JPH02181777A - 複製ホログラム - Google Patents

複製ホログラム

Info

Publication number
JPH02181777A
JPH02181777A JP232289A JP232289A JPH02181777A JP H02181777 A JPH02181777 A JP H02181777A JP 232289 A JP232289 A JP 232289A JP 232289 A JP232289 A JP 232289A JP H02181777 A JPH02181777 A JP H02181777A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hologram
curing resin
refractive index
contact
protective layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP232289A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuyuki Baba
信行 馬場
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP232289A priority Critical patent/JPH02181777A/ja
Priority to US07/446,371 priority patent/US5064258A/en
Publication of JPH02181777A publication Critical patent/JPH02181777A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Holo Graphy (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ホログラムスキャナや、特に、装飾用のホロ
グラムに用いられる複製ホログラムに関する。
従来の技術 従来、例えば、装飾用としての複製ホログラムには、エ
ンボス法により作成されるエンボスホログラムがよく用
いられていた。近年、紫外線硬化樹脂を用いることによ
って、空間周波数の高い高密度なホログラムを作製する
ことが可能となってきた。そこで、紫外線硬化樹脂を用
いた複製ホログラムの一般的な作製方法を第5図(a)
〜(g)に基づいて簡単に説明する。
まず、(a)〜(C)に示すように、ガラス基板(原盤
)1の表面にフォトレジスト2を塗布しマスク3をした
状態でホログラム露光を行い、現像後、その表面にNi
をスパッタする。その後、(d)〜(e)に示すように
、電鋳を行い剥離してNiスタンバ(金型)4を作製し
、このNiスタンパ4の裏面にAQ板5を裏打ちする。
さらに、(f)〜(g)に示すように、そのNiスタン
パ4の表面に紫外線硬化樹脂6を流し込み上部から基板
7を押さえた形で紫外線照射(UV)を行い、その基板
7の表面に紫外線硬化樹脂6を硬化させ、これによりホ
ログラム8の複製を行っている。
発明が解決しようとする課題 このようにして複製された表面レリーフ型ホログラムは
、第3図に示すように、基板7上には紫外線硬化樹脂6
が形成され、この紫外線硬化樹脂6の表面に空間周波数
の高い高密度なホログラム8が複製された形となってい
る。この場合、複製されたホログラム8は、人手や紙等
による外部からの強い接触によりその表面の形状が変形
してしまうという性質がある。そこで、そのような接触
による変形を防ぐためにホログラム8の表面を保護する
ための第一の方法として、第3図に示すようにスペーサ
9を介して保護板10が設けられ、また、第二の方法と
して、第4図に示すようにホログラム8の表面に一定の
隙間tをもって保護板10が設けられている。
まず、その第一の方法の場合、保護板10を設ける際に
前もってスペーサ9を挿入する必要があり、このため工
程数が増えて作業工程が面倒となる。第二の方法の場合
、保護板10とホログラム8との間に隙間(1μm以下
)tを設けるために、ホログラム8の形成されていない
紫外線硬化樹脂6の周辺部の領域を一段と高くする必要
があるが、しかしこれだとその段差Aの調整が非常に面
倒となる。また、これら第一、第二の方法において、保
護板10の代わりに図示しない保護膜を用いた時、広範
囲に渡って形成しようとすると中央部分で凹みが生じ、
その結果、保護膜がホログラム8と接触してしまい、こ
れにより変形が生じることになる。このようにホログラ
ム8に変形が生じると、ホログラム8の回折効率が場所
により異なったものとなり、正常に画像を再生すること
ができなくなる。
このように従来の表面レリーフ型回折格子においては、
ホログラム8を保護するために隙間tを介して保護板1
0を設は非接触の形にすることによって保護を図ってい
るわけであるが、この方法だと上述したような問題が生
じる。この種の実例としては、実開昭58−18050
9号に開示されている表面レリーフ型ホログラムなるも
のがあり、これはホログラムと同等又はそれ以上の高さ
を有する保護層を非接触の形で設けたものであるが、し
かしこの場合にも作業工程に手間を要するという問題が
ある。
課題を解決するための手段 そこで、このような問題点を解決するために、本発明は
、表面レリーフ型ホログラムの原盤から電鋳により作成
した金型に流し込んだ紫外線硬化樹脂の表面に広範囲に
渡ってホログラムを複製し、前記紫外線硬化樹脂とは異
なる屈折率を有する保護層を前記ホログラムに接して形
成した。
作用 これにより、ホログラム材料に紫外線硬化樹脂を用いそ
のホログラムの表面に直接接触した状態で保護層を形成
したことによって、紫外線硬化樹脂は従来のレジストに
比べその強度が強いため面で接触する分には格子の回折
効率の低下をきたさないことから、従来のようにスペー
サを用いたり紫外線硬化樹脂側に段差を形成したりして
わざわざ非接触の形で保護層を設ける必要がなくなり、
これにより、作業工程数を一段と減らすことができると
共に、高密度で大画面の表面レリーフ型回折格子を得る
ことができる。
実施例 本発明の一実施例を第1図及び第2図に基づいて説明す
る。なお、表面レリーフ型回折格子の作製方法について
は、従来技術で述べたのでここでの説明は省略し、同一
部分については同一符号を用いる。
表面レリーフ型回折格子の基板7上には紫外線硬化樹脂
11が形成されており、この紫外線硬化樹脂11の表面
には、空間周波数の高い高密度なホログラム12が複製
されている。この場合、複製されたホログラム12を有
する紫外線硬化樹脂11は、基板7上の広範囲(例えば
、縦30mmX横30mm以上の大画面用)に渡って形
成されている。また、前記ホログラム12の上部にはそ
の先端部に接した形で、前記紫外線硬化樹脂11とは屈
折率の異なる保護層としてのガラス板13 (この他に
、アクリル板等の透過性のものを用いることができる)
が設けられている。なお、この場合、ホログラム12の
凹みBには空気が満たされた形となっている。
このようにホログラム12の作製される材料に紫外線硬
化樹脂11を用い、ガラス板13をその紫外線硬化樹脂
ILに直接接触させるような形にしても、紫外線硬化樹
脂11は弱い接触に対しては何ら変形するようなことが
ないため、従来のようにスペーサ9(第3図参照)を設
けたり、紫外線硬化樹脂6(第4図参照)の周辺部に段
差Aを設けたりして非接触の形をわざわざとる必要がな
くなる。これにより、空間周波数の高い高密度で、しか
も、高回折効率の表面リレーフ型回折格子を大画面に渡
って容易に作製することが可能となる。
なお、このような接触型の保護層13を有する表面リレ
ーフ型回折格子は、たとえその接触により多少回折効率
が劣るような二とがあったとしても、装飾用として用い
る程度のものであれば何ら支障が生じるようなものでは
ない。
次に、本発明の変形例を第2図に基づいて説明する。こ
れは、保護層として、紫外線硬化樹脂11とは屈折率の
異なる透明なラッカー14を用いた場合の例である。こ
の場合、ラッカー14はホログラム12の凹みB部分に
も隙間なく塗布された、いわゆる、完全密着型の形状と
なる。
これにより、本実施例の場合にも、高密度で高回折効率
を有するホログラム12を基板7の広範囲に渡って形成
させることができるため、大画面の表面レリーフ型画折
格子を容易に得ることができる。
発明の効果 本発明は、紫外線硬化樹脂を用いて複製されたホログラ
ムの表面に直接接触した状態でその紫外線硬化樹脂とは
異なる屈折率を有する保護層を形成したことによって、
従来のようにスペーサを用いたり紫外線硬化樹脂側に段
差を形成したりしてわざわざ非接触の形で保護層を設け
る必要がなくなり、これにより、作業工程数を減らし作
業効率を一段と上げることができると共に、高密度で高
回折効率を有する大画面の表面レリーフ型回折格子を得
ることができるものである。また、このようにホログラ
ムに接した形で保護層を設けたことにより多少回折効率
が劣るようなことがあったとしても、装飾用として用い
る程度のものであれば何ら支障が生じるようなものでは
ない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す縦断側面図、第2図は
その変形例を示す縦断側面図、第3図及び第4図は従来
例を示す縦断側面図、第5図(a)〜(g)はホログラ
ムの複製方法を示す工程図である。 1・・・原盤、4・・・金型、6・・・紫外線硬化樹脂
、7・・基板、11・・・紫外線硬化樹脂、12・・・
ホログラム、13.14・・・保護層 出  願  人 株式会社 リ コ − 、、:% 」 図 一篤Z図 、%、31Z LL図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 表面レリーフ型ホログラムの原盤から電鋳により作成し
    た金型に流し込んだ紫外線硬化樹脂の表面に広範囲に渡
    つてホログラムを複製し、前記紫外線硬化樹脂とは異な
    る屈折率を有する保護層を前記ホログラムに接して形成
    したことを特徴とする複製ホログラム。
JP232289A 1988-12-09 1989-01-09 複製ホログラム Pending JPH02181777A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP232289A JPH02181777A (ja) 1989-01-09 1989-01-09 複製ホログラム
US07/446,371 US5064258A (en) 1988-12-09 1989-12-05 Information reading device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP232289A JPH02181777A (ja) 1989-01-09 1989-01-09 複製ホログラム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02181777A true JPH02181777A (ja) 1990-07-16

Family

ID=11526083

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP232289A Pending JPH02181777A (ja) 1988-12-09 1989-01-09 複製ホログラム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02181777A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007017643A (ja) * 2005-07-06 2007-01-25 Dainippon Printing Co Ltd 計算機ホログラム光学素子
JP2007041545A (ja) * 2005-07-06 2007-02-15 Dainippon Printing Co Ltd ホログラム観察シート
JP2012040706A (ja) * 2010-08-16 2012-03-01 Kyowa Lamicoat:Kk ホログラムシート材の製造方法、及び、ホログラムシート材
US8133638B2 (en) * 2006-05-30 2012-03-13 Brady Worldwide, Inc. All-polymer grating microstructure
JP2015060001A (ja) * 2013-09-17 2015-03-30 大日本印刷株式会社 情報担持体および画像情報形成方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007017643A (ja) * 2005-07-06 2007-01-25 Dainippon Printing Co Ltd 計算機ホログラム光学素子
JP2007041545A (ja) * 2005-07-06 2007-02-15 Dainippon Printing Co Ltd ホログラム観察シート
US8133638B2 (en) * 2006-05-30 2012-03-13 Brady Worldwide, Inc. All-polymer grating microstructure
JP2012040706A (ja) * 2010-08-16 2012-03-01 Kyowa Lamicoat:Kk ホログラムシート材の製造方法、及び、ホログラムシート材
JP2015060001A (ja) * 2013-09-17 2015-03-30 大日本印刷株式会社 情報担持体および画像情報形成方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5071597A (en) Plastic molding of articles including a hologram or other microstructure
TW526179B (en) Method for forming planar microlens and planar microlens obtained thereby
CZ209986A3 (en) Optically readable disc-like information carrier and process for producing thereof
JPH07500938A (ja) 光データ記憶ディスク
HK1003736A1 (en) A method of manufacturing a matrix for producing optical disks without the medium of a master
JPH02181777A (ja) 複製ホログラム
EP2033050B1 (en) Manufacturing a replication tool
JPS62233234A (ja) ホログラムを有する成形品の製造方法
JP2002509819A (ja) マスターを保存しながらレプリカを作る方法
JP2789599B2 (ja) ホログラム面付型の作製方法
JP3224244B2 (ja) ホログラム複製方法
JP4179533B2 (ja) ホログラム回折格子複合体
JPH04355229A (ja) 樹脂スタンパの製造方法およびその樹脂スタンパを用いたパターン転写方法
JPH1153767A (ja) 光データ記録ディスクおよびその製造方法
JP3290808B2 (ja) 回折格子パターンおよびその作製方法
JP2995755B2 (ja) スタンパの製造方法
JPH01303406A (ja) 回折格子の複製方法
EP1031144B1 (de) Verfahren zum herstellen eines optischen datenträgers mit digitalen informationen und einem hologramm
US20040201138A1 (en) Mother plate for deep lines pattern impression and manufacturing thereof
JP2995754B2 (ja) スタンパの製造方法
JPS6377079A (ja) 表面レリ−フ型ホログラムの作製法
JPS6047251A (ja) 光デイスクの作製方法
JPS6367261B2 (ja)
JPS61113142A (ja) 光デイスク用スタンパの作製方法
JPH04339335A (ja) 光ディスク基板の製造方法及び光ディスク基板