JPH02166784A - ガス循環式レーザ発振器のガス制御方法 - Google Patents

ガス循環式レーザ発振器のガス制御方法

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JPH02166784A
JPH02166784A JP32311788A JP32311788A JPH02166784A JP H02166784 A JPH02166784 A JP H02166784A JP 32311788 A JP32311788 A JP 32311788A JP 32311788 A JP32311788 A JP 32311788A JP H02166784 A JPH02166784 A JP H02166784A
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Naoki Urai
浦井 直樹
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赤木 哲士
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/102Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
    • H01S3/104Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、ガス循環式レーザ発振器のガス制御方法に関
するものである。
〈従来の技術〉 一般にガス循環式レーザ発振器、例えば炭酸ガスレーザ
発振器は、He 、N 2およびco2の混合ガスを封
入する光学共振器に、高電圧を印加してグロー放電を発
生させ、これによって光学共振器より増幅させた光を外
部に取出すものである。
従来、例えば第4図に示されるガス循環式レーザ発振器
が用いられている。すなわち、1は光学共振器であって
、この光学共振器1は放電管2、反射鏡3,4.および
放電電極5a、5b、6a。
6bにより構成されている。7は光学共振器1に接続さ
れたガス循環路、8はガス循環路中に設けられた循環ポ
ンプ、9および10はガス循環路中のガスを適宜に冷却
するための熱交換器、11および12はガス循環路7に
夫々接続されたガス供給源およびガス排気ポンプ、13
および14は、ガス供給路15およびガス排気路16に
夫々設けられた開閉弁、例えば電磁切換弁、17および
18は夫々流量調節弁である。
第4図に示される装置において、ガス供給路15が遮断
され、かつガス排気路16がガス排気ポンプ12に連通
ずるように電磁弁13.14を、操作した状態でガス排
気ポンプ12を駆動する。
これにより、光学共振器1およびガス循環路7内が排気
されて次第に圧力が低下する。ガス循環路7内が所定の
真空状態まで排気されたときに、電磁弁13を開いてガ
ス供給源11よりHe、N2およびCOzの混合ガスを
ガス循環路7内に供給する。電磁弁13を開くと相前後
して循環ポンプ8を駆動させる。この後、ガス循環路7
内のガス圧力が次第に高くなるが、調整弁18が適宜に
操作されて、ガスの供給および排気が継続されている状
態で、光学共振器1内のガス圧力が所定の値に保たれる
。この状態で光学共振器1に高電圧を印加してレーザ発
振が行なわれ、必要時にシャッタ19を開いてレーザ光
を加工部に導いて、適宜にレーザ加工が行なわれている
。このようにレーザ発振を開始するまでに、ガス循環路
内の排気工程とガスの供給工程とによるレーザ発振準備
工程が必要である。
〈発明が解決しようとする問題点〉 ところが、レーザ発振器の停止が翌日以降に及ぶ場合は
さておき、1日の作業時間内においては、−旦レーザ発
振器全体を停止させたときには、ロス時間である上記発
振準備工程が再度必要であると認識されていたため、成
る一連のレーザ加工を行なった後、発振準備工程を省い
て次のレーザ加工を直ちに実施可能とするために、レー
ザ発振器のうち放電用の高圧電源のみを停止させ、他の
各部を常にレーザ発振可能の状態に保っていた。この結
果、特に高価なレーザガスが大量に使用されることとな
り、レーザの加工費用を高騰化させていた。
く問題点を解決するための手段〉 本発明の構成は、光学共振器と、光学共振器に接続され
たガス循環路と、ガス循環路中に設けられた循環ポンプ
と、ガス循環路に夫々接続されたガス供給源およびガス
排気ポンプと、ガス供給・排気路に夫々設けられた開閉
弁と、該開閉弁およびポンプを制御する制御装置とを設
けたガス循環式レーザ発振器において、ガスレーザ発振
器の稼働中は循環ポンプを常時運転させると共に、レー
ザ発振時はガスの供給・排気を行なわせ、レーザ発振の
停止からレーザ再発振の開始までの時間:T1が設定時
間:Taよりも大のときにはガスの供給・排気を停止さ
せ、かつガスの供給・排気の停止時間−T2が設定時間
:Tbよりも大となる前に設定時間:TCの間ガスの供
給・排気を行なわせることを特徴とする 〈実施例〉 以下、本発明を図示の実施例により詳細に説明する。
第1図は、本発明を実施するための制御例を示す線図で
あって、対象となる装置例は、第4図に示されるものと
同様である。第1図において、(a)は循環ポンプ8の
動作状況、(b)および(C)は夫々ガス排気用電磁弁
14およびガス供給用電磁弁13の開・閉状況、(d)
は光学共振器1の電極間への高電圧の印加状況を夫々示
している。
同図において、まず長時間休止後、例えば前日の作業終
了により装置全体が停止後、翌日の始業時に起動するも
のとする。この場合、時刻を−tlに電源スィッチが投
入されるとガス排気用の電磁弁14が開の状態となり、
例えば電源スィッチの投入と連動するガス排気ポンプ1
2により、光学共振器1およびガス循環路7の内部の排
気が開始される。排気の進行に伴なってガス循環路7内
の圧力が低下し、この圧力が所定の真空状態にまで排気
されたときに、ガス供給用電磁弁13を開の状態に切換
えてレーザ作動用ガスの供給を開始する。時刻t−t2
においてガス供給用電磁弁13を開の状態に切換えるが
、この切換えと相前後して循環ポンプ8を駆動させ、か
つガス排気用電磁弁14を閉の状態となるように切換え
る。供給されたガスは循環ポンプ8の駆動によりガス循
環路7内を循環するが、排気用電磁弁14が閑の状態に
切換えられているため、光学共振器1内のガス圧力は直
線的に上昇する。この後、光学共振器1内が第1の設定
圧力に達したときに、再度排気用の電磁弁14を開いて
排気を開始する。時刻t−t3で排気を再開した後はガ
スの供給ど排気とが同時に行なわれて、光学共振器1内
のガス圧力は第2の設定圧力へと収斂する。このように
して、光学共振器1内のガス圧力が第2の設定圧力にな
った時刻:t−t4に至って、レーザ発振の準備が完了
する。上記t1からt4までの時間:Toがレーザ発振
準備工程時間である。時刻t4以降は随時レーザ発振が
可能であるが、例えば図示のごとく、時刻t 10− 
t 4のときに高電圧を光学共振器1の電極間に印加し
てレーザを発振させる。
この後、シャッタ19を適宜に開いて、レーザ加工を行
なう。
ところで、実際に波加工物にレーザを導いて加工する第
1のレーザ加工工程と、第2のレーザ加工工程との間の
、いわゆる待ち時間が長い場合、光学共振器1に対する
高電圧の印加を停止するが、図示の場合時刻t −t 
11に高電圧の印加を停止し、この後、時刻t −t 
12に再度高電圧を印加するものとする。すなわち、T
1−t12−tllで示される時間:T工が光学共振器
1に対する高電圧の印加停止時間である。この時間:T
!が設定時間Taを越える場合には、ガスの供給・排気
を停止させる。例えば、時刻t −t 20にガス供給
用電磁弁13を閉じて循環路7内へのガスの供給を停止
させる。この場合、時間:T3はT3−t20−111
である。
上記のごとくガス供給用電磁13を閉じると同時にガス
排気用電磁弁14も閉じてガスの排気を停止する。この
ように電磁弁13.14を同時に閉じることにより、循
環路7内は所望のガス圧力に保たれて、レーザの再発振
を可能の状態に維持する。
なお、循環路7内にガスを充填した状態で循環ポンプ8
を停止および再起動させると、特に再起動のときに循環
ポンプ8に大きな負荷がかからないようにするために、
スローアップ制御をしなければならず、しかもガスが一
定した循環流となるまでに成る程度の時間を要する。こ
のため、−度循環ボンブ8を駆動すれば、レーザ発振器
全体を停止させるまでは循環ポンプ8を駆動状態に維持
する。
一方、循環ポンプ8には油槽を設けて循環ポンプs自体
の潤滑および冷却を行なっているが、この油槽内の油分
が循環路7中ににじみ出る。
ところで、本発明においては、光学共振器1に高電圧を
再度印加させる時、即ちレーザ再発振時にはガスの供給
および排気を行なわせるため、ガスの供給・排気により
循環路7内のガスは成る程度浄化される。このため、ガ
スの供給・排気の停止時間が短い場合、循環路7中にに
じみ出た上記油分が僅かであるため、レーザ再発振時に
殆んど問題とはならない。しかし、ガスの供給・排気を
停止した状態で長時間に互って循環ポンプ8を運転する
と、循環路7内のガスがかなり汚染され、レーザ再発振
に悪影響を及ぼす。すなわち、レーザ再発振時の初期に
、出力がおおむね安定するまでの時間、いわゆる出力立
上り時間二Tsが長くなると共に初期のレーザ出力も若
干低下する。第2図は、ガスの供給・排気を停止した状
態で循環ポンプ8を運転させる時間、いわゆるガス封じ
切り時間とガス封じ切り後に、上記のごとくレーザを再
発生させるときの出力立上り時間二Tsとの関係を示す
図である。また第3図(a)乃至(c)は、レーザ再発
振時における出力立上り時間:Tsと再発振初期におけ
るレーザ出力との関係を示す図であって、夫々第2図に
示される(イ)乃至(ハ)に対応する図である。なお、
第2図および第3図は、第4図に示される装置において
、例えば循環路7内に充填するレーザ作動用ガスの容量
を4g、ガスの供給量および排気量を夫々11 /mj
nとした定格レーザ出カフ50Wの場合について示した
ものである。特に第2図において、出力立上り時間:T
sに留意すれば、例えば、Ts≦3分間とするためには
、ガス封じ切り時間を約3時間内とすればよい。
このため、第1図(b)および(C)に示されるごとく
、時刻t20の後、設定時間:Tb経過時、すなわち時
刻t −t 21にガスの電磁弁13.14を開の状態
に操作して、循環路7のガスに対してガスの供給・排気
を行なわせる。このガスの供給・排気の時間、すなわち
ガスの補助交換時間二TCは余り長時間を必要としない
。例えば、Tb−3時間とした場合、Tc−10〜12
分間位で出力立上り時間:Tsが1分未満となるため充
分である。従って時刻t21の後、10時間後にガスの
供給・排気を停止させて、ガスの補助交換を中止する。
この後、ガスの供給・排気の停止時間:T2が設定時間
:Tbよりも大となる前に設定時間:Tcの間ガスの補
助交換を行なう。
時刻t −t 12に光学共振器1の電極間に高電圧を
再度印加するが、この印加と同時に、あるいは時刻t1
2よりも僅かに前にガスの供給・排気を行なわせる。こ
れによりレーザの再発振が直ちに行なわれるため、2〜
3分程度でレーザ加工を行なうことができ、しかもガス
の使用量の減少によりレーザの加工費用が低減する。
上記において、設定時間二TlはT1≧10分間位が好
ましい。勿論、T五を小さい値とすることができるが、
例えばT1を数分間程度とした場合、このT1を超える
時間内でレーザを再発振させるときには、ガスの供給・
排気用の電磁弁13゜14の0N−OFF時間が極めて
短くなり、実際の効果が極めて小さい割には、反って電
磁弁13゜14の制御が面倒となる。又、設定時間:T
3はT3−3分間位が好ましく、この設定時間二T3を
設けることにより、光学共振器1に対する高電圧印加の
停止の前後における、光学共振器1の内部で劣化される
ガスの排気を図ることができる。
これにも拘わらずT3−0としても、実害は殆んど発生
しないため、T3−0とすることにより更にガスの消費
量が減少する。
また、ガスの補助交換時およびレーザの再発振時におい
て、まず電磁弁13を開の状態とし、この後、例えば数
十秒後に電磁弁14を開の状態とした方が好ましい。こ
のように電磁弁13.14を操作すれば、仮に循環路7
内のガス圧力がシール部のリークにより幾分低下してい
たとしても、新らたに供給されるガスにより、低下して
いたガス圧力を増加させることができる。
勿論、レーザ発振器全体を停止させる場合は、ポンプ8
,12を停止させると共に電磁弁13゜14を閉の状態
にする。
〈発明の効果〉 以上の説明で明らかなように、本発明は、特に、ガスレ
ーザ発振器の稼働中は循環ポンプを常時運転させると共
に、レーザ発振時はガスの供給・排気を行なわせ、レー
ザ発振の停止からレーザ再発振の開始までの時間二T1
が設定時間:Taよりも大のときにはガスの供給・排気
を停止させ、かつガスの供給・排気の停止時間;T2が
設定時間:Tbよりも大となる前に設定時間二TCの間
ガスの供給・排気を行なわせるため、レーザ発振の停止
からレーザ再発振の開始までの時間が長くても、ガス循
環路7内が必要なガス圧力にほぼ維持され、したがって
レーザの再発振が直ちに行なわれて、2〜3分程度でレ
ーザ加工を行なうことができる。
さらに、レーザ発振の停止時には、ガス供給停止時間を
長くすることができるため、必然的にガスの使用量が減
少し、したがってレーザの加工費用が低減する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明を実施するための制御例を示す線図、
第2図は、本発明の詳細な説明するための図であって、
ガス封じ切り時間とレーザ再発振時の出力立上り時間と
の関係を示す図、第3図(a)乃至(e)は、レーザ再
発振時における出力立上り時間:Tsと再発振初期にお
けるレーザ出力との関係を示す図であって、夫々第2図
に示される(イ)乃至(ハ)に対応する図、第4図は、
本発明の対象となるガス循環式レーザ発振器の構造を模
式的に示す図である。 1・・・光学共振器、7・・・ガス循環路、8・・・循
環ポンプ、11・・・ガス供給源、12・・・ガス排気
ポンプ、13・・・ガス供給用電磁弁、14・・・ガス
排気用電磁弁、 ・・・ガス供給路、 ・・・ガス排気路、

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  光学共振器と、光学共振器に接続されたガス循環路と
    、ガス循環路中に設けられた循環ポンプと、ガス循環路
    に夫々接続されたガス供給源およびガス排気ポンプと、
    ガス供給・排気路に夫々設けられた開閉弁と、該開閉弁
    およびポンプを制御する制御装置とを設けたガス循環式
    レーザ発振器において、ガスレーザ発振器の稼働中は循
    環ポンプを常時運転させると共に、レーザ発振時はガス
    の供給・排気を行なわせ、レーザ発振の停止からレーザ
    再発振の開始までの時間:T_1が設定時間:T_aよ
    りも大のときにはガスの供給・排気を停止させ、かつガ
    スの供給・排気の停止時間;T_2が設定時間:T_b
    よりも大となる前に設定時間:T_cの間ガスの供給・
    排気を行なわせることを特徴とするガス循環式レーザ発
    振器のガス制御方法。
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