Corporation | 光学装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
| JP2012149676A (ja) * | 2011-01-18 | 2012-08-09 | Canon Inc | ベローズ機構 |
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