JPH02170549A - ウェハ外観比較検査装置 - Google Patents
ウェハ外観比較検査装置Info
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- JPH02170549A JPH02170549A JP32536188A JP32536188A JPH02170549A JP H02170549 A JPH02170549 A JP H02170549A JP 32536188 A JP32536188 A JP 32536188A JP 32536188 A JP32536188 A JP 32536188A JP H02170549 A JPH02170549 A JP H02170549A
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体集積回路の製造における拡散を終えたウ
ェハの外観検査装置に関し、特に良品チップと比較する
ことにより、外観検査を自動的に行うウェハ外観比較検
査装置に関する。
ェハの外観検査装置に関し、特に良品チップと比較する
ことにより、外観検査を自動的に行うウェハ外観比較検
査装置に関する。
半導体集積回路が製品となり市場に出荷され。
使用されている間に故障する場合がある(以下、これを
市場不良という)、市場不良を起こした製品の解析をす
ると3〜4割程度、集積回路表面に外観上の不良が発見
される。−例としては、フォトレジスト工程において、
ゴミ、異物等によって。
市場不良という)、市場不良を起こした製品の解析をす
ると3〜4割程度、集積回路表面に外観上の不良が発見
される。−例としては、フォトレジスト工程において、
ゴミ、異物等によって。
絶縁膜の一部が正常に形成されないような場合である。
この部分には段差が発生するので、その上の金属配線は
段差のところで薄くなってしまう。
段差のところで薄くなってしまう。
製造当初この金属配線は電気的につながっているので、
検査をバスするが市場で使用されているうちに、温度変
化等によって起こる機械的ストレスによって断線し、故
障に至る。従来の外観検査は目視によって行っていた。
検査をバスするが市場で使用されているうちに、温度変
化等によって起こる機械的ストレスによって断線し、故
障に至る。従来の外観検査は目視によって行っていた。
上述した従来の目視による外観検査では、フォトレジス
ト工程での大雑把な検査(再工事の要否)には良いが、
完成したウェハに対する細い検査はできない、もし、そ
れを行うとすれば、多大な工数がかかり非現実的なもの
となる。
ト工程での大雑把な検査(再工事の要否)には良いが、
完成したウェハに対する細い検査はできない、もし、そ
れを行うとすれば、多大な工数がかかり非現実的なもの
となる。
本発明の目的は前記課題を解決したウェハ外観比較検査
装置を提供することにある。
装置を提供することにある。
前記目的を達成するため、本発明に係るウェハ外観比較
検査装置においては、半導体集積回路が形成されたウェ
ハを装着し、移動及び回転機能を有するウェハ装着機構
と、前記ウェハの表面のパタンを画像信号に変換する画
像信号装置と、該画像信号装置から出力される画像信号
の差分信号を出力する比較装置と、該比較装置の誤差分
信号出力によってウェハ上に印をつける手段とを有する
ものである。
検査装置においては、半導体集積回路が形成されたウェ
ハを装着し、移動及び回転機能を有するウェハ装着機構
と、前記ウェハの表面のパタンを画像信号に変換する画
像信号装置と、該画像信号装置から出力される画像信号
の差分信号を出力する比較装置と、該比較装置の誤差分
信号出力によってウェハ上に印をつける手段とを有する
ものである。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
(実施例1)
第1図(a)、 (b)は本発明の実施例1を示すブロ
ック図である。
ック図である。
図において、1及び2はウェハを装着するウェハチャッ
ク、3はウェハチャック1及び2を乗せて移動回転させ
る台座である。1は比較基準用の良品ウェハ、5は被検
査用ウェハである。6及び7はウェハ表面を拡大して写
し出すビデオカメラ、8及び9がそれぞれの画像出力信
号である。10はコンパレータで、ビデオカメラ6及び
7からの画像出力信号を比較するコンパレータであり、
11は比較後の差分出力信号である。12は制御装置で
あり、13は台座3への制御信号で、ウェハチャック1
及び2の回転、移動を制御する。14はコンパレータ1
0への制御信号で、コンパレータの動作を制御する。具
体的には、1)画像信号8と9の差分の出力、2)画像
信号8をマスクにして画像信号9の出力、3)画像信号
9をマスクして画像信号8の出力の3モードの内ひとつ
を選択する。16は外観比較検査結果が不良と判定され
たチップに印を付けるレーザマーカである。15は制御
装置12からレーザマーカ16への制御信号である。
ク、3はウェハチャック1及び2を乗せて移動回転させ
る台座である。1は比較基準用の良品ウェハ、5は被検
査用ウェハである。6及び7はウェハ表面を拡大して写
し出すビデオカメラ、8及び9がそれぞれの画像出力信
号である。10はコンパレータで、ビデオカメラ6及び
7からの画像出力信号を比較するコンパレータであり、
11は比較後の差分出力信号である。12は制御装置で
あり、13は台座3への制御信号で、ウェハチャック1
及び2の回転、移動を制御する。14はコンパレータ1
0への制御信号で、コンパレータの動作を制御する。具
体的には、1)画像信号8と9の差分の出力、2)画像
信号8をマスクにして画像信号9の出力、3)画像信号
9をマスクして画像信号8の出力の3モードの内ひとつ
を選択する。16は外観比較検査結果が不良と判定され
たチップに印を付けるレーザマーカである。15は制御
装置12からレーザマーカ16への制御信号である。
次に動作について説明する。
1)軸合せ
台座3上のY軸及びY軸(第1図参照)にウェハの方向
を合せる。制御装置12は制御信号14によってコンパ
レータ10を画像信号8のみ出力するモードを選択して
ウェハ4の画像をみる。制御信号13によってウェハチ
ャック1を回転して、ウェハ4上のチップ境界線をY軸
及びY軸に平行になるように合せる0次に制御信号14
によって1画像信号9を出力するモードを選択してウェ
ハ5の軸合せをウェハ4の場合と同様に行う。
を合せる。制御装置12は制御信号14によってコンパ
レータ10を画像信号8のみ出力するモードを選択して
ウェハ4の画像をみる。制御信号13によってウェハチ
ャック1を回転して、ウェハ4上のチップ境界線をY軸
及びY軸に平行になるように合せる0次に制御信号14
によって1画像信号9を出力するモードを選択してウェ
ハ5の軸合せをウェハ4の場合と同様に行う。
2)位置合せ
予め選択しである比較基準用ウェハ4の中の良品チップ
と被検査用ウェハ5の中の一つのチップと位置合せを行
う、先ず、制御装置12は制御信号14によってコンパ
レータlOに画像信号8(ウェハ4の画像)を出力する
モードにし、ウェハチャック1を移動させて上述の良品
チップの角を探す。
と被検査用ウェハ5の中の一つのチップと位置合せを行
う、先ず、制御装置12は制御信号14によってコンパ
レータlOに画像信号8(ウェハ4の画像)を出力する
モードにし、ウェハチャック1を移動させて上述の良品
チップの角を探す。
次に、画像信号9(ウェハ5の画像)を出力するモード
に切替えて、ウェハチャック2を移動させ被検査用ウェ
ハのチップの角(良品チップと同様の角)に合せる。さ
らに、コンパレータを差分を取るモードに切替えて差分
出力が101になるようにウェハチャック2を微調整す
る。
に切替えて、ウェハチャック2を移動させ被検査用ウェ
ハのチップの角(良品チップと同様の角)に合せる。さ
らに、コンパレータを差分を取るモードに切替えて差分
出力が101になるようにウェハチャック2を微調整す
る。
3) 比較検査
比較基準の良品チップと被検査チップの画像の差分から
不一致箇所(外観不良)の有無を検査する。
不一致箇所(外観不良)の有無を検査する。
コンパレータ10は差分のモードのままにし、制御袋W
12は制御信号13によって台座3上のウェハチャック
1及び2を平行移動してチップ全域を見る。途中の様子
は第2図示すようになる。第2図において、4は比較基
準用のウェハで、4aはその中の良品チップである。5
は被検査用ウェハ、5aはその中のチップである。 6
a及び7aはそれぞれビデオカメラ6及び7(第1図参
照)の画像である。
12は制御信号13によって台座3上のウェハチャック
1及び2を平行移動してチップ全域を見る。途中の様子
は第2図示すようになる。第2図において、4は比較基
準用のウェハで、4aはその中の良品チップである。5
は被検査用ウェハ、5aはその中のチップである。 6
a及び7aはそれぞれビデオカメラ6及び7(第1図参
照)の画像である。
5bは被検査チップでの外観不良である。lOは第1図
と同じコンパレータであり、Pが画像6a及び7aの差
分画像であり、外観不良箇所5bのみが検出され、それ
がPiである。こうした不良を発見すると、制御装置1
2は制御信号15をレーザマーカ16に発してそのチッ
プに印を付ける。チップ全面を検査して何もなければ、
次のチップに移る。その際、ウェハチャック1を移動し
て、良品チップの最初の位置(前述の角の位W)に戻し
、ウェハチャック2はウェハチャック1とは独立に次の
チップの良品チップと同様の位置に移動する6以降は2
)から同様に行う。
と同じコンパレータであり、Pが画像6a及び7aの差
分画像であり、外観不良箇所5bのみが検出され、それ
がPiである。こうした不良を発見すると、制御装置1
2は制御信号15をレーザマーカ16に発してそのチッ
プに印を付ける。チップ全面を検査して何もなければ、
次のチップに移る。その際、ウェハチャック1を移動し
て、良品チップの最初の位置(前述の角の位W)に戻し
、ウェハチャック2はウェハチャック1とは独立に次の
チップの良品チップと同様の位置に移動する6以降は2
)から同様に行う。
上記2)及び3)を繰り返して、被検査用ウェハ5上の
全チップについて検査を行う。
全チップについて検査を行う。
(実施例2)
第3図は本発明の実施例2を示すブロック図である。第
3図において、2はウェハチャック、3は台座で、ウェ
ハチャック1の回転・移動を行う。
3図において、2はウェハチャック、3は台座で、ウェ
ハチャック1の回転・移動を行う。
Sはウェハである。7はビデオカメラ、9はその画像信
号出力である。21は画像信号9を記憶する画像記憶装
置であり、22はその出力信号である。
号出力である。21は画像信号9を記憶する画像記憶装
置であり、22はその出力信号である。
10はコンパレータ、11はその出力である。12は制
御装置で、13は台座3への制御信号、13bは画像記
憶装置21への制御信号、14はコンパレータ10への
制御信号である。16はレーザマーカ、15は制御装置
12からレーザマーカ16への制御信号である。
御装置で、13は台座3への制御信号、13bは画像記
憶装置21への制御信号、14はコンパレータ10への
制御信号である。16はレーザマーカ、15は制御装置
12からレーザマーカ16への制御信号である。
この実施例では画像記憶装置21を設置し、ビデオカメ
ラ7及びウェハチャック2をそれぞれ1台づつにしたこ
とが特徴である。動作は次のようになる。
ラ7及びウェハチャック2をそれぞれ1台づつにしたこ
とが特徴である。動作は次のようになる。
1)比較基準チップの画像記憶
先ず、ウェハチャック2に比較基準用のウェハ4を置く
、第1の実施例と同様に軸合せを行う。
、第1の実施例と同様に軸合せを行う。
次に制御袋[12は制御信号13a及び13bによって
ウェハチャック2を移動しながら良品チップの全面にわ
たって画像を画像記憶装置21に記憶する。
ウェハチャック2を移動しながら良品チップの全面にわ
たって画像を画像記憶装置21に記憶する。
2)比較検査
比較基準用のウェハに替えて、被検査用ウェハ5をウェ
ハチャック1に!<、1)と同様に軸合せを行う0位置
合せは、良品チップの直接の画像に替って画像記憶装置
21に記憶した画像になるだけで、他は第1の実施例と
同様である0次に制御信号13a及び13bによってウ
ェハチャック1を移動しながら、被検査用ウェハ上のチ
ップの画像と画像記憶装置21に記憶された比較基準の
良品チップの画像とを比較して外観検査を行う、第2図
に示すような不良が検査されれば制御装置12は制御信
号15を発してレーザマーカ16によってチップに印を
付けて、次のチップに移る。不良がなければ、チップ全
面を検査後1次のチップに移る。
ハチャック1に!<、1)と同様に軸合せを行う0位置
合せは、良品チップの直接の画像に替って画像記憶装置
21に記憶した画像になるだけで、他は第1の実施例と
同様である0次に制御信号13a及び13bによってウ
ェハチャック1を移動しながら、被検査用ウェハ上のチ
ップの画像と画像記憶装置21に記憶された比較基準の
良品チップの画像とを比較して外観検査を行う、第2図
に示すような不良が検査されれば制御装置12は制御信
号15を発してレーザマーカ16によってチップに印を
付けて、次のチップに移る。不良がなければ、チップ全
面を検査後1次のチップに移る。
(実施例3)
第4図は本発明の実施例3を示すブロック図である。
本実施例3は実施例2とほぼ同様であるが、ビデオカメ
ラに代って電子顕微鏡を使用した例である。
ラに代って電子顕微鏡を使用した例である。
第4図において、23は電子銃で、電子ビームを出力す
る。24は二次電子検出器で、ウェハからの二次電子を
検出して電気信号に変換し、25はその出力信号である
。26は電子銃23への制御信号である627が電子顕
微鏡の制御装置で、制御信号26によって電子銃23か
ら出力される電子ビームの焦点及びスキャンを行うとと
もに、二次電子検出器24からの出力信号25によって
画像信号を生成し、画像信号28として出力される。2
9は真空室で、ウェハチャン929台座3.ウェハ4又
は5.電子銃23、二次電子検出器24及びレーザマー
カ16がその中に収納され、真空ポンプによって真空状
態を作る。この真空状態で、実施例2と同様に比較基準
ウェハ内のチップ画像記憶と、その記憶された画像と、
被検査用ウェハのチップの画像とを比較することで外観
比較ができる。異常が発見された場合、レーザマーカに
よって印が付けられ1次のチップの比較検査を続ける。
る。24は二次電子検出器で、ウェハからの二次電子を
検出して電気信号に変換し、25はその出力信号である
。26は電子銃23への制御信号である627が電子顕
微鏡の制御装置で、制御信号26によって電子銃23か
ら出力される電子ビームの焦点及びスキャンを行うとと
もに、二次電子検出器24からの出力信号25によって
画像信号を生成し、画像信号28として出力される。2
9は真空室で、ウェハチャン929台座3.ウェハ4又
は5.電子銃23、二次電子検出器24及びレーザマー
カ16がその中に収納され、真空ポンプによって真空状
態を作る。この真空状態で、実施例2と同様に比較基準
ウェハ内のチップ画像記憶と、その記憶された画像と、
被検査用ウェハのチップの画像とを比較することで外観
比較ができる。異常が発見された場合、レーザマーカに
よって印が付けられ1次のチップの比較検査を続ける。
実施例2に比して、さらにこまかい検査が可能になる。
以上説明したように本発明はウェハの外観検査を正確に
、迅速に処理でき、したがって、外観不良が起因の市場
不良が発生しなくなり、市場不良を3〜5割低減するこ
とができる。また、この外観検査の歩留りをモニタする
ことにより、拡散上のゴミの程度、フォトレジスト工程
の様子を知ることができ、拡散の管理に役立てることが
できる効果を有する。
、迅速に処理でき、したがって、外観不良が起因の市場
不良が発生しなくなり、市場不良を3〜5割低減するこ
とができる。また、この外観検査の歩留りをモニタする
ことにより、拡散上のゴミの程度、フォトレジスト工程
の様子を知ることができ、拡散の管理に役立てることが
できる効果を有する。
第1図(a)は本発明の実施例1を示すブロック図、(
b)は台座を示す平面図、第2図は検査過程を説明する
図、第3図は本発明の実施例2を示すブロック図、第4
図は本発明の実施例3を示すブロック図である。 1.2・・・ウェハチャック 4,5・・・ウェハ 10・・・コンパレータ 16・・・レーザマーカ
b)は台座を示す平面図、第2図は検査過程を説明する
図、第3図は本発明の実施例2を示すブロック図、第4
図は本発明の実施例3を示すブロック図である。 1.2・・・ウェハチャック 4,5・・・ウェハ 10・・・コンパレータ 16・・・レーザマーカ
Claims (1)
- (1)半導体集積回路が形成されたウェハを装着し、移
動及び回転機能を有するウェハ装着機構と、前記ウェハ
の表面のパタンを画像信号に変換する画像信号装置と、
該画像信号装置から出力される画像信号の差分信号を出
力する比較装置と、該比較装置の誤差分信号出力によっ
てウェハ上に印をつける手段とを有することを特徴とす
るウェハ外観比較検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32536188A JPH02170549A (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | ウェハ外観比較検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32536188A JPH02170549A (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | ウェハ外観比較検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02170549A true JPH02170549A (ja) | 1990-07-02 |
Family
ID=18175967
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32536188A Pending JPH02170549A (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | ウェハ外観比較検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02170549A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008268150A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-06 | Institute Of Physical & Chemical Research | 標本の分析方法およびそれを利用した針状領域の分析装置 |
JP2010534408A (ja) * | 2007-07-20 | 2010-11-04 | ケーエルエー−テンカー・コーポレーション | 標準参照ダイ比較検査に用いるための標準参照ダイを生成する方法及びウエハーを検査するための方法 |
-
1988
- 1988-12-23 JP JP32536188A patent/JPH02170549A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008268150A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-06 | Institute Of Physical & Chemical Research | 標本の分析方法およびそれを利用した針状領域の分析装置 |
JP2010534408A (ja) * | 2007-07-20 | 2010-11-04 | ケーエルエー−テンカー・コーポレーション | 標準参照ダイ比較検査に用いるための標準参照ダイを生成する方法及びウエハーを検査するための方法 |
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