JPH02164871A - 5―フルオロウラシル誘導体の製造法 - Google Patents
5―フルオロウラシル誘導体の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、5−フルオロウラシル誘導体の製造方法、よ
り詳しくは制癌作用を有する化合物の製造用中間体とし
て有用であり、該化合物の生産性を向上させ得る新しい
5−フルオロウラシル誘導体の製造方法に関する。
り詳しくは制癌作用を有する化合物の製造用中間体とし
て有用であり、該化合物の生産性を向上させ得る新しい
5−フルオロウラシル誘導体の製造方法に関する。
従来技術とその問題点
従来より制癌作用を有する5−フルオロウラシル誘導体
の一つとして下記化合物が知られている。
の一つとして下記化合物が知られている。
〔式中R1は低級アルコキシ低級アルキル基を示す。〕
該化合物は、本出願人により新たに開発された制癌作用
を有する化合物でおる〔特開昭63201127号公報
参照〕が、その製造法は反応に選択性のない方法によっ
てあり、この方法によれば主として3種類の混合物とし
て目的物が得られ、その反応系からの単離はシリカゲル
カラムクロマトグラフィー等によらねばならず、これは
目的物の大量生産には操作が繁雑に過ぎ、長時間を要し
、また多量の溶媒の利用を必須とする等の不利があった
。
を有する化合物でおる〔特開昭63201127号公報
参照〕が、その製造法は反応に選択性のない方法によっ
てあり、この方法によれば主として3種類の混合物とし
て目的物が得られ、その反応系からの単離はシリカゲル
カラムクロマトグラフィー等によらねばならず、これは
目的物の大量生産には操作が繁雑に過ぎ、長時間を要し
、また多量の溶媒の利用を必須とする等の不利があった
。
問題点を解決するための手段
本発明者らは、上記従来の制癌作用を有する5フルオロ
ウラシル誘導体(A>の製造技術の改良を目的として鋭
意研究を重ねた結果、ある特定の中間体を経由する時に
は該化合物がより簡便に且つ向上された生産性をもって
製造可能となるとを見出し、ここに本発明を完成するに
至った。
ウラシル誘導体(A>の製造技術の改良を目的として鋭
意研究を重ねた結果、ある特定の中間体を経由する時に
は該化合物がより簡便に且つ向上された生産性をもって
製造可能となるとを見出し、ここに本発明を完成するに
至った。
即ち、本発明は一般式
〔式中R1は低級アルコキシ低級アルキル基を示す。〕
で表わされる化合物と一般式
級アルキル基、フェニル低級アルキル基、フェニル基、
低級アルコキシカルボニル基及びハロゲン原子からなる
群から選ばれる基を有することのあるアリル基を示す。
低級アルコキシカルボニル基及びハロゲン原子からなる
群から選ばれる基を有することのあるアリル基を示す。
〕
で表わされる化合物とを反応させて得られる一般式
(式中R1及びR2は上記に同じ。)
で表わされる化合物を脱保護して、−放火〔式中R2は
ベンゼン環上に低級アルキル基、低級アルコキシ基及び
ハロゲン原子からなる群から選ばれる置換基の1〜3個
を有することのあるフェニル低級アルキル基又は置換基
として低(式中R1は上記に同じ。〕 で表わされる化合物を得ることを特徴とする5フルオロ
ウラシル誘導体の製造法に係わる。
ベンゼン環上に低級アルキル基、低級アルコキシ基及び
ハロゲン原子からなる群から選ばれる置換基の1〜3個
を有することのあるフェニル低級アルキル基又は置換基
として低(式中R1は上記に同じ。〕 で表わされる化合物を得ることを特徴とする5フルオロ
ウラシル誘導体の製造法に係わる。
上記各式においてR1及びR2で定義される多基は、よ
り詳細には以下の多基を示す。即ち、低級アルコキシ低
級アルキル基としては、メトキシメチル、エトキシメチ
ル、1−プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、1
−ブトキシメチル、2−ブトキシメチル、tert−ブ
トキシメチル、1ペンチルオキシメチル、1−へキシル
オキシヘキシル、1−メトキシエチル、2−エトキシエ
チル、3−メI〜キシプロピル、4−メトキシブチル基
等の炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝鎖状アルコキシ基
を有する炭素数1〜6の直鎮もしくは分枝鎖状アルキル
基を例示でき、之等の内では特にエトキシメチル基及び
メトキシエチル基が好ましい。
り詳細には以下の多基を示す。即ち、低級アルコキシ低
級アルキル基としては、メトキシメチル、エトキシメチ
ル、1−プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、1
−ブトキシメチル、2−ブトキシメチル、tert−ブ
トキシメチル、1ペンチルオキシメチル、1−へキシル
オキシヘキシル、1−メトキシエチル、2−エトキシエ
チル、3−メI〜キシプロピル、4−メトキシブチル基
等の炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝鎖状アルコキシ基
を有する炭素数1〜6の直鎮もしくは分枝鎖状アルキル
基を例示でき、之等の内では特にエトキシメチル基及び
メトキシエチル基が好ましい。
低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンチル、
ヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝鎖状ア
ルキル基を、低級アルコキシ基としは、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ter
t−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の
炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝鎖状アルコキシ基等を
、ハロゲン原子としては塩素、臭素、弗素及び沃素原子
を、フェニル低級アルキル基としては、ベンジル、フェ
ネチル、3−フェニルプロピル、4−フェニルブチル、
1−メチル−2−フェニルエチル、5−フェニルペンチ
ル、6−フェニルヘキシル、2−メチル−3−フェニル
プロピル、1,1−ジメチル−2−フェニルエチル基等
のアルキル部分が炭素数]〜6の直鎖もしくは分枝鎖状
アルキル基であるフェニルアルキル基をそれぞれ例示で
きる。
イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンチル、
ヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝鎖状ア
ルキル基を、低級アルコキシ基としは、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ter
t−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の
炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝鎖状アルコキシ基等を
、ハロゲン原子としては塩素、臭素、弗素及び沃素原子
を、フェニル低級アルキル基としては、ベンジル、フェ
ネチル、3−フェニルプロピル、4−フェニルブチル、
1−メチル−2−フェニルエチル、5−フェニルペンチ
ル、6−フェニルヘキシル、2−メチル−3−フェニル
プロピル、1,1−ジメチル−2−フェニルエチル基等
のアルキル部分が炭素数]〜6の直鎖もしくは分枝鎖状
アルキル基であるフェニルアルキル基をそれぞれ例示で
きる。
また置換基として低級アルキル基、フェニル低級アルキ
ル基、フェニル基、低級アルコキシカルボニル基及びハ
ロゲン原子からなる群から選ばれる基を有することのお
るアリル基としては、アリル基の他、例えば2−ブテニ
ル、1−メチルアリル、2−ペンテニル、2−へキセニ
ル基等の低級アルキル基置換アリル基、例えば4−フェ
ニル2−ブテニル、5−フェニル−2−ペンテニル等の
フェニル低級アルキル基置換アリル基、例えば2−フェ
ニル−2−プロペニル、シンナミル基等のフェニル基置
換アリル基、例えば3−エトキシカルボニル−2−プロ
ペニル、3−メトキシカルボニル−2−プロペニル、2
−エトキシカルボニル−2−プロペニル基等の低級アル
コキシカルボニル基置換アリル基及び例えば2−クロロ
−2−プロペニル、3−クロロ−2−プロペニル基等の
ハロゲン置換アリル塞等を例示できる。
ル基、フェニル基、低級アルコキシカルボニル基及びハ
ロゲン原子からなる群から選ばれる基を有することのお
るアリル基としては、アリル基の他、例えば2−ブテニ
ル、1−メチルアリル、2−ペンテニル、2−へキセニ
ル基等の低級アルキル基置換アリル基、例えば4−フェ
ニル2−ブテニル、5−フェニル−2−ペンテニル等の
フェニル低級アルキル基置換アリル基、例えば2−フェ
ニル−2−プロペニル、シンナミル基等のフェニル基置
換アリル基、例えば3−エトキシカルボニル−2−プロ
ペニル、3−メトキシカルボニル−2−プロペニル、2
−エトキシカルボニル−2−プロペニル基等の低級アル
コキシカルボニル基置換アリル基及び例えば2−クロロ
−2−プロペニル、3−クロロ−2−プロペニル基等の
ハロゲン置換アリル塞等を例示できる。
本発明方法によれば、既知物質(1)とベンゼンジカル
ボン酸のハーフエステル(2)とを出発物質として用い
、之等の縮合反応により化合物(3)を得、次いで該化
合物(3)より脱R2基反応を行なわせることによって
文献未記載の化合物(4)を収得できる。該化合物(4
)を経由する時には、前記制癌作用物質(A>を選択的
にしかもカラムクロマトグラフィー精製等の繁雑な操作
を要することなく、容易且つ生産性よく大量に製造する
ことができる。
ボン酸のハーフエステル(2)とを出発物質として用い
、之等の縮合反応により化合物(3)を得、次いで該化
合物(3)より脱R2基反応を行なわせることによって
文献未記載の化合物(4)を収得できる。該化合物(4
)を経由する時には、前記制癌作用物質(A>を選択的
にしかもカラムクロマトグラフィー精製等の繁雑な操作
を要することなく、容易且つ生産性よく大量に製造する
ことができる。
以下本発明方法につき詳述すれば、本発明方法において
はまず、化合物(1)と化合物(2)とを縮合反応させ
て化合物(3)を得る。ここで用いられる化合物(2)
中には一部文献未記載の新規化合物が包含され、之等は
対応するジエステルの半加水分解又はベンゼンジカルボ
ン酸のモノアルキル化反応により容易に収得できる。そ
の詳細は後記参考例において詳述する。
はまず、化合物(1)と化合物(2)とを縮合反応させ
て化合物(3)を得る。ここで用いられる化合物(2)
中には一部文献未記載の新規化合物が包含され、之等は
対応するジエステルの半加水分解又はベンゼンジカルボ
ン酸のモノアルキル化反応により容易に収得できる。そ
の詳細は後記参考例において詳述する。
上記化合物(1)と化合物(2)との縮合反応は、通常
のアミド結合生成反応に従って実施できる。該アミド結
合生成反応法としては、公知の各種方法、例えば(a)
混合酸無水物法、(b)縮合剤を用いる方法、(C)酸
無水物法、(d)力ルボン酸ハライド法等を例示できる
。上記(b)の方法に用いられる縮合剤としては、N、
N’ジシシクヘキシルカルボジイミド(DCC>を代表
例として挙げることができ、他に例えば1−メチル−2
−フルオロピリジニウム メタンスルホネート、ヨウ化
1−メチル−2−クロロピリジニウム、四ホウフッ化1
−エチルー2−ブロムピリジニウム、1,3−ジメチル
−2−フルオロピリジニウム トシレート等の2−ハロ
ゲノ−1−アルキルピリジニウム塩や、例えば塩化N、
N−ジメチルクロロメチレンイミニウム、N、N、N’
N′−テトラメチルクロロホルムアミジニウム、塩化N
、N−ジフェニルクロロフェニルメチレンイミニウム等
のイミニウム塩等を例示できる。
のアミド結合生成反応に従って実施できる。該アミド結
合生成反応法としては、公知の各種方法、例えば(a)
混合酸無水物法、(b)縮合剤を用いる方法、(C)酸
無水物法、(d)力ルボン酸ハライド法等を例示できる
。上記(b)の方法に用いられる縮合剤としては、N、
N’ジシシクヘキシルカルボジイミド(DCC>を代表
例として挙げることができ、他に例えば1−メチル−2
−フルオロピリジニウム メタンスルホネート、ヨウ化
1−メチル−2−クロロピリジニウム、四ホウフッ化1
−エチルー2−ブロムピリジニウム、1,3−ジメチル
−2−フルオロピリジニウム トシレート等の2−ハロ
ゲノ−1−アルキルピリジニウム塩や、例えば塩化N、
N−ジメチルクロロメチレンイミニウム、N、N、N’
N′−テトラメチルクロロホルムアミジニウム、塩化N
、N−ジフェニルクロロフェニルメチレンイミニウム等
のイミニウム塩等を例示できる。
尚、上記各種の方法の実施の際には、化合物(2)はそ
のアルカリ金属塩、例えばナトリウム塩、カリウム塩、
リチウム塩等の形態でも、遊離形態と同様に使用するこ
とができる。
のアルカリ金属塩、例えばナトリウム塩、カリウム塩、
リチウム塩等の形態でも、遊離形態と同様に使用するこ
とができる。
上記各方法の内では、特に(d)カルボン酸ハライド法
が好ましく、この方法はより具体的には化合物(2)を
予め適当なハロゲン化剤を用いたハロゲン化反応によっ
て酸ハライドとした後、この酸ハライドと化合物(1)
とを反応させることにより実施される。
が好ましく、この方法はより具体的には化合物(2)を
予め適当なハロゲン化剤を用いたハロゲン化反応によっ
て酸ハライドとした後、この酸ハライドと化合物(1)
とを反応させることにより実施される。
上記化合物(2)のハロゲン化反応は、適当な溶媒の存
在下又は非存在下に適当なハロゲン化剤を用いて実施で
きる。ここで用いられる溶媒としては、反応に悪影響を
与えない各種のもの、例えばアセトニトリル等のニトリ
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチル
等のエステル類等を例示できる。またハロゲン化剤とし
ては、カルボキシル基の水酸基をハロゲンに代え得る通
常のもの、例えば塩化チオニル、オキシ塩化リン、オキ
シ臭化リン、五塩化リン、五臭化リン、塩化オキサリル
等を使用でき、該ハロゲン化剤の化合物(2)に対する
使用量は、無溶媒下での反応の場合は大過剰量、溶媒中
での反応の場合は一般に少なくとも等モル量程度、好ま
しくは等モル量〜3倍モル量程度の範囲から選択される
のがよい。上記ハロゲン化反応は通常O〜200℃程度
、好ましくは室温〜80’C程度の温度条件下に実施さ
れ、一般に約15分〜24時間程度で完結する。
在下又は非存在下に適当なハロゲン化剤を用いて実施で
きる。ここで用いられる溶媒としては、反応に悪影響を
与えない各種のもの、例えばアセトニトリル等のニトリ
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチル
等のエステル類等を例示できる。またハロゲン化剤とし
ては、カルボキシル基の水酸基をハロゲンに代え得る通
常のもの、例えば塩化チオニル、オキシ塩化リン、オキ
シ臭化リン、五塩化リン、五臭化リン、塩化オキサリル
等を使用でき、該ハロゲン化剤の化合物(2)に対する
使用量は、無溶媒下での反応の場合は大過剰量、溶媒中
での反応の場合は一般に少なくとも等モル量程度、好ま
しくは等モル量〜3倍モル量程度の範囲から選択される
のがよい。上記ハロゲン化反応は通常O〜200℃程度
、好ましくは室温〜80’C程度の温度条件下に実施さ
れ、一般に約15分〜24時間程度で完結する。
また上記のごとくして得られる化合物(2)のハライド
と化合物(1)との縮合反応は、適当な脱酸剤の存在下
に、適当な溶媒中で実施できる。
と化合物(1)との縮合反応は、適当な脱酸剤の存在下
に、適当な溶媒中で実施できる。
lB[剤としては通常用いられるもの、例えば炭酸水素
ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩
基性化合物及びトリエチルアミン、4−(N、N−ジメ
チル)アミノピリジン、ピリジン等の有機塩基性化合物
を使用できる。溶媒としては反応に悪影響を与えない各
種の有機溶媒、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン
等のエーテル類、アセトニトリル等の二1〜リル類、ベ
ンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン
、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類
、ピリジン、N、N−ジメチルホルムアミド等を使用で
きる。化合物(1)に対する化合物(2)の使用量は特
に限定されないが、通常少なくとも等モル量程度、好ま
しくは等モル−3倍モル量程度の範囲から選択されるの
がよい。反応温度は一般に一30〜100℃程度、好ま
しくは室温〜100℃程度とされるのがよく、反応は約
10分〜20時間程度で完結する。
ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩
基性化合物及びトリエチルアミン、4−(N、N−ジメ
チル)アミノピリジン、ピリジン等の有機塩基性化合物
を使用できる。溶媒としては反応に悪影響を与えない各
種の有機溶媒、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン
等のエーテル類、アセトニトリル等の二1〜リル類、ベ
ンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン
、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類
、ピリジン、N、N−ジメチルホルムアミド等を使用で
きる。化合物(1)に対する化合物(2)の使用量は特
に限定されないが、通常少なくとも等モル量程度、好ま
しくは等モル−3倍モル量程度の範囲から選択されるの
がよい。反応温度は一般に一30〜100℃程度、好ま
しくは室温〜100℃程度とされるのがよく、反応は約
10分〜20時間程度で完結する。
上記縮合反応により得られる化合物(3)からの脱R2
基反応は、通常の還元反応及び加水分解反応に従って実
施することができ、特に接触還元反応及び脱アルキル化
反応によるのが好適である。
基反応は、通常の還元反応及び加水分解反応に従って実
施することができ、特に接触還元反応及び脱アルキル化
反応によるのが好適である。
該接触還元反応は、より詳しくは適当な還元触媒、例え
ばパラジウム黒、水酸化パラジウム、パラジウム−炭素
、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−アルミナ等
のパラジウム触媒や酸化白金、白金−炭素等の白金触媒
ヤラネーニッケル等のニッケル触媒等を用いて実施でき
る。上記還元触媒の使用量は被還元物質重量に対して1
〜100重量%、好ましくは1〜20重量%の範囲から
選択されるのかよい。また、上記接触還元反応は1〜1
0気圧、好ましくは1〜5気圧の範囲の水素圧下に行な
われるのがよく、反応溶媒としては、反応に悪影響を与
えない各種の有機溶媒、例えばジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、酢酸エステル、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等の非プロトン性極性溶媒等を用いることが
できる。反応温度条件としては、一般に一30’C〜1
00’C程度、好ましくは室温〜100℃程度が採用さ
れ、反応は約10分〜24時間程度で完結する。
ばパラジウム黒、水酸化パラジウム、パラジウム−炭素
、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−アルミナ等
のパラジウム触媒や酸化白金、白金−炭素等の白金触媒
ヤラネーニッケル等のニッケル触媒等を用いて実施でき
る。上記還元触媒の使用量は被還元物質重量に対して1
〜100重量%、好ましくは1〜20重量%の範囲から
選択されるのかよい。また、上記接触還元反応は1〜1
0気圧、好ましくは1〜5気圧の範囲の水素圧下に行な
われるのがよく、反応溶媒としては、反応に悪影響を与
えない各種の有機溶媒、例えばジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、酢酸エステル、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等の非プロトン性極性溶媒等を用いることが
できる。反応温度条件としては、一般に一30’C〜1
00’C程度、好ましくは室温〜100℃程度が採用さ
れ、反応は約10分〜24時間程度で完結する。
上記脱アルキル化反応の内、脱ベンジル化反応は、例え
ば塩化アルミニウム、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、ヨ
ウ化トリメチルシリル、塩化トリメチルシリル−ヨウ化
ナトリウム等のルイス酸を、原料化合物に対して少なく
とも等モル量、好ましくは等モル−3倍モル量程度用い
て、反応に悪影響を与えない各種の有機溶媒、例えばジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセト
ニトリル等のニトリル類、ベンゼン、トルエン等の芳香
族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エステル等のエステ
ル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等
の非プロトン性極性溶媒等を用いることができる。反応
温度条件としては、一般に一30°C〜100’C程度
、好ましくは室温〜100°C程度が採用され、反応は
約10分〜24時間程度で完結する。
ば塩化アルミニウム、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、ヨ
ウ化トリメチルシリル、塩化トリメチルシリル−ヨウ化
ナトリウム等のルイス酸を、原料化合物に対して少なく
とも等モル量、好ましくは等モル−3倍モル量程度用い
て、反応に悪影響を与えない各種の有機溶媒、例えばジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセト
ニトリル等のニトリル類、ベンゼン、トルエン等の芳香
族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エステル等のエステ
ル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等
の非プロトン性極性溶媒等を用いることができる。反応
温度条件としては、一般に一30°C〜100’C程度
、好ましくは室温〜100°C程度が採用され、反応は
約10分〜24時間程度で完結する。
また上記脱アルキル化反応の内、脱アリル化反応は、例
えば代表的には0価のパラジウム錯体を用いて行なうこ
とができる。該パラジウム錯体の配位子としてはトリフ
ェニルホスフィン等の芳香族置換ホスフィン、ビス(ジ
フェニルホスフィノ)エタン、ビス(ジフェニルホスフ
ィノ)プロパン等のジホスフィン化合物、ベンゾニトリ
ル等のニトリル類等を例示でき、上記パラジウム錯体と
しては代表的には例えばテトラキス1〜リフエニルホス
フインパラジウム(O)、ヒスしビス(ジフェニルホス
フィノ)エタン]パラジウム(0)等を例示できる。之
等パラジウム銘体は例えば酢酸パラジウム−トリフェニ
ルホスフィン等のように反応系内で用時調製されるもの
でおってもよい。また0価パラジウムとしてはパラジウ
ム−炭素等の担体上に吸着させたものを使用することが
できる。
えば代表的には0価のパラジウム錯体を用いて行なうこ
とができる。該パラジウム錯体の配位子としてはトリフ
ェニルホスフィン等の芳香族置換ホスフィン、ビス(ジ
フェニルホスフィノ)エタン、ビス(ジフェニルホスフ
ィノ)プロパン等のジホスフィン化合物、ベンゾニトリ
ル等のニトリル類等を例示でき、上記パラジウム錯体と
しては代表的には例えばテトラキス1〜リフエニルホス
フインパラジウム(O)、ヒスしビス(ジフェニルホス
フィノ)エタン]パラジウム(0)等を例示できる。之
等パラジウム銘体は例えば酢酸パラジウム−トリフェニ
ルホスフィン等のように反応系内で用時調製されるもの
でおってもよい。また0価パラジウムとしてはパラジウ
ム−炭素等の担体上に吸着させたものを使用することが
できる。
上記O価パラジウム銘体の使用量は通常触媒量がら原料
化合物の5倍重量程度、好ましくは触媒量〜等モル量程
度の範囲から選択されるのがよい。
化合物の5倍重量程度、好ましくは触媒量〜等モル量程
度の範囲から選択されるのがよい。
上記脱アリル化反応は、前記脱ベンジル化反応と同様の
溶媒中で、同様の反応条件下に実施することができる。
溶媒中で、同様の反応条件下に実施することができる。
更に上記反応系内には例えば2−エチルヘキザン酸カリ
ウム等のカルボン酸塩を添加剤として添加させることも
可能である。
ウム等のカルボン酸塩を添加剤として添加させることも
可能である。
かくして本発明の目的とする化合物(4)を収得できる
。
。
上記各反応工程で得られる目的化合物は通常の分離手段
、例えば再沈澱法、再結晶法等により反応系内より容易
に分離でき、特に本発明方法ではその分離、精製がカラ
ムクロマトグラフィー等の繁雑な操作によることなく非
常に容易に行ない1qる利点がある。
、例えば再沈澱法、再結晶法等により反応系内より容易
に分離でき、特に本発明方法ではその分離、精製がカラ
ムクロマトグラフィー等の繁雑な操作によることなく非
常に容易に行ない1qる利点がある。
上記本発明方法により得られる化合物(4)を経由する
制癌作用物質(A>の製造は、後記参考例に詳述する通
りであり、例えば該化合物(4)と−放火 (式中R3は水素原子又はトリ(低級アルキル)シリル
基を示す。〕 で表わされる化合物とを縮合反応させることにより実施
できる。
制癌作用物質(A>の製造は、後記参考例に詳述する通
りであり、例えば該化合物(4)と−放火 (式中R3は水素原子又はトリ(低級アルキル)シリル
基を示す。〕 で表わされる化合物とを縮合反応させることにより実施
できる。
該縮合反応は、R3か水素原子の場合は、前記した化合
物(1)と化合物(2)の反応と同様の条件下に実施で
きる。また、R3がトリ(低級アルキル)シリル基の場
合は、適当な溶媒、例えばジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトニトリ
ル等のニトリル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類等の非プロトン性有機溶媒中で、
或いは無溶媒下で、通常−30〜100℃程度、好まし
くは室温〜60’C程度の温度条件下に、約1〜20時
間程度を要して行ない得る。また、この反応においては
例えば塩化アルミニウム、塩化第二錫、塩化亜鉛等のル
イス酸の触IIを用いることもできる。化合物(4)に
対する化合物(5)の使用量は通常少なくとも等モル量
程度、好ましくは等モル量〜3倍モル量程度とするのが
適当である。
物(1)と化合物(2)の反応と同様の条件下に実施で
きる。また、R3がトリ(低級アルキル)シリル基の場
合は、適当な溶媒、例えばジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトニトリ
ル等のニトリル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類等の非プロトン性有機溶媒中で、
或いは無溶媒下で、通常−30〜100℃程度、好まし
くは室温〜60’C程度の温度条件下に、約1〜20時
間程度を要して行ない得る。また、この反応においては
例えば塩化アルミニウム、塩化第二錫、塩化亜鉛等のル
イス酸の触IIを用いることもできる。化合物(4)に
対する化合物(5)の使用量は通常少なくとも等モル量
程度、好ましくは等モル量〜3倍モル量程度とするのが
適当である。
上記反応により目的とする制癌作用を有する化合物(A
>を収得できる。該化合物(A>は、通常の分離手段、
例えば再沈澱法、再結晶法等により容易に反応系内より
分離、精製でき、かくして得られる化合物(A)は、通
常の一般的な医薬製剤の形態で人を含む吐乳動物に投与
され、所望の優れた制癌効果を奏し得る。
>を収得できる。該化合物(A>は、通常の分離手段、
例えば再沈澱法、再結晶法等により容易に反応系内より
分離、精製でき、かくして得られる化合物(A)は、通
常の一般的な医薬製剤の形態で人を含む吐乳動物に投与
され、所望の優れた制癌効果を奏し得る。
実 施 例
以下、本発明を更に詳しく説明するため、本発明方法に
従う実施例並びに該実施例において用いる出発原料の製
造例及び実施例に従い得られた化合物からの制癌作用物
質の製造例を参考例として挙げる。
従う実施例並びに該実施例において用いる出発原料の製
造例及び実施例に従い得られた化合物からの制癌作用物
質の製造例を参考例として挙げる。
参考例 1
(1)イソフタル酸 モノ−p−メトキシベンジルエス
テルの製造 インフタロイルジクロライト20gを、塩化メチレン3
00m2に溶解させ、これに4−メトキシベンジルアル
コール29.950を加え、更に氷冷してトリエチルア
ミン30.2mQを滴下した。混合物を室温で20分間
放置後、不溶物を消去し、炉液を水洗し、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥後、蒸発乾固させた。残渣をアセトン8
00mQに加温溶解させ、これに水酸化ナトリウム4.
32CI水溶液300 mQを加え、還流させた。1時
間後、放冷して塩化メチレンで抽出し、水層を2N−塩
酸でDH約4に調節し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エ
チル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、減圧留去した。残渣にイソプロピルエーテル加え
て結晶化させて、無色針状晶の目的化合物16、Oq(
収率56.7%)を得た。
テルの製造 インフタロイルジクロライト20gを、塩化メチレン3
00m2に溶解させ、これに4−メトキシベンジルアル
コール29.950を加え、更に氷冷してトリエチルア
ミン30.2mQを滴下した。混合物を室温で20分間
放置後、不溶物を消去し、炉液を水洗し、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥後、蒸発乾固させた。残渣をアセトン8
00mQに加温溶解させ、これに水酸化ナトリウム4.
32CI水溶液300 mQを加え、還流させた。1時
間後、放冷して塩化メチレンで抽出し、水層を2N−塩
酸でDH約4に調節し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エ
チル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、減圧留去した。残渣にイソプロピルエーテル加え
て結晶化させて、無色針状晶の目的化合物16、Oq(
収率56.7%)を得た。
融点:139°C
(2)インフタル酸 モノベンジルエステルの製造
イソフタロイルジクロライド15q1塩化メチレン20
0mQ、ベンジルアルコール16.8mQ及びトリエチ
ルアミン22.71119を用いて、上記(1)と同様
にしてジエステル化反応を行なった後、アセトン150
回、水酸化ナトリウム3.25g及び水70mQをそれ
ぞれ用いて同様にして、無色針状晶の目的化合物4.2
4Q(収率22.4%)を得た。
0mQ、ベンジルアルコール16.8mQ及びトリエチ
ルアミン22.71119を用いて、上記(1)と同様
にしてジエステル化反応を行なった後、アセトン150
回、水酸化ナトリウム3.25g及び水70mQをそれ
ぞれ用いて同様にして、無色針状晶の目的化合物4.2
4Q(収率22.4%)を得た。
融点:107〜108℃
(3)イソフタル酸 モノアリルエステルの製造イソフ
タロイルジクロライド10CI、塩化メチレン150m
12、アリルアルコール7.37mQ及びトリエチルア
ミン15.1mQを用いて、上記(1)と同様にしてジ
エステル化反応を行なった後、アセトン360mQ、水
酸化カリウム3.040及び水120m12をそれぞれ
用いて同様にして、無色針状晶の目的化合物5.94g
(収率58.5%)を得た。
タロイルジクロライド10CI、塩化メチレン150m
12、アリルアルコール7.37mQ及びトリエチルア
ミン15.1mQを用いて、上記(1)と同様にしてジ
エステル化反応を行なった後、アセトン360mQ、水
酸化カリウム3.040及び水120m12をそれぞれ
用いて同様にして、無色針状晶の目的化合物5.94g
(収率58.5%)を得た。
融点;104〜105℃
(4)イソフタル酸 モノベンジルエステルの製造
イソフタル1m1g、ヨウ化ナトリウム0.90及び炭
酸水素ナトリウム0.55CIをN、 N−ジメチルホ
ルムアミド(DMF)10mQに加え、更にベンジルク
ロライド0.7mQを加え、80’Cで反応させた。5
時間後、氷冷して反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水層を2N−塩酸で
中性〜D)−1約4に調節し、酢酸エチルで抽出した。
酸水素ナトリウム0.55CIをN、 N−ジメチルホ
ルムアミド(DMF)10mQに加え、更にベンジルク
ロライド0.7mQを加え、80’Cで反応させた。5
時間後、氷冷して反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水層を2N−塩酸で
中性〜D)−1約4に調節し、酢酸エチルで抽出した。
酢酸エチル層をチオ硫酸ナトリウム水溶液及び飽和食塩
水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、蒸発乾固さ
せた。残渣にアセトニトリル20mQを加え、空温で3
0分間撹拌し、不溶物を炉別した。炉液を濃縮乾固し、
ヘキサンより取出して、目的化合物572.5ma(収
率37.1%)を得た。
水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、蒸発乾固さ
せた。残渣にアセトニトリル20mQを加え、空温で3
0分間撹拌し、不溶物を炉別した。炉液を濃縮乾固し、
ヘキサンより取出して、目的化合物572.5ma(収
率37.1%)を得た。
(5)イソフタル酸 モノアリルエステルの製造イソフ
タル11c!、アリルブロマイド0.57mQ、炭酸水
素す1〜リウム0.55Q及びDMF’lOmf2を用
いて、上記(4)と同様にして、目的化合物280+n
g(収率22.5%〉を得た。
タル11c!、アリルブロマイド0.57mQ、炭酸水
素す1〜リウム0.55Q及びDMF’lOmf2を用
いて、上記(4)と同様にして、目的化合物280+n
g(収率22.5%〉を得た。
(6〉イソフタル酸 モノ−p−メトキシベンジルエス
テルの製造 イソフタル酸1g、p−メトキシベンジルクロライド0
.9mQ、ヨウ化ナトリウム0.999、DMFlom
(2及び炭酸水素ナトリウム0.55CIを用いて、上
記(4)と同様にして、目的化合物360mg(収率2
0.9%)を得た。
テルの製造 イソフタル酸1g、p−メトキシベンジルクロライド0
.9mQ、ヨウ化ナトリウム0.999、DMFlom
(2及び炭酸水素ナトリウム0.55CIを用いて、上
記(4)と同様にして、目的化合物360mg(収率2
0.9%)を得た。
参考例 2
(1)1−エトキシメチル−3−(3−ベンジルオキシ
カルボニル)ヘンシイルー5−フルオロウラシル[化合
物5a]の製造 イソフタル酸 モノベンジルエステル20CIを、塩化
メチレン200mQに懸濁させ、この懸濁液に空温下に
、塩化チオニル6.83+nQ及びDMFo、3mQを
加え、2時間加熱還流し、その後、氷冷して1−エトキ
シメチル−5−フルオロウラシル(EMFLI)9.8
0及びトリエチルアミン21.71TIQを加えて再び
還流した。
カルボニル)ヘンシイルー5−フルオロウラシル[化合
物5a]の製造 イソフタル酸 モノベンジルエステル20CIを、塩化
メチレン200mQに懸濁させ、この懸濁液に空温下に
、塩化チオニル6.83+nQ及びDMFo、3mQを
加え、2時間加熱還流し、その後、氷冷して1−エトキ
シメチル−5−フルオロウラシル(EMFLI)9.8
0及びトリエチルアミン21.71TIQを加えて再び
還流した。
1.5時間後、氷冷し、不溶物を炉別し、炉液を蒸発乾
固した。残渣に酢酸エチルを加えて溶解させ、水、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄後
、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去した
。残渣をメタノール30mQ及び酢酸エチル3mQの混
液より結晶化させて、−次晶16.61Q及び二次品3
.04g、合計19.65g(収率88.5%)の無色
粒状品の目的化合物を得た。
固した。残渣に酢酸エチルを加えて溶解させ、水、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄後
、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去した
。残渣をメタノール30mQ及び酢酸エチル3mQの混
液より結晶化させて、−次晶16.61Q及び二次品3
.04g、合計19.65g(収率88.5%)の無色
粒状品の目的化合物を得た。
融点:96.5〜97.5°C
(2)1−エトキシメチル−3−(3−(4−メトキシ
ベンジル)オキシカルボニル ゾイル−5−フルオロウラシル[化合物5b]の製造 イソフタル酸 モノ−p−メトキシベンジルエステル8
.75Cl、塩化メチレン90mQ,塩化チオニル2.
62mQ.DMF 0.23mQ、EMFtJ 3
.75C]及びトリエチルアミン11、1鵬を用いて、
上記(1)と同様にして、7、85g(収率86.3%
)の無色粒状品の目的化合物を得た。
ベンジル)オキシカルボニル ゾイル−5−フルオロウラシル[化合物5b]の製造 イソフタル酸 モノ−p−メトキシベンジルエステル8
.75Cl、塩化メチレン90mQ,塩化チオニル2.
62mQ.DMF 0.23mQ、EMFtJ 3
.75C]及びトリエチルアミン11、1鵬を用いて、
上記(1)と同様にして、7、85g(収率86.3%
)の無色粒状品の目的化合物を得た。
融点:112〜114℃
(3)1−■トキシンチル−3−(−アリルオキシカル
ボニル)ベンゾイル−5−フルオロウラシル[化合物5
G]の製造 イソフタル酸 七ノーアリルエステル 5.44C]、塩化メチレン60m(2、塩化チオニル
2.31+nQ、 DMF 0.2mL EMFU3
.31C1及びトリエチルアミン9.8mGを用いて、
上記(1)と同様にして、5.55CI(収率83.8
%)の無色粒状品の目的化合物を得た。
ボニル)ベンゾイル−5−フルオロウラシル[化合物5
G]の製造 イソフタル酸 七ノーアリルエステル 5.44C]、塩化メチレン60m(2、塩化チオニル
2.31+nQ、 DMF 0.2mL EMFU3
.31C1及びトリエチルアミン9.8mGを用いて、
上記(1)と同様にして、5.55CI(収率83.8
%)の無色粒状品の目的化合物を得た。
融点:95〜96.5℃
実施例 1
1−エトキシメチル−3−(3−カルボキシ)ベンゾイ
ル−5−フルオロウラシル[化合物6]の製造 化合物5aの20を酢酸エチル15mQに溶解させ、こ
れに10%パラジウム−炭素0.2CIを加え、1気圧
下に室温で1時間接触水素還元を行なつた。上記1時間
の反応の後、触媒を炉別し、漬液を濃縮し、残渣を塩化
メチレン−イソプロピルエーテルから結晶化させ、無色
粉末品の目的化合物1.42Q (収率90.0%)を
得た。
ル−5−フルオロウラシル[化合物6]の製造 化合物5aの20を酢酸エチル15mQに溶解させ、こ
れに10%パラジウム−炭素0.2CIを加え、1気圧
下に室温で1時間接触水素還元を行なつた。上記1時間
の反応の後、触媒を炉別し、漬液を濃縮し、残渣を塩化
メチレン−イソプロピルエーテルから結晶化させ、無色
粉末品の目的化合物1.42Q (収率90.0%)を
得た。
融点:151〜152°C
実施例 2
化合物5bの1gを酢酸エチル20mQに溶解させ、こ
れに10%パラジウム−炭素0.05CIを加え、1気
圧下に室温で3時間接触水素還元を行なった。上記3時
間の反応の後、触媒を炉別し、漬液を濃縮し、残漬にア
セトニトリルを加え、不溶物を炉別した。アセトニトリ
ル溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液40+nQに注
ぎ、酢酸エチルで抽出し、水層を2N塩酸でpH約1〜
2に調節し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル槽を飽
和食塩水で洗浄後、無水Fa酸ナトリウム上で乾燥し、
溶媒を減圧留去し、残渣を塩化メチレン−イソプロピル
エーテルから結晶化させて、目的化合物[化合物6]7
30mg(定量的)を得た。
れに10%パラジウム−炭素0.05CIを加え、1気
圧下に室温で3時間接触水素還元を行なった。上記3時
間の反応の後、触媒を炉別し、漬液を濃縮し、残漬にア
セトニトリルを加え、不溶物を炉別した。アセトニトリ
ル溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液40+nQに注
ぎ、酢酸エチルで抽出し、水層を2N塩酸でpH約1〜
2に調節し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル槽を飽
和食塩水で洗浄後、無水Fa酸ナトリウム上で乾燥し、
溶媒を減圧留去し、残渣を塩化メチレン−イソプロピル
エーテルから結晶化させて、目的化合物[化合物6]7
30mg(定量的)を得た。
融点:151〜152°C
実施例 3
化合物5bの720mg及びヨウ化すi・リウム470
mgを、苗温下にアセトニトリル20mQに溶解させ、
これに1〜リメチルシリルクロライド0.4mQを加え
、加熱還流下に40分間反応させた。その後、放冷して
炭酸水素ナトリウム785mg−水40mQ液中に反応
液を入れ、30分間撹拌後、酢酸エチルで抽出した。水
層を2N塩酸でpH約4に調節し、酢酸エチルで抽出し
、酢酸エチル層をチオ硫酸ナトリウム水溶液及び飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し
、溶媒を減圧留去した。残渣を塩化メチレンイソプロビ
ルエーテルから結晶化させて、目的化合物[化合物6]
440mg(収率82.9%)を得た。
mgを、苗温下にアセトニトリル20mQに溶解させ、
これに1〜リメチルシリルクロライド0.4mQを加え
、加熱還流下に40分間反応させた。その後、放冷して
炭酸水素ナトリウム785mg−水40mQ液中に反応
液を入れ、30分間撹拌後、酢酸エチルで抽出した。水
層を2N塩酸でpH約4に調節し、酢酸エチルで抽出し
、酢酸エチル層をチオ硫酸ナトリウム水溶液及び飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し
、溶媒を減圧留去した。残渣を塩化メチレンイソプロビ
ルエーテルから結晶化させて、目的化合物[化合物6]
440mg(収率82.9%)を得た。
融点:151〜152°C
実施例 4
化合物5Gの10及びテトラキストリフェニルホスフィ
ンパラジウム(0)30.7mc+の酢酸エチル10m
Q及び塩化メチレン5111Q溶液に、2−エチルヘキ
サン酸カリウムー0.5M酢酸エチル溶液7.97mQ
を加え、室温で1.5時間反応させた。その後、水を加
えて生成塩を溶解させ、水層を分液した。水層を2N塩
酸でpH約3〜4にし、酢酸エチル抽出を行ない、酢酸
エチル層を飽和食塩水で洗浄後、無水Wt酸ナトリウム
上で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣を塩化メチレン
−イソプロピルエーテルから結晶化させて、目的物[化
合物6]770mg(収率86.2%)を得た。
ンパラジウム(0)30.7mc+の酢酸エチル10m
Q及び塩化メチレン5111Q溶液に、2−エチルヘキ
サン酸カリウムー0.5M酢酸エチル溶液7.97mQ
を加え、室温で1.5時間反応させた。その後、水を加
えて生成塩を溶解させ、水層を分液した。水層を2N塩
酸でpH約3〜4にし、酢酸エチル抽出を行ない、酢酸
エチル層を飽和食塩水で洗浄後、無水Wt酸ナトリウム
上で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣を塩化メチレン
−イソプロピルエーテルから結晶化させて、目的物[化
合物6]770mg(収率86.2%)を得た。
融点:151〜152°C
参考例 3
3− (3−(6−ペンゾイルオキシー3−シアン2−
ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)1−エトキシ
メチル−5−フルオロウラシル[化合物71の製造 (1) 化合物6の500mgを塩化メチレン2゜mQ
に懸濁下、空温下で塩化スルホニル0.13mQ及びD
MFo、01mQを加え、2時間加熱還流した。その後
、氷冷し、2,6〜ジヒドロキシ−3−シアノピリジン
390mg及びトリエチルアミン0.5mQを順次加え
、空温で1時間反応させた。その後、塩化メヂレン層を
飽和食塩水で洗浄し、無水5AllQナトリウム上で乾
燥し、溶媒を減圧留去した。残渣を酢酸エヂルージエチ
ルエーテルより結晶化させて、無色粉末の目的物[化合
物7]770mg(収率92.7%)を得た。
ピリジルオキシカルボニル)ベンゾイル)1−エトキシ
メチル−5−フルオロウラシル[化合物71の製造 (1) 化合物6の500mgを塩化メチレン2゜mQ
に懸濁下、空温下で塩化スルホニル0.13mQ及びD
MFo、01mQを加え、2時間加熱還流した。その後
、氷冷し、2,6〜ジヒドロキシ−3−シアノピリジン
390mg及びトリエチルアミン0.5mQを順次加え
、空温で1時間反応させた。その後、塩化メヂレン層を
飽和食塩水で洗浄し、無水5AllQナトリウム上で乾
燥し、溶媒を減圧留去した。残渣を酢酸エヂルージエチ
ルエーテルより結晶化させて、無色粉末の目的物[化合
物7]770mg(収率92.7%)を得た。
融点:164〜168°C
(2) 2−ブロモ−1−エチルピリジニウムテトラフ
ルオロ小レート328mgの酢酸エチル5mQ懸濁液に
、化合物6の336111g、2−ヒドロキシ−6−ペ
ンゾイルオキシー3−シアノビリジン360mCl及び
トリエチルアミン0.33mQを、空温下に順次加え、
そのまま2時間反応させた。反応液を水、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。
ルオロ小レート328mgの酢酸エチル5mQ懸濁液に
、化合物6の336111g、2−ヒドロキシ−6−ペ
ンゾイルオキシー3−シアノビリジン360mCl及び
トリエチルアミン0.33mQを、空温下に順次加え、
そのまま2時間反応させた。反応液を水、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。
残渣を酢酸エチル−ジエチルエーテルより結晶化させて
、目的物[化合物7]474.2m。
、目的物[化合物7]474.2m。
(収率84.9%)を得た。
(以 上)
Claims (1)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1は低級アルコキシ低級アルキル基を示す。 〕 で表わされる化合物と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^2はベンゼン環上に低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基及びハロゲン原子からなる群から選ばれる置
換基の1〜3個を有することのあるフェニル低級アルキ
ル基又は置換基として低級アルキル基、フェニル低級ア
ルキル基、フェニル基、低級アルコキシカルボニル基及
びハロゲン原子からなる群から選ばれる基を有すること
のあるアリル基を示す。〕で表わされる化合物とを反応
させて得られる一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1及びR^2は上記に同じ。〕 で表わされる化合物を脱保護して、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1は上記に同じ。〕 で表わされる化合物を得ることを特徴とする5−フルオ
ロウラシル誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63318816A JP2700263B2 (ja) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | 5―フルオロウラシル誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63318816A JP2700263B2 (ja) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | 5―フルオロウラシル誘導体の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02164871A true JPH02164871A (ja) | 1990-06-25 |
JP2700263B2 JP2700263B2 (ja) | 1998-01-19 |
Family
ID=18103266
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63318816A Expired - Fee Related JP2700263B2 (ja) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | 5―フルオロウラシル誘導体の製造法 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2700263B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006523184A (ja) * | 2003-02-22 | 2006-10-12 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 液晶としてのシアノピリドン誘導体 |
WO2011052554A1 (ja) | 2009-10-27 | 2011-05-05 | Delta-Fly Pharma株式会社 | 新規5-フルオロウラシル誘導体 |
-
1988
- 1988-12-16 JP JP63318816A patent/JP2700263B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006523184A (ja) * | 2003-02-22 | 2006-10-12 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 液晶としてのシアノピリドン誘導体 |
WO2011052554A1 (ja) | 2009-10-27 | 2011-05-05 | Delta-Fly Pharma株式会社 | 新規5-フルオロウラシル誘導体 |
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---|---|
JP2700263B2 (ja) | 1998-01-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |