JPH02170620A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPH02170620A
JPH02170620A JP63324549A JP32454988A JPH02170620A JP H02170620 A JPH02170620 A JP H02170620A JP 63324549 A JP63324549 A JP 63324549A JP 32454988 A JP32454988 A JP 32454988A JP H02170620 A JPH02170620 A JP H02170620A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diode
circuit
diodes
semiconductor device
current
Prior art date
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Pending
Application number
JP63324549A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuyuki Hirakata
宣行 平方
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP63324549A priority Critical patent/JPH02170620A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、半導体装置、特に両端に所定の電位差が生じ
るように設計されたレベルシフト素子を従来の技術 近年の半導体技術の展開においてGaAs等に代表され
る化合物半導体の開発は正しく画期的なものであった。
即ち、化合物半導体は高速動作に良く馴染み、昨今の大
量、高速、高密度情報処理に関する情報処理技術の発展
に伴い半導体産業の将来の一翼を担うものと期待されて
いる。
第2図は、GaAsを用いた半導体素子によって構成さ
れる最も代表的な回路として、5CFL型のインバータ
の構成例を示す回路図である。
この回路は、FETQ+−Q、と抵抗R,−R。
とから主に構成されており、後述するように、FETQ
I〜Q、並びに抵抗R1〜R4によって形成されるスイ
ッチ段と、FETQ4〜Q7並びに抵抗R3〜R8によ
って形成される出力段とを備えている。
スイッチ段の各FETQ、〜Q、のゲートには相補的な
信号が入力される入力IN、丁Xおよび制御信号等の他
の信号が入力される人力V。Sがそれぞれ接続されてお
り、FETQ、とQ2は並列に差動構成に接続され、F
ETQ3 はその差動回路に縦列に接続されて電流路を
形成している。また、FETQa とQ2のそれぞれの
ドレインが、このスイッチ段の出力として後述する出力
段に接続されている。
出力段は、上述のスイッチ段の各FETQI 、Q2に
対応して1対用意されており、高電圧電源にドレインを
接続され、スイッチ段の出力にゲートを接続されたF 
E T Qa (Qs)と、抵抗R5(R,)を介して
FETQ4(QJのソースにドレインを接続され、VC
Sにゲートを接続され、低電圧電源にソースを接続され
たF E T Qs (Qt)とから構成されており、
抵抗R,(R,)とFETQs((h)との接続点を互
いに相補的な信号を出力する出力OUT。
σUτとしている。このようなインバータ回路において
、特に抵抗Rs 、R7は、いわゆるソースフォロワの
レベルシフト素子であり、回路の正常な動作範囲におい
ては、両端子間に一定の電位差が現れるように構成され
ている。
ところで、上述のような半導体回路が高速に負荷を駆動
することができるようにするためには、抵抗Rs 、R
tの交流的なインピーダンスが低いことが有利である。
そこで、特に抵抗Rs 、Rtのような素子には、並列
にコンデンサを接続して使用する場合がある。ここで使
用するコンデンサとしては、MIM構造の素子が好まし
いものとして挙げられるが、実際に集積回路に造り込む
場合、コンデンサは非常に広い面積を占有するので通常
はより少ない面積で大きな容量が得られるダイオードを
使用することが多い。
第3図は、第2図に示した回路に、上述のような回路の
高速動作を実現するための容量素子としてダイオードを
使用した場合の具体的な構成例を示す回路図である。尚
、この回路は、第2図に示した回路と同じ機能を有する
インバータ回路の構成例であり、第2図に示した回路と
同じ構成要素には同じ参照番号を付している。
即ち、この回路は、第2図に示した回路における抵抗R
s 、Rtに、それぞれ並列にダイオードd1、d2を
接続した回路である。
ここで、ダイオードd、 、d2は、低電圧電源側から
高電圧電源側に向かって順方向となるように接続されて
いる。即ち、ダイオード(L 、da自体に順方向電流
が流れないように逆バイアスされて、コンデンサとして
機能している。このように構成することによって、この
回路では、レベルシフト用の抵抗Rs SRtにおける
交流インピーダンスが低くなり、動作の高速化が実現さ
れている。
発明が解決しようとする課題 ところで、ダイオードは、一般に逆バイアス電圧の増加
に伴って急激にその容量を減少することが知られている
。このため、前述の従来の半導体装置のようにダイオー
ドに逆バイアスを印加するような使用方法では、ダイオ
ードの容量が寧ろ低い領域で使用していることになり、
素子の容量を十分に活用しているとはいえなかった。
ダイオードの面積当りの容量を大きく保つためにはダイ
オードの不純物濃度を増加させる方法もあるが、不純物
濃度が過剰に増大するとダイオードの逆耐圧が低下し、
素子のリーク電流の増加およびそれに起因する回路の信
頼性の低下が無視できな(なる。
そこで、本発明は、上記従来技術の問題点を解決し、回
路の信頼性を低下させることなく容量素子としてのダイ
オードの特性を向上させた新規な半導体装置の構成を提
供することにある。
課題を解決するための手段 即ち、本発明に従うと、抵抗素子と、該抵抗素子に並列
に接続されたダイオードとを備え、該ダイオードは、該
抵抗素子に流れる電流によって該ダイオードに電流が流
れない範囲で順方向バイアスされていることを特徴とす
る半導体装置が提供される。
また、本発明の一態様に従うと、前記抵抗素子と前記ダ
イオードとからなる並列回路をレベルシフト素子として
含むバッファ回路を備えることを特徴とする半導体装置
が提供される。
作用 本発明に係る半導体装置は、抵抗素子とダイオード素子
とを並列に接続したレベルシフト回路において、ダイオ
ード素子を、抵抗素子に流れる電流と順方向に接続した
ことをその主要な特徴としている。
第4図は、ダイオードのバイアス電圧−容量特性を示す
グラフである。第4図に示すように、ダイオードの容量
が最も高いのは、順方向電流が流れない範囲においてダ
イオードに所定の正電圧を印加した状態である。そこで
、並列に接続された抵抗素子に流れる電流によって、ダ
イオード自体に電流が流れない範囲でダイオードを順方
向バイアスして使用することによって、ダイオードの面
積当たりの容量を更に増加させることができる。
即ち、本発明に係る半導体装置では、ダイオードが電流
路に対して順方向に接続されているので、ダイオードの
容量値が大きい領域で動作させることができる。従って
、容量素子としてのダイオードを効果的に使用すること
ができ、集積化する際のダイオードの占有面積を抑制す
ることができる。
以上のように構成された本発明に係る半導体装置では、
従来よりも小面積なダイオードで同じ容量を、換言すれ
ば、同じ面積のダイオードでより大きな容量を実現して
おり、レベルシフト素子に容量素子を並列に接続したこ
とによる動作速度の向上をより効果的なものとしている
実施例 第1図は、本発明に係る半導体装置の構成例を示す回路
図である。尚、この回路は、第2図および第3図に示し
た回路と同じ機能を有するインバータ回路であり、第2
図および第3図と同じ構成要素には同じ参照番号を付し
ている。
この回路も、FETQ、〜Q1、抵抗R,−R,、右よ
びダイオードD、 、D、から構成されており、FET
Q、〜Q、並びに抵抗R1〜R1によって形成されるス
イッチ段と、FETQ、〜Q1、ダイオードD、 、D
、並びに抵抗R5〜R6によって形成される出力段とを
備えている。
即ち、この回路は、第2図に示したインバータ回路にお
ける抵抗Rs 、Rtに、それぞれ並列にダイオードD
I、D2を接続した回路である。ここで、ダイオードD
+ 、D2は、高電圧電源側から低電圧電源側に向かっ
て順方向に接続されている。また、この回路では、回路
の定格動作状態ではダイオードDr 、D2に順方向に
電流が流れない範囲で、順方向バイアスを印加して使用
する。
本実施例では、ダイオードD1、D2としてGaAsシ
ョットキーダイオード(W、=30μW)を使用し、F
ETQ4およびQ5の導通時の電流を1mAとし、抵抗
R3およびR1を400Ωとすることにより、ダイオー
ドD+ 、D2には0.4Vの順方向バイアスが作用す
るように設定した。このときのダイオードD+ 、D2
の容量は各々0.05 p Fであり、これは逆バイア
ス0.4Vを印加した場合の約2倍である。
発明の効果 以上詳述のように、本発明に係る半導体装置は、従来よ
りも小面積なダイオードで同じ容量を、換言すれば、同
じ面積のダイオードでより大きな容量を実現しており、
レベルシフト素子に容量素子を並列に接続したことによ
る動作速度の向上をより効果的なものとしている。
このような本発明に係る半導体装置を適用することによ
って、半導体装置の小型化並びに高速化が容易に実現さ
れる。
このような本発明の特徴的な構成は、何ら特殊な素子あ
るいは部材は必要ではな(、容易且つ廉価に実現するこ
とができる一方、その効果は極めて高い。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係る半導体装置の構成例を示す回路
図であり、 第2図は、従来の半導体装置の構成例を示す回路図であ
り、 第3図は、従来の半導体装置の改良例を示す回路図であ
り、 第4図は、一般的なダイオードのバイアス電圧−容量特
性を示すグラフである。 〔主な参照符合〕 D+  S D2  、(L  、d*  ・ ・ダイ
オード、R8−R8・・・・・・・・抵抗、 Ql〜Q、・・・・・・・・FET

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)抵抗素子と、該抵抗素子に並列に接続されたダイ
    オードとを備え、該ダイオードは、該抵抗素子に流れる
    電流によって該ダイオードに電流が流れない範囲で順方
    向バイアスされていることを特徴とする半導体装置。
  2. (2)前記抵抗素子と前記ダイオードとからなる並列回
    路をレベルシフト素子として含むバッファ回路を備える
    ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
JP63324549A 1988-12-22 1988-12-22 半導体装置 Pending JPH02170620A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63324549A JPH02170620A (ja) 1988-12-22 1988-12-22 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63324549A JPH02170620A (ja) 1988-12-22 1988-12-22 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02170620A true JPH02170620A (ja) 1990-07-02

Family

ID=18167051

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63324549A Pending JPH02170620A (ja) 1988-12-22 1988-12-22 半導体装置

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JP (1) JPH02170620A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0537356A (ja) * 1991-07-26 1993-02-12 Rohm Co Ltd レベルシフト回路

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0537356A (ja) * 1991-07-26 1993-02-12 Rohm Co Ltd レベルシフト回路

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