JPH02154154A - フローインジェクション分析 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はフローインジェクシジン分析に関する。

特に精度と再現性が向上した分析を行なうことが出来、
コンピューター制御用にプログラムすることが出来る改
善したフローインジェクション分析ンステムに関する。

本発明に於ける特別な装置は新奇なサンプル配合（ｐｒ
ｅｐａｒａｔ　１ｏｎ）ポンプであり、これはフローイ
ンジェクション分析以外に例えば、較正、最適化及び検
出器の特性決定及び小さなスケールの反応容器システム
の一部分として使用することが出来る。

（従来の技術） フローインノエクション分析（Ｆ　Ｉ　Ａ）は、分析者
が流体、特に液体の分析を行なうのに有用な汎用性のあ
る技術である。本質的にはこの技術は、分析する流体の
サンプルをキャリヤー中でサンプルと反応する１つ以上
の試薬と混合して、その間に反応によりひき起こされる
あらゆる変化に対応する検出器に送られる。このシステ
ムは反応物を含むキャリヤー流中にサンプルを注入する
ことにより行なわれるか（通常のＦ　Ｉ　Ａ）、又はサ
ンプルを含むキャリヤー流中に反応物を注入することに
より行なわれる（逆Ｆ　Ｉ　Ａ）、このシステムはサン
プル又は試薬の注入と検出器での検出との１川の時間間
隔を正確に制御出来、それにより定常状態に達すること
を待つ迄もなく反応生成物を検出することが出来る。そ
れ故迅速なサンプリングが可能であり、検出前の許され
た時間間隔内に完結しない反応を利用することが出来る
。ＦＩＡを行なうための典型的装置には、キャリヤーを
送り出す為のポンプ、サンプルインジェクター、反応に
必要な滞留時間を得るだめの任意のコイル及び検出器を
含む。

これらの目的のための既知の形式のポンプは嬬動ポンプ
（ｐｅｒｉｓｔａｌｔｉｃ　ｐｕｆｆｌｐ）と、圧力下
ガス源からガスをレギュレーターバルブを経て液溜めの
充填空間に送ることにより液体が排水されるボトル様液
溜めから成る。そのような調整器バルブは特には正確で
なく、液溜め中にある液体排出口上の液体ヘッドの変化
を何ら補正しない。

（発明が解決しようとする課題） 本発明は、従来のポンプを使用して得られる流体の流れ
よりも安定した流体の流れをＦＩＡシステムに於いて用
いることにより優れた効果を奏することに存する。この
改善した流体操作システムは信頼性があり、これは好ま
しくはコンピューターで制御するように設計された適応
性のあるプログラム可能な機器とすることで信頼性と正
確さをより高めることが出来る。

（課題を解決するための手段） 本発明の第１の目的は液溜め、該液溜めから液体を送り
出すための排出チューブ、及び該チューブを通して液溜
めから液体を送り出すための液溜めにガスを導入する手
段から成る液体ポンプにおいて、ガスが液溜め中の液体
内に導入されることを特徴とする液体ポンプを提供する
。

ガスを排出チューブの入口に対し相対的に固定されたレ
ベルに導入してこのレベルに於ける圧力を一定にしても
良い。

ガスは周囲圧（ａｍｂｉｎｔ　ｐｒｅｓｓｕｒｅ）以上
の圧のものを導入しても良く又、排出チューブに吸引力
をかけて吸引してもよい。

固定したレベルは上述の入口のレベル又は隣接するレベ
ルであってし良い。

こうして、ボトルから放出される液体の圧力を一定に保
ち、それにより液体の流速を一定にする。

加圧ガスは正確に制御された一連の素速いガスパルスと
して液溜めに送っても良い。パルス間隔は液体の所望の
流速に従って変えることが出来る。

例えば液体の流速か低い場合のパルス間隔は２ミリセカ
ンドであり、液体の流速が高い場合のパルス間隔は最高
２０ミリセカンドであってもよい。

これらの数値は標準タイプのＦＩＡ装置に関するもので
あり、これとは異なるその他のサイズのものでは異って
もよい。パルスの反復周期数は最高約２００Ｈｚまで制
御可能であるが、一般にはバルブの寿命を長く保つ為に
最高約２０Ｈｚまでで設定される。

こうして溶媒／試薬の流速とその供給量を制御するため
にパルス時間とパルス反復周期数が制御される。標準装
置に於いては、流速は最高約５ＩＩＩｅＺ分までのもの
が典型的である。高い内部圧に耐え得るように設計され
た液溜めを使用すれば高い流速ら可能である。

ガス送入チューブの開口端に於けるガス圧は、コンピュ
ーター制御された装置を任意に使用して感知してもよく
、このガス圧は大気圧に関連する参照シグナル（例えば
、コンピューター発生）と比較される。圧力感知は例え
ばビエゾレジティヴ（ｐｉｅｚｏｒｅｓｉｔｉｖｅ）差
圧センサーによって行なっても良い。測定圧と参照シグ
ナル間のあらゆる差違は、パルス時間とパルス反復周期
後の何れか又は両方を変化さｄ゛てガスの流速を変える
ために使用される。これらはガス解放バルブのタイミン
グを変更することにより変化する。この圧力制御法を用
いれば、ドライブガスと周囲大気と圧力差は、周囲大気
の変動及び／又は溶媒／試薬の要求に無関係に一定に保
たれる。この一定の圧力差は、液体流を停止又はスイッ
チするためのバルブをポンプの後に取付けた場合は特別
に変更することが出来る。

上述したように、この装置は溶媒／試薬の高い又は低い
流速で操作される。溶媒／試薬が低い流速である場合、
ガスブリードがシステムに設けられる。ガスブリードラ
インはヘッドスペースに連結され、ヘッドスペースから
ガスがゆっくり抜けてドライブガス圧をより良く制御し
その結果液体の流速をより良く制御する。

このシステムは単一のサンプル又は試薬ポンプに限定さ
れず、実際には数個のポンプ（その各々は前述のように
改良されたもの）を設けても良い。

従って、このシステムは単一サンプルを１種以上の試薬
と、数種のサンプルを単一の試薬と又は１種以上のサン
プルを１種以」二の試薬と混合することが出来る。

本発明の改良したＦＩＡシステムは既知のポンプを使用
する従来のシステムよりも幾つかの利点を有する。この
システムでは流速を制御した溶媒／試薬をスムーズにパ
ルス的でなく安定に送る。

溶媒／試薬ポンプの液体の下方への流し始め及び流し終
わりに逆もどりがない。そして停止流（ｓｔ。

ｐｐ６ｄ　−ｒ　ｌｏｗ）実験では瞬間的にスタートす
る。加圧ガスは溶媒／試薬それ自体中に送り込まれるの
で溶媒／試薬をパージ又は脱気しつつヘッドスペースま
で上昇する。それにより溶媒／試薬中の気泡を避ける。

液体のパージ及び／又は脱気を効果的に行なうために、
ヘリウムを使うと良い結果が得られた。ポンプシステム
及び実質的に装置全体が溶媒及び／又は試薬に対し不活
性な物質で作られる。その結果消耗性部材（例えば、嬬
動ポンプのエラストマーチューブ）を取り代える必要性
を省く。

このシステムはポンプ中に圧力ヘッドの活性フィードバ
ック制御を提供する。又周囲圧とドライブガス圧の変化
に対し高い許容度を提供する。このシステムは、溶媒／
試薬の消耗に伴なうポンプ中の液体（溶！Ｓ、／試薬）
レベルの変化を補ない、それにより一定の液体レベルを
維持する必要性を省く。

高品質のガス調整器は不要だが、安全のためにキャピラ
リーレストリクターにつながれる低圧解放バルブは良質
のものが望ましいが、ガス調整器は高品質のものである
必要がない。ポンプは再現性良く正確に溶媒／試薬を非
常に低い流速で送ることが出来る。

本ＦＩＡシステムの検知器はＦＩＡ装置で使用される通
常の如何なるもの、例えば分光光度計、液体クロマトグ
ラフ、電気化学的感知器又は原子スペクトロスコープで
あってし良い。

液体ポンプは、バルブ手段間をつなぐ１本のうインを含
むサンプリングをセクションを含むＰＩＡマニホールド
共に使用しても良い。尚、そのバルブ手段は第１にその
ラインをサンプルで充填することが出来節２のそのサン
プルをキャリヤー流に流すことが出来る。

ＦＩＡマニホールドは、他のラインを流れる他の流体と
混合するためのバルブ手段を経て１つの流体を運ぶため
のラインを含む。又２つの流体を瞬間的に素速く混合す
るために高周期でバルブ手段の開閉を繰り返し行う手段
を有する。

以下本発明を添付図面を参照して実施例により説明する
。

第１図は溶媒／試薬ポンプを示す。

第２図は第１図のポンプの制御回路の概略を表わす。

第３図はシステムの各要素がコンピューター制御されて
いるＦＩＡマニホールドの略図を表わす。

第４図はサンプリング集成装置の１例中の３方バルブシ
ステムの略図を表わす。

第５図は第３図のマニホールドシステムから送られてく
る流体を吸い出すのに適する減圧ユニットを表わす。

第６図は第３図のマニホールドシステムで使われる３つ
のタイプのミキサーを示す。

第７図は種々の安全装置を備える第１図のポンプを示す
。

先ず第１図に関し、キャリヤー流に流体２（例えば、溶
媒又は試薬）を供給するためのポンプ１はチューブ５と
６が通るスクリューキャップ４を備えたボトル３のよう
な液溜めから成る。チューブ５はガスの送入用に、そし
てチューブ６は液体２の排出用に提供される。チューブ
５と６の両方ともボトル１の底部付近に開口端を有し、
各々の開口端は液体界面下の同じレベルに存する。

第１図に示されたポンプに於いてガス送入チューブ５と
液体排出チューブ６の開口端は液体中同じレベルに存す
るか、これは好ましい設計であるに過ぎず、もし異なっ
たレベルであってもこれがそのまま常に保たれるならば
チューブの開口端は液体中界なったレベルに存在しても
良い。

キャピラリーチューブ７もキャップ４内を通過し、そし
てキャピラリーチューブ１０（図ではコイル状であるが
必ずしもコイル状である必要はない。）の開口自由端に
つながれる。これによりヘッドスペースのガスブリード
ラインを提供する。

ガス送入チューブ５は圧力センサー８につながれたサイ
ドアームを有し、このセンサーはセンサーをポンプ制御
回路に接続するための端子９に電線でつながれる。ガス
送入チューブ５はチューブをドライブガスコントロール
バルブ（これは任意にコンピューター制御される。）に
つなぐためのコネクターＩｔを備える。液体排出チュー
ブ６はバルブ（これは任意にコンピューター制御される
。）を経てチューブをＦＩＡマニホールドにつなぐため
のコネクター１２を有する。

第２図はドライブガスをポンプに送入するための制御回
路を示す。圧力８（好ましくは大気圧）のシグナルは１
３で増幅され、１６で増幅された１５の参照電圧（ｒｅ
ｆｅｒｅｎｃｅ　ｖｏｌｔａｇｅ）シグナルと共に別の
増幅器１４を通る。種々の電気的配置が参照シグナルの
安定性を高めるために十す用出来る。

第２図に示す態様に於いて、１４からの増幅されたシグ
ナルはコンパレーター１７を経てデジタルパルス発生器
１８に送られる。送られてきたこのシグナルは１９から
の別のシグナル（任意にこれはコンピューター制御下発
せられる。）と共にこの発生器１８で、ガス送入圧を制
御するために要求に従ってパルスの周期数とパルス発生
時間を制御する。例えばコンピューター制御下発せられ
たシグナルは送入ガスの必要な圧力を決定するために、
パルス時間を制御するだけでなく、圧力変換器を１７で
比較するための電圧設定点を確立しても良い。このよう
にして制御されたパルス発生器Ｉ８からのシグナル、即
ちポンプに対して望ましい条件を維持するための又は確
立するためのパルス時間及びパルス反復（ｐｕｌｓｅ　
ｒｅｐｅｆｉｔｉｏｎ）に関する情報を含むシグナルが
バルブドライバー２０に送られる。

第１図に示したようなポンプを含むＦＩＡマニホールド
を第３図に示す。図中、２１８．２１　ｂｘ２］ｃ及び
２１ｄは溶媒／試薬ポンプ、２２　ａｓ　　２２ｂ及び
２２ｃはミキサーで、例えば３方バルブ、モして２３は
サンプリングシステム（これは第４図に示す）である。

検出器２４は例えば分光光度計でこのマニホールドにつ
ながれる。明らかなように原理的には、マニホールドは
あらゆる数の溶媒／試薬の液体をサンプルのあらゆる所
望の割合で混合することが出来る。各溶媒／試薬のポン
プは上述したように設計され制御されて正確な量の流体
を供給する。

サンプリングシステム２３を第４図に示す。このサンプ
リングシステムは５つの連続した３方バルブ２５〜２９
から成る。バルブ２５はライン３１で洗浄流体源に、且
つライン３２で分析物質のサンプル源につながれる。バ
ルブ２５はスイッチ式に洗浄流体又はサンプルの何れか
を３方バルブである第２のバルブ２６に送る。バルブ２
６は洗浄流体を矢印３３の方向に流し排水管又は廃棄物
処理まで直接送ることが出来、又サンプルを矢印３４の
方向に流してマニホールドシステムに送ることが出来る
。３方バルブ２７はバルブ２６から受は取ったサンプル
又はライン３７からの（キャリヤー）流体の何れかをバ
ルブ２８にスイッチ的に送る。バルブ２８でサンプルは
スイッチ的に廃棄物処理ライン（矢印３５）又は検出器
（矢印３６−バルブ２９とミキサー２２ｂ及び２２ｃを
経て）に送られる。バルブ２９によりサンプリングシス
テムは完成する。このバルブ２９は示されるように、ラ
イン３７からの（キャリヤー）流体をミキサー２２ｂ及
び２２ｃを経て）直接検出器に送ることが出来る。又は
その（キャリヤー）流体をバルブ２７を経てサンプルラ
インにスイッチ的に送ることが出来る。

サンプリングシステムの操作は以下のように行なう。停
止流（ｓｔｏｐｐｅｄ　−ｆ　ｌｏｗ）サンプリング、
即ち検出器迄送られる流体の流れが断続的であるサンプ
リングに対しては、バルブ２５と２６をサンプルがライ
ン３４に流れるように操作しそしてバルブ２７と２８を
ライン３５に流れるように操作する。バルブ２９はキャ
リヤーが検出器に流れないようにする。この集成装置に
於いては、サンプルはバルブ２６．２６．２７及び２８
を通って廃棄物ラインに送られ、キャリヤー流体の流れ
は切離される。バルブ２８をサンプルがバルブ２９と検
出器ラインまで送られるように操作し、同時にバルブ２
７をライン３４からのサンプルの流れが遮断されるよう
に操作し且つライン３７からの（キャリヤー）流体を通
すように操作する。その結果、キャリヤーはバルブ２７
と２８の間に存するサンプルをバルブ２９を経て検出器
ラインまで運ぶ。

こうしてサンプルのスラップ（ｓｌｕｇ）を検出器まで
送ることが出来る。

連続流（ｃｏｎｔ　１ｎｕｏｕｓ　−ｆ　ｌｏｗ）サン
プリング、即ち検出器迄送られる流体の流れが連続的で
あるサンプリングに対しては、サンプルはバルブ２５．
２６．２７及び２８を通って廃棄処理ラインに流れるが
、キャリヤー流体はバルブ２９を通って検出器ラインに
流れる。もし同時にバルブ２７．２８及び２９のスイッ
チ操作を行なえば、ライン３４からのサンプルの流れは
切り離され、且つサンプルライン（即ち、バルブ２７と
２８の間に存するサンプルスラッグ）はキャリヤー流体
により検出器ラインを通って運ばれる。こうして、流体
を連続的に検出器ラインに流しつつ、サンプルスラッグ
を所望に運ばせろ。

サンプルシステムをパージするために、バルブ２５と２
６をサンプルが直接廃棄処理にパージされるように操作
し、バルブ２７と２８をキャリヤー流体が廃棄処理ライ
ン又は検出器ラインに送られるように操作する。

サンプリングシステムを洗浄するために、洗浄流体がバ
ルブ２６．２７、及び２８の間のラインを通って廃棄処
理ライン又はバルブ２９を経て検出器まで送られるよう
に、バルブ２５．２６．２７及び２８を操作する。

種々の操作機能を行なうための種々のバルブ変化ンーケ
ンス（ｓｅｑｕｅｎｃｅ）をコンピューターにプログラ
ムし、予備決定したプログラムで分析を自動的に行える
ようにすることが出来る。

第３図及び第４図のマニホールドシステムに於いて、流
体（洗浄、サンプル、キャリヤー又は試薬の流体）はド
ライブガスの押圧下システムに運ばれる。しかしその代
わりに減圧により流体をシステムに運んでも良い。後者
のタイプのシステムは例えば、検出器２４の後につなが
れた減圧ユニット、即ち第５図に示す適当な減圧ユニッ
トを有する第３図のようなマニホールドシステムを含ん
でらよい。

第５図に関し、減圧ユニット又は真空制御ユニット３８
は圧力定格容器３９を含む。検出器（２４）からの廃棄
流体は、常に一定の高さの流体４１中に浸けられたライ
ン４０を通って、この容器３９中に運ばれる。ライン４
２は容器３９を突出装置４３に接続する。装置４３中に
於いて、気体又は液体を（例えば排水又は排気して）送
入管４４と排出管４５を通して流してライン４２を真空
にし、容器３９から流体を吸い出す。次いでそれにより
容器３９が減圧され、検出器からの流体がライン４０を
通って吸い込まれる。そして事実上流体は全マニホール
ドシステムを通って吸い出される。

この減圧度の制御は、気体、例えば周囲大気を、開ける
ことの出来ないタイプの３方バルブのような制御バルブ
４７を経てライン４６を通して容器３９に流入するのを
制御することにより行なわれる。バルブ４７は第１図の
ポンプの押圧ドライブガスバルブについて前述したと同
じ方法で制御される。圧力センサー／制御ユニット４８
はガス源（周囲大気）の圧力との相対的減圧度を監視し
、第２図で説明したのと類似の制御回路を使って容器３
９に流入するガスパルスを送る。

上述したように、圧縮ガス源を使って流体を押し流す代
わりに、減圧ユニット中を第３図のマニホールドシステ
ムの検出器２４の後に設置して、流体をマニホールドを
通して吸い出しても良い。

その他の方法では減圧ユニットを、押し流す方法の代わ
りとしてではなくそれを補足するためにマニホールドに
取り付けるのは好ましい。この方法では容器に加える圧
力を高めないで、マニホールドの両側間の圧力差をより
大きくすることが出来る。これにより例えば、流体をよ
り速く通すことが出来る。そしてこのシステムはサンプ
ル及び／又は試薬が粘性流体である場合これを操作する
のにより適している。

減圧ユニットを備えたマニホールドに於いて、サンプル
及び／又は試薬ポンプはマリオツドの原理に基づいて作
動する、より簡単な装置であってもよい。又吸込みシス
テムに於いては、圧縮ガス源は必要なく、このことは、
例えば現場使用の輸送に対しこのシステムは魅力的であ
る。

第３図のマニホールドシステムはミキサー２２ａ、２２
ｂ及び２２ｃを含み、使用しても良い３つのタイプのミ
キサーを第６図に６ａ、６ｂ及び６Ｃとして表わす。第
６図に於いてｌと記された部材は本質的に第１図のポン
プである。

第６ａ図の装置は（ポンプから送られる）１つの流体を
他の流体流に連続的に供給するためのものである。それ
で第３図に関し、ミキサー２２ａ１２２ｂ及び２２ｃの
何れもこの構成（ｃｏｎｆ　ｉｇｕｒａｔ　１ｏｎ）を
有しても良い。もし所望であれば、図中破線で示された
更なるミキサーを設けてら良い。

第６ｂ図はポンプから送られる１つの流体を別の流体流
中に断続的に添加できる２方バルブを含むミキサーを示
す。ポンプからの流体をパルス的でなく供給することに
より又、高周波数（典型的には１〜１ｏＯＨｚ）の２方
供給バルブの繰り返し操作により２つの流体流を効果的
に混合することが出来る。このバルブはあらゆる所望の
マークスペース比（ｍａｒｋ　５ｐａｃｅ　ｒａｔｉｏ
）で操作しても良い。

付加的なミキサーを図中破線で示すように任意に設けて
も良い。

供給バルブは好ましくは第６Ｃ図に示すような低い死体
積（ｄｅａｄ　−ｖｏｌｕｍｅ）の３方バルブである。

付加的なミキサーを図中破線で示すように任意に設けて
も良い。

第６ａ図の配置に於いて、流体の混合比は混合される流
体流の相対圧力により単独に決定される。

しかし第６ｂ図及び第６ｃ図の配置１：、於いては、バ
ルブのタイミングと流体圧力は流体の供給に影響を与え
るので、混合比に対して更なる制御が導入される。

使用する各タイプの混合装置に於いて、マニホールドシ
ステム中の各ポイントの混合操作は、流体流を正確に且
つ反復可能に混合するためにサンプリング操作を行なっ
ている時でさえもコンピューターで制御できるのが好ま
しい。

ポンプ中にそしてそのポンプの制御システム中に組み込
まれるのが望ましい幾つかの安全装置を、第７図に示す
。図に示されるように、このシステムは付加的な圧力セ
ンサーと圧力解放バルブを導入して改良されている。ガ
ス送入チューブ５はサイドアームで圧力センサー４９に
つながれたガス送入バルブ４８につながれる。圧力セン
サー４９からのシグナル５０は圧力センサー８からのシ
グナルと比較される。センサー４９で感知される圧力は
常にセンサー８で感知される圧力よりも大きくなければ
ならぬ。ガスブリードチューブ７は解放バルブ５１を通
ってガス抜き（Ｖｅｎｔ）ラインに接続される。

これらの装置は、ガスの供給が止まりその結果ポンプか
らの液体が圧力センサー８又はガス供給バルブ４８及び
そのガス源にさえ逆に流入して損傷してしまうという事
態に対して設計されている。

第７図の改良システムに於いて、不注意にガス供給のス
イッチを切ったりしてガスの供給が止まった場合、ポン
プのヘッドスペースに於けるガス圧はバルブ４８を通っ
て供給されるガス圧よりも大きくなる。圧力センサー４
９はバルブ４８に供給されるガス圧を測定しこれをセン
サー８で測定したヘッドスペースの圧力と比較する。取
り付けられた電気回路は、ヘッドスペースがポンプに解
放されるようにバルブ５１の開きを制御する。このシス
テムは、間違いが修正されバルブ５１がリセットされる
までポンプは作動しないように設定することが出来る。

電源が切れた場合、ガス供給バルブ４８は閉鎖されガス
源を遮断する。そしてバルブ５１は開いてポンプのヘッ
ドスペースは解放される。

望ましいその他の安全装置（これは示されていない。）
は、ガス供給ライン中の圧力解放バルブ（つまりｌ　Ｏ
ｐｓｉｇ　〜６８　ｋＰ　ａ）とキャピラリーレストリ
クターである。又、通常のポンプの使用に於いて受ける
内部圧よりもはるかに大きな内部圧に耐え得るようなポ
ンプ本体、例えばプラスデックを塗装したガラス瓶又は
プラスチック瓶を使うことら望ましい。

【図面の簡単な説明】

第１図は溶媒／試薬ポンプを示す。 第２図は第１図のポンプの制御回路の概略を表わす。 第３図はシステムの各要素がコンピューター制御されて
いるＦ■Ａマニホールドの略図を表わす。 第４図はサンプリング集成装置の１例中の３方バルブシ
ステムの略図を表わす。 第５図は第３図のマニホールドシステムから送られてく
る流体を吸い出すのに適する減圧ユニットを表わす。 第６図は第３図のマニホールドシステムで使われる３つ
のタイプのミキサーを示す。 第７図は種々の安全装置を備える第１図のポンプを示す
。 特許出願人　インペリアル・ケミカル・インダストリー
ズ・ビー　エル　ター ほか２名 代　理　人　弁理士　青白　葆　はか１名第 図 第３図 第４図 第２図 第５図 第６図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、液溜め、該液溜めから液体を送り出すための排出チ
   ューブ、及び該チューブを通して液溜めから液体を送り
   出すための液溜めにガスを導入する手段から成る液体ポ
   ンプにおいて、ガスが液溜め中の液体内に導入されるこ
   とを特徴とする液体ポンプ。 ２、ガスが排出チューブの入口に対して相対的に固定さ
   れたレベルで液体中に送られ、そのレベルで圧力が一定
   に保たれる請求項１記載の液体ポンプ。 ３、固定したレベルが排出チューブの入口と同じか、ま
   たは非常に近い請求項２記載の液体ポンプ。 ４、ガスが周囲圧以上の圧で液溜めに導入される請求項
   １〜３の何れかに記載の液体ポンプ。 ５、ガスが排出チューブに吸引力をかけることにより液
   溜めに導入される請求項１〜３の何れかに記載の液体ポ
   ンプ。 ６、ガス制御された間隔と周期を有する一連の素速いパ
   ルスとして液溜めに導入される請求項１〜５の何れかに
   記載の液体ポンプ。 ７、液溜めへのガスの供給を制御するためにガス送入チ
   ューブの開口端に於ける圧力を感知し、これを大気圧に
   関連する参照シグナルと比較するための手段を含む請求
   項１〜６の何れかに記載の液体ポンプ。 ８、液溜め中の液体上のヘッドスペースに存するガスブ
   リードラインを含む請求項１〜７の何れかに記載の液体
   ポンプ。 ９、請求項１〜８の何れかに記載の液体ポンプの少なく
   とも１つ含むフローインジェクション分析装置。 １０、バルブ手段間をつなぐ１本のラインを含み、該バ
   ルブ手段が第１に該ラインにサンプルを充填することが
   出来、第２にそれをキャリヤー流中に送り出すことが出
   来るサンプリングセクションを含む請求項９に記載のフ
   ローインジェクション分析装置。 １１、別のラインを流れる別の流体と混合するためのバ
   ルブ手段を経て１つの流体を送るためのラインを含み、
   ２つの流体を瞬間的に素速く混合するために高周期でバ
   ルブ手段の開閉を繰り返すための手段を有する請求項９
   又は１０の何れかに記載のフローインジェクション分析
   。 １２、コンピューター制御手段を含む請求項１〜１１の
   何れかに記載の装置。