JPH02180980A - フイルム接着剤 - Google Patents
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Landscapes
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的1
(産業上の利用分野)
本発明は、耐熱性、接着性、可視性に優れたポリイミド
樹脂からなる回路板用等に好適なフィルム状の接着剤に
関する。
樹脂からなる回路板用等に好適なフィルム状の接着剤に
関する。
(従来の技術)
従来、回路板、あるいはその素材である回路基板の銅箔
と基板を接着するフィルム状の接着剤(以下、フィルム
接着剤という)は、ポリエステル樹脂系又はエポキシ樹
脂系のものがほとんどであった。
と基板を接着するフィルム状の接着剤(以下、フィルム
接着剤という)は、ポリエステル樹脂系又はエポキシ樹
脂系のものがほとんどであった。
しかし、ポリエステル系樹脂のフィルム接着剤は耐熱性
が低いため、回路板用としては多くの場合に不適である
。 また、エポキシ樹脂系のフイルム接着剤は可撓性、
低誘電特性に劣るという欠点がある。 ポリイミド前駆
体であるポリアミド酸樹脂溶液を塗布してフィルム化し
、高温でイミド化して接着させる回路基板は、ポリイミ
ド前駆体の組成によっては、生成ポリイミド膜と金属箔
またはベース板との接着力が不十分となり、回路パター
ン形成時にいずれかの接着面で剥離現象が生じ、不良の
原因となる欠点があった。
が低いため、回路板用としては多くの場合に不適である
。 また、エポキシ樹脂系のフイルム接着剤は可撓性、
低誘電特性に劣るという欠点がある。 ポリイミド前駆
体であるポリアミド酸樹脂溶液を塗布してフィルム化し
、高温でイミド化して接着させる回路基板は、ポリイミ
ド前駆体の組成によっては、生成ポリイミド膜と金属箔
またはベース板との接着力が不十分となり、回路パター
ン形成時にいずれかの接着面で剥離現象が生じ、不良の
原因となる欠点があった。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、耐熱性
、接着性、可撓性に優れ、回路基板の生産性、経済性の
よい新規なフィルム接着剤を提供しようとするものであ
る。
、接着性、可撓性に優れ、回路基板の生産性、経済性の
よい新規なフィルム接着剤を提供しようとするものであ
る。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明者は、上記の目的を達成しようと鋭意研究を重ね
た結果、有機溶剤可溶性の特定のポリイミド樹脂による
フィルムが上記目的を達成することを見いだし、本発明
を完成したものである。
た結果、有機溶剤可溶性の特定のポリイミド樹脂による
フィルムが上記目的を達成することを見いだし、本発明
を完成したものである。
すなわち、本発明は、
(A) 3.3′、 4.4′−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸くその無水物及び低級アルキルエステルを
含む)を95モル%以上の主成分として含む芳香族テト
ラカルボン酸と、 CB)−数式(I)又は(II) (但し、式中Xは、CH2,0,302、C(CH,)
2.C(CF□)2又はSの2価の基を2Rl 、 R
2は、CHl 、 C2H5,OCHx又はQC2H5
の1価の基を、R’ 、R’はC2H。
ラカルボン酸くその無水物及び低級アルキルエステルを
含む)を95モル%以上の主成分として含む芳香族テト
ラカルボン酸と、 CB)−数式(I)又は(II) (但し、式中Xは、CH2,0,302、C(CH,)
2.C(CF□)2又はSの2価の基を2Rl 、 R
2は、CHl 、 C2H5,OCHx又はQC2H5
の1価の基を、R’ 、R’はC2H。
基を、R11はC6H,基又はシクロヘキシル基をそれ
ぞれ表し、そしてR1−R4はいずれもR5に関してア
ミン基のオルソ位に置換されている)で示される芳香族
ジアミンを90モル%以上の主成分として含むジアミン
とを、反応させたポリイミド樹脂からなる回路板用のフ
ィルム接着剤である。
ぞれ表し、そしてR1−R4はいずれもR5に関してア
ミン基のオルソ位に置換されている)で示される芳香族
ジアミンを90モル%以上の主成分として含むジアミン
とを、反応させたポリイミド樹脂からなる回路板用のフ
ィルム接着剤である。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明に用いる(A)芳香族テトラカルボン酸に含まれ
る3、3’−4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸(その無水物及び低級アルキルエステルを含む)は、
3.3′、 4.4′−ベンゾフエノンテトラカボン酸
が全量であることが望ましいが、それ以外の芳香族テト
ラカルボン酸を5モル%未満含んでもよい。
る3、3’−4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸(その無水物及び低級アルキルエステルを含む)は、
3.3′、 4.4′−ベンゾフエノンテトラカボン酸
が全量であることが望ましいが、それ以外の芳香族テト
ラカルボン酸を5モル%未満含んでもよい。
本発明に用いる(B)ジアミンに含まれる前記−数式(
I)、また(II)で示される芳香族ジアミンとしては
、3.3′−ジメチル−5,5′−ジエチル−4゜4′
−ジアミノジフェニルメタン、3.3’、 5.5′
−テトラエチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン
、33′−ジメチル−4,4′−ジアミノジシクロヘキ
シルメタン、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミ
ノジフェニルメタン、3.3′−ジェトキシ−4,4′
−ジアミノジフェニルメタン、3.3′−ジエチル−4
,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジェ
トキシ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3.
3′−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルスルホ
ン、3.3′−ジエチル−4,4′−ジアミノジフェニ
ルスルホン、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミ
ノジフェニルスルホン、3.3’−ジェトキシ−4,4
′−ジアミノジフェニルスルホン、3.3′−ジメチル
−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3.3′−
ジエチル−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3
,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルプ
ロパン、3,3′−ジェトキシ−4,4′−ジアミノジ
フェニルプロパン、3.3′−ジメチル−4,4′−ジ
アミノジフェニルスルファイド、3.3′−ジエチル−
44′−ジアミノジフェニルスルファイト、3.3′−
ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルファイ
ド、3.3′−ジェトキシ−4,4′−ジアミノジフェ
ニルスルファイド、4.4′−ジメチル−5,5′−ジ
アミノジフェニルへキサフルオロプロパン等が挙げられ
、これらは単独又は2種以上混合して使用することがで
きる。 また、この芳香族ジアミンの他に10モル%未
満の他のジアミンを配合することができる。
I)、また(II)で示される芳香族ジアミンとしては
、3.3′−ジメチル−5,5′−ジエチル−4゜4′
−ジアミノジフェニルメタン、3.3’、 5.5′
−テトラエチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン
、33′−ジメチル−4,4′−ジアミノジシクロヘキ
シルメタン、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミ
ノジフェニルメタン、3.3′−ジェトキシ−4,4′
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,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジェ
トキシ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3.
3′−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルスルホ
ン、3.3′−ジエチル−4,4′−ジアミノジフェニ
ルスルホン、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミ
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′−ジアミノジフェニルスルホン、3.3′−ジメチル
−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3.3′−
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,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルプ
ロパン、3,3′−ジェトキシ−4,4′−ジアミノジ
フェニルプロパン、3.3′−ジメチル−4,4′−ジ
アミノジフェニルスルファイド、3.3′−ジエチル−
44′−ジアミノジフェニルスルファイト、3.3′−
ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルファイ
ド、3.3′−ジェトキシ−4,4′−ジアミノジフェ
ニルスルファイド、4.4′−ジメチル−5,5′−ジ
アミノジフェニルへキサフルオロプロパン等が挙げられ
、これらは単独又は2種以上混合して使用することがで
きる。 また、この芳香族ジアミンの他に10モル%未
満の他のジアミンを配合することができる。
(A)の芳香族テトラカルボン酸と(B)のジアミンの
反応は、略等モルを有機溶媒中で30°C以下、好まし
くは0℃以下の反応温度下に3・〜12時間付加反応さ
せた後、脱水剤を加えて100°Cで脱水環化すれば、
次の構造式のポリイミド樹脂が得られる。
反応は、略等モルを有機溶媒中で30°C以下、好まし
くは0℃以下の反応温度下に3・〜12時間付加反応さ
せた後、脱水剤を加えて100°Cで脱水環化すれば、
次の構造式のポリイミド樹脂が得られる。
・・・・・・(II[)
・・・・・・(IV)
(但し、式中Xは、CH2、O,SO2、C(CH3)
2.0 (CF3 )2又はSの2価の基を、R’ 、
R2は、CH3,C2Hs 、0CHz又はQC2H,
の1価の基を、R3,R’はC2H5基を、R5はC6
H,基又はシクロヘキシル基をそれぞれ表し、そしてR
1−R4はいずれもR’に関してアミン基のオルン位に
置換されている)この付加重合反応において用いる有機
溶媒としては、例えばN、N−ジメチルスルホオキシド
、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジエチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−
ジエチルアセトアミド、N〜メチル−2−ピロリドン、
ヘキサメチレンホスホアミド等が挙げられ、これらは単
独又は2種以上混合して使用することができる。
2.0 (CF3 )2又はSの2価の基を、R’ 、
R2は、CH3,C2Hs 、0CHz又はQC2H,
の1価の基を、R3,R’はC2H5基を、R5はC6
H,基又はシクロヘキシル基をそれぞれ表し、そしてR
1−R4はいずれもR’に関してアミン基のオルン位に
置換されている)この付加重合反応において用いる有機
溶媒としては、例えばN、N−ジメチルスルホオキシド
、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジエチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−
ジエチルアセトアミド、N〜メチル−2−ピロリドン、
ヘキサメチレンホスホアミド等が挙げられ、これらは単
独又は2種以上混合して使用することができる。
ポリイミド樹脂からフィルムを製造する場合は、雌型紙
又は離型フィルムにポリイミドa液をコーティングした
後剥離してつくる。 この場合ポリイミド溶液は、ポリ
イミド樹脂5〜40重量%溶液、好ましくは10〜30
重量%溶液とし、かつ固有粘度が0.5〜6 dl/g
、特に0.1〜4旧/gである溶液を用いることが、ポ
リイミドの物性及び塗布・乾燥工程での経済性から好ま
しい、 ポリイミド溶液を離型紙または対型フィルムに
コーティングする一操作は流延塗布して行われるが、具
体的には次のような方法で行う、 M型紙又は雌型フィ
ルムにポリイミド溶液を製膜用スリットから吐出させて
均一な厚さく一般的には10〜300μmとなるように
調節される)の塗WA層を形成させる。
又は離型フィルムにポリイミドa液をコーティングした
後剥離してつくる。 この場合ポリイミド溶液は、ポリ
イミド樹脂5〜40重量%溶液、好ましくは10〜30
重量%溶液とし、かつ固有粘度が0.5〜6 dl/g
、特に0.1〜4旧/gである溶液を用いることが、ポ
リイミドの物性及び塗布・乾燥工程での経済性から好ま
しい、 ポリイミド溶液を離型紙または対型フィルムに
コーティングする一操作は流延塗布して行われるが、具
体的には次のような方法で行う、 M型紙又は雌型フィ
ルムにポリイミド溶液を製膜用スリットから吐出させて
均一な厚さく一般的には10〜300μmとなるように
調節される)の塗WA層を形成させる。
他のコーティング手段としては、ロールコータ−ナイフ
コーター、コンマコーター ドクターブレード、フロー
コーターなどの公知の手段を利用することも可能である
。 このように調製されたポリイミド塗布層を加熱して
脱溶媒を行う、 加熱温度の範囲は、−数的に100〜
200°Cで、好ましくは100〜180℃である。
このようにして離型紙又は離型フィルム上にポリイミド
樹脂フィルムを形成し、その後備型紙や離型フィルムを
剥がして、ポリイミド樹脂フィルムを得る。
コーター、コンマコーター ドクターブレード、フロー
コーターなどの公知の手段を利用することも可能である
。 このように調製されたポリイミド塗布層を加熱して
脱溶媒を行う、 加熱温度の範囲は、−数的に100〜
200°Cで、好ましくは100〜180℃である。
このようにして離型紙又は離型フィルム上にポリイミド
樹脂フィルムを形成し、その後備型紙や離型フィルムを
剥がして、ポリイミド樹脂フィルムを得る。
このポリイミド樹脂のフィルムは、銅箔、アルミニウム
箔、ニッケル箔、金属板等に加熱加圧接着するフィルム
接着剤として使用する。 加熱・加圧接着する方法は、
金属箔や金属板上にフィルムを直接重ねた後、加熱加圧
してポリイミドフィルムを融着させる。 この時の温度
範囲は200〜300℃、好ましくは150〜290℃
である。 金属箔や金属板は、このフィルム接着剤を間
に介して多層化することもできる。
箔、ニッケル箔、金属板等に加熱加圧接着するフィルム
接着剤として使用する。 加熱・加圧接着する方法は、
金属箔や金属板上にフィルムを直接重ねた後、加熱加圧
してポリイミドフィルムを融着させる。 この時の温度
範囲は200〜300℃、好ましくは150〜290℃
である。 金属箔や金属板は、このフィルム接着剤を間
に介して多層化することもできる。
(作用)
本発明のフィルム接着剤は、上述した特定のポリイミド
樹脂フィルムであるため、良好な耐熱性、接着性が得ら
れる。 また、ポリイミド樹脂の構造上からみて直線状
となるために潰れた可視性が得られる。
樹脂フィルムであるため、良好な耐熱性、接着性が得ら
れる。 また、ポリイミド樹脂の構造上からみて直線状
となるために潰れた可視性が得られる。
(実施例)
次に、本発明を実施例によって具体的に説明する。
実施例 1
三ロフラスコに乾燥した窒素を通じてフラスコ内を置換
した後、3.3′、 5.5’−テトラエチル−4゜4
′−ジアミノジフェニルメタン310(lを仕込み?こ
れにN−メチル−2−ピロリドン25301111を加
えて溶解した。 溶解後、0℃に冷却し攪拌しながら3
3 ′、 4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
無水物322gを加えた。 反応による発熱を氷水中で
抑えながら6時間攪拌を続は反応させた。 次いで反応
溶液に脱水剤である無水酢酸4081′!+ J2とピ
リジン4011iとを加え、100℃で酢酸を留出させ
なから閉環反応を3時間行い、さらに無水酢酸/ピリジ
ンを減圧下で留出除去させてイミド化を完結させた。
その後、イミド化反応溶液をメタノールと水の混合溶液
に投入してポリイミド樹脂を析出させ、析出物を乾燥し
て黄色のポリイミド樹脂粉末(固有粘度2.5dl/Q
) 590gを得た。 得られたポリイミド樹脂粉末
150Qをシクロヘキサノン850n Jに溶解し、離
型フィルム上に流延塗布によって厚さ35μIに均一に
コーティングし、 180°Cで加熱乾燥してポリイミ
ド樹脂のフィルム接着剤を製造した。
した後、3.3′、 5.5’−テトラエチル−4゜4
′−ジアミノジフェニルメタン310(lを仕込み?こ
れにN−メチル−2−ピロリドン25301111を加
えて溶解した。 溶解後、0℃に冷却し攪拌しながら3
3 ′、 4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
無水物322gを加えた。 反応による発熱を氷水中で
抑えながら6時間攪拌を続は反応させた。 次いで反応
溶液に脱水剤である無水酢酸4081′!+ J2とピ
リジン4011iとを加え、100℃で酢酸を留出させ
なから閉環反応を3時間行い、さらに無水酢酸/ピリジ
ンを減圧下で留出除去させてイミド化を完結させた。
その後、イミド化反応溶液をメタノールと水の混合溶液
に投入してポリイミド樹脂を析出させ、析出物を乾燥し
て黄色のポリイミド樹脂粉末(固有粘度2.5dl/Q
) 590gを得た。 得られたポリイミド樹脂粉末
150Qをシクロヘキサノン850n Jに溶解し、離
型フィルム上に流延塗布によって厚さ35μIに均一に
コーティングし、 180°Cで加熱乾燥してポリイミ
ド樹脂のフィルム接着剤を製造した。
実施例 2
三ロフラスコに乾燥窒素を通じてフラスコ内を置換した
後、4.4′−ジメチル−5,5′−ジアミノジフェニ
ルへキサフルオロプロパン362gを仕込み、これにN
−メチル−2−ピロリドン3420 mlを加えて溶解
した。 溶解後、0℃に冷却し撹拌しながら3.3 ′
、 4.4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水
物322gを加えた。 氷水中で反応熱を抑えながら6
時間撹拌を続は反応させた。 次いで、反応溶液に脱水
剤である無水酢酸40814とピリジンを401Jとを
加え、 100°Cで#酸を留出させながら3時開閉環
反応を行い、さらに無水酢酸/ピリジンを減圧下で留出
除去させてイミド化を完結させた。 イミド化反応後、
反応溶液をメタノールと水の混合溶液に投入してポリイ
ミド樹脂を析出させ、析出物を乾燥して黄色のポリイミ
ド樹脂粉末(固有粘度3.44 dl/q ) 640
gを得た。 得られたポリイミド樹脂粉末750gをシ
クロヘキサノン850ra Iに溶解し、離型フィルム
上に流延塗布によって厚さ35μfに均一にコーティン
グし、180℃に加熱乾燥してポリイミド樹脂のフィル
ム接着剤を製造した。
後、4.4′−ジメチル−5,5′−ジアミノジフェニ
ルへキサフルオロプロパン362gを仕込み、これにN
−メチル−2−ピロリドン3420 mlを加えて溶解
した。 溶解後、0℃に冷却し撹拌しながら3.3 ′
、 4.4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水
物322gを加えた。 氷水中で反応熱を抑えながら6
時間撹拌を続は反応させた。 次いで、反応溶液に脱水
剤である無水酢酸40814とピリジンを401Jとを
加え、 100°Cで#酸を留出させながら3時開閉環
反応を行い、さらに無水酢酸/ピリジンを減圧下で留出
除去させてイミド化を完結させた。 イミド化反応後、
反応溶液をメタノールと水の混合溶液に投入してポリイ
ミド樹脂を析出させ、析出物を乾燥して黄色のポリイミ
ド樹脂粉末(固有粘度3.44 dl/q ) 640
gを得た。 得られたポリイミド樹脂粉末750gをシ
クロヘキサノン850ra Iに溶解し、離型フィルム
上に流延塗布によって厚さ35μfに均一にコーティン
グし、180℃に加熱乾燥してポリイミド樹脂のフィル
ム接着剤を製造した。
実施例 3
三ロフラスコに乾燥窒素を通じてフラスコ内を置換した
後、3.3′−ジメチル−5,5′−ジエチル−4゜4
′−ジアミノジフェニルメタン282gを仕込み、これ
にN−メチル−2−ピロリドン2420mjjを加え溶
解した。 溶解後、0°Cに冷却し攪拌しながら33′
、 4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物
322gを加えた。 氷水中で反応熱を抑えながら6時
間撹拌を続は反応させた。 次いで、反応溶液に脱水剤
である無水酢酸408 liとピリジン40mAを加え
、100°Cで酢酸を留出させながら3時間閉環反応を
行い、さらに無水酢酸/ピリジンを減圧下で留出除去さ
せてイミド化を完結させた。
後、3.3′−ジメチル−5,5′−ジエチル−4゜4
′−ジアミノジフェニルメタン282gを仕込み、これ
にN−メチル−2−ピロリドン2420mjjを加え溶
解した。 溶解後、0°Cに冷却し攪拌しながら33′
、 4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物
322gを加えた。 氷水中で反応熱を抑えながら6時
間撹拌を続は反応させた。 次いで、反応溶液に脱水剤
である無水酢酸408 liとピリジン40mAを加え
、100°Cで酢酸を留出させながら3時間閉環反応を
行い、さらに無水酢酸/ピリジンを減圧下で留出除去さ
せてイミド化を完結させた。
イミド化反応後、反応溶液をメタノールと水の混合溶液
に投入してポリイミド樹脂を析出させ、析出物を乾燥し
て黄色のポリイミド樹脂粉末(固有粘度2.33 dl
/Q ) 564gを得た。 得られたポリイミド樹脂
粉末150gをシクロヘキサノン850tm llに溶
解し、離型フィルム上に流延塗布によって厚さ35μm
に均一にコーティングし、180℃で加熱乾燥してポリ
イミド樹脂のフィルム接着剤を製造した。
に投入してポリイミド樹脂を析出させ、析出物を乾燥し
て黄色のポリイミド樹脂粉末(固有粘度2.33 dl
/Q ) 564gを得た。 得られたポリイミド樹脂
粉末150gをシクロヘキサノン850tm llに溶
解し、離型フィルム上に流延塗布によって厚さ35μm
に均一にコーティングし、180℃で加熱乾燥してポリ
イミド樹脂のフィルム接着剤を製造した。
比較例
比較例として市販のアクリルゴム系のフィルム接着剤を
使用した。
使用した。
実施例1〜3及び比較例のフィルム接着剤を用いて銅箔
と加圧接着させ耐半田性、接着力を試験したので、その
結果を第1表に示した。 本発明のフィルム接着剤は従
来品間等、又はより以上の特性を示し、本発明の効果が
確認された。
と加圧接着させ耐半田性、接着力を試験したので、その
結果を第1表に示した。 本発明のフィルム接着剤は従
来品間等、又はより以上の特性を示し、本発明の効果が
確認された。
第1表
(単位)
ネ1 :JJS−C−6481に準じて試験した。
○印・・・外観異常なし、×印・・・外観変色有り*2
:ASTM−D−1875に準じて試験した。
:ASTM−D−1875に準じて試験した。
加圧接着条件は次のとおり
実施例 5〜10kg/al12290’C10分比較
例 0.7kg/ c11’ 室温 10分[発
明の効果] 以上の説明および第1表から明らかなように、本発明の
フィルム接着剤は、特定のポリイミド樹脂であり、また
他の接着剤のように劣化が少ないなめ耐熱性に優れ、接
着性、可撓性のよく経済的にも優れており、回路板用等
に好適なものである。
例 0.7kg/ c11’ 室温 10分[発
明の効果] 以上の説明および第1表から明らかなように、本発明の
フィルム接着剤は、特定のポリイミド樹脂であり、また
他の接着剤のように劣化が少ないなめ耐熱性に優れ、接
着性、可撓性のよく経済的にも優れており、回路板用等
に好適なものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (A)3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸(その無水物及び低級アルキルエステルを含
む)を95モル%以上の主成分として含む芳香族テトラ
カルボン酸と、 (B)一般式( I )又は(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ ・・・・・・(
I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ ・・・・・・(I
I) (但し、式中Xは、CH_2,O,SO_2,C(CH
_3)_2,C(CF_3)_2又はSの2価の基を、
R^1,R^2は、CH_3,C_2H_5,OCH_
3又はOC_2H_5の1価の基を、R^3,R^4は
C_2H_5基を、R^5はC_5H_5基又はシクロ
ヘキシル基をそれぞれ表し、そしてR^1〜R^4はい
ずれもR^5に関してアミノ基のオルソ位に置換されて
いる)で示される芳香族ジアミンを90モル%以上の主
成分として含むジアミンとを、 反応させたポリイミド樹脂からなる回路板用のフィルム
接着剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22689A JPH02180980A (ja) | 1989-01-04 | 1989-01-04 | フイルム接着剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22689A JPH02180980A (ja) | 1989-01-04 | 1989-01-04 | フイルム接着剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02180980A true JPH02180980A (ja) | 1990-07-13 |
Family
ID=11468046
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22689A Pending JPH02180980A (ja) | 1989-01-04 | 1989-01-04 | フイルム接着剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02180980A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0455432A (ja) * | 1990-06-25 | 1992-02-24 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 溶剤可溶性ポリイミドオリゴマー及びそれを含有する組成物 |
JPH0641305A (ja) * | 1991-10-25 | 1994-02-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | フッ素化された反応体からのポリアミド酸およびポリイミド |
JP2001064618A (ja) * | 1999-08-25 | 2001-03-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 半導体用接着フィルム、半導体用接着フィルム付きリードフレーム及びこれを用いた半導体装置 |
WO2009037834A1 (ja) * | 2007-09-20 | 2009-03-26 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | 半導体装置用プライマー樹脂及び半導体装置 |
US8080319B2 (en) | 2005-10-21 | 2011-12-20 | Kippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Thermosetting resin composition and use thereof |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59219330A (ja) * | 1983-05-18 | 1984-12-10 | オーシージー マイクロエレクトロニク マテリアルズ インク. | ポリイミド、その製造方法および用途 |
JPS62266540A (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-19 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 平坦化パタ−ンの形成方法 |
-
1989
- 1989-01-04 JP JP22689A patent/JPH02180980A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH07233325A (ja) * | 1991-10-25 | 1995-09-05 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 放射線反応性組成物 |
US5780199A (en) * | 1991-10-25 | 1998-07-14 | International Business Machines Corporation | Polyamic acid and polyimide from fluorinated reactant |
JP2001064618A (ja) * | 1999-08-25 | 2001-03-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 半導体用接着フィルム、半導体用接着フィルム付きリードフレーム及びこれを用いた半導体装置 |
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US8410620B2 (en) | 2007-09-20 | 2013-04-02 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Primer resin for semiconductor device and semiconductor device |
JP5486309B2 (ja) * | 2007-09-20 | 2014-05-07 | 日本化薬株式会社 | 半導体装置用プライマー樹脂及び半導体装置 |
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