JPH02177388A - 印刷配線板の製造方法 - Google Patents
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- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「発明の目的」
(産業上の利用分野)
本発明は印刷配線板の製造方法に関する。
(従来の技術)
従来から、プリント配線板あるいはハイブリッド厚膜回
路基板の製造工程において、ix体回路形成のために導
電性ペーストが、絶縁膜形成のために&(!18%ペー
ストが、また、抵抗部分形成のために導電性ペーストの
導電性の低いものが、それぞれ用いられている。また、
導電性ペーストは1回路形成の目的以外に、膜スィッチ
、抵抗器などの各種電子部品あるいは電磁波遮蔽用とし
ても使用されている。
路基板の製造工程において、ix体回路形成のために導
電性ペーストが、絶縁膜形成のために&(!18%ペー
ストが、また、抵抗部分形成のために導電性ペーストの
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導電性ペーストは1回路形成の目的以外に、膜スィッチ
、抵抗器などの各種電子部品あるいは電磁波遮蔽用とし
ても使用されている。
これらのペーストは1通常バインダーとして熱硬化性樹
脂および(または)ガラスフリットなどの無機物質を用
いて基板に塗布または印刷した後、高温度に加熱して硬
化焼成を行なう必要があるため多大のエネルギー、加熱
時間、加熱装置設置のための床面積を必要とし、生産性
が低(不経済であるという欠点があった。また、ガラス
フリットなどの無機物質をバインダーとして用いた導電
性ペーストは1通常800℃以上での焼成を必要とする
ため、安価で大面積の基板が製造可能な樹脂系の基板を
用いることができないため、樹脂系の基板には一般に熱
硬化性樹脂をバインダーとした。いわゆる高分子厚膜(
以下PTFと云う)ペーストが用いられている。
脂および(または)ガラスフリットなどの無機物質を用
いて基板に塗布または印刷した後、高温度に加熱して硬
化焼成を行なう必要があるため多大のエネルギー、加熱
時間、加熱装置設置のための床面積を必要とし、生産性
が低(不経済であるという欠点があった。また、ガラス
フリットなどの無機物質をバインダーとして用いた導電
性ペーストは1通常800℃以上での焼成を必要とする
ため、安価で大面積の基板が製造可能な樹脂系の基板を
用いることができないため、樹脂系の基板には一般に熱
硬化性樹脂をバインダーとした。いわゆる高分子厚膜(
以下PTFと云う)ペーストが用いられている。
しかし、従来の加熱硬化型ペーストでも通常130℃〜
180℃の温度で30〜180分の加熱硬化時間が必要
なため、基板の変形や劣化が問題となっている。特に、
印刷回路パターンのファイン化、多層化が進むにつれ、
この基板の変形が大きな問題となってきている。具体的
には、基板の変形による印刷精度の低下、あるいは後工
程の部品搭載の工程でのトラブルなどが問題となってい
る。
180℃の温度で30〜180分の加熱硬化時間が必要
なため、基板の変形や劣化が問題となっている。特に、
印刷回路パターンのファイン化、多層化が進むにつれ、
この基板の変形が大きな問題となってきている。具体的
には、基板の変形による印刷精度の低下、あるいは後工
程の部品搭載の工程でのトラブルなどが問題となってい
る。
これらの問題を解決する方法として、紫外線硬化型PT
Fの開発が行われているが、衆知のとおり紫外線は透過
性が低いため導電性ペーストや抵抗ペーストのフィラー
として通常用いられるカーボンブランクや金属粉を含ん
だペーストを内部まで硬化させることができないという
欠点があり、絶縁ペーストの一部に用いられるに留まっ
ている。
Fの開発が行われているが、衆知のとおり紫外線は透過
性が低いため導電性ペーストや抵抗ペーストのフィラー
として通常用いられるカーボンブランクや金属粉を含ん
だペーストを内部まで硬化させることができないという
欠点があり、絶縁ペーストの一部に用いられるに留まっ
ている。
これらの欠点を改良する方法として、ペーストとして電
子線硬化ペーストを用い、電子線照射によりペーストを
硬化させる方法が提案された。しかしながら、この方法
において複数のペーストを硬化させる場合には、塗布ま
たは印刷されたペーストをその都度電子線照射により硬
化させるため、電子線をペーストの数と同じ回数照射す
ることになり、エネルギー消費が大きくなり、生産効率
が悪くなり、不経済となるとともに、照射の口数および
基板の材質によっては基材が電子線劣化する場合があっ
た。
子線硬化ペーストを用い、電子線照射によりペーストを
硬化させる方法が提案された。しかしながら、この方法
において複数のペーストを硬化させる場合には、塗布ま
たは印刷されたペーストをその都度電子線照射により硬
化させるため、電子線をペーストの数と同じ回数照射す
ることになり、エネルギー消費が大きくなり、生産効率
が悪くなり、不経済となるとともに、照射の口数および
基板の材質によっては基材が電子線劣化する場合があっ
た。
さらに、導電ペーストと抵抗ペーストを組み合わせて印
刷抵抗回路を作製する際、いずれか一方を印刷、硬化さ
せた後他方をその上に形成すると1両者の十分な接着力
が得難いばかりでなく、界面でそれぞれのフィラーの接
触が不十分となり、いわゆる接触抵抗が生じたりしてノ
イズが発生し易くなる。
刷抵抗回路を作製する際、いずれか一方を印刷、硬化さ
せた後他方をその上に形成すると1両者の十分な接着力
が得難いばかりでなく、界面でそれぞれのフィラーの接
触が不十分となり、いわゆる接触抵抗が生じたりしてノ
イズが発生し易くなる。
(発明が解決しようとする課題)
本発明者らは、複数の電子線硬化性ペーストを塗布また
は印刷し、電子線照射によりペーストを硬化させる印刷
配線板の製造方法において、ペーストとして揮発性溶剤
を含むものを用い2ペーストを塗布または印刷した後タ
ックフリーとなるまで揮発性溶剤を除去することにより
1次のペーストの印刷が可能であり、また、ペーストの
塗布または印刷の都度タックフリーとなるまで揮発性溶
剤を除去することにより、1回だけでの電子線照射でも
塗布または印刷された複数のペーストを硬化させること
ができることを見出し本発明に至ったもので1本発明は
、従来の種々の欠点を改良し、基板上に複数の電子線硬
化性ペーストを塗布または印刷し、電子線照射によって
ペーストを硬化させる印刷配線板の製造方法において、
1回だけの電子線照射でもすべてのペーストを十分に硬
化させることができ、エネルギー消費が小さく、生産効
率が高く、経済的に有利であるとともに、基材が電子線
劣化することもない印刷配線板の製造方法を提供するも
のである。
は印刷し、電子線照射によりペーストを硬化させる印刷
配線板の製造方法において、ペーストとして揮発性溶剤
を含むものを用い2ペーストを塗布または印刷した後タ
ックフリーとなるまで揮発性溶剤を除去することにより
1次のペーストの印刷が可能であり、また、ペーストの
塗布または印刷の都度タックフリーとなるまで揮発性溶
剤を除去することにより、1回だけでの電子線照射でも
塗布または印刷された複数のペーストを硬化させること
ができることを見出し本発明に至ったもので1本発明は
、従来の種々の欠点を改良し、基板上に複数の電子線硬
化性ペーストを塗布または印刷し、電子線照射によって
ペーストを硬化させる印刷配線板の製造方法において、
1回だけの電子線照射でもすべてのペーストを十分に硬
化させることができ、エネルギー消費が小さく、生産効
率が高く、経済的に有利であるとともに、基材が電子線
劣化することもない印刷配線板の製造方法を提供するも
のである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、基板上に電子線硬化型ペーストを塗布または
印刷して、′rl子線を照射し該ペーストを硬化して印
刷配線板を製造する方法において、電子線を照射する前
に下記工程(1)および(2)を含むことを特徴とする
製造方法を提供するものである。
印刷して、′rl子線を照射し該ペーストを硬化して印
刷配線板を製造する方法において、電子線を照射する前
に下記工程(1)および(2)を含むことを特徴とする
製造方法を提供するものである。
(1)(a)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物
、 (b)導電性微粉末および(または)非導電性微粉
末、および(C)1発性溶剤からなるペーストを塗布ま
たは印刷した後、タンクフリーとなるまで(c)揮発性
溶剤を除去する処理を1回もしくは2回以上繰り返す工
程。
、 (b)導電性微粉末および(または)非導電性微粉
末、および(C)1発性溶剤からなるペーストを塗布ま
たは印刷した後、タンクフリーとなるまで(c)揮発性
溶剤を除去する処理を1回もしくは2回以上繰り返す工
程。
(2)最後が、(a)および(b)からなるペーストを
塗布もしくは印刷する工程、または(a)(b)および
(c)からなるペーストを塗布もしくは印刷した後、
(C)を除去する工程。
塗布もしくは印刷する工程、または(a)(b)および
(c)からなるペーストを塗布もしくは印刷した後、
(C)を除去する工程。
本発明は、基板上に(a)エチレン性不飽和二重結合を
有する化合物、 (b)導電性微粉末および(または)
非導電性微粉末、および(c)ff発性溶剤からなるペ
ーストを塗布または印刷した後、タックフリーとなるま
で(C)ff発性溶剤を除去する処理を1回もしくは2
回以上繰り返した後、電子線を照射してペーストを硬化
させることを特徴とする印刷配線板の製造方法であるが
、最後の塗布または印刷工程においては必ずしもタック
フリーとする必要がないため、(a)エチレン性不飽和
二重結合を有する化合物および(b)導電性微粉末およ
び(または)非導電性微粉末は無溶剤型の電子線硬化型
ペーストを用いた場合には、ただちに電子線を照射する
ことができる。
有する化合物、 (b)導電性微粉末および(または)
非導電性微粉末、および(c)ff発性溶剤からなるペ
ーストを塗布または印刷した後、タックフリーとなるま
で(C)ff発性溶剤を除去する処理を1回もしくは2
回以上繰り返した後、電子線を照射してペーストを硬化
させることを特徴とする印刷配線板の製造方法であるが
、最後の塗布または印刷工程においては必ずしもタック
フリーとする必要がないため、(a)エチレン性不飽和
二重結合を有する化合物および(b)導電性微粉末およ
び(または)非導電性微粉末は無溶剤型の電子線硬化型
ペーストを用いた場合には、ただちに電子線を照射する
ことができる。
本発明において、基板としては、祇−フエノール樹脂、
ガラス基布−エボキシ樹脂、祇−ポリエステル樹脂から
なる樹脂積層板、ポリイミド、ポリエステルなどのフレ
キシブル基板、セラミック基板、絶縁被覆した金属基板
などの、電子工業界で通常用いられている基板であれば
いずれのものでも使用できる。基板として、すでに回路
が形成されたもの、導電性ペースト、抵抗ペーストある
いは絶縁ペーストが塗布または印刷されたものを用いて
もよい。
ガラス基布−エボキシ樹脂、祇−ポリエステル樹脂から
なる樹脂積層板、ポリイミド、ポリエステルなどのフレ
キシブル基板、セラミック基板、絶縁被覆した金属基板
などの、電子工業界で通常用いられている基板であれば
いずれのものでも使用できる。基板として、すでに回路
が形成されたもの、導電性ペースト、抵抗ペーストある
いは絶縁ペーストが塗布または印刷されたものを用いて
もよい。
本発明において、 (a)エチレン性不飽和二重結合を
有する化合物としては、ジアリルオルトフタレート、ジ
アリルイソフタレートなどのポリアリル化合物、不飽和
ポリエステル類、ビスフェノールA型エポキシポリ (
メタ)アクリレート、ノボラック型エポキシ(メタ)ア
クリレートなどのエポキシ(メタ)アクリレート類、ポ
リウレタンポリ (メタ)アクリレート類、トリメチロ
ールプロパントリ (メタ)アクリレート類、ポリエー
テルポリオールポリ(メタ)アクリレート類、ジビニル
化合物、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テト
ラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、 (メタ)
アクリル酸アルキルエステル、オリゴエステルモノ (
メタ)アクリレート、 (メタ)アクリル酸アルキル、
(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシアルキル、 (メ
タ)アクリル酸グリシジル、スチレン、α−アルキルス
チレン、トリス(2−アクリル酸ルキルエステル)イソ
シアヌレートなどのモノマー類、あるいはこれらの混合
物を用いることができる。(a)には。
有する化合物としては、ジアリルオルトフタレート、ジ
アリルイソフタレートなどのポリアリル化合物、不飽和
ポリエステル類、ビスフェノールA型エポキシポリ (
メタ)アクリレート、ノボラック型エポキシ(メタ)ア
クリレートなどのエポキシ(メタ)アクリレート類、ポ
リウレタンポリ (メタ)アクリレート類、トリメチロ
ールプロパントリ (メタ)アクリレート類、ポリエー
テルポリオールポリ(メタ)アクリレート類、ジビニル
化合物、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テト
ラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、 (メタ)
アクリル酸アルキルエステル、オリゴエステルモノ (
メタ)アクリレート、 (メタ)アクリル酸アルキル、
(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシアルキル、 (メ
タ)アクリル酸グリシジル、スチレン、α−アルキルス
チレン、トリス(2−アクリル酸ルキルエステル)イソ
シアヌレートなどのモノマー類、あるいはこれらの混合
物を用いることができる。(a)には。
通常、ガラス転移温度が40℃以上の成分が5重量%以
上含まれる。(a)の構成成分のすべてのガラス転移温
度が40℃未満の場合、あるいは、 (a)中にガラス
転移温度が40℃以上の成分が5重量%未満しか含まれ
ない場合には、得られるペーストを塗布または印刷した
後(C)揮発性溶剤の全量を除去しても、塗布または印
刷されたペーストがタックフリーにならないことがある
。しかし、このようなものであっても(C)の揮発性溶
剤を使用しない最後の工程のペーストとしては使用する
ことができる。
上含まれる。(a)の構成成分のすべてのガラス転移温
度が40℃未満の場合、あるいは、 (a)中にガラス
転移温度が40℃以上の成分が5重量%未満しか含まれ
ない場合には、得られるペーストを塗布または印刷した
後(C)揮発性溶剤の全量を除去しても、塗布または印
刷されたペーストがタックフリーにならないことがある
。しかし、このようなものであっても(C)の揮発性溶
剤を使用しない最後の工程のペーストとしては使用する
ことができる。
本発明において、 (b)導電性微粉末および(または
)非導電性微粉末としては、特に制限はなく。
)非導電性微粉末としては、特に制限はなく。
導電性金属微粉、導電性金属酸化物微粉、カーボンブラ
ック、グラファイトなど、あるいはこれらの混合物から
なる導電性微粉末、および(または)シリカ、微粉シリ
カ、炭酸カルシウム、クレー、カオリン、タルク、マイ
カ、硫酸バリウムなど、あるいはこれらの混合物からな
る非導電性微粉末が用いられる。導電性金属微粉として
は、金、銀、白金、銅。
ック、グラファイトなど、あるいはこれらの混合物から
なる導電性微粉末、および(または)シリカ、微粉シリ
カ、炭酸カルシウム、クレー、カオリン、タルク、マイ
カ、硫酸バリウムなど、あるいはこれらの混合物からな
る非導電性微粉末が用いられる。導電性金属微粉として
は、金、銀、白金、銅。
ニッケル、クロム、パラジウム、アルミニウム、タング
ステン、モリブデンなどの金属、あるいはこれらの合金
からなる微粉、あるいはこれらの金属または合金で被覆
された無機物微粉など、あるいはこれらの混合物を用い
ることができる。導電性金属酸化物微粉としては、すす
、チタン、鉄などの金属の酸化物の微粉末、あるいはこ
れらの混合物を用いることができる。カーボンブラック
としては、アセチレンブランク、ファーネスブラック、
サーマルブランク、チャンネルブラック、あるいはこれ
らにビニルモノマーをグラフト重合させたもの、酸化処
理を施したもの、シランカップリング剤などのカップリ
ング剤で処理したものなど、あるいはこれらの混合物を
用いることができる。グラファイトとしては、りん片状
黒鉛、玉状黒鉛などの天然黒鉛を精製したもの5人造黒
鉛、あるいはこれらの混合物が用いられる。(b)が銀
粉などの導電性金属微粉からなる場合には得られるペー
ストは導電性ペーストとなり。
ステン、モリブデンなどの金属、あるいはこれらの合金
からなる微粉、あるいはこれらの金属または合金で被覆
された無機物微粉など、あるいはこれらの混合物を用い
ることができる。導電性金属酸化物微粉としては、すす
、チタン、鉄などの金属の酸化物の微粉末、あるいはこ
れらの混合物を用いることができる。カーボンブラック
としては、アセチレンブランク、ファーネスブラック、
サーマルブランク、チャンネルブラック、あるいはこれ
らにビニルモノマーをグラフト重合させたもの、酸化処
理を施したもの、シランカップリング剤などのカップリ
ング剤で処理したものなど、あるいはこれらの混合物を
用いることができる。グラファイトとしては、りん片状
黒鉛、玉状黒鉛などの天然黒鉛を精製したもの5人造黒
鉛、あるいはこれらの混合物が用いられる。(b)が銀
粉などの導電性金属微粉からなる場合には得られるペー
ストは導電性ペーストとなり。
(b)が導電性金属酸化物微粉、カーボンブラック。
およびグラファイトの1種または2種以上からなる場合
には得られるベースドは抵抗ペーストとなり。
には得られるベースドは抵抗ペーストとなり。
(b)が非導電性微粉末からなる場合には得られるペー
ストは絶縁ペーストとなるというように、 (b)の組
成およびペースト中での含有量を適宜選択することによ
って所望の導電性を有するペーストを得ることができる
。
ストは絶縁ペーストとなるというように、 (b)の組
成およびペースト中での含有量を適宜選択することによ
って所望の導電性を有するペーストを得ることができる
。
また、 (a)および(b)の和に対して、 (b)は
95fr量%以下の割合で含まれることが好ましい。
95fr量%以下の割合で含まれることが好ましい。
cb>の量が、 (a)および(b)の和に対して95
重量%を超える場合には、 (a)による(b)の固着
効果が阻害される傾向がある。また、 (b)がその一
部または全部として導電性微粉末を含み、得られるペー
ストを導電性ペーストまたは抵抗ペーストとして用いる
場合には、 (a)および(b)の和に対して、導電性
微粉末は5重量%以上の割合で含まれることが好ましい
、導電性微粉末の量が、 (a)および(b)の和に対
して5重量%未満の場合には。
重量%を超える場合には、 (a)による(b)の固着
効果が阻害される傾向がある。また、 (b)がその一
部または全部として導電性微粉末を含み、得られるペー
ストを導電性ペーストまたは抵抗ペーストとして用いる
場合には、 (a)および(b)の和に対して、導電性
微粉末は5重量%以上の割合で含まれることが好ましい
、導電性微粉末の量が、 (a)および(b)の和に対
して5重量%未満の場合には。
導電性微粉末同士の接触による専通回路の形成が阻害さ
れる傾向がある。
れる傾向がある。
本発明において、 (C)揮発性溶剤としては(a)を
溶解または分散させることができるものであり。
溶解または分散させることができるものであり。
メチルエチルケトン、エチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブアセテーロ酢酸エチル1 トルエン、キシレン、イ
ソプロピルアルコール、エタノール、アセトン、ブチル
カルピトール、ブチルカルピトールアセテート、カルピ
トールアセテート、ブチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブアセテート、水など、あるいはこれらの混合物を用い
ることができる。
ルブアセテーロ酢酸エチル1 トルエン、キシレン、イ
ソプロピルアルコール、エタノール、アセトン、ブチル
カルピトール、ブチルカルピトールアセテート、カルピ
トールアセテート、ブチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブアセテート、水など、あるいはこれらの混合物を用い
ることができる。
上記(a)および(b)に、必要に応じて(C)。
分散剤、シランカップリング剤、熱可塑性樹脂などの添
加剤を混合し、2本ロール、3本ロール、ボールミル、
ペイントコンディショナー、デイスパーなどの公知の混
線分散手段により混線分散させることによってペースト
が製造される。
加剤を混合し、2本ロール、3本ロール、ボールミル、
ペイントコンディショナー、デイスパーなどの公知の混
線分散手段により混線分散させることによってペースト
が製造される。
一つの印刷配線板を製造する際に用いられる複数のペー
ストは同一であっても異なっていてもよい。
ストは同一であっても異なっていてもよい。
このようにして得られたペーストは、スクリーン印刷機
などの印刷機あるいはロールコータ−などの塗装機ある
いはデイスペンサーによる直接描画法により基板上に塗
布または印刷される。
などの印刷機あるいはロールコータ−などの塗装機ある
いはデイスペンサーによる直接描画法により基板上に塗
布または印刷される。
得られたペーストが抵抗ペーストである場合には。
基板上に設けられた電極と電極との間に、所望の膜厚と
形状に印刷される。電・極としては1通常、エツチング
法によって残された銅箔からなるものであるが、薄膜法
あるいはアディティブ法により形成された導電性ペース
トからなる電極であってもよい。
形状に印刷される。電・極としては1通常、エツチング
法によって残された銅箔からなるものであるが、薄膜法
あるいはアディティブ法により形成された導電性ペース
トからなる電極であってもよい。
得られたペーストが導電性ペーストである場合には、を
極、ジャンパー回路などとして基板上に塗布または印刷
される。
極、ジャンパー回路などとして基板上に塗布または印刷
される。
また、得られたペーストが絶縁ペーストである場合には
、ソルダレジストあるいは眉間絶縁膜として基板上に塗
布または印刷される。
、ソルダレジストあるいは眉間絶縁膜として基板上に塗
布または印刷される。
このようにして基板上に塗布または印刷されたペースト
から、タックフリーとなるまで(c)が除去される。こ
こで、タックフリーとは、引続いて次のペーストの塗布
または印刷を行なっても、すでに塗布または印刷された
ペーストが破壊されたすせず。
から、タックフリーとなるまで(c)が除去される。こ
こで、タックフリーとは、引続いて次のペーストの塗布
または印刷を行なっても、すでに塗布または印刷された
ペーストが破壊されたすせず。
また、すでに塗布または印刷されたペーストの表面が塗
装機や印刷機に付着しない状態をいう。したがって、塗
布または印刷されたペーストがタックフリーとなりさえ
すれば、塗布または印刷されたペースト中の(c)の全
部を除去することは必ずしも必要とされない、基板上に
塗布または印刷されたペーストからタックフリーとなる
まで(c)の全量または一部を除去するには、常温送風
、熱風加熱、赤外線加熱、誘導加熱などの方法によれば
よい。加熱をする場合でも、 (C)の全量または一部
を除去するだけでよいため、バインダーとして熱硬化性
樹脂および(または)ガラスフリットなどの無機物質を
用いた場合より、はるかに低温短時間の加熱ですみ、加
熱による基板の変形劣化を生じない。
装機や印刷機に付着しない状態をいう。したがって、塗
布または印刷されたペーストがタックフリーとなりさえ
すれば、塗布または印刷されたペースト中の(c)の全
部を除去することは必ずしも必要とされない、基板上に
塗布または印刷されたペーストからタックフリーとなる
まで(c)の全量または一部を除去するには、常温送風
、熱風加熱、赤外線加熱、誘導加熱などの方法によれば
よい。加熱をする場合でも、 (C)の全量または一部
を除去するだけでよいため、バインダーとして熱硬化性
樹脂および(または)ガラスフリットなどの無機物質を
用いた場合より、はるかに低温短時間の加熱ですみ、加
熱による基板の変形劣化を生じない。
電子線は1通常、空気中または不活性ガス雰囲気中で、
加速電圧150〜300kV、吸収線量3〜30 Mr
ad程度で照射される。
加速電圧150〜300kV、吸収線量3〜30 Mr
ad程度で照射される。
(実施例)
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。な
お1例中2部とは重量部を表わす。
お1例中2部とは重量部を表わす。
ペーストの調製
表1に示す組成の混合物を3本ロールを用いて混練し、
電子線硬化性のペーストA−Eを得た。得られたペース
トA−Eのうち、ペーストA、CおよびDは抵抗ペース
ト、ペーストBは絶縁ペースト、ペーストEは導電性ペ
ーストである。
電子線硬化性のペーストA−Eを得た。得られたペース
トA−Eのうち、ペーストA、CおよびDは抵抗ペース
ト、ペーストBは絶縁ペースト、ペーストEは導電性ペ
ーストである。
なお1表1中、記号などの表示は次のとおりである。
TMPTA、:)リメチロールブロバントリアクリレー
ト。
ト。
TABICニドリス(2−アクリロイルエチルエステル
)イソシアヌレート。
)イソシアヌレート。
l5O−DAP:ジアルリイソフタレートオリゴマリボ
キシ:昭和高分子■製エポキシアクリレート。
キシ:昭和高分子■製エポキシアクリレート。
商品名。
2−HEMA:2−ヒドロキシエチルメタクリレート。
UK−VULCAN P:CABOT社製7フーネス
ブランク、商品名。
ブランク、商品名。
デンカブラック:電気化学工業■製アセチレンブラック
、商品名。
、商品名。
POG−10F住友アルミニウム精II!@製グラファ
イト、商品名。
イト、商品名。
ケッチエンブラックEC:ライオンアクゾ■製ファース
ネブラック、商品名。
ネブラック、商品名。
D−25:デグサジャパン■製銀粉、商品名。
LMS#200 :富士タルク■製タルク、商品名。
平均粒子径1.5〜1.8μm。
エアロジルR−972:日本エアロジル特製微粉シリカ
、商品名。
、商品名。
図面に示す電極パターンとなるように5片面銅張紙フェ
ノール積層板の銅箔をエツチング処理した後。
ノール積層板の銅箔をエツチング処理した後。
研磨処理した基板の銅箔電極間に、 200mesh
のステンレススチール製スクリーン版を用いて、上記ペ
ーストAを図面の抵抗バタ゛−ンに位置に8mmX4r
nrnの大きさに印刷した0次に、印刷面に雰囲気温度
180℃で1分間遠赤外線を照射して、印刷部分をタッ
クフリーとした#続いて、同一基板上の上記印刷部分と
は異なる部分の銅箔電極間に、ペーストAを用いて印刷
し、遠赤外線照射により2回目の印刷部分をタックフリ
ーとした。さらに、同一基板上の上記1.2回目の印刷
部分とは異なる部分の銅箔電極間に、ベース)Aを用い
て同様に印刷し、遠赤外線照射により3回目の印刷部分
をタックフリーとした0次に、電子線照射装置150B
−15(エナジー・サイエンス社製、商品名)を用い、
窒素ガス雰囲気中、加速電圧160kv、吸収線ii1
10 Mradの条件下で、印刷面側に電子線を照射し
、ベース[−Aを硬化させた。
のステンレススチール製スクリーン版を用いて、上記ペ
ーストAを図面の抵抗バタ゛−ンに位置に8mmX4r
nrnの大きさに印刷した0次に、印刷面に雰囲気温度
180℃で1分間遠赤外線を照射して、印刷部分をタッ
クフリーとした#続いて、同一基板上の上記印刷部分と
は異なる部分の銅箔電極間に、ペーストAを用いて印刷
し、遠赤外線照射により2回目の印刷部分をタックフリ
ーとした。さらに、同一基板上の上記1.2回目の印刷
部分とは異なる部分の銅箔電極間に、ベース)Aを用い
て同様に印刷し、遠赤外線照射により3回目の印刷部分
をタックフリーとした0次に、電子線照射装置150B
−15(エナジー・サイエンス社製、商品名)を用い、
窒素ガス雰囲気中、加速電圧160kv、吸収線ii1
10 Mradの条件下で、印刷面側に電子線を照射し
、ベース[−Aを硬化させた。
硬化後のペースト上に、さらに、 200@eshの
ナイロン製スクリーン版を用いて紫外線硬化性ソルダー
レジストUSR−2B (タムラ化研■製、商品名)を
図面の絶縁パターンの位置に1010mmX12の大き
さに印刷し、2kW、80−へ一のオゾンレス高圧水銀
灯を用い、扛下距離10cm、コンベア速度1m/分で
紫外線を照射し、ソルダーレジストを硬化させ、印刷抵
抗基板を得た。
ナイロン製スクリーン版を用いて紫外線硬化性ソルダー
レジストUSR−2B (タムラ化研■製、商品名)を
図面の絶縁パターンの位置に1010mmX12の大き
さに印刷し、2kW、80−へ一のオゾンレス高圧水銀
灯を用い、扛下距離10cm、コンベア速度1m/分で
紫外線を照射し、ソルダーレジストを硬化させ、印刷抵
抗基板を得た。
得られた積層板について1次の2種類の試験を行ない、
試験前後の抵抗値を測定し、試験による抵抗値の変化率
を算出した。
試験前後の抵抗値を測定し、試験による抵抗値の変化率
を算出した。
ニヱL盪濾跋駄:温度260℃の溶融ハンダ(すず/鉛
−60/40重量比) プレ シャーク カー−スト PCT :不飽和型プ
レッシャーフッカ−TPO−411(タバイエスペック
側製、PJ品名)を用いて121℃、相対湿度98%、
2気圧の雰囲気中に8時間放置。
−60/40重量比) プレ シャーク カー−スト PCT :不飽和型プ
レッシャーフッカ−TPO−411(タバイエスペック
側製、PJ品名)を用いて121℃、相対湿度98%、
2気圧の雰囲気中に8時間放置。
なお、抵抗値は銅箔電極間のそれをワイドレンジデジタ
ルオームメーターDR−1000CU (三和計器製作
所製、商品名)を用いて測定した。また。
ルオームメーターDR−1000CU (三和計器製作
所製、商品名)を用いて測定した。また。
各試験による抵抗変化率は次の式により算出した。
抵抗変化率=
実施例2
実施例1と同様にして電極を形成した片面銅張紙フエノ
ール積層板と同様の基板上に、ペーストAを。
ール積層板と同様の基板上に、ペーストAを。
実施例1と同様にして印刷し、印刷部分に雰囲気温度1
80℃で1分間遠赤外線を照射し、印刷部分をタックフ
リーとした。続いて、同様にして、ペーストCを同一基
板上の上記印刷部分とは異なる部分に印刷し、遠赤外線
照射により2回目の印刷部分をタックフリーとした後、
さらに、同様にして、ペーストDを同一基板上の1回目
および2回目の印刷部分とは異なる部分に印刷し、遠赤
外線照射により3回目の印刷部分をタンクフリーとした
。続いて、実施例1と同様にして、@子線を照射し、ペ
ーストを硬化させ、さらに、その上に、実施例1と同様
にして。
80℃で1分間遠赤外線を照射し、印刷部分をタックフ
リーとした。続いて、同様にして、ペーストCを同一基
板上の上記印刷部分とは異なる部分に印刷し、遠赤外線
照射により2回目の印刷部分をタックフリーとした後、
さらに、同様にして、ペーストDを同一基板上の1回目
および2回目の印刷部分とは異なる部分に印刷し、遠赤
外線照射により3回目の印刷部分をタンクフリーとした
。続いて、実施例1と同様にして、@子線を照射し、ペ
ーストを硬化させ、さらに、その上に、実施例1と同様
にして。
紫外線硬化性ソルダーレジストを印刷し、紫外線照射に
よりソルダーレジストを硬化させ、抵抗値を測定し、試
験による抵抗値の変化率を算出した。 得られた結果を
表2に示す。
よりソルダーレジストを硬化させ、抵抗値を測定し、試
験による抵抗値の変化率を算出した。 得られた結果を
表2に示す。
実施例3
実施例1と同様にして電極を形成した片面銅張紙フエノ
ール積層板と同様の基板上に、ペーストAを実施例1と
同様にして印刷し、100℃の熱風オーブンで30分間
加熱し、印刷部分をタンクフリーとした。続いて、同様
にして、ペーストCを同一基板上の上記印刷部分とは異
なる部分にさらに印刷し。
ール積層板と同様の基板上に、ペーストAを実施例1と
同様にして印刷し、100℃の熱風オーブンで30分間
加熱し、印刷部分をタンクフリーとした。続いて、同様
にして、ペーストCを同一基板上の上記印刷部分とは異
なる部分にさらに印刷し。
100℃の熱風オーブン加熱により2回目の印刷部分を
タックフリーとした後、さらに、同様にして。
タックフリーとした後、さらに、同様にして。
ペーストDを同一基板上の1回目および2回目の印刷部
分とは異なる部分に印刷し、100℃の熱風オーブン加
熱により3回目の印刷部分をタックフリーとした。vt
いて、実施例1と同様にして電子線を照射し、ペースト
を硬化させ、さらにその上に、実施例1と同様にして、
紫外線硬化性ソルダーレジストを印刷し、紫外線照射に
よりソルダーレジストを硬化させ、抵抗値を測定し、試
験による抵抗値の変化率を算出した。
分とは異なる部分に印刷し、100℃の熱風オーブン加
熱により3回目の印刷部分をタックフリーとした。vt
いて、実施例1と同様にして電子線を照射し、ペースト
を硬化させ、さらにその上に、実施例1と同様にして、
紫外線硬化性ソルダーレジストを印刷し、紫外線照射に
よりソルダーレジストを硬化させ、抵抗値を測定し、試
験による抵抗値の変化率を算出した。
得られた結果を表2に示す。
実施例4
紙フエノール積層板上に、 200+5eshのステ
ンレススチール製スクリーン版を用い、上記ペーストB
を全面塗布し、雰囲気温度180℃で1分間遠赤外線を
照射して、塗布したペーストをタックフリーとした。タ
ックフリーとなったペースト塗布面に、200Ille
Shのステンレススチール製スクリーン版ヲ用い、ペー
ストAを4mmX・3mmの大きさに印刷し。
ンレススチール製スクリーン版を用い、上記ペーストB
を全面塗布し、雰囲気温度180℃で1分間遠赤外線を
照射して、塗布したペーストをタックフリーとした。タ
ックフリーとなったペースト塗布面に、200Ille
Shのステンレススチール製スクリーン版ヲ用い、ペー
ストAを4mmX・3mmの大きさに印刷し。
雰囲気温度1.80℃で1分間遠赤外線を照射し、ペー
ストAをタックフリーとした。次に、 200mes
hのステンレススチール製スクリーン版を用い、上記印
刷部分とは異なる部分に、ベース)Cを同じく4mmX
8rnmの大きさに印刷し、雰囲気温度180℃で1分
間遠赤外線を照射し、タンクフリーとした。
ストAをタックフリーとした。次に、 200mes
hのステンレススチール製スクリーン版を用い、上記印
刷部分とは異なる部分に、ベース)Cを同じく4mmX
8rnmの大きさに印刷し、雰囲気温度180℃で1分
間遠赤外線を照射し、タンクフリーとした。
続いて、ペーストAおよびペーストBの印刷部分とは異
なる部分に、同様にしてペーストDを4mrnX8mr
nの大きさに印刷し、雰囲気温度1.80℃で1分間遠
赤外線を照射し、タックフリーとした。次に。
なる部分に、同様にしてペーストDを4mrnX8mr
nの大きさに印刷し、雰囲気温度1.80℃で1分間遠
赤外線を照射し、タックフリーとした。次に。
印刷されたペーストA、ペーストCおよびペーストDの
各抵抗パターン上に、電極としてペーストEを図面の電
極パターンとなるように、 200meshのステン
レススチール製スクリーン版を用いて印刷し4雰囲気温
度180℃で1分間遠赤外線を照射し、タックフリーと
した後、実施例1と同様にして電子線を照射し、全部の
ペーストを硬化させた。さらに。
各抵抗パターン上に、電極としてペーストEを図面の電
極パターンとなるように、 200meshのステン
レススチール製スクリーン版を用いて印刷し4雰囲気温
度180℃で1分間遠赤外線を照射し、タックフリーと
した後、実施例1と同様にして電子線を照射し、全部の
ペーストを硬化させた。さらに。
その上に、実施例1と同様にして、紫外線硬化性ソルダ
ーレジストを印刷し、紫外線照射によりソルダーレジス
トを硬化させた。得られた印刷抵抗基板は。
ーレジストを印刷し、紫外線照射によりソルダーレジス
トを硬化させた。得られた印刷抵抗基板は。
実施例1と同様の試験を行い、試験にらる抵抗値の変化
率を算出し、この結果を表2に示す。
率を算出し、この結果を表2に示す。
比較例1
実施例1において用いた片面銅張紙フエノール積層板と
同様の基板上に、ペーストAを実施例1と同様にして印
刷し、続いて、同様にして、ペーストAを同一基板上の
印刷部分とは異なる部分にさらに印刷しようとしたが、
タックフリーになっていない最初に印刷したペーストが
スクリーン版に付着し、印刷できなかった。
同様の基板上に、ペーストAを実施例1と同様にして印
刷し、続いて、同様にして、ペーストAを同一基板上の
印刷部分とは異なる部分にさらに印刷しようとしたが、
タックフリーになっていない最初に印刷したペーストが
スクリーン版に付着し、印刷できなかった。
比較例2
実施例4で用いた祇フェノール積層板と同様な基板上に
、実施例4と同様にしてペーストBをベタ塗布し1次に
、実施例4と同様にしてペーストAを印刷しようとした
が、タックフリーとなっていないペーストBがスクリー
ン版に付着して印刷できなかった。
、実施例4と同様にしてペーストBをベタ塗布し1次に
、実施例4と同様にしてペーストAを印刷しようとした
が、タックフリーとなっていないペーストBがスクリー
ン版に付着して印刷できなかった。
比較例3
実施例1で用いたものと同様のエツチング処理により銅
箔電極を形成した片面銅張紙フエノール積層板の上に、
実施例1と同様にしてペーストAを印刷しタックフリー
とした後に一電子線照射装置150B−15(エナジー
・サイエンス社製、商品名)を用い、窒素ガス雰囲気中
、加速電圧160kV、吸収’am 10 Mradの
条件下で、印刷面側より電子線を照射し、ペーストAを
硬化させた0次に、同様にして。
箔電極を形成した片面銅張紙フエノール積層板の上に、
実施例1と同様にしてペーストAを印刷しタックフリー
とした後に一電子線照射装置150B−15(エナジー
・サイエンス社製、商品名)を用い、窒素ガス雰囲気中
、加速電圧160kV、吸収’am 10 Mradの
条件下で、印刷面側より電子線を照射し、ペーストAを
硬化させた0次に、同様にして。
同一基板上の上記印刷部分とは異なる電極間にペースト
Aを用いて同様に印刷し、タックフリーとした後、同様
にして電子線を照射して2回目に印刷したベースl−A
を硬化させた。さらに上記2回の印刷部分とは異なる電
極間にペーストAを用いて同様に印刷し、タックフリー
とした後、電子線照射し3回目に印刷したペーストAを
硬化させた。これらの硬化ペースト上に、実施例1と同
様にして、紫外線硬化性ソルダーレジストを印刷し、紫
外線照射によりソルダーレジストを硬化させ、抵抗値を
測定し、試験による抵抗値の変化率を算出した。得られ
た結果を表2に示す。
Aを用いて同様に印刷し、タックフリーとした後、同様
にして電子線を照射して2回目に印刷したベースl−A
を硬化させた。さらに上記2回の印刷部分とは異なる電
極間にペーストAを用いて同様に印刷し、タックフリー
とした後、電子線照射し3回目に印刷したペーストAを
硬化させた。これらの硬化ペースト上に、実施例1と同
様にして、紫外線硬化性ソルダーレジストを印刷し、紫
外線照射によりソルダーレジストを硬化させ、抵抗値を
測定し、試験による抵抗値の変化率を算出した。得られ
た結果を表2に示す。
実施例1において得られた積層板と同等の性能の積層板
を得るのに、比較例3においては3回の電子線照射が必
要であり、ペーストの硬化に要する照射エネルギーも実
施例1におけるそれの3倍となり。
を得るのに、比較例3においては3回の電子線照射が必
要であり、ペーストの硬化に要する照射エネルギーも実
施例1におけるそれの3倍となり。
生産効率も低かった。
比較例4
ペーストB、ペーストA、ペーストC,ペーストDおよ
びペーストEそれぞれの塗布または印刷、およびタック
フリー化の後に、その都度、比較例3と同様にして電子
線照射によりそれぞれのペーストを硬化させた以外は、
実施例4と同様にして、塗布または印刷、タックフリー
化、硬化、および紫外線硬化性ソルダーレジストの印刷
および硬化を行ない。
びペーストEそれぞれの塗布または印刷、およびタック
フリー化の後に、その都度、比較例3と同様にして電子
線照射によりそれぞれのペーストを硬化させた以外は、
実施例4と同様にして、塗布または印刷、タックフリー
化、硬化、および紫外線硬化性ソルダーレジストの印刷
および硬化を行ない。
抵抗値を測定し、試験による抵抗値の変化率を算出した
。得られた結果を表2に示す。
。得られた結果を表2に示す。
実施例4において得られた積層板と同等の性能の積層板
を得るのに、比較例4においては5回の電子線照射が必
要であり、ペーストの硬化に要する照射エネルギーも実
施例4におけるそれの5倍となり。
を得るのに、比較例4においては5回の電子線照射が必
要であり、ペーストの硬化に要する照射エネルギーも実
施例4におけるそれの5倍となり。
生産効率もきわめて低かった。
次に、実施例4と比較例4で得られた抵抗に関して、J
IS−C5202に従って、315C型抵抗ノイズ試験
器(米国カンチック社製)を用いて電流雑音を測定した
。得られた結果を表3に示す。なお。
IS−C5202に従って、315C型抵抗ノイズ試験
器(米国カンチック社製)を用いて電流雑音を測定した
。得られた結果を表3に示す。なお。
表3中の数値の単位はμV/Vである。
本発明により、基板上に複数の電子線硬化性ペーストを
塗布または印刷し、電子線照射によってペーストを硬化
させて得る印刷配線板を、1回だけの電子線照射でもす
べてのペーストを十分に硬化させることができ、エネル
ギー消費が小さく、生産効率が高く5経済的に有利に、
また、基材が電子線劣化することもなく製造できるよう
になった。
塗布または印刷し、電子線照射によってペーストを硬化
させて得る印刷配線板を、1回だけの電子線照射でもす
べてのペーストを十分に硬化させることができ、エネル
ギー消費が小さく、生産効率が高く5経済的に有利に、
また、基材が電子線劣化することもなく製造できるよう
になった。
図面は電極パターン、抵抗パターンおよび絶縁パターン
を例示するための説明図であり1図中の数字の単位はr
nmである。 手続補正書く方式) 平成元年127180
を例示するための説明図であり1図中の数字の単位はr
nmである。 手続補正書く方式) 平成元年127180
Claims (2)
- 1.基板上に電子線硬化型ペーストを塗布または印刷し
て,電子線を照射し該ペーストを硬化して印刷配線板を
製造する方法において,電子線を照射する前に下記工程
(1)および(2)を含むことを特徴とする製造方法。 (1)(a)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物
,(b)導電性微粉末および(または)非導電性微粉末
,および(c)揮発性溶剤からなるペーストを塗布また
は印刷した後,タックフリーとなるまで(c)揮発性溶
剤を除去する処理を1回もしくは2回以上繰り返す工程
。 - (2)最後が,(a)および(b)からなるペーストを
塗布もしくは印刷する工程,または(a),(b)およ
び(c)からなるペーストを塗布もしくは印刷した後,
(c)を除去する工程。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11608388 | 1988-05-13 | ||
JP63-116083 | 1988-05-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02177388A true JPH02177388A (ja) | 1990-07-10 |
Family
ID=14678291
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11142089A Pending JPH02177388A (ja) | 1988-05-13 | 1989-04-28 | 印刷配線板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02177388A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003020418A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-24 | Showa Denko Kk | 黒鉛微粉及びその製造方法、並びに該黒鉛微粉の用途 |
WO2011125741A1 (ja) * | 2010-04-01 | 2011-10-13 | 株式会社フジクラ | メンブレン配線板 |
-
1989
- 1989-04-28 JP JP11142089A patent/JPH02177388A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003020418A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-24 | Showa Denko Kk | 黒鉛微粉及びその製造方法、並びに該黒鉛微粉の用途 |
WO2011125741A1 (ja) * | 2010-04-01 | 2011-10-13 | 株式会社フジクラ | メンブレン配線板 |
JP2011216756A (ja) * | 2010-04-01 | 2011-10-27 | Fujikura Ltd | メンブレン配線板 |
CN102845139A (zh) * | 2010-04-01 | 2012-12-26 | 株式会社藤仓 | 膜配线板 |
US8993895B2 (en) | 2010-04-01 | 2015-03-31 | Fujikura Ltd. | Membrane wiring board |
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