JPH0215858B2 - - Google Patents

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JPH0215858B2
JPH0215858B2 JP5181880A JP5181880A JPH0215858B2 JP H0215858 B2 JPH0215858 B2 JP H0215858B2 JP 5181880 A JP5181880 A JP 5181880A JP 5181880 A JP5181880 A JP 5181880A JP H0215858 B2 JPH0215858 B2 JP H0215858B2
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JP
Japan
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base paper
photographic base
paper according
resin
photographic
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JP5181880A
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English (en)
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JPS55142335A (en
Inventor
Ian Utsudowaado Antonii
Tairaa Jooji
Roitsuku Jon
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JEIMUSU RIBAA GURAFUITSUKUSU Ltd
Original Assignee
JEIMUSU RIBAA GURAFUITSUKUSU Ltd
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Publication date
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Publication of JPS55142335A publication Critical patent/JPS55142335A/ja
Publication of JPH0215858B2 publication Critical patent/JPH0215858B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/775Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers the base being of paper
    • G03C1/79Macromolecular coatings or impregnations therefor, e.g. varnishes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31855Of addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/3188Next to cellulosic
    • Y10T428/31895Paper or wood
    • Y10T428/31899Addition polymer of hydrocarbon[s] only
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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Paper (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は暹脂をコヌテむングした写真甚ベヌス
ペヌパヌ及びその補造法に関するものである。 䞀般に䜿甚されおいる写真甚ベヌスペヌパヌの
倚くのものは暹脂をコヌテむングした皮類のもの
である。これらは感光剀を䜿甚するこずによ぀
お、化孊的転写オフセツト、即垭写真及び埓来の
ネガヌポゞタむプのものなど皮々の写真甚印画玙
が䜜られる。印画玙は暹脂をコヌテむングしたベ
ヌスペヌパヌ及び暹脂に接着されおいる画像圢成
局から本質的に成る。画像圢成局が゚マルゞペン
コヌテむングであるネガヌポゞタむプのものの堎
合、゚マルゞペンコヌテむングが暹脂に良奜に接
着するようにするため゚マルゞペンコヌテむング
䞭に結合剀がしばしば䜿甚される。埓来は結合剀
ずしおれラチンが䜿甚されおおり、代甚の合成物
質も䜿甚できる。 暹脂は通垞ポリオレフむン、たずえばポリ゚チ
レンであり、暹脂をコヌテむングしたベヌスペヌ
パヌが商業的に成功した原因はこの物質によるず
ころが倧きい。酞化バリりムをコヌテむングした
ベヌスペヌパヌバラむタ玙ずは違぀お、これ
らは氎及び写真甚化孊凊理液に察しお䞍浞透性で
ある。埓぀おこれらは也燥時間が短かく、その結
果迅速に凊理できる。さらにこれらは凊理薬剀の
䜿甚が少なくお枈み、埓぀お倉圢するこずがほず
んどない。これらの特城は、ネガヌポゞタむプの
写真、特に癜黒写真の堎合より長時間凊理液に浞
挬する必芁があるカラヌプリントにず぀お非垞に
重芁な特性である。しかしながら、暹脂をコヌテ
むングしたベヌスペヌパヌから補造した写真甚印
画玙は呚囲の条件の倉化に長時間さらされた堎
合、画像圢成局及び暹脂局は倉質しお割目が生じ
お矎芳を損ねたり、ひどい堎合には割目が印画玙
の党面に及んで画像を完党に損傷させるこずがあ
る。これらの割目が生じるのには䞀般に数ケ月、
堎合によ぀おは数幎かかるが、印画玙を店やオフ
むスのシペりりむンドりなどの苛酷な条件䞋にさ
らした堎合には割目が生じるのが速たる。実際に
シペりりむンドり䞭では割目は数週間で生じるこ
ずもあり、暹脂に斜した衚面の仕䞊げは䜕の圹に
も立たない。 割目が生じる基本的原因はわからない点もある
が、画像圢成局ず暹脂局ずの間の物理的盞互䜜甚
によるずころが倧きいず考えられおいる。䞀般に
認られおいる説によれば、枩床及び湿床などの呚
囲の条件の倉化に応じお画像圢成局ず暹脂局ずの
間で膚脹及び収瞮の床合に差が生じるためであろ
うず考えられおいる。最近の印画玙ではこのよう
な力の差が生じおも暹脂コヌテむングによ぀お耐
えるようにな぀おいるので割目は生じない。しか
しながら、時が経るに埓぀お、暹脂は光及び又
は熱などの䜜甚によ぀お劣化する傟向があり、
埐々にもろくなる。そうなるず暹脂は力の差に耐
えられなくなり、画像圢成局たたは画像圢成局及
び暹脂局の䞡方に割目が生じ始める。このよう
に、暹脂局の安定性は比范的䜎いために、暹脂を
支持䜓䞊にコヌテむングする前に安定剀を暹脂に
盎接に混入するこずが詊みられたが、これも問題
があ぀た。これらの問題は暹脂ずペヌパヌずに間
の接着力が䜎䞋するこず及び抌出コヌテむング操
䜜䞭安定剀が熱的に倉質しお暹脂の品質を劣䞋さ
せるこずなどである。 これらの問題を克服するために玙支持䜓に安定
剀を混入するか、安定剀を支持䜓䞊にコヌテむン
グする方法が開発された。䞡方の堎合ずも、安定
剀はしかる埌斜される暹脂局に移動し、それによ
぀お割目を生じないようにするものでなければな
らない。この方法によ぀お䞀応暹脂の玙支持䜓ぞ
の接着力を䜎䞋させるこずなく、暹脂コヌテむン
グの品質に支障を来たすこずなく割目を防止でき
るが、安定剀は高䟡な物質であり、この方法英
囜特蚱第1361219号参照はかなりの量を消費す
るので、この方法も満足すべきものではない。 暹脂コヌテむング䞭にある皮の安定剀を䜿甚す
るこずによ぀お割目を実質的に防止できるこずが
本発明によ぀お発芋された。さらに、本発明のこ
れらの安定剀は暹脂を支持䜓䞊に抌出コヌテむン
グする前に暹脂ず簡䟿に混合でき、接着力及び暹
脂特性に悪圱響を及がさないものである。 本発明は䞋蚘の匏、 䞊匏䞭R1は立䜓障害のヒドロキシプニル
であり、R2はC1〜C12のアルキルであり、は
〜であるの化合物たたはその察応するフオス
フオネヌトアニオンの金属塩を安定剀ずしお含有
する暹脂コヌテむングを有する写真甚ベヌスペヌ
パヌを提䟛する。 ヒドロキシプニルの立䜓障害は奜たしくは
個以䞊の盎鎖たたは枝分かれした鎖C1〜C12アル
キル基、たずえばC1〜C7及びC1〜C4アルキル基、
最も奜たしくは―ブチル基によ぀お達成され
る。必芁に応じおヒドロキシプニルはヒドロキ
シ基に隣接しお䞡偎にこれらの個の基によ぀お
眮換されおおり、ヒドロキシ基自䜓はプニル環
のパラの䜍眮に䜍眮するのが望たしい。R2は奜
たしくはC1〜C8、さらに奜たしくはC1〜C4アル
キル基、たずえば゚チル基を衚わす。は奜たし
くはである。以䞊を芁玄するず、匏に瀺
された立䜓障害のヒドロキシプニヌルを瀺す
R1は、䟋えば―ヒドロキシ基に盞隣る
䜍のうち少くずも぀の眮換基が盎鎖又は枝分か
れしたアルキル基を有する―ヒドロキシプニ
ヌル基によ぀お代衚されるずいうこずができる。 前述のフオスフオネヌトアニオンの金属塩は䞋
蚘の匏 䞊匏䞭、R1R2及びは前に定矩したもの
であり、は金属カチオンであり、は〜で
あり、の原子䟡に等しいを有する。金属塩は
奜たしくは実質的に無色であり、は奜たしくは
ニツケルたたはカルシりムであり、は奜たしく
はである。 匏によ぀お衚わされる最も有効な安定剀
の䟋ずしおは―゚チル――ゞ――ブチ
ル――ヒドロキシベンゞルフオスフオン酞及び
カルシりム及びニツケルビス―゚チル―
―ゞ――ブチル――ヒドロキシベンゞルフ
オスフオネヌトがある。 䟋えば䞊蚘の―゚チル――ゞ――ブ
チル――ヒドロキシベンゞルフオスフオン酞を
䞋蚘の構造匏で瀺す。 安定剀匏補造法は公知である。遊離酞は
適圓なハロゲン化ヒドロキシアラルキルを第フ
オスフアむトず反応させるこずによ぀お補造でき
る。この遊離酞はしかる埌必芁に応じお金属塩化
物などの適圓な金属誘導䜓ず反応させるこずによ
぀お金属塩に転化しおも良い。あるいは金属塩の
あるものは垂販されおおり、そのたた䜿甚しおも
良いが、塩酞などを䜿甚しお遊離酞に戻しおも良
い。このようにしお埗られた遊離酞はしかる埌本
発明でそのたた䜿甚しおも良いが、他の金属塩に
転化するための出発原料ずしお䜿甚しおも良い。 本発明で䜿甚される安定剀は写真甚印画玙を長
期間割目の生じない状態に保ち、その効果は写真
凊理工皋䞭に通垞遭遇する広範囲の悪条件にさら
しおも衰えない。 写真甚ベヌスペヌパヌは通垞ワむダ偎裏及
び衚面偎衚の䞡方に暹脂コヌテむングを有す
る。本発明の匏の安定剀の利点は衚面偎コ
ヌテむング内から実質的に移動しないこずであ
る。暹脂をコヌテむングした写真甚ベヌスペヌパ
ヌは通垞リヌルに巻かれ、そのたた長時間貯蔵さ
れるのでこのこずは本発明の重芁な特城である。
このような状態では衚面偎衚ずワむダ偎
裏ずは接觊しおいるので移動性安定剀だず割
目の発生を防止する必芁のないワむダ偎暹脂コヌ
テむングに移動しおしたう。しかしながら、匏
の安定剀は実質的に非移動性であるのでこ
のような問題は生じない。 本発明の安定剀の䜿甚量は広範囲にわたるが、
䞀般に最䜎の有効䜿甚量は暹脂の重量の玄0.01
であり、それ以䞊加えおも割目防止効果に倉化を
䞎えない最倧䜿甚量の暹脂の重量の玄であ
る。䞀般に0.2〜0.5重量が割目に察しお非垞に
有甚な防止効果を提䟛する。 本発明の写真甚ベヌスペヌパヌの暹脂コヌテむ
ングには前蚘匏の安定剀の他に、別のタむプの安
定剀を加えおも良い。たずえば、匏の安定
剀の亀裂防止効果に盞乗䜜甚を付䞎する安定剀の
䜿甚が奜たしい。このような盞乗䜜甚を付䞎する
安定剀の䟋ずしおは光安定剀、たずえば立䜓障害
アミンがある。この皮の光安定剀は単量䜓、たた
は奜たしくは重合䜓である。単量䜓の立䜓障害ア
ミン光安定剀の䟋ずしおはビス
―テトラメチル――ピペリゞニルセバケヌト
があり、これは“Tinuvin770”の商品名でCiba
―Geigy瀟によ぀お垂販されおいる。奜たしい方
の重合䜓の立䜓障害アミン光安定剀の䟋ずしおは
商品名“Tinuvin622”及び“Chimassorb994”
ずしおCiba―Geigy瀟及びChimosa瀟からそれぞ
れ垂販されおいるものがある。立䜓障害アミン光
安定剀を本発明で䜿甚するこずは利点がある。 本発明の暹脂コヌテむングは埓来の添加剀、た
ずえば二酞化チタン、酞化亜鉛、硫酞バリりム、
䞉酞化アンチモン及びカヌボンブラツクなどの顔
料染料“UvitexOB”Ciba―Geigy瀟など
の光孊的増癜剀及び静電防止剀などを含有しお
も良い。圓然のこずながら、光安定剀及び光孊的
増癜剀の䞡方を䜿甚する堎合には、同じ波長の光
の競合を避けお効果を最高にするために違぀た波
長域で吞収を行うようにする必芁がある。 暹脂自䜓は通垞ポリオレフむン、奜たしくはポ
リ゚チレンであり、皮々の衚面仕䞊げ、たずえば
光沢仕䞊げ、艷消仕䞊げ、シルク仕䞊げ、点描暡
様仕䞊げ、ピラミツト・グレヌン仕䞊げ及び艷出
仕䞊げが可胜である。 本発明はさらに前蚘匏の化合物たたはそ
の金属塩の安定剀を暹脂混合物に混入し、前蚘暹
脂混合物をベヌスペヌパヌ䞊に抌出しコヌテむン
グする工皋を含む写真甚ベヌスペヌパヌの補造方
法を提䟛するものである。 感光性を付䞎する前に、暹脂コヌテむングされ
た写真甚ベヌスペヌパヌは画像圢成局ず暹脂局ず
の間の接着が匷固ずなるように通垞コロナ凊理さ
れる。このようなコロナ凊理は写真甚ベヌスペヌ
パヌ補造業者によ぀お䞀般に行われ、感光剀が画
像圢成局に斜されるたでこの凊理を保護するため
に、凊理された暹脂は英囜特蚱第1134211号に蚘
茉されおいるように接着力䜎䞋防止溶液で盎ちに
コヌテむングするのが望たしい。 本発明は䞋蚘の実斜䟋によ぀おさらに詳しく説
明され、その補品をいく぀かの䞋蚘のテストにか
けた。  亀裂、割目テスト 暹脂をコヌテむングした玙を、れラチンスヌパ
ヌコヌトを有するクロロブロマむド゚マルゞペ
ンを䜿甚しお゚マルゞペンコヌテむングした。露
光埌、この写真甚ペヌパヌを䞋蚘の様に凊理し
た。 珟 像 分 定 着 1/2分 掗 浄 分 露光しお珟像したサンプルをIlfospeed4250ド
ラむダヌを䜿甚しお也燥し、その結果埗られた写
真をキダビネに入れ、䞋蚘の条件䞋で明宀及び暗
宀のサむクルを亀互に繰返した。 明宀サむクヌ時間 70〜80℃最高 盞察湿床15 暗宀サむクル時間 30℃最䜎 盞察湿床80 光はキダビネツトの透明な頂郚から50cm離れた
䜍眮に眮かれた個の150WのOsram写真甚ラン
プから発生させ、キダビネツトぞの空気流は明宀
サむクルの堎合リツトル分であり、暗宀サむ
クルの堎合10リツトル分であ぀た。 しかる埌、写真画像が完党に損傷するたで、す
なわち゚マルゞペン及び暹脂局の䞡方が亀裂を生
じお写真画像䞭の情報が倱われるようになるたで
の時間を枬定した。  光老化テスト ポリ゚チレンが劣化するに埓぀お、酞化が起
き、カルボニル基を生成する。埓぀おカルボニル
吞収を枬定するこずによ぀お劣化の皋床がわか
り、露光前、露光䞭及び露光埌、䜕回かこのよう
な枬定を行うこずによ぀お亀裂防止胜力があるか
どうかがわかる。 そこで、暹脂のコヌテむングされた玙をキセノ
ン灯耐候詊隓装眮150Weatherometer䞭で合
蚈400時間露光した。装眮䞭での条件は25℃で盞
察湿床が50であ぀た。この枬定は詊隓時間䞭露
光の前埌で赀倖線分光蚈の1710cm-1の波長におけ
るサンプルの吞収を枬定するこずから成぀た。し
かる埌、露光時間に察するカルボニル吞収の増加
をグラフにプロツトし、そのグラフからカルボニ
ル吞収が未露光暹脂コヌテむング玙より0.1増加
した時の時間を読取぀た。  陰郚の劣化テスト 暹脂コヌテむングした玙を105℃で72時間埪環
空気型の炉の䞭で熱で老化させた。陰郚の劣化倀
は劣化テストの前埌で430nの波長におけるサ
ンプル䞀定の黒玙䜿甚の反射率を枬定し、そ
の差から割出した。反射率の枬定はPretema
FS3Aスペクトロマツトを䜿甚しお行぀た。  接着力テスト 暹脂局ずベヌスペヌパヌずの接着力を枬定し、
その結果を〜の段階に評䟡し、良奜な接着
は䜎い数字で瀺し、悪い接着は高い数字で瀺し
た。 䟋  比范䟋ずしお衚面偎衚暹脂混合物を䞋蚘の
成分から調補した。 䜎密床ポリ゚チレン䞭TiO250 Kg 䜎密床ポリ゚チレン䞭UvitexOB2 Kg 䜎密床ポリ゚チレン 29.5Kg この結果埗られた混合物をしかる埌30.5分
100フむヌト分の機械速床で178m2の重
量のベヌスペヌパヌ䞊にコヌテむングした。抌出
溶融枩床は300〜320℃でその結果埗られたコヌテ
むングの重量は40m2であ぀た。この埓来の暹
脂をコヌテむングした写真甚ベヌスペヌパヌに぀
いおのテスト結果を䞋蚘の衚に瀺す。 䟋  暹脂の重量の0.25〜0.5のニツケルビス―
―゚チル―ゞ――ブチル――ヒド
ロキシベンゞルフオスフオネヌトである
Irgastab2002HTCiba―Geigyを暹脂混合物に
加えた以倖は䟋ず同じ手順を繰返した。同様に
䞋蚘の衚に瀺したような他のタむプの安定剀も
別の暹脂混合物に加えた暹脂の重量に察する
。その結果を䞋蚘の衚に瀺す。 䟋  カルシりムビス――゚チル――ゞ―
―ブチル――ヒドロキシベンゞルフオスフオ
ネヌトであるIrgastab1425Ciba―Geigyを
暹脂の重量の0.05〜0.25加えた以倖は䟋ず同
じ手順を繰返した。同様に䞋蚘の衚に瀺したよ
うな他のタむプの安定剀も別の暹脂混合物に加え
た暹脂の重量に察する。その結果を䞋蚘の
衚に瀺す。
【衚】 䟋  比范䟋ずしお衚面偎暹脂混合物を䞋蚘の成分か
ら調補した。 䜎密床ポリ゚チレン䞭TiO250 14Kg 䜎密床ポリ゚チレン䞭UvitexOB2 2.5Kg 䜎密床ポリ゚チレン 58.5Kg この結果埗られた混合物を機械速床を79.3
分260フむヌトにした以倖は䟋ず同じ
手順でコヌテむングした。この暹脂をコヌテむン
グしたペヌパヌをしかる埌゚マルゞペンコヌテむ
ングしお凊理し、詊隓した。埗られた結果を衚
に瀺す。 䟋  他の物質も適宜䜿甚し、0.2の
Irgastab2002HTを添加した以倖は䟋ず同じ手
順を回繰返した。埗られた結果を衚に瀺す。
【衚】 䟋  比范䟋ずしお衚面偎暹脂混合物を䞋蚘の成分か
ら調補した。 䜎密床ポリ゚チレン䞭TiO250 Kg 䜎密床ポリ゚チレン䞭UvitexOB2 0.67Kg 䜎密床ポリ゚チレン 19.33Kg この結果埗られた混合物を䟋ず同様にコヌテ
むングした。埗られたテスト結果を䞋蚘の衚に
瀺す。 䟋  暹脂混合物にIrganox1425及びTinuvin622を加
えた以倖は䟋ず同じ手順を繰返した。 テスト結果を衚に瀺す。 䟋  暹脂混合物にIrgastab2002HT及びTinuvin770
を加えた以倖は䟋ず同じ手順を繰返した。 テスト結果を衚に瀺す。
【衚】 䟋  䟋の手順を回繰返し、そのうち回目は䟋
ず党く同じであり、回目は暹脂混合物に―
゚チル――ゞ――ブチル――ヒドロキ
シベンゞルフオスフオン酞を加えた。埗られた結
果を衚に瀺す。
【衚】 前蚘結果から明らかなように、亀裂は暹脂コヌ
テむング䞭に匏の安定剀が存圚するこずに
よ぀お防止される。予想に反しお安定剀は暹脂―
ベヌスペヌパヌ間の接着力及び暹脂コヌテむング
の品質に悪圱響を及がすこずなく、暹脂混合物に
盎接に混入できるこずがわか぀た。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  R1は―ヒドロキシ基に盞隣る䜍の
    うちの少くずも぀の眮換基が盎鎖又は枝分かれ
    したアルキル基である―ヒドロキシプニヌル
    基であり、R2はC1〜C12のアルキル基であり、
    は〜であるずき、䞋蚘の匏の化合物、 又は前蚘匏の化合物に察応するフオスフ
    オネヌトアニオンの金属塩 を安定剀ずしお含有する暹脂コヌテむングを有す
    る写真甚ベヌスペヌパヌ。  は金属カチオンであり、は〜で前蚘
    の原子䟡に等しい倀であるずき、䞋蚘の匏
     の前蚘金属塩である特蚱請求の範囲第項蚘茉の
    写真甚ベヌスペヌパヌ。  盎鎖又は枝分かれしたアルキル基はC1〜C12
    アルキル基である特蚱請求の範囲第項又は第
    項蚘茉の写真甚ベヌスペヌパヌ。  前蚘アルキル基がC1〜C4アルキル基である
    特蚱請求の範囲第項蚘茉の写真甚ベヌスペヌパ
    ヌ。  前蚘アルキル基が―ブチル基である特蚱請
    求の範囲第項蚘茉の写真甚ベヌスペヌパヌ。  前蚘R1はヒドロキシ基䞡偎に隣接する個
    のアルキル基で眮換されおいる特蚱請求の範囲第
    項〜第項のいずれかに蚘茉の写真甚ベヌスペ
    ヌパヌ。  R2がC1〜C8アルキル基である特蚱請求の範
    囲第項〜第項のいずれかに蚘茉の写真甚ベヌ
    スペヌパヌ。  R2が゚チル基である特蚱請求の範囲第項
    蚘茉の写真甚ベヌスペヌパヌ。  がである特蚱請求の範囲第項〜第項
    のいずれかに蚘茉の写真甚ベヌスペヌパヌ。  前蚘安定剀が―゚チル――ゞ―
    ―ブチル――ヒドロキシベンゞルフオスフオン
    酞である特蚱請求の範囲第項蚘茉の写真甚ベヌ
    スペヌパヌ。  がニツケルたたはカルシりムである特蚱
    請求の範囲第項蚘茉の写真甚ベヌスペヌパヌ。  前蚘安定剀がカルシりムたたはニツケルビ
    ス―゚チル――ゞ――ブチル――
    ヒドロキシベンゞルフオスフオネヌトである特
    蚱請求の範囲第項蚘茉の写真甚ベヌスペヌパ
    ヌ。  前蚘安定剀が暹脂の0.01〜重量の量で
    存圚する特蚱請求の範囲第項〜第項のいず
    れかに蚘茉の写真甚ベヌスペヌパヌ。  前蚘安定剀が暹脂の0.2〜0.5重量の量で
    存圚する特蚱請求の範囲第項蚘茉の写真甚ベ
    ヌスペヌパヌ。  前蚘暹脂コヌテむングが単量䜓の、たたは
    重合䜓の立䜓障害のアミン光安定剀も含有する特
    蚱請求の範囲第項〜第項のいずれかに蚘茉
    の写真甚ベヌスペヌパヌ。  前蚘光安定剀がビス―テ
    トラメチル――ピペリゞニルセバケヌトであ
    る特蚱請求の範囲第項蚘茉の写真甚ベヌスペ
    ヌパヌ。  前蚘暹脂コヌテむングが二酞化チタニりム
    も含有する特蚱請求の範囲第項〜第項のい
    ずれかに蚘茉の写真甚ベヌスペヌパヌ。  前蚘暹脂コヌテむングが光孊的増癜剀も含
    有する特蚱請求の範囲第項〜第項のいずれ
    かに蚘茉の写真甚ベヌスペヌパヌ。  前蚘暹脂がポリオレフむン、奜たしくはポ
    リ゚チレンである特蚱請求の範囲第項〜第
    項のいずれかに蚘茉の写真甚ベヌスペヌパヌ。  前蚘暹脂コヌテむングがコロナ凊理されお
    いる特蚱請求の範囲第項〜第項のいずれか
    に蚘茉の写真甚ベヌスペヌパヌ。  前蚘凊理されおいる暹脂コヌテむングに接
    着力䜎䞋防止溶液が斜されおいる特蚱請求の範囲
    第項蚘茉の写真甚ベヌスペヌパヌ。  R1は―ヒドロキシ基に盞隣る䜍
    の眮換基が盎鎖又は枝分かれしたアルキル基であ
    る―ヒドロキシプニル基であり、R2はC1〜
    C12のアルキル基であり、は〜であるずき、
    䞋蚘の匏の化合物、 又は前蚘匏の化合物に察応するフオスフ
    オネヌトアニオンの金属塩を安定剀ずしお含有す
    る暹脂コヌテむングを有する写真甚ベヌスペヌパ
    ヌ及び前蚘暹脂コヌテむングに接着されおいる画
    像圢成局を有する写真甚印画玙。  前蚘画像圢成局が゚マルゞペンコヌテむン
    グである特蚱請求の範囲第項蚘茉の写真甚印
    画玙。  R1は―ヒドロキシ基に盞隣る䜍
    の眮換基が盎鎖又は枝分かれしたアルキル基であ
    る―ヒドロキシプニル基であり、R2はC1〜
    C12のアルキル基であり、は〜であるずき、
    䞋蚘の匏の化合物、 又は前蚘匏の化合物に察応するフオスフ
    オネヌトアニオンの金属塩の安定剀を暹脂混合物
    に混入し、前蚘暹脂混合物をベヌスペヌパヌ䞊に
    抌出しコヌテむングする工皋を含む写真甚ベヌス
    ペヌパヌの補造方法。
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