JPH02203418A - 光磁気記録用磁気ヘッド - Google Patents
光磁気記録用磁気ヘッドInfo
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- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 claims description 3
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 claims description 3
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052982 molybdenum disulfide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 8
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 abstract description 4
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 abstract 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100018566 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) tif-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910019041 PtMn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001245 Sb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [Ca+2].[O-][Ti]([O-])=O AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光磁気記録磁性体層の上に保護層を形成した光
磁気ディスクに対しても磁界を印加する光磁気記録用磁
気ヘッドに関するものである。
磁気ディスクに対しても磁界を印加する光磁気記録用磁
気ヘッドに関するものである。
近時、光磁気記録用の磁性体材料が盛んに開発されてい
るが、その−例として希土類金属元素と遷移金属元素か
ら成る非晶質金属合金がある。
るが、その−例として希土類金属元素と遷移金属元素か
ら成る非晶質金属合金がある。
この光磁気記録方式においては、集束レーザー光を用い
てビットを書き込んだり、また、読み出しができ、しか
も、書き換えを行うこともできる。
てビットを書き込んだり、また、読み出しができ、しか
も、書き換えを行うこともできる。
このような書き換えを光変調記録方式により行う場合、
記録と消去を別々に行わねばならず、これにより、光磁
気ディスクを少なくとも2回転させねばならず、そのた
め、リアルタイムで書き換えることはできなかった。
記録と消去を別々に行わねばならず、これにより、光磁
気ディスクを少なくとも2回転させねばならず、そのた
め、リアルタイムで書き換えることはできなかった。
この光変調記録方式に代わって磁界変調記録方式により
書き換えを行うことが提案されており、この方式によれ
ば、オーバーライドが可能となるが、その反面、大きな
バイアス磁界を印加しながら高速でスイッチングできる
磁気ヘッドを用いなければならず、そのため、この磁気
ヘッドは大きなドライブ電流並びに大きなりアクタンス
を有するという点で製作するのが難しい。
書き換えを行うことが提案されており、この方式によれ
ば、オーバーライドが可能となるが、その反面、大きな
バイアス磁界を印加しながら高速でスイッチングできる
磁気ヘッドを用いなければならず、そのため、この磁気
ヘッドは大きなドライブ電流並びに大きなりアクタンス
を有するという点で製作するのが難しい。
かかる事情に鑑み、次善の策として磁気ディスクに一般
的に使われる接触式もしくは浮上式の磁気ヘッドを光磁
気ディスクに応用することが提案されている。
的に使われる接触式もしくは浮上式の磁気ヘッドを光磁
気ディスクに応用することが提案されている。
ところで、前記非晶質金属合金層は耐酸化性に劣ってお
り、そのため、この層の上に非磁性無機質薄膜の保護層
を形成し、更に3〜20μmの厚みの樹脂保11iを形
成することが一般的に行われている。
り、そのため、この層の上に非磁性無機質薄膜の保護層
を形成し、更に3〜20μmの厚みの樹脂保11iを形
成することが一般的に行われている。
しかしながら、このような層構成の光磁気ディスクに対
して、上述した磁気ヘッドを用いた場合、比較的低い表
面硬度の樹脂保護層は摩耗が進行し、ヘンドクラッシュ
をきたすという問題点がある。
して、上述した磁気ヘッドを用いた場合、比較的低い表
面硬度の樹脂保護層は摩耗が進行し、ヘンドクラッシュ
をきたすという問題点がある。
〔発明の目的〕
従って本発明は上記事情に鑑みて完成されたものであり
、その目的はヘッドクラッシュ発生を防止できた光磁気
記録用磁気ヘッドを提供することにある。
、その目的はヘッドクラッシュ発生を防止できた光磁気
記録用磁気ヘッドを提供することにある。
本発明によれば、基板上に少なくとも光磁気配!!磁性
体層及び保護層を順次形成した光磁気ディスクに対応し
て用いられる磁界を印加するための光磁気記録用磁気ヘ
ッドにおいて、前記磁気ヘッドの保護層との接触部表面
に磁気ヘッドを構成するスライダまたはコアのビッカー
ス硬度に比べて小さい硬度を有する固体潤滑層を形成し
たことを特徴とする光磁気記録用磁気ヘッドが提供され
る。
体層及び保護層を順次形成した光磁気ディスクに対応し
て用いられる磁界を印加するための光磁気記録用磁気ヘ
ッドにおいて、前記磁気ヘッドの保護層との接触部表面
に磁気ヘッドを構成するスライダまたはコアのビッカー
ス硬度に比べて小さい硬度を有する固体潤滑層を形成し
たことを特徴とする光磁気記録用磁気ヘッドが提供され
る。
以下、本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明磁気ヘッドの概略を示し、第2図はこの
磁気ヘッドが磁界を印加すべき典型的な光磁気ディスク
を示す。
磁気ヘッドが磁界を印加すべき典型的な光磁気ディスク
を示す。
第1図によれば、磁気ヘッドエはスライダ2とコア3か
ら構成され、そして、スライダ2とコア3のそれぞれの
ディスク対向面にはそれぞれ固体潤滑N4が形成される
。
ら構成され、そして、スライダ2とコア3のそれぞれの
ディスク対向面にはそれぞれ固体潤滑N4が形成される
。
本発明はスライダ2やコア3のビッカース硬度に比べて
小さい硬度を有する固体潤滑層を形成したことが特徴で
ある。
小さい硬度を有する固体潤滑層を形成したことが特徴で
ある。
即ち、−船釣に使われる接触式もしくは浮上式の磁気ヘ
ッドの場合、そのスライダやコアは第1表に示すような
材料から成るとともにビッカース材を膜状に形成したこ
とにより磁気ヘッドに摩耗及び損傷を与えないでヘッド
クラッシュ発生を防止できたことが特徴である。
ッドの場合、そのスライダやコアは第1表に示すような
材料から成るとともにビッカース材を膜状に形成したこ
とにより磁気ヘッドに摩耗及び損傷を与えないでヘッド
クラッシュ発生を防止できたことが特徴である。
上記固体潤滑材は磁気ヘッドの電磁変換特性を損なわな
いように非磁性材であるのが望ましい。
いように非磁性材であるのが望ましい。
このような固体潤滑層の厚みは0.1 μm以上、好適
には0.4μm以上あるが望ましく、この範囲内であれ
ば磁気ヘッドの長寿命化という点で有利である。
には0.4μm以上あるが望ましく、この範囲内であれ
ば磁気ヘッドの長寿命化という点で有利である。
上記のような磁気ヘッドが磁界を印加するための光磁気
ディスクについては、光磁気記録用磁性体層として希土
類金属−遷移金属の非晶質合金やガーネット、PtMn
Sb合金などが用いられるが、非晶質合金を例に挙げて
層構成を説明する。
ディスクについては、光磁気記録用磁性体層として希土
類金属−遷移金属の非晶質合金やガーネット、PtMn
Sb合金などが用いられるが、非晶質合金を例に挙げて
層構成を説明する。
第2図は本発明光磁気記録素子の典型的な層構成を示し
ており、基板5の上に誘電体N6を介して磁性体N7が
形成され、更に該N7の上に無機質保護層8及び樹脂保
護N9が順次形成される。
ており、基板5の上に誘電体N6を介して磁性体N7が
形成され、更に該N7の上に無機質保護層8及び樹脂保
護N9が順次形成される。
基板5にはガラス板やプラスチック板が用いられ、この
プラスチック基板用材料としてポリカーボネート系、エ
ポキシ系、アクリル系の樹脂がある。
プラスチック基板用材料としてポリカーボネート系、エ
ポキシ系、アクリル系の樹脂がある。
また、誘電体層6はエンハンスメント効果を高める働き
があり、si、AI、Tiの窒化物、Stの炭化物、C
d、Znの硫化物、Mgのフッ化物、AI、Ce、Zr
、St。
があり、si、AI、Tiの窒化物、Stの炭化物、C
d、Znの硫化物、Mgのフッ化物、AI、Ce、Zr
、St。
Cd、Biの酸化物などにより形成される。
磁性体層7は非晶質垂直磁化膜であって、例えばGdD
yFe、GdTbFe、TbFeCo、DyFeCo、
NdGdDyFe、GdTb口yFe、GdTbFeC
o、TbDyFeCo、GdDyFeCo、NdDyF
eCoなどがある。
yFe、GdTbFe、TbFeCo、DyFeCo、
NdGdDyFe、GdTb口yFe、GdTbFeC
o、TbDyFeCo、GdDyFeCo、NdDyF
eCoなどがある。
無機質保護N8はT i+ Cr + Z r + T
a + A Iなどの耐食性金属もしくはこれらの化
合物又は上記誘電体層6に用いられた同一材料によって
も形成される。
a + A Iなどの耐食性金属もしくはこれらの化
合物又は上記誘電体層6に用いられた同一材料によって
も形成される。
以上の各層6,7.8は公知の薄膜形成手段、例えばス
パッタリング法により形成すればよい。
パッタリング法により形成すればよい。
また、樹脂保護層9については、エポキシ系、ポリエス
テル系、アクリル系、アクリルウレタン系の紫外線硬化
型樹脂により形成するが、必要に応じてその樹脂に固体
もしくは液体の潤滑剤を入れて表面平滑性を向上させる
ことができる。また、紫外線硬化型樹脂を用いる場合、
硬化後に2H以上の硬度を有する樹脂を用いるのが長寿
命化の点で望ましい。
テル系、アクリル系、アクリルウレタン系の紫外線硬化
型樹脂により形成するが、必要に応じてその樹脂に固体
もしくは液体の潤滑剤を入れて表面平滑性を向上させる
ことができる。また、紫外線硬化型樹脂を用いる場合、
硬化後に2H以上の硬度を有する樹脂を用いるのが長寿
命化の点で望ましい。
次に本発明の実施例を述べる。
磁気ヘッドには、スライダ材料として焼結チタン酸カル
シウム、コア材料として焼結Mn−Znフェライトであ
るコンポジフトヘッドを用いて、第2表に示すように固
体潤滑層を形成しないもの(TIf1気ヘッドA)並び
に各種固体潤滑層を形成したもの(磁気ヘッドB、C)
を用意した。
シウム、コア材料として焼結Mn−Znフェライトであ
るコンポジフトヘッドを用いて、第2表に示すように固
体潤滑層を形成しないもの(TIf1気ヘッドA)並び
に各種固体潤滑層を形成したもの(磁気ヘッドB、C)
を用意した。
磁気ヘッドB、Cについては、成膜前に被膜面を研摩及
び洗浄し、プラズマ処理を行って膜密着性を高めるよう
にし、そして、モリブデンやテフロン膜をそれぞれター
ゲットとし、スパッタリング法によって固体潤滑層を形
成した。
び洗浄し、プラズマ処理を行って膜密着性を高めるよう
にし、そして、モリブデンやテフロン膜をそれぞれター
ゲットとし、スパッタリング法によって固体潤滑層を形
成した。
また、光磁気ディスクについては、1.2mm x内溝
付きポリカーボネート樹脂製ディスク基板を高周波三源
マグネトロンスパッタリング装置に配置し、また、この
装置に5iJnセラミック焼結体を備えた。そして、5
X 10−’Torrに至るまで十分に真空排気し、
次いで^rガスを33secmの流量で導入し、基板に
100−の電力を印加し、ボンバード処理を行った。然
る後、Ar圧を2.5 Xl0−’に設定し、印加電力
IK&4で5分間プレスパツタし、厚み750人の窒化
シリコン層をスパッタリング形成した。
付きポリカーボネート樹脂製ディスク基板を高周波三源
マグネトロンスパッタリング装置に配置し、また、この
装置に5iJnセラミック焼結体を備えた。そして、5
X 10−’Torrに至るまで十分に真空排気し、
次いで^rガスを33secmの流量で導入し、基板に
100−の電力を印加し、ボンバード処理を行った。然
る後、Ar圧を2.5 Xl0−’に設定し、印加電力
IK&4で5分間プレスパツタし、厚み750人の窒化
シリコン層をスパッタリング形成した。
次いでFeターゲットの上にGdチップとoyチップを
配置し、スパッタリング法によって上記窒化シリコン層
の上に厚み600人のGdDyFe磁性体層を形成し、
続けて同装置内で酸化チタン保護層を1ooo人の厚み
で形成した。
配置し、スパッタリング法によって上記窒化シリコン層
の上に厚み600人のGdDyFe磁性体層を形成し、
続けて同装置内で酸化チタン保護層を1ooo人の厚み
で形成した。
更にアクリル系紫外線硬化型樹脂を上記酸化チタン保護
層の上に5μmの厚みでスピンコードした。そして、紫
外線を照射し、その樹脂自体を211の硬度に設定した
。
層の上に5μmの厚みでスピンコードした。そして、紫
外線を照射し、その樹脂自体を211の硬度に設定した
。
かくして得られた光磁気ディスク並びに前記磁気ヘッド
を用いて、コンタクトスタートストップ(C5S)耐久
試験を行い、ヘッドクラッシュ発生回数を測定したとこ
ろ、第2表に示す通りの結果が得られた。尚、このC8
S耐久試験は240Orpmの回転数、サイクル60秒
の条件により行った。
を用いて、コンタクトスタートストップ(C5S)耐久
試験を行い、ヘッドクラッシュ発生回数を測定したとこ
ろ、第2表に示す通りの結果が得られた。尚、このC8
S耐久試験は240Orpmの回転数、サイクル60秒
の条件により行った。
第2表
第2表より磁気へラドB、Cはクラッシュ発生阻止効果
がきわめて大きいことが確認できる。
がきわめて大きいことが確認できる。
然るに、磁気ヘッドAはヘッドクラッシュの発生の阻止
効果が小さいことが判る。
効果が小さいことが判る。
上記実施例においては、二硫化モリブデンやテフロンを
用いてスパッタリングにより固体潤滑層を形成している
が、本発明者等はこれらの材料や成膜法に限定するもの
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の材
料または成膜手段を採用できると考える。
用いてスパッタリングにより固体潤滑層を形成している
が、本発明者等はこれらの材料や成膜法に限定するもの
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の材
料または成膜手段を採用できると考える。
以上の通り、本発明の光磁気記録用磁気ヘッドによれば
、固体潤滑層を形成°しているのでヘッドクラッシュの
発生を有効に防止でき、その結果、長期信鯨性且つ長寿
命の磁気ヘッドを提供することができた。
、固体潤滑層を形成°しているのでヘッドクラッシュの
発生を有効に防止でき、その結果、長期信鯨性且つ長寿
命の磁気ヘッドを提供することができた。
第1図は本発明光磁気記録用磁気ヘッドの概略図、第2
図は実施例の光磁気ディスクに係る層構成を示す断面図
である。 1・・・磁気ヘッド 2・・・スライダ 3・・・コア 4・・・固体潤滑層 特許出願人 (663)京セラ株式会社代表者安城欽寿
図は実施例の光磁気ディスクに係る層構成を示す断面図
である。 1・・・磁気ヘッド 2・・・スライダ 3・・・コア 4・・・固体潤滑層 特許出願人 (663)京セラ株式会社代表者安城欽寿
Claims (4)
- (1)基板上に少なくとも光磁気記録磁性体層及び保護
層を順次形成した光磁気ディスクに対応して用いられる
磁界を印加するための光磁気記録用磁気ヘッドにおいて
、前記磁気ヘッドの保護層との接触部表面に磁気ヘッド
を構成するスライダまたはコアのビッカース硬度に比べ
て小さい硬度を有する固体潤滑層を形成したことを特徴
とする光磁気記録用磁気ヘッド。 - (2)固体潤滑層の厚みが0.1μm以上である請求項
(1)記載の光磁気記録用磁気ヘッド。 - (3)固体潤滑層が二硫化モリブデンまたはテフロンか
ら成る請求項(1)記載の光磁気記録用磁気ヘッド。 - (4)光磁気記録磁性体層が希土類金属元素と遷移金属
元素との非晶質金属垂直磁化膜である請求項(1)記載
の光磁気記録用磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2282489A JPH02203418A (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | 光磁気記録用磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2282489A JPH02203418A (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | 光磁気記録用磁気ヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02203418A true JPH02203418A (ja) | 1990-08-13 |
Family
ID=12093441
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2282489A Pending JPH02203418A (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | 光磁気記録用磁気ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02203418A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5231613A (en) * | 1990-01-19 | 1993-07-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording device |
US5386400A (en) * | 1990-01-19 | 1995-01-31 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optical head device having a lubricated member |
US5453884A (en) * | 1990-02-23 | 1995-09-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording medium |
US5471439A (en) * | 1992-02-14 | 1995-11-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magnetic head device with slidable and adjustable magnetic head |
-
1989
- 1989-01-31 JP JP2282489A patent/JPH02203418A/ja active Pending
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