JPH0217742Y2 - - Google Patents

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JPH0217742Y2
JPH0217742Y2 JP1984164993U JP16499384U JPH0217742Y2 JP H0217742 Y2 JPH0217742 Y2 JP H0217742Y2 JP 1984164993 U JP1984164993 U JP 1984164993U JP 16499384 U JP16499384 U JP 16499384U JP H0217742 Y2 JPH0217742 Y2 JP H0217742Y2
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scraping
plate
scraping plate
molten solder
cam
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  • Molten Solder (AREA)
  • Connections Effected By Soldering, Adhesion, Or Permanent Deformation (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、電子部品の端子等を半田メツキ処理
するために半田槽に貯蔵した溶融半田金属の酸化
皮膜を除去する装置の構造に関するものである。
〔従来の技術〕
電子部品例えば固定抵抗器、固定コンデンサに
おける接続用端子を他の部品に半田付けするとき
の半田付け性能を良好にするためや、IC等の半
導体素子における電極端子を他の部品に接続する
ときの通電性を良好にすべく、端子に半田メツキ
処理をすることが行われている。
これら端子の半田メツキは、上面開放の半田槽
に貯蔵した溶融半田金属に端子を浸漬して後引き
揚げるようにしている。ところで半田金属の主元
素である鉛、錫は共に空気中の酸素と結合し易
く、溶融半田金属上面にはそれらの酸化皮膜で覆
われ易いから、前記端子の浸漬に先立つて酸化皮
膜を除去するため、半田槽の前部に酸化皮膜の掻
出し口を設け、溶融半田金属上面に下端を僅か漬
けた状態にした掻寄せ板を該半田槽の後部から掻
出し口に向かつて走行させて、酸化皮膜を掻き出
して取り除くようにしている。
この場合、前記掻寄せ板を掻出し口に向かつて
前進するときには掻寄せ板の下端が溶融半田金属
上面に下端を僅か漬けた状態にした低い位置で行
い、酸化皮膜だけを取り除くようにするのが好ま
しく、半田槽の奥側に向かつて後退するときには
掻寄せ板下端が溶融半田金属の上面に接しないよ
うに高い位置で行わなければ成らないから、溶融
半田金属の酸化皮膜除去装置には、掻寄せ板の前
後往復移動機構ばかりでなく掻寄せ板の上下移動
機構も備えている必要がある。
このため、先行技術の特公昭55−20786号公報
では、半田槽の外側面に沿つて、半田槽の後部寄
り位置と前部の掻出し口寄り位置とにわたつて前
後動自在に支持された支持ブロツクを、無端チエ
ーンと正逆回動するモータ等にて前後往復動する
ように構成し、この支持ブロツクに回動自在に取
付く横軸に掻寄せ板を設け、前記横軸に設けたロ
ーラを、掻寄せ板の往路では溶融半田上面から離
れるように案内する上カム板と、復路では溶融半
田上面に接触ように案内する下カム板とを設け、
復路から往路へ反転時に下カム板から上カム板に
前記ローラを案内する手段を設けた技術を開示し
ている。
また、実開昭59−110158号公報では、半田槽の
後部から前部の掻出し口方向に向かつて往復動す
るエアシリンダのピストンロツドに前記掻寄せ板
が前後回動自在に取付く横棒を固着する一方、こ
の掻寄せ板を断面く字状に形成し、この掻寄せ板
の左右両端に配設した平面カム上を滑らせるよう
に構成し、掻寄せ板の前進時には、当該掻寄せ板
の下端を下向きにして酸化皮膜を清掃し、掻寄せ
板の後退時には、当該掻寄せ板の下端を上向きに
して溶融半田金属に接触しないようにすることを
提案している。
(考案が解決しようとする問題点) ところで、半田槽内の溶融半田金属の液面に対
して掻寄せ板の下端が深く入り込んだ状態で、掻
寄せると、酸化皮膜の他に余分の溶融半田金属を
も掻き出すことになり、無駄が多くなる。
反対に掻寄せ板の下端が溶融半田金属液面に接
触する深さが浅過ぎると、充分に酸化皮膜を完全
に除去できない。
また、半田槽や掻寄せ板の交換等の修理後、再
度半田槽内の溶融半田金属の液面に対して掻寄せ
板の下端の接触深さを微調節する必要があつた。
しかるに、前記のいずれの先行技術においても
平面カムの設置高さ位置等の調節手段が備えられ
ていないので、前記掻寄せ板の溶融半田金属液面
に対する高さ調節を容易に実行できないという問
題があつた。
本考案はこの問題を解決することを目的とする
ものである。
〔問題点を解決するための手段〕
そこで本考案では、半田金属を溶融状態で貯蔵
する上面開放の半田槽の前側部に掻出し口を設
け、該半田槽の上方には、前記溶融半田金属上面
の酸化皮膜を掻出し口から槽外へ掻出す掻寄せ板
を配設し、前記半田槽の左右いずれか一方の側部
には、前記掻寄せ板を支持するための移動ブロツ
クを前記半田槽の後部と掻出し口との間で前後往
復移動するように設けて成る溶融半田槽の酸化皮
膜除去装置において、掻寄せ板を上端に支持した
上部アームと、下端にカムフホオロアを備えた下
部アームとを、前記移動ブロツクに横向きに設け
た回動支軸に対して側面視く字状に装着する一
方、前記カムフホオロアが接当する平面カムを、
前記掻寄せ板が前記掻出し口に向かつて前進する
とき、当該掻寄せ板の下端を溶融半田金属の上面
に浸漬するように低い位置に保持する一方、掻寄
せ板が後退するときには前記下端が溶融半田金属
の上面より上方の高い位置に保持するように、前
記移動ブロツクの移動方向に沿わせて設け、前記
上部アームと下部アームとを前記回動支軸に対し
て取付き角度を変更可能に構成するか、または前
記平面カムの高さ位置を変更可能に構成したもの
である。
〔考案の作用・効果〕
この構成によれば、先端に掻寄せ板が装着され
た上部アームと、下端にカムフホオロアを備えた
下部アームとは、移動ブロツクに横向きに突設し
た回動支軸に取付くと共に、該回動支軸に対して
上部アームと下部アームとを側面視く字状に取付
ける一方、前記カムフホオロアが接当する平面カ
ムを、移動ブロツクの移動方向に沿つて長手に配
設したのであるから、移動ブロツクが前進すると
きには、平面カムに前記カムフホオロアが接当し
て支持体の上端(上部アーム)が下降するように
回動させてその姿勢を保持するので、半田槽にお
ける溶融半田金属液面に掻寄せ板の下端が漬かつ
て酸化皮膜を掻き出し口方向に押し出すことがで
きる。
反対に移動ブロツクが後退するときには、平面
カムに接当するカムフホオロアにより下部アーム
が前記と反対側に傾くことになるので、この下部
アームに対して側面視く字状に配置されている上
部アームは、その先端が大きく上向き回動し、該
上部アーム先端に取付く掻寄せ板が上昇するよう
に姿勢変更する。
従つて、移動ブロツクの後退ときには、掻寄せ
板が溶融半田金属液面に接触しない。
そして、前記上部アームと下部アームとを前記
回動支軸に対して取付き角度を変更可能に構成し
たものであるから、回動支軸の軸線を中心とする
上部アームと下部アームとの挟み角度を変更する
だけで、上部アーム先端に装着した掻寄せ板の上
下量を任意に変更できて、半田槽内の溶融半田金
属液面に対する掻寄せ板下端の浸漬深さを微調節
できる。
同様に平面カムの高さ位置を調節すれば、前記
上下両アームのなす挟み角度を変更することな
く、前述の溶融半田金属液面に対する掻寄せ板下
端の浸漬深さを微調節できると共に、下部アーム
におけるカムフホオロアと平面カムとの接触タイ
ミングも変更でき、半田槽内の溶融半田金属の液
面に対する掻寄せ板の接触長さも変更できる。
このように、掻寄せ板の下降高さ位置を保持し
たまま、上下動距離を変更したり、上昇上端高さ
位置と下降下端高さ位置との両者を同時に変更し
たり、さらには、掻寄せ板の下降区間の前後位置
やその長さを変更することを、上部アームや下部
アームの回動支軸に対する取付け角度の変更や平
面カムの設置高さの変更だけで至極簡単に実行で
き、またその変更のための構造も至極簡単となる
という顕著な効果を奏するのである。
(実施例) 次に本考案の実施例を図面に従つて詳細に説明
すると、符号1は加熱装置(図示せず)により溶
融状態に保持される溶融半田金属2を貯蔵した上
面開放状の半田槽を示し、該半田槽1の前側面に
は、他の3側面より低い位置で外向き且つ下向き
に折曲傾斜する滑り台付き掻出し口3を設け、こ
こから前記溶融半田金属2上面の酸化皮膜を後述
の掻寄せ板4にて槽外の箱25に掻出す。
符号5は半田槽1の左右いずれか一方の外側部
に配置する酸化皮膜除去装置で、酸化皮膜除去装
置5の枠体6には、案内軸7とねじ軸8とを半田
槽1の前後方向に互いに平行且つ水平に配設し、
移動ブロツク9を案内軸7に前後摺動自在に装着
すると共にねじ軸8に螺合する。
該移動ブロツク9に前記ねじ軸8と直角の水平
方向に貫通し且つ回動自在に支持された回動支軸
10には、側面視く字状の支持体11の中途部を
固着し、該支持体11の上部アーム12の先端に
は前記回動支軸10と平行に前記半田槽1の上方
に向かつて延びるシヤフト13の基部を取付し、
該シヤフト13には掻寄せ板4をその下端が略下
向くように回動自在に枢着し、掻寄せ板4を半田
槽1の上部に臨ませる。
前記支持体11における下部アーム14の下端
には転子等のカムフオロア15を設ける。該カム
フオロア15が接当し得る略水平板状の平面カム
16は、半田槽1の前後方向に適宜長さ(I1)に
形成され、その前後端部はカムフオロア15が円
滑に移動できるように湾曲している。
そして、この平面カム16は前記ねじ軸8の軸
線と略平行に長く配置され、軸17,17に前後
摺動自在に取付くスタンド18,18の上端に
は、平面カム16を高さ及び前後位置調節自在に
装着する。
また、前記支持体11は前記回動支軸10を中
心にして回動自在であるとともにカムフオロア1
5が前記平面カム16に接当しているときはその
面に押圧され、接当していないときには支持体1
1における下部アーム14が略鉛直に下向きにな
るようにねじりばね(図示せず)等にて付勢され
ている。
前記ねじ軸8は正逆回転可能なモータ19から
プーリ20,21及びベルト22を介して正逆回
転自在に駆動される。
なお、符号23,24は設定位置調節自在に設
けられたマイクロスイツチで、前記ねじ軸8の回
転に応じて移動ブロツク9が前進及び後退すると
き、図示しない制御装置を介してその前後端位置
を規制し、且つその前後端位置で移動ブロツク9
を反転移動するように前記モータ19を正方向又
は逆方向に回転駆動するように制御するものであ
る。
この構成において、モータ19の正逆回転につ
れてねじ軸8に螺合された移動ブロツク9は前後
移動するが、該移動ブロツク9の回動支軸10に
支持された支持体11が平面カム15の後端部よ
り後に離れた位置では、下部アーム14のカムフ
オロア15が平面カム16に接当せず、当該下部
アーム14が略鉛直状になつて姿勢保持されてい
る。
そして、前記移動ブロツク9が前進してカムフ
オロア15が平面カム16に乗り上げれば、第3
図に示すように下部アーム14を後方上向きに適
宜角度だけ傾けるから上部アーム12は前方下向
きに傾き、上部アーム12先端に取付くシヤフト
13と共に掻寄せ板4が高さ(h1)だけ下向き
に下降し、該掻寄せ板4下端は半田槽1内の溶融
半田金属2上面に適宜深さだけ漬かるから、この
状態で移動ブロツク9が前進すれば、掻寄せ板4
下端にて溶融半田金属2上面の酸化皮膜を掻出し
口3方向に掻き出すことができる。掻寄せ板4下
端が掻出し口3の滑り台を越えて槽1の外方向に
出るにつれて酸化皮膜が箱25中に落ちる。
下部アーム14のカムフオロア15が平面カム
16の前端より前方に来れば、前記と同様に当該
下部アーム14が略鉛直状になつて上部アーム1
2が若干上向きに上昇した姿勢が保持され、この
状態で移動ブロツク9がマイクロスイツチ24に
接当するとモータ19は停止した後逆回転するか
ら、移動ブロツク9が後退を始める。
該移動ブロツク9の後退時においては、第4図
に示すように下部アーム14のカムフオロア15
が平面カム16の前端より乗り上げれば、上部ア
ーム12が略鉛直状になるように支持体11が後
方上向き回動し、この姿勢は下部アーム14のカ
ムフオロア15が平面カム16の後端に来るまで
保持されることになる。
前記カムフオロア15が平面カム16の後端よ
り後方に来れば、下部アーム14が略鉛直状にな
つて上部アーム12が若干上向きに高さ(h1)
だけ上昇した姿勢に戻り、この状態で移動ブロツ
ク9が後退してマイクロスイツチ23に接当する
モータ19は停止した後正回転するから、移動ブ
ロツク9は再度前進を始めると云うサイクルを繰
り返すのである。
この場合において、第5図の作用図に示すよう
に、前記カムフオロア15が平面カム16に接当
している状態と接当していない状態とで下部アー
ム14の前後に振れる角度(θ1)は同じである。
これに対して支持体11における上部アーム12
と下部アーム14とのなす角度(θ2)が90度以上
180度以下になるようにしておけば、前記のよう
に掻寄せ板4が前進時に低い位置に保持でき、後
退時に高い位置に保持できる。
そして上部アーム12の長さ(I2)を下部アー
ム14の長さ(I3)に対して長くなるように設定
すれば、前記同じ設定角度において上下動距離
(h1)を大きくできる。
また、上部アーム12及び下部アーム14を回
動支軸10に対して着脱自在にし、上下両アーム
12,14の設定角度(θ2)の大小調節自在にな
るようにしておけば、平面カム16の高さ位置を
変更しなくとも掻寄せ板4の上下移動量を大小変
更することができる。
なお、前記下部アーム4の前後に振れる角度
(θ1)を前後で大小変えられるように設定すれば、
掻寄せ板4の下降下端高さ位置を略一定にして上
下動距離のみ変更することもできる。
さらに、この平面カム16の高さ位置を変更自
在になるように構成すれば、前記下部アーム14
の前後に振れる角度(θ1)の調整がきわめて簡単
となる。
なお、平面カム16の前後設定位置を変更可能
にすれば、掻寄せ板4の下降始め位置及び上昇始
め位置の調整もしくは変更がきわめて容易となる
し、平面カム16を取り替え自在にしてその前後
長さを変えれば、前記掻寄せ板4の下降区間及び
上昇区間の大小変更もきわめて容易となる。
前記前後両マイクロスイツチ23,24の間に
別途のマイクロスイツチ(図示せず)を設けて、
前記掻寄せ板4の前進下降区間中途部においてそ
の前進を適宜時間停止するように構成すれば、一
気に掻寄せ板4を前進させた場合に掻寄せ板4前
面側に溜まつた酸化皮膜の一部が当該掻寄せ板4
の左右両側端から裏側に回つて再度溶融半田金属
の上面を覆うように拡散する不都合を解消でき
る。
このように、平面カムの設置高さ位置を変更す
るだけで、または上部アーム及び下部アームの移
動ブロツクにおける回動支軸に対する取付き角度
を変更し、もしくはその両者を同時に変更すれ
ば、掻寄せ板の下降および上昇の高さ寸法を変え
たり、下降高さ位置を略そのままにして上昇の高
さ寸法だけを変えること等がきわめて容易とな
り、そのための構造が簡単で、省スペースにつな
がる効果も有する。
【図面の簡単な説明】
図面は本考案の実施例を示し、第1図は本装置
の側面図、第2図は第1図の−視断面図、第
3図は掻寄せ板前進時の作用説明図、第4図は後
退時の作用説明図、第5図は支持体と平面カムと
の関連状態を示す図である。 1……半田槽、2……溶融半田金属、3……掻
出し口、4……掻寄せ板、5……酸化皮膜除去装
置、6……枠体、7……案内軸、8……ねじ軸、
9……移動ブロツク、10……回動支軸、11…
…支持体、12……上部アーム、14……下部ア
ーム、15……カムフオロア15、16……平面カ
ム、19……モータ、23,24……マイクロス
イツチ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半田金属を溶融状態で貯蔵する上面開放の半田
    槽の前側部に掻出し口を設け、該半田槽の上方に
    は、前記溶融半田金属上面の酸化皮膜を掻出し口
    から槽外へ掻出す掻寄せ板を配設し、前記半田槽
    の左右いずれか一方の側部には、前記掻寄せ板を
    支持するための移動ブロツクを前記半田槽の後部
    と掻出し口との間で前後往復移動するように設け
    て成る溶融半田槽の酸化皮膜除去装置において、
    掻寄せ板を上端に支持した上部アームと、下端に
    カムフホオロアを備えた下部アームとを、前記移
    動ブロツクに横向きに設けた回動支軸に対して側
    面視く字状に装着する一方、前記カムフホオロア
    が接当する平面カムを、前記掻寄せ板が前記掻出
    し口に向かつて前進するとき、当該掻寄せ板の下
    端を溶融半田金属の上面に浸漬するように低い位
    置に保持する一方、掻寄せ板が後退するときには
    前記下端が溶融半田金属の上面より上方の高い位
    置に保持するように、前記移動ブロツクの移動方
    向に沿わせて設け、前記上部アームと下部アーム
    とを前記回動支軸に対して取付き角度を変更可能
    に構成するか、または前記平面カムの高さ位置を
    変更可能に構成したことを特徴とする溶融半田槽
    の酸化皮膜除去装置。
JP1984164993U 1984-10-30 1984-10-30 Expired JPH0217742Y2 (ja)

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JPS6182767U JPS6182767U (ja) 1986-05-31
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