JPH0220824Y2 - - Google Patents
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- JPH0220824Y2 JPH0220824Y2 JP13375886U JP13375886U JPH0220824Y2 JP H0220824 Y2 JPH0220824 Y2 JP H0220824Y2 JP 13375886 U JP13375886 U JP 13375886U JP 13375886 U JP13375886 U JP 13375886U JP H0220824 Y2 JPH0220824 Y2 JP H0220824Y2
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Description
【考案の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この考案は、汚染された処理室周辺を簡単に保
守及び清掃することができる構成を備えた光処理
装置に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an optical processing apparatus having a configuration that allows easy maintenance and cleaning of the area around a contaminated processing chamber.
[従来の技術]
光処理装置の具体例として、紫外線照射による
レジスト処理装置について以下に説明する。[Prior Art] As a specific example of a photoprocessing device, a resist processing device using ultraviolet irradiation will be described below.
シリコン、その他半導体のウエハ表面にはフオ
トレジスト膜(以下レジストという)が設けられ
(場合によつてはウエハ裏面にも不所望のレジス
トが付着している)、種々の処理がなされるもの
があるが、このレジスト膜表面に塗布されたレジ
ストを処理する装置がある。 A photoresist film (hereinafter referred to as "resist") is provided on the surface of silicon and other semiconductor wafers (in some cases, undesired resist is also attached to the back surface of the wafer), and various treatments are applied to the wafer. However, there is an apparatus that processes the resist coated on the surface of the resist film.
第2図は従来の紫外線照射によるレジスト処理
装置(以下紫外線処理装置という)の一例を示す
概略図で、1は処理室、2は処理台、3はウエハ
を搬送する出入口、20は紫外線照射をする光照
射器、21は光源としてのランプ、22はこのラ
ンプ21の背後に配置され、ランプ21の光を処
理台に集光させるためのミラー、23は光照射器
20の底面、24はランプ1を冷却するためのブ
ロワ、25は光照射器20に固定された紫外線透
過ガラスである光透過板、26はブロワ24によ
つて空気を吸引する風洞、27は光照射器20と
処理室1の間に介在するパツキングである。 FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a conventional resist processing apparatus using ultraviolet irradiation (hereinafter referred to as ultraviolet irradiation apparatus), in which 1 is a processing chamber, 2 is a processing table, 3 is an entrance for transporting wafers, and 20 is a resist processing apparatus for ultraviolet irradiation. 21 is a lamp as a light source; 22 is a mirror placed behind the lamp 21 to focus the light from the lamp 21 onto the processing table; 23 is the bottom of the light irradiator 20; 24 is a lamp. 25 is a light transmitting plate made of ultraviolet transmitting glass fixed to the light irradiator 20; 26 is a wind tunnel for sucking air by the blower 24; 27 is the light irradiator 20 and the processing chamber 1; This is packing that intervenes between the two.
いま、出入口3から搬送ラインに沿つて処理室
1に搬入されたウエハを処理台2に載置して紫外
線照射処理を行う。この紫外線照射によつてレジ
スト処理することにより、処理台2及び光透過板
25の表面は、レジスト膜から発生した蒸発物が
付着して汚染される。この汚染物が光透過板25
の表面に付着したのを放置すると光の透過率が減
少して光照射による処理機能を低下させてしま
う。また、処理台2が汚れたままであると処理す
るウエハを汚染する怖れがある。 Now, the wafer carried into the processing chamber 1 from the entrance/exit 3 along the transfer line is placed on the processing table 2 and subjected to ultraviolet irradiation processing. By processing the resist using this ultraviolet irradiation, the surfaces of the processing table 2 and the light transmitting plate 25 are contaminated by adhesion of evaporated matter generated from the resist film. This contaminant is on the light transmitting plate 25.
If it is left attached to the surface, the light transmittance will decrease and the processing function by light irradiation will be degraded. Furthermore, if the processing table 2 remains dirty, there is a risk of contaminating the wafers being processed.
そこで、この紫外線処理装置全体を分解するこ
とによつて処理台や、光透過板を払拭する必要が
生じてくる。この払拭の回数は少くとも1日1回
程度は必要である。 Therefore, it becomes necessary to disassemble the entire ultraviolet treatment device to wipe the treatment table and light transmitting plate. This wiping must be done at least once a day.
[考案が解決しようとする問題点]
従来の紫外線処理装置は光透過板が照射器20
に固定された構成のものであるが、この光透過板
や処理台を清掃したり、もしくは処理室内部の保
守点検等を行う場合に、その都度、ブロワを収納
した光照射器と処理室を移動させたり、ネジその
他の取付部品を取はずすことによつて分解しなけ
ればならず、手間と時間のかかる作業であつた。[Problems to be solved by the invention] In conventional ultraviolet treatment equipment, the light transmitting plate is the irradiator 20.
However, when cleaning the light transmission plate or processing table, or performing maintenance and inspection inside the processing chamber, the light irradiator containing the blower and the processing chamber must be removed each time. The device had to be disassembled by moving it or removing screws and other attachment parts, which was a laborious and time-consuming task.
この考案はかかる従来の事情に鑑み、ネジ、そ
の他の取付具をはずすことなく、簡単な作業で短
時間に清掃、保守できる光処理装置を提供するこ
とを目的とする。 In view of such conventional circumstances, the object of this invention is to provide a light processing device that can be cleaned and maintained in a short time with simple work without removing screws or other fittings.
[問題点を解決するための手段]
上記の目的を達成する為に、この考案は、背後
にミラーを配置した少くとも1つのランプを備え
たランプハウスを有し、このランプハウスの上部
に設けた風洞は適度な傾斜角を有する接断面で分
断され、かつ、前記ランプハウス下部は、処理室
底部から起立した支持台と接合部材によつて接続
され、この接合部材は、その軸を中心にランプハ
ウス上部の前記分断された風洞を分割する方向に
回動自在に接合された構造を有するものである。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention has a lamp house with at least one lamp behind which a mirror is arranged, and a lamp provided on the top of the lamp house. The wind tunnel is divided by a tangential surface having an appropriate inclination angle, and the lower part of the lamp house is connected to a support stand raised from the bottom of the processing chamber by a connecting member, and this connecting member is It has a structure in which the divided wind tunnel in the upper part of the lamp house is rotatably joined in the dividing direction.
[作用]
上述のような構成にすることにより、処理台及
び光透過板の汚染に対する清掃もしくは処理室お
よび光照射器内の保守点検を行う為に、ブロワを
収納している重い光照射器を動かすことなく、比
較的軽いランプハウスのみの回動によつて光透過
板及び処理台を清掃し易い状態に露出させること
ができる。[Function] With the above configuration, the heavy light irradiator housing the blower can be used to clean the processing table and light transmitting plate for contamination or to perform maintenance and inspection inside the processing chamber and the light irradiator. The light transmitting plate and the processing table can be exposed in a state where they can be easily cleaned by rotating only the lamp house relatively lightly without moving it.
[実施例]
第1図はこの考案の一実施例としての紫外線処
理装置の要部構成を示す断面図で、同図aは正面
図、同図bは側面図である。第1図において、2
6はブロワ24に連結した風洞で、同図bに点線
で示したように上下方向に対して45度の傾斜角を
有する接断面28で、26,26′のように分断
された構造を有し、30は背後にそれぞれミラー
22を配置した2つのランプ21が収納されてい
るランプハウスで、このランプハウス30の上部
は前記風洞26′の接断面28に連なり、下部は
処理室の底部から起立している支持台10によつ
て支持されている。そして、ランプハウス30の
後部底面には、前記支持台10の上面に接して、
接合部材としての螺番29によつて回動自在に接
合されている。さらに、光透過板25はランプハ
ウス30の下部に既知の取付手段で取付けられて
いる。[Example] Fig. 1 is a sectional view showing the main part of an ultraviolet treatment apparatus as an embodiment of this invention, in which Fig. 1A is a front view and Fig. 1B is a side view. In Figure 1, 2
Reference numeral 6 denotes a wind tunnel connected to the blower 24, which has a tangential surface 28 having an inclination angle of 45 degrees with respect to the vertical direction, as shown by the dotted line in FIG. Reference numeral 30 denotes a lamp house in which two lamps 21 each having a mirror 22 arranged behind it are housed. It is supported by an upright support stand 10. On the rear bottom surface of the lamp house 30, in contact with the top surface of the support base 10,
They are rotatably joined by a screw thread 29 as a joining member. Furthermore, the light transmitting plate 25 is attached to the lower part of the lamp house 30 by known attachment means.
また、第2図と同一符号は同一又は相当部分を
示す。 Further, the same reference numerals as in FIG. 2 indicate the same or corresponding parts.
上記構成において、汚染された部分を清掃した
り、保守を行う場合はまず光照射器20の側板2
0′を取はずす。その後、ランプハウス30を螺
番29の軸を中心にして第1図bの点線に示した
状態に回動すると、光透過板25はランプハウス
30に取付けられたまま回動して上部に露出され
る。それと同時に処理台2が表面に露出されるの
で、この露出した状態で、光透過板25及び処理
台2は容易に清掃もしくは保守点検がなされる。
清掃もしくは保守が完了すると、ランプハウス3
0は丁番29の軸を中心に回動して元の支持台1
0の上面に支持された状態に戻す。ランプハウス
30が定位置に復帰すると、光照射器20の側板
20′は元通り取付けられて密封状態になる。 In the above configuration, when cleaning a contaminated part or performing maintenance, first the side plate 2 of the light irradiator 20 is
Remove 0'. Thereafter, when the lamp house 30 is rotated about the axis of the screw 29 to the state shown by the dotted line in FIG. be done. At the same time, since the processing table 2 is exposed on the surface, the light transmitting plate 25 and the processing table 2 can be easily cleaned or maintained and inspected in this exposed state.
Once cleaning or maintenance is complete, lamp house 3
0 rotates around the axis of hinge 29 and returns to the original support base 1
Return to the state where it is supported on the top surface of 0. When the lamp house 30 returns to its normal position, the side plate 20' of the light irradiator 20 is reattached and sealed.
尚、前記実施例は光処理装置の一具体例として
の紫外線処理装置について述べたが、この考案は
紫外線処理装置に限らず光照射によつて処理する
光照射装置全てに適用できるものであることは勿
論である。 Although the above embodiment described an ultraviolet treatment device as a specific example of a light treatment device, this invention is applicable not only to ultraviolet treatment devices but also to all light irradiation devices that process by light irradiation. Of course.
[考案の効果]
この考案は以上説明したとおり、風洞は適度な
傾斜角を有する接断面で分断され、かつ、前記ラ
ンプハウス下部は、処理室底部から起立した支持
台と接合部材によつて接続され、この接合部材
は、その軸を中心にランプハウス上部の前記分断
された風洞を分割する方向に回動自在に接合され
た構造を有するので、重量のあるブロワ部分を固
定したまま、比較的軽いランプと光透過板を回動
することにより、処理台と光透過板を容易に外部
に露出させることができるという効果がある。[Effects of the invention] As explained above, in this invention, the wind tunnel is divided by a tangential plane having an appropriate inclination angle, and the lower part of the lamp house is connected by a connecting member to a support stand raised from the bottom of the processing chamber. This joining member has a structure in which it is joined so that it can rotate freely around its axis in the direction of dividing the divided wind tunnel in the upper part of the lamp house. By rotating the light lamp and the light transmitting plate, there is an effect that the processing table and the light transmitting plate can be easily exposed to the outside.
また、ネジその他を取はずすことによつて装置
を分解する手間と時間が省けるという効果もあ
る。 Another advantage is that the effort and time required to disassemble the device by removing screws and other screws can be saved.
第1図はこの考案の一実施例である紫外線処理
装置の要部構成を示す断面図、第2図は従来の装
置の断面図である。
図中、1:処理室、2:処理台、3:出入口、
10:支持台、20:光照射器、21:ランプ、
22:ミラー、25:光透過板、26,26′:
風洞、28:接断面、29:螺番、30:ランプ
ハウス。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the main structure of an ultraviolet treatment device which is an embodiment of this invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of a conventional device. In the figure, 1: processing chamber, 2: processing table, 3: entrance/exit,
10: Support stand, 20: Light irradiator, 21: Lamp,
22: Mirror, 25: Light transmission plate, 26, 26':
Wind tunnel, 28: Contact surface, 29: Spiral, 30: Lamp house.
Claims (1)
プを備えるランプハウスを内蔵し、このランプ
ハウスの下部に光透過板を設け、上部に冷却用
ブロワと連結した風洞を設けた光照射器と、前
記光照射器の光透過板の直下に対向して配置可
能な処理台を内蔵し、ウエハ搬送用のスリツト
状出入口を有する処理室とを密着して組立てた
光処理装置において、前記ランプハウスの上部
の風洞は適度な傾斜角を有する接断面で分断さ
れ、かつ、前記ランプハウス下部は、処理室底
部から起立した支持台と接合部材によつて接続
され、この接合部材は、その軸を中心にランプ
ハウス上部の前記分断された風洞を分割する方
向に回動自在に接合された構造を有することを
特徴とする光処理装置。 (2) 接合部材に螺番を用いたことを特徴とする実
用新案登録請求の範囲第(1)項記載の光処理装
置。[Scope of Claim for Utility Model Registration] (1) A built-in lamp house with at least one lamp with a mirror placed behind it, a light transmitting plate provided at the bottom of the lamp house, and connected to a cooling blower at the top. A light irradiator equipped with a wind tunnel and a processing chamber that includes a built-in processing table that can be placed directly below the light transmitting plate of the light irradiator and have a slit-shaped entrance and exit for wafer transfer are assembled in close contact with each other. In the optical processing device, the upper wind tunnel of the lamp house is divided by a tangential surface having an appropriate inclination angle, and the lower part of the lamp house is connected to a support stand rising from the bottom of the processing chamber by a connecting member, The light processing device is characterized in that the joining member has a structure in which it is joined so as to be rotatable about its axis in a direction that divides the divided wind tunnel in the upper part of the lamp house. (2) The optical processing device according to claim (1) of the utility model registration, characterized in that a screw thread is used for the joining member.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13375886U JPH0220824Y2 (en) | 1986-09-02 | 1986-09-02 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13375886U JPH0220824Y2 (en) | 1986-09-02 | 1986-09-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6339933U JPS6339933U (en) | 1988-03-15 |
JPH0220824Y2 true JPH0220824Y2 (en) | 1990-06-06 |
Family
ID=31034364
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13375886U Expired JPH0220824Y2 (en) | 1986-09-02 | 1986-09-02 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0220824Y2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4983829B2 (en) * | 2009-03-23 | 2012-07-25 | 株式会社Gsユアサ | UV irradiation equipment |
-
1986
- 1986-09-02 JP JP13375886U patent/JPH0220824Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6339933U (en) | 1988-03-15 |
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