JP2002517716A - 試料洗浄ステーションアセンブリ - Google Patents

試料洗浄ステーションアセンブリ

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オントジェン コーポレイション
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Abstract

(57)【要約】 洗浄ステーションアセンブリ(10)及び試料格納アセンブリ(12)中の選択試料の洗浄方法。前記洗浄ステーションアセンブリ(10)は、フレーム(11)を有する洗浄ステーションと、前記フレーム(11)に連結した流体分注アセンブリ(14)と、を含む。前記流体分注アセンブリ(14)は、複数の流体ライン(18)に連結可能な選択弁(46)を有する。前記選択弁(46)に一列の注射器(42)を連結している。各々の注射器は、流体又は空気がピペット針(32)から注射器の中に逆流することを防ぐ逆止弁を含む。前記選択弁(46)には、前記注射器(42)に連結した複数のチャネルを有する分配多岐管を連結している。各々の分配チャネルの中には、流体が注射器(42)から前記多岐管の中に逆流することを防ぐ多岐管弁を有する。前記洗浄ステーションアセンブリ(10)に廃物管理システム(24)を連結し、ハロゲン化廃液と非ハロゲン化廃液を自動的に分離するようになっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 (技術分野) 本発明は、概して、既知の組成の化学的ライブラリーの作成を援助する装置お
よび方法に関し、特に、化学的ライブラリーの作成中に使用する洗浄ステーショ
ンを含む自動流体分注および分配アセンブリに関する。
【0002】 (背景技術) 分子の構造と機能との間の関係は、生物学およびその他の化学をベースとする
システムの研究における基本的な問題である。構造と機能との間の関係は、例え
ば、酵素の機能、細胞間の連絡、および細胞の制御およびフィードバック機構を
理解する場合に重要である。ある種の巨大分子は、特定の三次元空間および電子
配置を持つ他の分子を相互に作用し、結合することが知られている。このような
特異性を持つ任意の巨大分子は、その巨大分子が、酵素であれ、タンパク質であ
れ、糖タンパク質であれ、抗体であれ、またはDNA、RNA等のオリゴヌクレ
オチドのシーケンスであれ、受容体であると見なすことができる。受容体と結合
する種々の分子は、配位子と呼ばれる。
【0003】 このような配位子を発生する通常の方法は、固体相の樹脂の上で段階的に分子
を合成する方法である。ペプチド、オリゴヌクレオチドおよび小さな有機分子の
ための固体相合成の導入以来、自動または手動技術を使用する個々の分子を数千
、場合によっては、数百万も発生することができる固体相戦略を使用する新規な
方法が開発されてきた。分子のファミリーまたはライブラリーを発生するこれら
の合成戦略は、通常、「組合せ化学」戦略または「組合せ合成」戦略と呼ばれる
。製薬業界においては、分子のこれらのファミリーまたはライブラリーは、多く
の場合、96のウエル・プレートにフォーマットされている。このフォーマット
化は、生物学的受容体に対する新しい配位子を識別する目的で、これらの分子を
スクリーニングする便利な方法である。
【0004】 組合せ化学ライブラリーの作成を援助するために、上記ライブラリーを作成す
るために必要な多くのまたはすべての化学的ステップを自動的に実行する科学的
な装置が製造されてきた。本発明の譲受人に譲渡された、1997年4月17日
付の、PCT特許出願WO97/14041は、自動組合せ化学ライブラリー合
成装置の一例を開示している。上記特許出願の全文は、引用によって本明細書の
記載に援用する。自動組合せ化学ライブラリー合成装置のもう一つの例は、ケン
タッキー州ルーイヴィル所在のアドバンスト・ケムテック社(「ACT」)が製
造しているモデル396MPS全自動多重ペプチド合成装置である。本発明の譲
受人に譲渡された、1997年3月11日付の「化学的ライブラリーを発生する
ための方法および装置」という名称の、米国特許第5,609,826号は、自
動組合せ化学ライブラリー合成装置のもう一つの例を開示している。上記米国特
許の全文は、引用によって本明細書の記載に援用する。
【0005】 上記自動組合せ化学ライブラリー合成装置の場合には、固体の支持体上で、多
くの異なる分子が同時に合成され、その場合、異なる分子または分子の組が各反
応室内で合成される。試薬の次の連続的な組が添加される前に、上記固体支持体
上に一組の試薬が添加される。それ故、成長している各分子または分子の組は、
複数の組の入力試薬を各反応室に添加することにより段階的に合成される。
【0006】 当業者であれば周知のように、組合せ合成のプロセスは、一連の試薬の導入を
必要とするばかりでなく、洗浄、デブロッキング、キャッピング、および他の反
応ステップも必要とする。これらのステップは、反応室に種々の試薬の組が導入
されるシーケンスとは無関係に実行しなければならない。
【0007】 TECAN5032(スイスのホムブレクチケン(Hombrechtike
n)、フェルドハクストラッセ(Feldhachstrasse)80、CH
−8634のTECAN社製造)のようなピペット・ワークステーションを内蔵
するある種の自動組合せ化学ライブラリー合成装置の場合には、洗浄、デブロッ
キング、キャッピング、またはその他の通常実行されるステップの際に使用する
試薬および溶剤を導入するのに、一つまたは二つのピペット針だけを使用するこ
とができる。これらのステップは、すべての反応室において同時に実行すること
ができるので、適当な試薬または溶剤を導入するのに、一つまたは二つのピペッ
ト針しか使用できないというのでは、組合せ化学ライブラリーを合成するのに必
要な時間が有意に長くなる。
【0008】 組合せ化学ライブラリーを作成するためのもう一つの時間制約要因は、ピペッ
ト・ワークステーションの作業デッキの上に設置されている、移動させることが
できない反応ブロックを使用していることである。化学ライブラリーを合成する
ためのすべての手順上のステップが、ピペット・ワークステーションの作業デッ
キ上に反応ブロックが位置している間に実行しなければならない場合には、化学
合成の間、ワークステーションは、完全に占有されることになる。この時間は、
ある反応シーケンスを完了するのに、場合によっては、数時間、または数日を要
する場合もある。一方、(米国特許第5,609,826号で、カーギル氏およ
びマイエフスキー氏が使用しているような)移動式反応ブロックを使用すれば、
種々のピペット・ワークステーションを使用することができる。
【0009】 組合せ化学ライブラリーを作成する際のさらにもう一つの時間制約要因は、非
標準フォーマット反応ブロックを使用していることである。96の井戸マイクロ
階層プレート・フォーマット(9ミリの中心上に井戸を持つ)上で、組合せ化学
ライブラリーを合成することができる96の室を持つ反応ブロックを使用した場
合には、合成後に、ライブラリーを標準タイプの96の井戸フォーマットにピペ
ットで注入するのに必要な時間が短くなる。それ故、これらのライブラリーを、
再度フォーマットしなくても、種々の受容体に対して直接スクリーニングするこ
とができる。このような反応ブロックの一例については、カーギル氏およびマイ
エフスキー氏の、米国特許第5,609,826号を参照されたい。
【0010】 各ピペット・ワークステーションは、化学合成の際に必要な特定のタスクに合
わせて一意に調整することができる(カーギル氏およびマイエフスキー氏の、米
国特許第5,609,826号を参照されたい)。各ピペット・ワークステーシ
ョンの機能は、個々の試薬または複数の組の試薬を反応ブロック内の特定の位置
に送ることである。別の場合には、ピペット・ワークステーションの機能は、個
々の試薬または一組の試薬を反応ブロックのすべての位置に送ることである。こ
のようなワークステーションの機能は、特定の組のピペット・タスクに最もよく
調整することができる。当業者であれば周知のように、洗浄、デブロッキング、
キャッピング等を必要とする多くの化学的ステップは、反応ブロック内での最も
よい実行方法は、同時に実行すること、すなわち、並列に実行することである。
それ故、洗浄溶剤、デブロッキング試薬およびキャッピング試薬、または反応ブ
ロック内のすべての位置に共通な他の試薬のピペットによる採取または供給の最
もよい実行方法も並列に実行することである。
【0011】 WO97/14041が開示している洗浄ステーションは、反応ブロック内の
96の反応室内に試薬または溶剤を同時に導入する、96の一列のピペット針を
持つ、有意に改良された自動洗浄ステーションを供給する。従って、複数の試料
の洗浄、デブロッキング、キャッピング等の合成ステップは、並列に実行され、
それにより、組合せ化学ライブラリーの作成の時間が短縮し、コストが低減する
。しかし、上記合成プロセスは、依然として、時間が掛かるステップを含んでい
る。例えば、その内部に異なる試料を含む、異なる反応ブロックは、多くの場合
、洗浄ステップ中に異なる溶剤を使用しなければならない。さらに、例えば、洗
浄用の溶剤の交換、またはデブロッキング用の試薬の交換も、時間の掛かるステ
ップを含んでいる。溶剤を交換し、各試料に対する選択した溶剤の適当な量を供
給するための洗浄ステーションの再校正は、場合によっては、難しく、時間の掛
かるプロセスである。
【0012】 従来の洗浄ステーションは他に、反応室内に同時に分配するために、すべての
針に選択した量の溶剤または試薬を正確に分配するという問題等を抱えている。
正確な量の溶剤または試薬を使用しなかった場合には、結果が不正確なものにな
り、合成プロセスが信頼できないものになり、化学ライブラリーの信頼性が失わ
れる。96の針のような多数のピペット針に選択した溶剤または試薬を分配する
場合には、上記問題は深刻なものになる。
【0013】 合成プロセスの抱えるもう一つの問題は、同じ洗浄ステーションは、通常、種
々のハロゲン化および非ハロゲン化溶剤を使用することである。ハロゲン化溶剤
の処分は、骨が折れる高いコストが掛かるプロセスである。何故なら、ハロゲン
化溶剤の処分は、法規上および環境上注意深く制御しなければならないからであ
る。一方、非ハロゲン化溶剤の処分は、そんなに厳格ではない。従って、廃棄溶
剤は、ハロゲン化溶剤と非ハロゲン化溶剤とに分離される。しかし、分離プロセ
スは、効果的に、効率的に安いコストで行うには、困難なプロセスであった。そ
れ故、この業界では、依然として、(洗浄、デブロッキング、キャッピング等の
ような)ある種の反応ステップを迅速に、効率的に行い、上記反応ステップから
の(ハロゲン化溶剤および非ハロゲン化溶剤のような)廃棄物を管理するための
装置および方法の開発が待望されている。
【0014】 (発明の開示) 本発明は、選択した流体を複数の容器に分注するための流体分注アセンブリ、
および従来技術の欠点を克服する、選択した流体または試料を分注するための方
法を提供する。本発明のある実施形態の場合には、流体分注システムは、流体源
から流体を受け取るように位置している多岐管入口を持つ分配多岐管を含む。分
配多岐管は、すべての多岐管入口に接続している複数の分配チャネルを持つ。各
分配チャネルは、そこを通って流体が流れることができる別々のチャネル出口を
持つ。各分配チャネルは、また、流体が、各分配チャネル内を一方向に流れるこ
とができるように、その内部に弁を持つ。一列の流体分注装置が、分配多岐管に
接続している。各流体分注装置は、チャネル出口を通過する流体を受け取るため
に、各分配チャネルのチャネル出口に接続している。各流体分注装置は、流体が
、各流体分注装置から一方向に流れることができるように、その内部に弁を持つ
【0015】 本発明の他の実施形態の場合には、流体分注システムは、別々の溶剤ラインに
より複数の溶剤源に接続することができる洗浄ステーションアセンブリである。
洗浄ステーションは、フレームに接続している溶剤分注アセンブリを含み、溶剤
分注アセンブリは、溶剤ラインに接続することができる選択弁を持つ。選択弁は
、複数の位置の間で調整することができ、各位置に設定することにより、複数の
溶剤の中の一つの溶剤だけが一度に選択弁を通ることができる。
【0016】 選択弁は、分配多岐管により、スポイト等のような一列の溶剤格納部材に接続
していて、そのため、選択弁を通過する溶剤は、分配多岐管を通してスポイトに
分配される。分配多岐管は、選択弁に接続していて、選択弁からの溶剤を受ける
ように配置されている多岐管入口を持つ。分配多岐管は、多岐管入口と連絡して
いる複数の分配チャネルを持ち、各分配チャネルは、各スポイトに接続している
。各分配チャネルは、溶剤を各スポイトに送る出口を持つ。スポイトは、スポイ
トから分注された溶剤を受け取るピペット針のような一列の分配部材に接続して
いる。ピペット針およびスポイトは、反応ブロック等のような試料格納アセンブ
リに対して、溶剤を試料格納アセンブリ内の試料に分注するように設置すること
ができる。
【0017】 本発明のある実施形態の場合には、洗浄ステーションアセンブリは、選択弁の
位置を制御するために、選択弁に動作できるように接続しているプログラム可能
なコントローラを含み、そのため、そこを通って分配多岐管に流れる溶剤を制御
する。選択弁は、また、上記コントローラに接続している位置センサを含み、そ
のため、コントローラは、選択弁の位置をモニタおよび識別することができ、そ
れにより、どの溶剤が選択弁を通過しているのかをモニタする。
【0018】 ある実施形態の場合には、溶剤分注アセンブリは、運動できるように分配支持
体に接続していて、上記分配アセンブリ支持体は、運動できるように、フレーム
に接続していて、そのため、溶剤分配アセンブリは、分配多岐管と上部支持プレ
ートとの間を延びる一列のスポイトを持つ。上部支持プレートは、分配多岐管に
対して、上部位置と下部位置との間を運動することができる。スポイトは、上部
支持プレートが、下部位置から上部位置に移動した場合、各スポイトを選択した
量の溶剤で満たすために、吸気ストロークに沿って延びていて、また運動する。
スポイトは、上部支持プレートが、上部位置から下部位置に移動した場合には、
各ピペット針を通して溶剤を排出するために、排出ストロークを通して圧縮され
、運動することができる。スポイトの分注ストローク中に、スポイトから溶剤が
逆流するのを防止するために、逆止弁が、分配多岐管内の各分配チャネルに設置
されている。
【0019】 各スポイトは、分配多岐管に、取り外すことができるように接続しているスポ
イト・コネクタに形成された入口ポートを通して吸気ストローク中に、分配多岐
管から溶剤を受け取る。上記コネクタも、分注ストローク中に溶剤をスポイトか
らピペット針に送るための出口ポートを含む。吸気ストローク中に出口ポートを
通して溶剤または空気がスポイトに入るのを防止しながら、溶剤がスポイトから
流れることができるように、逆止弁のような弁が、出口ポートに設置されている
。逆止弁は、また、排出ストローク中に、溶剤がスポイトから分配多岐管内に流
入するのを防止する。従って、溶剤は、分配多岐管からスポイトへの一方通行経
路を持ち、出口ポートおよびピペット針を通してスポイトからの一方通行経路を
持つ。
【0020】 本発明の他の実施形態の場合には、洗浄ステーションアセンブリは、洗浄ステ
ーションから廃棄溶剤を受け取るために、洗浄ステーションに接続している排液
管理システムを含む。排液管理システムは、洗浄ステーションから排出される溶
剤のタイプにより、廃棄溶剤を第一または第二の廃棄溶剤容器へ選択的に送る流
量制御弁を含む。流量制御弁は、コントローラに接続していて、コントローラは
選択弁に接続していて、コントローラは、自動的に、選択弁を通過する容器のタ
イプ(例えば、ハロゲン化容器または非ハロゲン化容器)に基づいて、流量制御
弁の位置を調整する。従って、排液管理システムは、洗浄ステーションが使用し
た容器の自動的に分離する。
【0021】 本発明は、また、洗浄ステーションアセンブリで、選択した試料を洗浄するた
めの方法を提供する。本発明のある実施形態の場合には、上記方法は、別々の溶
剤ラインを通して、洗浄ステーションアセンブリの調整可能な選択弁に複数の溶
剤を送るステップと、上記溶剤の中の一つを、選択弁を通して分配多岐管に流れ
ることができるように選択弁を調整するステップと、ほぼ同時に、分配多岐管に
より、選択した量の溶剤を複数の溶剤分配アセンブリに分配するステップとを含
む。上記方法は、さらに、ほぼ同時に、溶剤を溶剤分配アセンブリから複数の試
料容器に分注し、試料容器内で試料を洗浄するステップを含む。
【0022】 本発明の他の実施形態の場合には、上記方法は、溶剤がハロゲン化溶剤か非ハ
ロゲン化溶剤かを判断するステップと、上記溶剤を試料容器から除去するステッ
プと、溶剤をハロゲン化溶剤用の第一の廃棄物容器、および非ハロゲン化容器用
の第二の廃棄物容器に接続している廃棄物管ラインに送るステップとを含む。上
記方法は、さらに、溶剤が、ハロゲン化溶剤である場合に、ハロゲン化溶剤を第
一の容器に送るために、廃棄物ラインに接続している流量制御弁を第一の位置に
設定するステップを含む。上記方法は、さらに、溶剤が非ハロゲン化溶剤である
場合に、上記溶剤を第二の廃棄物容器に送るために、流量制御弁を第二の位置に
設定するステップを含む。
【0023】 本発明のもう一つの実施形態は、第一の溶剤が選択弁を通過するのを防止しな
がら、第二の溶剤だけが選択弁を通って流れることができるように、選択弁を第
一の位置から第二の位置に調整するステップを含む。上記方法は、さらに、第二
の溶剤を溶剤分配アセンブリに分配するステップと、第二の溶剤を試料容器に分
注するステップと、試料容器内で試料を洗浄するステップとを含む。
【0024】 (発明を実施するための最良の形態) 本発明の例示の実施形態の構造および機能は、図面を参照することにより最も
理解できる。複数の図面において同じ参照符号を使う場合、その参照符号は該複
数の図面において同じまたは対応する構造を指す。
【0025】 本発明の例示の実施形態による洗浄アセンブリ10を図1に示す。洗浄ステーシ
ョンアセンブリ10は、合成プロセスの間の自動制御のためにプログラム可能コン
トローラ26(コンピュータなど)に機能しうるように接続された洗浄ステーション
11を備える。洗浄ステーション11は、6本の溶剤ラインを介して6つの加圧溶剤
源16に接続されている。洗浄ステーション11は、固相試料を洗浄する際に使用す
るために、ハロゲン化溶剤または非ハロゲン化溶剤などの6つの溶剤のうちの1
つを選択するようにされている。また、洗浄ステーション11は、洗浄プロセス後
の廃棄溶剤を受け取り、分離し、収容する廃棄管理システム24とも接続している
【0026】 洗浄ステーション11は、プラットフォーム15に載置された結合ステーション13
を有する。結合ステーションは、試料を含む2つの反応ブロック12を取外し可能
に受ける。例示する実施形態において使用する結合ステーション13は、1998年3
月6日に出願された”Reaction Block Docking Station”と称され、本発明の譲
受人に譲渡された同時係属中の米国特許出願第(出願中)において議論および記載
されており、本明細書において同出願の内容全体を参考として援用する。例示の
実施形態に使用される反応ブロック12は、本発明の譲受人に譲渡された米国特許
第5,609,826号に議論および記載されている従来の反応ブロックである。反応ブ
ロック12は、複数の反応チャンバ38に入った選択された試料を含み、該複数のチ
ャンバ38は、洗浄プロセスの間、選択された溶剤を収容する。また、洗浄ステー
ション11は、反応ブロック12に隣接して、プラットフォーム15上に、針濯ぎプロ
セスの間に使用する複数の従来の濯ぎ管22も取外し可能に受ける。
【0027】 図1に最も良く示すように、洗浄ステーション11は、プラットフォーム15の上
方に位置し、フレーム20上に移動可能に載置された溶剤分注アセンブリ14を有す
る。分注アセンブリ14は、反応ブロック12の上方に位置することができ、選択さ
れた溶剤を反応ブロックに分配する一列のピペット針32有する。また、分注アセ
ンブリ14は、濯ぎチューブ22の上方にも位置することができ、ピペット針32を濯
ぐために移動できるようにされている。
【0028】 溶剤を反応ブロック12に分配した後、結合ステーション13に連結したボルテッ
クス振とう器で反応ブロックを振とうし、反応チャンバ中の溶剤またはその他の
液体を選択された時間の間ボルテックスできる。次に、洗浄ステーション11は、
反応ブロックに陽圧をかけて、または反応ブロックを一部真空にして、反応ブロ
ックから溶剤を排出する。廃棄溶剤は、洗浄ステーション11から廃棄管理システ
ム24に流れる。廃棄管理システム24は、コントローラ26に機能しうるように接続
している。コントローラ26は、洗浄ステーション11から放出された溶剤の種類(
例えば、ハロゲン化または非ハロゲン化溶剤)に応じて廃棄溶剤を選択された廃
棄用容器に誘導するように廃棄管理システムを構成する。
【0029】 洗浄ステーション 図1に最も良く示すように、洗浄ステーション11は、フレーム20に取り付けら
れた一対の支持レール36を備え、分配器支持体34が、フレームに対して横方向に
移動するように、支持レール上に摺動可能に取付けられている。分配器支持体34
は、洗浄ステーションのプラットフォーム15の上方にある分注アセンブリ14を支
持する。つまり、分配器支持体34および分注アセンブリ14は、プラットフォーム
15の上方において1つのユニットとして横方向に移動可能である。
【0030】 図2に最も良く示すように、分配器支持体34および分注アセンブリ14は、実線
で示す分注/吸引位置に移動可能であり、該位置では分配アセンブリが反応ブロ
ック12の上方に位置する。また、分配器支持体34および分注アセンブリ14は、点
線で示す濯ぎ位置にも移動可能であり、該位置では分配アセンブリが濯ぎ管22の
上方に位置する。分注アセンブリ14は、以下により詳細に記載するように、選択
された溶剤を反応ブロック12内の反応チャンバ38に分配するための96の一列のピ
ペット針32を備える。分注アセンブリ14が分注/吸引位置にある場合、針32はそ
れぞれ別々の反応チャンバ38と同軸上に位置合わせされる。そして、分注アセン
ブリが濯ぎ位置にある場合、針32はそれぞれ別々の濯ぎ管22と同軸上に位置合わ
せされる。
【0031】 図2および3に最も良く示すように、分注アセンブリ14は、分配器支持体34に
対して上げられた位置(図2)と下げられた位置(図3)との間で、垂直方向に移動
可能なユニットである。分注アセンブリ14が上げられた位置にある場合、針32は
、反応ブロック12または濯ぎ管22の上方にあり、それらと係合していない。分注
アセンブリ14が、図3において実線で示す下げられた位置かつ分注/吸引位置に
ある場合、針32は反応ブロック12内に突き出て、溶剤を反応チャンバ38に分配す
る。分注アセンブリ14が、図3において点線で示す下げられた位置かつ濯ぎ位置
にある場合、針32は濯ぎ管22内に突き出て濯ぎを行う。
【0032】 図2〜4に最も良く示すように、分注アセンブリ14は、4つのボールねじ取付
具48により分配器支持体34に移動可能に接続されている。各取付具48は、ねじ切
りされたボールねじ50を含み、該ボールねじ50の下端部は分注アセンブリ14の下
部分配多岐管40に固定されている。ボールねじ50は、分配器支持体34中の開口部
41、および分配器支持体に取付けられた回転駆動メカニズム52を通り上に突出す
る。回転駆動メカニズム52は、ボールねじ50とねじ式に係合し、駆動メカニズム
を回転することによりボールねじが分配器支持体34に対して軸移動するようにす
る。
【0033】 分配器支持体34上の4つの駆動メカニズム52は、駆動ベルト54により相互接続
されており、該駆動ベルトは、分配器支持体34に取付けられた電気駆動モータ56
に接続されている。駆動モータ56は、作動すると、駆動ベルト54を駆動して4つ
の駆動メカニズム52の全てを同時に回転させる。つまり、4つのボールねじ50全
てが同時に軸移動し、分注アセンブリ14を分配器支持体34に対して均一にあげた
り下げたりする。例示の実施形態において、コントローラが駆動モータを開始し
たり停止したりして分注アセンブリ14の垂直位置を制御するように、駆動モータ
ー56はコントローラ26に機能しうるように接続されている。
【0034】 また、洗浄ステーション11は、安全構造を備えて、アセンブリの安全な自動化
操作を提供する。図1に示す緊急停止ボタン28は、フレームに取付けられており
、コントローラに機能しうるように接続されている。ユーザにより停止ボタン28
が作動されると、分注アセンブリ14の全ての平行および垂直移動を含む洗浄サイ
クルが直ちに停止する。洗浄ステーション11は、コントローラ16を介してリセッ
トされない限り機能しない。
【0035】 また、洗浄ステーション11は、フレーム20に取付けられ、フレーム周縁部の周
りに光カーテンを作るように位置された光カーテンアセンブリを有している。光
カーテンアセンブリは、フレームの背面壁の左側に取付けられた光トランスミッ
タ30を備える。光トランスミッタ30は、背面壁から光ビームを出射し、該光ビー
ムは、フレームの前面支持体に取付けられた一対のミラー32によりフレームの周
縁部の周りに向けられる。光ビームは、光トランスミッタ30と反対側にあり、フ
レームの背面壁の右側に取付けられた光検出器35(図2および図3に示す)により
検出される。光カーテンアセンブリは、コントローラに機能しうるように接続さ
れており、光カーテンが妨害されると直ちに洗浄サイクルが終了するようにされ
ている。洗浄ステーション11は、ユーザによりコントローラ26を介してリセット
されるまで機能しない。
【0036】 溶剤分注アセンブリ 図2および図3に最も良く示すように、溶剤分注アセンブリ14は、分配多岐管
40および一列の針32に接続された96の一列のシリンジ42を含む。シリンジ42は、
分配多岐管40から溶剤を受け取り、針32を介して溶剤を分配する。シリンジ42は
、分配多岐管40と、多岐管と平行に間隔を開けられた上部支持プレート44との間
に延伸する。分配多岐管40は、分配多岐管に取付けられた溶剤選択弁46から溶剤
を受け取る。選択弁46は、加圧溶剤源16から溶剤を運ぶ6本の溶剤ライン18に接
続している。
【0037】 図5に最もよく示されているように、選択弁46は、個別の溶剤ライン18にそれ
ぞれ接続した複数のコネクタ58を有する。例示の実施形態において、選択弁46は
、中空のバンジョー型ボルトにより形成され、6本の溶剤ライン18に接続する6
つのコネクタ58を有する。選択弁の本体64には6本の溶剤経路62が形成されてお
り、各コネクタ58は、該本体64内の溶剤経路62の1つと連絡する内部経路60を有
する。
【0038】 選択弁46は、選択弁本体64内に回転可能に位置する回転弁部材66を有する。弁
部材66は、各溶剤経路62の開いた底端部68と連絡する。弁部材66は、選択弁の位
置に応じて一度に1つの溶剤経路62のみの開いた底端部68と連絡するように位置
された内部チャネル70を有している。選択弁の内部チャネル70はまた、選択弁本
体64内の出口経路72とも連絡している。出口経路72は、選択弁本体64の底部分を
通って延伸し、分配多岐管40と連絡する。従って、選択弁46は、一度に6つの溶
剤のうちの1つのみが通るようにし、選択された1つの溶剤が分配多岐管40に流
れるようにする。弁部材66は、その他の5つの溶剤経路62をブロックし、他の溶
剤経路から溶剤が流れ出るのを防ぐ。
【0039】 選択弁46は、選択弁本体64の上部に接続され、弁部材66に固定されたシャフト
76の上端部78に接続された作動器74を有する。弁の作動器74は、弁本体64内のシ
ャフト76および弁部材66を回転させて、内部チャネル70を選択された溶剤経路62
と位置合わせする。作動器74は、コントローラ26に機能しうるように接続されて
、コントローラが作動器を作動させて弁部材66を所望の位置に配置して選択され
た溶剤が選択弁46を通過するようにする。作動器74はまた、コントローラに連結
された位置センサを備え、コントローラが、弁部材66の相対位置を決定して、ど
の溶剤が選択弁を通過するのか決定できるようにする。
【0040】 例示の実施形態の選択弁46は、選択弁本体64の底部分に取付けられゲート弁80
を有する。ゲート弁80は、出口経路72内に部分的に位置されており、開いた位置
と閉じた位置との間で移動可能である。ゲート弁80は、上述した作動器74に類似
した作動器により開いた位置と閉じた位置との間で移動される。ゲート弁80が開
いた位置にある場合、溶剤は、出口経路72を自由に通過でき分配多岐管に向かう
。ゲート弁80が閉じた位置にある場合、溶剤は出口経路72を通過して分配多岐管
に向かうのをブロックされる。
【0041】 ゲート弁80内には、ゲート弁が閉じた位置にあるときに出口経路72と連絡する
圧力逃がし経路73が形成されている。圧力逃がし経路73は選択弁本体64を通って
延伸する出口チャネル75と接続されており、出口チャネル75は大気圧に開放され
ている。圧力逃がし経路73は、内部チャネル72内の背圧を逃がして、ゲート弁80
が閉じた位置にあるときの分配多岐管内の背圧を小さくする。ゲート弁80が開い
ている場合、図5に示すように、圧力逃がし経路73は出口経路72と連絡しないよ
うに位置合わせされる。
【0042】 例示の実施形態において、選択弁本体64はテフロン材から作製され、回転弁部
材66は本体内に形成された開口部に適合するように押圧嵌合される。Oリング82
は、弁部材66に接続され、本体と封止係合して溶剤が弁部材と本体との間で上方
に移動するのを防ぐ。Oリング84はまたゲート弁80とも接続され、選択弁本体64
と封止係合して溶剤がOリングを越えて移動することを防ぐ。従って、選択弁を
通過する溶剤は全て分配多岐管に向かう。
【0043】 分配多岐管 図5に最も良く示すように、分配多岐管40は、選択弁の出口経路72と連絡し、
選択弁46を通過した溶剤を受け取る多岐管入口90を有する。例示の実施形態にお
いて、分配多岐管40は、上部多岐管プレート92、ガスケット96、および下部多岐
管プレート98から形成されており、上部および下部多岐管プレートの間にガスケ
ットが挟まれている。上部多岐管プレート92内には、溶剤を多岐管全体にわたっ
て分配するための96の分配チャネル94が形成される。ガスケット96は、分配チャ
ネル94を妨害することなく、上部多岐管プレート92と封止係合して、溶剤が分配
チャネルを自由に流れるようにする。
【0044】 図6に最も良く示すように、多岐管入り口90は出口チャネル98と連絡し、出口
チャネル98は96の分配チャネル94と連絡する。各分配チャネル94は、シリンジ42
の1つ(図示せず)をねじ式に受けるシリンジ開口部100と連絡する。従って、分
配多岐管40は、分配チャネル94を通じて全てのシリンジ開口部100に溶剤を同等
に分配して、全てのシリンジに溶剤が行き渡るようにする。
【0045】 例示の実施形態では、溶剤を、陽圧下で、選択弁46および分配多岐管40に供給
して、溶剤が分配チャネル94を通じてシリンジ42全体に同等に分配されるように
する。溶剤が供給される際の圧力は、それぞれおよび全てのシリンジ42に対して
同等かつ正確な分配が確実に得られるように選択される。溶剤の圧力は、選択弁
46上にあり、溶剤源16に接続された加圧システムに連結される圧力センサにより
モニタされる。選択弁46における溶剤の圧力が不十分な場合、特定の溶剤源16の
圧力を調節して、所望の圧力の溶剤を得る。この圧力調節の程度は、特定の溶剤
の密度および粘度、ならびに溶剤源および選択弁46の圧力低下により一部決定さ
れる。
【0046】 図7に最も良く示すように、各分配チャネル94は、点線で示す開いた位置と、
実線で示す閉じた位置との間で移動可能なボール型逆止弁104を有する。逆止弁1
04は、溶剤が分配チャネル94に逆流するのを防止する。逆止弁104は、弁座108上
に移動可能に位置したボール106を含む。逆止弁104は、分配チャネル94の上流部
分110と連絡し、上流部分を通る溶剤流体を受け取る。溶剤は、逆止弁104から、
分配チャネル94の下流部分112へ流れ出す。
【0047】 逆止弁104が点線で示す開いた位置にあるとき、ボール106は、弁座108から持
ち上がるか外され、溶剤が上流部分110から、下流部分112に流れ出る。従って、
溶剤は、各シリンジ開口部100(図6)に自由に流れることができる。逆止弁104が
閉じた位置にある場合、ボール106は、弁座108上にあって封止し、溶剤が、分配
チャネル94の上流部分110に逆流して多岐管入口に向かうのを防止する。
【0048】 例示の実施形態では、逆止弁104は、ボール106上に位置して、ボールが垂直に
外れるのを制御してボールを弁座108に隣接するように格納するガスケット114お
よび弁カバー116を備える。弁カバー116およびガスケット114は、複数のファス
ナ118により所定位置に固定されている。逆止弁104のメンテナンスが必要な場合
、あるいはボール106が阻止されたり妨害された場合、ファスナ118、弁カバー11
6およびガスケット114を取外して、ボールと弁座108とが通じるようにすること
で修繕できる。
【0049】 図8を見ると良く分かるように、各シリンジ42は、底部コネクタ130、該コネク
タに固定されたバレル131、および該バレルの中にスライド可能に設置されたプ
ランジャ134を含む。該コネクタ130およびバレル131はシリンジの内部領域136を
画定し、選択された量の溶剤を中に受け取るようになっている。分配多岐管40は
、それぞれのシリンジ開口部100内に取り出し可能に配置される該コネクタ130に
設けられた一対の入口穴140部を介して、溶剤を各シリンジ42中に方向付ける。
該コネクタ130は、分配多岐管40に係合してシリンジ42をシリンジ開口部100内に
格納する複数のネジ山132を有する。該コネクタ130は、そのシリンジのための多
岐管の分配チャネル94の下流部分112に連通する環状チャネル138を有する。入口
穴140は該環状チャネル138の中に配設され、そのシリンジの内部領域136に接続
される。従って、溶剤は環状チャネル138内に流れこみ、入口穴140を介してシリ
ンジの内部領域136内に入る。
【0050】 コネクタ130は、ピペット針32に取外し可能に接続されるようになっているル
ーアーコネクタなどの連結部分142をさらに含む。この連結部分142はその中に、
シリンジの内部領域136に同軸に揃えられ且つこれに連通する出口通路144を有す
る。この出口通路144があることによって、シリンジの内部領域136の中の溶剤を
プランジャ134によりバレル131から押し出すことができ、これにより溶剤はピペ
ット針32の中へおよびこれを介して押し出される。
【0051】 例示的な実施形態のコネクタ130は、出口通路144に配設された逆止弁146を備
え、これによりピペット針32からシリンジ42への逆流を防ぐ。該逆止弁146は開
位置と閉位置との間を移動可能である。開位置では、溶剤は出口通路144を介し
てシリンジの内部領域136から流出することができる。閉位置にあるとき、逆止
弁146は弁座148を介して液体が逆流するのを防ぐ。
【0052】 例示的な実施形態において、逆止弁146は出口通路144内に配設されたバネ154
により閉位置方向に付勢される。バネの抵抗は、溶剤がシリンジ42からピペット
針32を介して分配されるときに逆止弁146が開くように選択される。1つの実施
形態において、逆止弁146は、Stilres ChemrezやKalrez等として市販されている
過フルオロエラストマーなどのエラストマー化合物で形成された、弁座148に密
閉係合するポペット弁である。このエラストマー化合物は、コンビナトリアル化
学ライブラリーの生成中に典型的に利用される溶剤と共に使用するのに十分耐え
得るものでなければならない。
【0053】 再び図8を参照すると、シリンジのプランジャ134は、溶剤をシリンジの内部領
域136へと吸い込みおよび該溶剤をシリンジから分配するために、バレル131の中
で軸方向に移動することができる。プランジャ134は、バレル131の壁に密閉係合
する複数のフレキシブルリブ158を有するプランジャチップ136を含む。例示的な
実施形態において、シリンジバレル131は、バレルとプランジャチップのリブ158
との間の十分且つ効果的な密閉のために非常になめらかな表面を提供するガラス
製もしくはステンレススチール製のバレルである。
【0054】 プランジャチップ156は、バレルの開いた上端部から突出するプランジャロッ
ド160に連結される。プランジャロッド160の上端部162は、上側支持プレート44
に設けられた開口部164の中に取り付けられたそれぞれの調節ネジ166に接続され
る。プランジャロッドの上端部162は、調節ネジ166内の受け取りポケット170内
に回転可能に捕捉されるボールスイベル168を含む。したがって、バレル131内に
おけるプランジャロッドの軸位置合わせは、放出または吸入ストロークの間にバ
レル内でプランジャロッド134が結合するのを防ぐために調節することが可能で
ある。プランジャロッドをその適切な軸位置に調節した後、調節ネジおよびプラ
ンジャロッド160を所定の場所にロックするために、ロッキングナット167が調節
ネジ166に固定される。
【0055】 例示的な実施形態において、調節ネジ166およびプランジャ134をユニットとし
て素早く且つ簡単に取外しおよび再設置することができるように、該調節ネジ16
6は上側支持プレート44に取外し可能に接続される。同様に、シリンジのコネク
ター130およびバレル131は、分配多岐管40からコネクタを外し、およびこれをシ
リンジの開口部100から取外すことにより、取外しおよび再設置することができ
る。次に、代わりのもしくは修理したシリンジをシリンジの開口部100に簡単且
つ素早く再設置することができ、これにより、メンテナンスまたは修理のための
洗浄ステーションアセンブリ10の中断時間を最少にすることができる。
【0056】 図8を見ると良く分かるように、プランジャ134は、実線で示した下降分注位置
と仮想線で示した上昇吸入位置との間で、バレル131内を軸移動することが可能
である。プランジャ134が該下降分注位置から該上昇吸入位置へと軸移動すると
き、溶剤はシリンジのコネクタ130の入口穴140を介してシリンジの内部領域136
へと吸い込まれる。プランジャが該上昇吸入位置に完全に移動すると、シリンジ
42には所定量の溶剤がロードされる。
【0057】 シリンジ42がロードされプランジャ134が放出ストロークにより下降分注位置
まで移動するとき、プランジャチップ156は溶剤をシリンジから押し出す。この
分配された溶剤の量は、プランジャ134が上昇吸入位置から移動するときの吸入
の間にストロークの長さを調節することにより、きっちりと制御される。
【0058】 その溶剤および行った洗浄プロセスによっても、溶剤の分配はきっちり制御さ
れる。1つの実施形態において、プランジャの分配ストロークは、反応チャンバ
への連続的な流れを提供するための、上昇吸入位置から下降分注位置までの連続
的なストロークである。他の実施形態において、分配ストロークは脈動ストロー
クを含み、この場合、プランジャを上昇吸入位置と下降分注位置との間の中間位
置で周期的に停止させることにより、溶剤を反応チャンバへと脈動的に分配する
【0059】 図9を見ると良く分かるように、ピペット針32は、シリンジのコネクタ130の連
結位置142に取外し可能に連結される従来型ルーアーロックハブ170を有する。ピ
ペット針32は、シリンジのコネクタ130から溶剤を受け取る内部チャネル174を備
えた中空シャフト172を含む。針のシャフト172の先端部は、実質的に半径方向に
向いた複数の開口部176を含み、該開口部176は該中空の針の内部チャネル174に
連通している。該半径方向に向いた開口部176のサイズは、針32の中を通過する
溶剤が該針に関して放射方向に分配されるような大きさである。
【0060】 図9に図示した実施形態において、ピペット針32は鋭いペン先状端部を含み、
この端部により上記反応ブロック12の隔壁(septum)に穴を開けるのが簡単にな
る。このペン先状端部は、開口部176を介する溶剤の半径方向の分配も容易とす
る。
【0061】 反応ブロック12(図3)においてピペット針32がそれぞれの反応チャンバ38の
中に配置されて溶剤が分配されると、固相試料を中に含む反応チャンバを完全且
つ完璧に洗浄するために、半径方向に向いた開口部176は溶剤を反応チャンバの
側壁に方向付ける。本発明の他の実施形態において、溶剤の他の半径方向の分配
パターンを提供するために、針32は、該針のシャフトの先端部に半径方向に向い
た複数のスロットを有する。本発明のその他の実施形態において、ピペット針32
は、溶剤が針から軸方向に分配されるように、針のシャフトのペン先状端部に軸
が揃えられた出口穴を有する。
【0062】 シリンジの吸入ストロークおよび分配ストローク 図10および図11に示した例示的な実施形態において、シリンジのプランジャ13
4は、上側支持プレート44を分配多岐管40に対して移動させることにより、吸入
ストロークおよび分配ストロークに沿って、バレル131内で軸移動する。上側支
持プレート44は、複数のアクチュエータ190により分配多岐管40に移動可能に接
続される。各アクチュエータ190は、その底端部が分配多岐管40に固定されたボ
ールねじ192を備える。4つのボールねじ192が開口部193を通って上側支持プレー
ト44の中へと延びており、上側支持プレート44上に回転可能に取り付けられた駆
動機構194に連結されている。この駆動機構194は、ボールナットの回転によりボ
ールねじの軸に沿って軸移動を起こし、これにより上側支持プレート44を分配多
岐管40へ近づくまたはこれから離れる方向へと移動させるように、ボールねじ19
2にネジ係合する回転可能ボールナット195を備える。
【0063】 駆動機構194は、上側支持プレート44に取り付けられた駆動モーター198に動作
上連結される駆動ベルト196により相互接続される。駆動モーター198はコントロ
ーラ26(図示せず)に動作上連結されており、該駆動モーターが該コントローラ
により選択的に開始および停止されるようになっている。例示的な実施形態にお
いて、駆動モーター198は、駆動モーターを非常に正確に制御するためにコント
ローラ26と連絡するエンコーダを備え、これにより、溶剤の正確な吸入および分
配のための、シリンジ42内のプランジャ位置の非常に正確な制御が行われる。
【0064】 上側支持プレート44は、プランジャ134を上昇吸入位置に配置するために、分
配多岐管40に関して上昇位置(図10に図示)に移動可能である。上側支持プレー
ト44は図11に図示したように分注位置へも移動することができる。この分注位置
では、上側支持プレート44は、プランジャのチップ156が逆止弁146の弁座148に
実質的に対向して配置されるように、配置される。アクチュエータ190が上側支
持プレート44を分注位置から上昇位置へと駆動するとき、プランジャ134は吸入
ストロークにより移動し、選択された量の溶剤をバレルの中に吸いこみ、この吸
いこまれた溶剤は次に反応ブロック(図示せず)の反応チャンバ内に分配される
。アクチュエータ190が上側支持プレート44を上昇位置から分注位置へと移動さ
せるとき、プランジャ134は分配ストロークを介して、溶剤全てがシリンジ42か
ら完全に分配されるように移動する。
【0065】 図10および図11に図示された例示的な実施形態において、分配多岐管40に対す
る上側支持プレート44の移動は、上側支持プレートが下降位置に達したときに、
ボールねじ192に取り付けられた回転止めにより停止される。回転止めは、上側
支持プレートが該下降位置に達したときに駆動機構194の回転移動がさらに進む
のを防ぐために配設される。このような半径方向のブロッキングは、上側支持プ
レート44または分配多岐管40に対する軸方向の負荷を生成することなく、上側支
持プレートのさらなる移動に対抗する効果的なストップ機構を提供し、これによ
り、シリンジ42に対するダメージを防ぐ。
【0066】 例示的な実施形態において、上側支持プレート44はその中に拡大された開口部
200を有し、該拡大開口部200の中には切換弁46が設けられる。したがって、上側
支持プレート44が上昇位置と下降位置との間を移動するとき、上側支持プレート
は、切換弁46または溶剤ライン18により妨害されることなく、切換弁に関して移
動する。
【0067】 加圧溶剤タンクおよびレベル感知システム 溶剤分注アセンブリ14は6つの溶剤タンク16から溶剤ライン18を介して溶剤を
受け取る(図1および図2に図示)。例示的な実施形態における溶剤タンク16は窒
素ガスにより加圧されるが、他の不活性ガスまたは空気を使用することもできる
。溶剤タンク16は、溶剤を切換弁46に所望の圧力で提供するために選択された圧
力に維持され、これにより、上記のように該システム内における圧力降下ならび
に溶剤の密度および粘性を考慮に入れて、全てのシリンジ42への等しく且つ正確
な分配を確実にする。
【0068】 各溶剤タンク16内の圧力は、切換弁46で溶剤ライン内の圧力に基づいて制御さ
れる。切換弁46は、溶剤が切換弁に供給されるときの圧力を測定する圧力センサ
を備える。該圧力センサはコントローラ26に接続され、該コントローラ26は切換
弁での溶剤の圧力を監視する。特定の溶剤のための圧力を増減させる必要がある
場合、コントローラ26は、所望の圧力に達するまで各溶剤タンク16内の圧力を増
減する。
【0069】 図13を見ると良く分かるように、各溶剤タンク16は、それぞれのタンクの中に
どれくらいの溶剤があるかを識別するレベル感知システム400も備える。各レベ
ル感知システム400はコントローラ26に接続される。コントローラ26は溶剤レベ
ルを監視し、溶剤レベルが低過ぎる場合にはオペレータに知らせる。これにより
ユーザは溶剤タンクを変更して満タンのタンクを提供することができる。
【0070】 レベル感知システム400は溶剤タンク16の中に配設され、該タンクの頂部と底
部との間に延びるチューブ402を有する。したがって、チューブ402は少なくとも
その一部がタンク16内の溶剤の中に配置される。磁気フロート404はチューブ402
上にスライド可能に配置され、溶剤の表面上で浮遊するようになっている。磁気
フロート404は溶剤レベルと共に移動し、溶剤レベルが下がると磁気フロートが
チューブ402に沿って下方に移動するようになっている。
【0071】 垂直に離間された複数の磁気リードスイッチ406が該チューブの中に収容され
、少なくとも1つのリードスイッチがチューブに沿った全ての位置で磁気フロー
ト404により付勢されるように互いに十分近くに間隔を設けられている。例示的
な実施形態において、リードスイッチ406はチューブに沿って1/2インチ中心に(
on 1/2 inch centers)取り付けられる。
【0072】 図14および図15を見ると良く分かるように、リードスイッチ406は、直列接続
され該リードスイッチに接続された等抵抗の複数のレジスタ410を含むはしご型
抵抗器408に接続される。レベル感知システム400の総抵抗値は、チューブ402に
沿った磁気フロート404の垂直位置に反比例する。溶剤レベルが低下して磁気フ
ロート404(図14)がチューブに沿って下方に移動するとき、リードスイッチ406
は連続的に付勢され、これによりはしご型抵抗器408における抵抗が増分方式に
変化する。
【0073】 レベル感知システム400は、洗浄ステーションアセンブリで使用することがで
きる1、3、5および10ガロンのタンク16において1/2リットルの増分で液体レベル
を感知するよう適用される。各サイズのタンクのはしご型抵抗器408は、そのは
しご型抵抗器の基準抵抗値を確立するために使用されるコーディング抵抗器412
を備える。どのサイズのタンクが洗浄ステーション11に接続されているかをコン
ピュータコントローラ26が識別できるように、異なるサイズのタンク用のコーデ
ィング抵抗器412は異なる抵抗値を有する。例えば、第1タンクサイズ(例えば1
0ガロン)のコーディング抵抗器412は、0オングストローム(0 ohm)の値でコ
ードされる(すなわち直線状ワイヤー)。第2サイズのタンク(例えば5ガロン
のタンク)のコーディング抵抗器412は、第1タンクサイズの最大抵抗より大き
な値でコードされる。これは、抵抗器410とコーディング抵抗器の組合せである
。従って、異なるタンクサイズの抵抗範囲は重ならない。これにより、コンピュ
ータコントローラはタンクサイズを差別化することができる。
【0074】 例示的な実施形態において、レベル感知システム400は、低電圧(すなわち9V
)の最大入力を有する定電流源に接続される。該電流源は、限流抵抗器を介して
はしご型抵抗器408に提供される。低電圧低電流レベル感知機能を達成するため
に、レベル感知システム400には2つの能動ワイヤー(active wire)とアース目
的のシールドのみが接続される。コンピュータコントローラ26は、はしご型抵抗
器の電圧および抵抗を監視し、はしご型抵抗器からの電圧および抵抗に基づいて
フロートの垂直位置を識別するようにプログラムされる。電圧は、そのときに磁
気フロート404により付勢された最も高いリードスイッチ406の場合は、(コーデ
ィング抵抗器412)+(はしご型抵抗器408の抵抗)の値に比例する。
【0075】 コントローラ26は、洗浄サイクルを開始する前に、選択されたタンク16の中の
溶剤の量を測定する。タンク16の中に十分な溶剤がある場合、コントローラ26は
洗浄サイクルを開始する。しかし、コントローラ26がタンク16の中に十分な溶剤
が無いと判断した場合、コントローラは洗浄サイクルを開始しない。コントロー
ラ26は溶剤タンクの溶剤レベルが低いことをオペレータに知らせる。
【0076】 排液処分と排液管理システム 選択した溶液が反応ブロック12内に分配されると、溶液は反応チャンバ38内に
溜まるか、または、結合ステーション13と接続した渦動震とう機で振動させる。
次に、反応ブロック12に正圧を付加するか、または部分的に真空にすることによ
り、溶液が反応チャンバ38から排液される。例証的な実施例では、図1に見えな
い線で示す複数の窒素ライン301により反応ブロック12に搬送された窒素を加圧
することで正圧が生じる。窒素ライン301に接続している従来の窒素制御弁が、
加圧された窒素の流れを制御する。洗浄ステーション11はさらに、反応ブロック
12から排除された溶液を受けるための、結合ステーション13と接続した排液ライ
ン300を備えている。
【0077】 窒素ライン301は、プラットフォーム15の下でフレーム20と繋がった逆流保護
装置310と接続している。図12Aに最良に示すように、逆流保護装置310は、フレ
ーム20(図示せず)に固定された取付けバー311と、窒素ライン301と結合した8
つの液体トラップボトル313とを備えている。逆流保護装置310は、液体が窒素ラ
インへ逆流して窒素制御弁にダメージを与えることを阻止する。
【0078】 図12Aと図12Bに最良に示すように、逆流保護装置310は、取付けバー311と接続
し、また、窒素ライン301の上流部分317と接続した入口ポート315を備えている
。入口ポート315は、液体トラップボトル313の各々の内部範囲と連絡している。
出口ポート319は、取付けバー311、および窒素ライン301の下流部分323と接続し
ている。出口ポート319はさらに、液体トラップボトル313内にのびるトラッブ管
321とも接続している。トラップ管321は、ボトルの内部範囲のみに部分的にのび
ており、ボトルの底部の上の部分において終端している。窒素ラインの下流部分
323を通る液体の逆流は、出口ポート319とトラップ間321を介して流れ、液体ト
ラップボトル313の底部に集められる。そのため、液体が窒素ラインの上流部分3
17へと流れて窒素制御弁を損傷することがない。
【0079】 図1に示す排液ライン300は、洗浄ステーション11の出口ポート330と接続し、
出口ポートは排液管理システム24からの排液ライン332と接続している。従って
、排水溶液は、出口ポート330を介して洗浄ステーション11から排出され、排液
ライン332を介して排液管理システム24へ流入する。
【0080】 図16、図17に最良に示すように、排液管理システム24は、洗浄ステーション11
からの排水溶液を受けるために排液ライン332と結合した流れ制御弁334を設けて
いる。流れ制御弁334は、第1、第2排出ライン340、342と接続している。流れ制
御弁334は、排液の流れを第1排出ライン340または第2排出ライン342のいずれか
に向けられるように調整可能になっている。この例証的な実施例では、洗浄ステ
ーション11で使用する溶液はハロゲン処理溶液または非ハロゲン処理溶液のいず
れかであり、また、排液管理システム24は、ハロゲン処理溶液と非ハロゲン処理
溶液を分離しておくために、洗浄ステーションからの溶液の流れを制御する。こ
の例証的実施例では溶液に関連して説明しているが、洗浄ステーション装置10で
はこれ以外の液体を使用することもできる。
【0081】 例証的実施例では、流れ制御弁334はハロゲン化溶液を第1排出ラインへ向けて
流し、第1排出ラインがハロゲン化溶液を第1貯蔵タンク344へ向けて流す。第2排
出ライン342は非ハロゲン化溶液を受け、これを第2貯蔵タンク346へ向けて流す
。ある実施例では、第1、第2貯蔵タンク344、346は、それぞれの排水溶液用の、
容量1リットルの一時的な貯蔵タンクである。第1貯蔵タンク344は、排出ライン3
45によって第1弁装置348と接続し、次いで、ハロゲン化溶液用の第1バルク貯蔵
容器349と接続している。第1弁装置348は、第1貯蔵容器349へのハロゲン化排水
溶液の流れを制御するゲート弁354を備えている。第2貯蔵タンク346は、分離排
出ライン350によって第2弁装置351と接続しており、次いで、非ハロゲン溶液用
の第2バルク貯蔵容器352と接続している。第2弁装置351は、第2貯蔵容器352へ向
かう非ハロゲン溶液の流れを制御するためのゲート弁356を備えている。
【0082】 排液管理システム24はコントローラ26と接続しており、コントローラは、洗浄
ステーション11を通過する溶液のタイプに従って、流れ制御弁334の位置を制御
する。上述したように、コントローラ26は洗浄ステーションの選択弁46の位置を
制御および監視し、これにより、ハロゲン化溶液または非ハロゲン化溶液のどち
らが選択弁を通過するかを監視する。選択弁46内をハロゲン化溶液が通過する場
合、コントローラ26が排液管理システム内の流れ制御弁334を図16に示す第1位置
へと移動する。この第1位置は、排水溶液の流れを第1排出ライン340へ、次いで
、ハロゲン化溶液用の第1貯蔵タンク344へと導く。図18に最良に示すように、非
ハロゲン溶液が選択弁46を通過すると、排出溶液の流れを第2排出ライン342と、
次いで非ハロゲン化溶液用の第2貯蔵タンク346へと導くために、コントローラ26
が流れ制御弁334を第2位置へ移動する。
【0083】 図16〜図20に最良に示すように、排液管理システム24は、真空源360と圧力源3
62を備えている。真空源と圧力源は、各々、第1、第2貯蔵タンク344、346と結合
している。真空/圧力制御弁364はコントローラ26と接続しており、制御弁365、3
66の制御下で、真空源360からの真空を、または、第1あるいは第2貯蔵タンク344
、346内の正圧を選択するべく可動になっている。
【0084】 例証的実施例の排液管理システム24は、真空源360および圧力源362と接続した
真空/圧力制御弁364を備えている。真空/圧力制御弁364は、図16、17に示す真空
位置と、図18、19に示す圧力位置との間で移動することができる。真空/圧力制
御弁364は、空気ラインによって、第1制御弁365と接続しており、第1制御弁365
は第1貯蔵タンク344と結合している。第1制御弁365は、図16、18に示す真空/圧
力位置と、図17、19に示す通気位置との間で移動することができる。図16に示す
ように、第1制御弁365が真空/圧力位置にあり、真空/圧力制御弁354が真空位置
にある場合、第1貯蔵タンク344に部分的真空が付加される。また、図18に示すよ
うに、第1制御弁365が真空/圧力位置にあり、真空/圧力制御弁364が圧力位置に
ある場合には、第1貯蔵タンク344に正圧が加えられる。さらに、図17、19に示す
ように、第1制御弁365が通気位置にある場合には、第1貯蔵タンク344が通気され
、周囲の圧力と等しくなる。
【0085】 真空/圧力制御弁364はさらに、通気ラインによって第2制御弁366と接続してお
り、次いで、第2制御弁366が第2貯蔵タンク346と接続している。第2制御弁366は
、図17、19に示す真空/圧力位置と、図16、18に示す通気位置との間で可動であ
る。図17に示すように、第2制御弁366が真空/圧力位置にあり、真空/圧力制御弁
364が真空位置にある場合、第2貯蔵タンク346に部分的真空が付加される。図19
に示すように、第2制御弁366が真空/圧力位置にあり、真空/圧力制御弁364が圧
力位置にある場合には、第2貯蔵タンク346に正圧が付加される。図16、図18に示
すように、第2制御弁366通気位置にある場合には、第2貯蔵タンク346は通気され
、周囲の圧力と等しくなる。
【0086】 図16に最良に示すように、ハロゲン化溶液が洗浄ステーション11を通過する場
合には、真空/圧力制御弁364が真空位置にあり、第1制御弁365が真空/圧力位置
にあり、第2制御弁366が通気位置にあるため、第1貯蔵タンク344内に部分的真空
ができる。これにより、ハロゲン化溶液が第1排出ライン340を通って第1貯蔵タ
ンク344へと流れる。
【0087】 図17に最良に示すように、非ハロゲン排出溶液が洗浄ステーション11を通過す
る場合には、真空/圧力制御弁364が真空位置にあり、第1制御弁365が通気位置に
切り替えられ、第2制御弁366が真空/圧力位置に切り替えられるため、第2貯蔵タ
ンク346内に部分的真空ができる。これにより、非ハロゲン化溶液が第2排出ライ
ン342を通って第2貯蔵タンク346へと流れる。
【0088】 図18に最良に示すように、第1貯蔵タンク344の内容物が第1バルク排液容器349
内に空けられる場合、溶液が洗浄ステーション11から第1排出ライン340内へ流入
できないようにするために、流れ制御弁334が移動する。真空/圧力制御弁364は
圧力位置に配置され、第1制御弁365が真空/圧力位置に配置され、第2制御弁366
が通気位置に配置される。次に、圧力源362が第1貯蔵タンク344上に正圧を付加
する。この正圧によって、ハロゲン化溶液が、排出ラインと、オープン状態にあ
る第1弁装置348のゲート弁354とを通って第1貯蔵タンクから強制的に排出される
。次に、ハロゲン化溶液は第1排液容器349内へ流入し、ここに貯蔵される。
【0089】 図19に最良に示すように、第2貯蔵タンク346を空にする場合には、流れ制御弁
334が閉鎖されて、溶液が洗浄ステーション11から第2排出ライン342内へ流入で
きないようにする。真空/圧力制御弁364が圧力位置に配置され、第1制御弁365が
通気位置に配置され、第2制御弁366が真空/圧力位置に配置される。次に、圧力
源362が起動して、第2貯蔵タンク346内に正圧を付加する。この正圧によって、
非ハロゲン化溶液が、オープン状態にある第2弁装置351のゲート弁356を通って
強制的に第2貯蔵タンク346から排出され、非ハロゲン化溶液用の第2排液容器352
内へ流入する。
【0090】 図20に最良に示すように、排液管理システム24はさらに、閉鎖、通気モードに
適合することができる。閉鎖、通気モードでは、第1、第2制御弁365、366が通気
位置に配置され、ゲート弁354、356が閉鎖される。これにより、洗浄ステーショ
ンと真空ステーションが稼動していない場合等に、排液管理システム24が通気、
非加圧または非真空状態になり、これによって、非使用時の排液管理システムの
摩滅を最小限に抑えることができる。
【0091】 動作の例 ここまで説明した例証的実施例の多くの特徴は、比較的迅速で効率的で自動化
されたケミカルライブラリー生成を容易にする。以降では、選択した2つの反応
ブロックを用いた統合動作について説明する。この説明がその他のタイプの統合
動作にも適応することが理解されるであろう。
【0092】 一般的な動作では、図1に最良に示すように、内部に固相試料を備えた2つの反
応ブロック12が結合ステーション13に配置され、固定される。反応ブロック12の
上の、分注位置には、分注アセンブリ14が配置されている。選択した加圧溶液を
流すべく、選択弁46を選択した第1位置へと移動するために、コントローラ26が
スタートアップ指示を出す。分注アセンブリ14はさらに、溶液を内容するための
吸引ストロークに沿って動作する準備が整ったシリンジ42が設けられている。溶
液分注アセンブリの駆動モータ198とアクチュエータ190が起動し、シリンジ42が
吸引ストロークに沿って動作することにより、シリンジ内に選択した溶液が制御
された量だけ充填される。次に、図3に示すように分注アセンブリ14が低位置へ
と動き、これにより、ピペット針32が反応ブロック12の隔壁を貫通して反応チャ
ンバ38内に入る。続いて、シリンジ42が分配ストロークに沿って動き、これによ
って溶液がシリンジから反応チャンバ38内へと排出される。その後、分注アセン
ブリ14が低位置から高位置へと上昇する。同時に、吸引ストロークに沿ってシリ
ンジ42が移動し、選択した溶液がシリンジ内に再び充填される。
【0093】 渦動震とう機の起動によって溶液が渦動する選択した時間の後、溶液が反応ブ
ロック12から排液管理システム24へ、次いで、適当なハロゲン化または非ハロゲ
ン化溶液貯蔵タンク344、346へと排出される。反応ブロック12が空になると、反
応ブロック内で試料を十分に洗浄するために、溶液分配、渦動、排出サイクルが
例えば3回繰り返される。
【0094】 最後の分配サイクルの後に、分注アセンブリ14が高位置へ上昇するが、シリン
ジ42は分注位置に残るため、シリンジ内にこれ以上溶液が入ることはない。次に
、分注アセンブリ14は横方向に移動してすすぎ管上に配置され、その後下降され
、ピペット針32がすすぎ管22内に入る。すすぎ管内で、タンク16の1つからのす
すぎ溶液がこの針を介して吸引および排出されることにより、針の内側と外側が
すすがれる。
【0095】 分注アセンブリ14がすすぎ管22上にある際に、1対の反応ブロック12を次の使
い捨て反応ブロックのセットと交換することができる。続いて、分注アセンブリ
14が上昇し、横方向へと移動して反応ブロック12の上に配置される。分注アセン
ブリ14が横方向に移動し、これと同時に、シリンジ42が吸引ストロークに沿って
動き、シリンジ内が同様のまたは別の溶液で充填される。このようにして、洗浄
ステーション11が次の洗浄サイクルのために準備される。
【0096】 例証的な目的で本発明の特定の実施例について説明してきたが、前述の説明か
ら、本発明の精神と範囲を逸脱しない限り様々な変更が可能なことが明らかであ
ろう。従って、本発明は付属の請求項によってのみ限定される。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図面を簡単にするために、フレームの前部を図示していない、本発明のある実
施形態の洗浄ステーション、溶剤源、プログラム可能なコントローラ、および排
液管理システムを含む洗浄ステーションアセンブリの頂部の部分的な断片等角図
である。
【図2】 反応室の上に上昇した位置にある実線による溶剤分注アセンブリと、洗浄チュ
ーブの上に上昇した位置にある極細線による溶剤分注アセンブリを示す、図1の
洗浄ステーションの前部の拡大立面図である。
【図3】 反応室の上に下降した位置にある実線による溶剤分注アセンブリと、洗浄チュ
ーブの上に、下降した位置にある極細線による溶剤分注アセンブリを示す、図1
の洗浄ステーションの前部の拡大立面図である。
【図4】 図1の洗浄ステーションの溶剤分注アセンブリおよび分注アセンブリ支持体の
頂部の拡大等角図である。
【図5】 分配多岐管への溶剤ラインに接続している選択弁を示す、図2の5−5線にほ
ぼ沿って切断した拡大断面図である。
【図6】 その中にスポイト(図示せず)を収容するスポイトの開口部に溶剤を分配する
複数の分配チャネルを持つ分配多岐管を示す、図2の6−6線にほぼ沿って切断
した拡大断面図である。
【図7】 実線で閉位置にある多岐管弁を示し、極細線で開位置にある多岐管弁を示す、
図6の7−7線にほぼ沿って切断した拡大断面図である。
【図8】 スポイトおよびピペット針を示す、図3の8−8線にほぼ沿って切断した拡大
断面図である。
【図9】 ピペット針を示す、図3の9−9線にほぼ沿って切断した拡大断面図である。
【図10】 洗浄ステーションから取り外され、スポイトから溶剤を分注することができる
分注位置にある、図1の溶剤分注アセンブリの前部の部分拡大立面図である。
【図11】 溶剤分注アセンブリが洗浄ステーションから取り外され、スポイト内に溶剤を
吸い込むことができる吸収位置にある、図1の溶剤分配の前部の部分拡大立面図
である。
【図12】 図12Aは、洗浄ステーションから取り外された洗浄ステーションの液体逆流
保護アセンブリの底部の拡大等角図である。 図12Bは、逆流保護アセンブリを示す、図12Aの12B−12B線にほぼ
沿って切断した拡大断面図である。
【図13】 溶剤レベル感知システムを示す、図2の溶剤タンクの拡大断面図である。
【図14】 図13のレベル感知システムのチューブ、磁気フロート、抵抗およびリード・
スイッチの拡大断面図である。
【図15】 図13のレベル感知システムの簡単な配線図である。
【図16】 洗浄ステーションからハロゲン化溶剤を回収するための真空モード状態にある
、図1の排液管理システムの略図である。
【図17】 洗浄ステーションから非ハロゲン化溶剤を回収するための真空モード状態にあ
る、図1の排液管理システムの略図である。
【図18】 ハロゲン化溶剤を廃棄物貯蔵タンクからハロゲン化溶剤用のバルク廃棄物容器
に移すために圧力モード状態にある、図1の排液管理システムの略図である。
【図19】 非ハロゲン化溶剤を廃棄物貯蔵タンクから非ハロゲン化溶剤用のバルク廃棄物
容器に送るために圧力モード状態にある、図1の排液管理システムの略図である
【図20】 例えば、洗浄ステーションを使用していない時、排液管理システム内の溶剤が
その中に収容され、システムが大気に対して通気する通気モードの状態の、図1
の排液管理システムの略図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G052 AD26 CA03 CA29 CA35 FC05 FC16 HA12 HC10 JA08 2G058 EA04 EC03 EC08 ED02 ED07 ED18 FB06 FB07 GB10 GE01 HA00

Claims (56)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 流体ソースに連結可能な、選択流体を複数の容器に分注する
    流体分配アセンブリにおいて、 前記流体ソースから流体を受け取るために設けた多岐管吸入口を有し、前記多
    岐管吸入口に連結した複数の分配チャネルを有する分配多岐管であって、前記分
    配チャネルが各々個別のチャネル排出口を有し、流体を夫々の分配チャネルにお
    いて1方向のみに流動させることができるように各々の分配チャネル中に第1弁
    を有する、前記分配多岐管と、 前記分配多岐管に連結した一列の流体ディスペンサーであって、前記チャネル
    排出口を通過する流体を受け取るために各々の流体ディスペンサーを夫々の分配
    チャネルのチャネル排出口に連結し、流体を夫々の流体ディスペンサーから1方
    向のみに流出させることができるように各々の流体ディスペンサー中に第2弁を
    有する、前記一列の流体ディスペンサーと、 を具備することを特徴とする流体分注アセンブリ。
  2. 【請求項2】 さらに、前記分配多岐管に連結し、前記流体ソースから前記
    分配多岐管への流体の流れを制御するために設けたゲート弁を具備することを特
    徴とする、特許請求の範囲の請求項1に記載の流体分注アセンブリ。
  3. 【請求項3】 各々の流体を格納した複数の流体ソースを有し、さらに、前
    記複数の流体ソースに連結可能な選択弁を具備し、前記選択弁は、前記流体の内
    から選択した1つの流体を前記選択弁から前記分配多岐管に送給することができ
    る複数の位置の中の1つの位置に調節可能であることを特徴とする、特許請求の
    範囲の請求項1に記載の流体分注アセンブリ。
  4. 【請求項4】 前記選択弁は、前記流体ソースからの流体ラインに連結可能
    な複数の流体吸入口を有する本体と、前記流体吸入口に連通する前記本体中の複
    数の流体通路と、前記本体に連結した弁部材と、前記弁部材と前記多岐管吸入口
    とに連通する排出チャネルと、を含むとともに、前記弁部材は、前記排出通路に
    連通する弁チャネルを貫設し、前記弁部材は、流体を前記流体通路の内の1つの
    流体通路から前記排出通路と、前記多岐管吸入口と、に送給させるべく前記流体
    通路の内の前記1つの流体通路に前記弁チャネルを連通させて位置決めするよう
    に調節可能であり、前記弁部材は、流体が残りの流体通路を通って流動すること
    を防ぐために残りの流体通路を塞ぐことを特徴とする、特許請求の範囲の請求項
    3に記載の流体分注アセンブリ。
  5. 【請求項5】 前記選択弁アセンブリは、前記排出通路を通る流体の流れを
    制御するために開弁位置と閉弁位置に調節可能なゲート弁を前記排出通路中に有
    することを特徴とする、特許請求の範囲の請求項4に記載の流体分注アセンブリ
  6. 【請求項6】 前記弁部材は、前記弁チャネルを前記各々の流体通路に個別
    に位置合わせすべく回転調節可能な回転弁部材であることを特徴とする、特許請
    求の範囲の請求項4に記載の流体分注アセンブリ。
  7. 【請求項7】 前記選択弁は、前記弁部材に連結した弁制御アセンブリを含
    むとともに、前記弁制御アセンブリは、前記流体通路の内から選択した1つの流
    体通路に前記弁チャネルを位置合わせすべく前記弁部材を移動させるように調節
    可能であることを特徴とする、特許請求の範囲の請求項4に記載の流体分注アセ
    ンブリ。
  8. 【請求項8】 さらに、前記弁制御アセンブリに接続し、前記弁部材の前記
    流体通路に対する調節を制御するプログラム作成可能なコントローラを具備する
    ことを特徴とする、特許請求の範囲の請求項7に記載の流体分注アセンブリ。
  9. 【請求項9】 さらに、プログラム作成可能なコントローラを具備するとと
    もに、前記選択弁は、前記コントローラに作動的に接続して前記弁部材を前記流
    体通路に対して自動的に調節する制御装置を有することを特徴とする、特許請求
    の範囲の請求項4に記載の流体分注アセンブリ。
  10. 【請求項10】 前記流体ディスペンサーが注射器であることを特徴とする
    、特許請求の範囲の請求項1に記載の流体分注アセンブリ。
  11. 【請求項11】 前記1列の流体ディスペンサーが96本の注射器を含むこ
    とを特徴とする、特許請求の範囲の請求項1に記載の流体分注アセンブリ。
  12. 【請求項12】 さらに、前記流体ディスペンサーに連結した分配部材を具
    備するとともに、前記分配部材は、内部通路と、先端部と、前記先端中の半径方
    向に指向したアパーチャと、を有し、前記アパーチャは、流体の流れを前記先端
    部から半径方向に離間させるべく前記内部通路に連通することを特徴とする、特
    許請求の範囲の請求項1に記載の流体分注アセンブリ。
  13. 【請求項13】 さらに、フレームと、前記フレームと前記分配多岐管とに
    連結したディストリビュータ支持体と、前記ディストリビュータ支持体に連結し
    た駆動機構と、を含むとともに、前記ディストリビュータ支持体によって前記分
    配多岐管が前記フレームに相互連結し、前記駆動装置は、前記分配多岐管と前記
    流体ディスペンサーを1つの装置として前記フレームに対して上昇位置と下降位
    置に移動させるべく可動であることを特徴とする、特許請求の範囲の請求項1に
    記載の流体分注アセンブリ。
  14. 【請求項14】 前記分配多岐管は、各々の分配チャネルに流体連結した1
    つだけの多岐管吸入口を有することを特徴とする、特許請求の範囲の請求項1に
    記載の流体分注アセンブリ。
  15. 【請求項15】 1つの流体ソースに連結した1つの流体ラインに連結可能
    な、試料格納アセンブリ中の選択試料を洗浄する洗浄ステーションにおいて、 フレームと、 前記フレームに連結し、前記流体ラインから流体を受け取るために設けた多岐
    管吸入口を有し、前記多岐管吸入口に流体連結した複数の分配チャネルを有する
    分配多岐管であって、流体を夫々の分配チャネルにおいて1方向のみに流動させ
    ることができるように前記分配チャネルの各々の中に流れ制御弁を有するととも
    に、各々の分配チャネルが個別のチャネル排出口を有する、前記分配多岐管と、 前記分配多岐管に連結した一列の流体ディスペンサーであって、前記分配チャ
    ネルを通過する流体を受け取るべく各々の流体保持部材を夫々の分配チャネルの
    前記チャネル排出口に連結し、前記流体保持部材は、流体を前記流体保持部材か
    ら分注するように図る、前記一列の流体ディスペンサーと、 を具備することを特徴とする洗浄ステーション。
  16. 【請求項16】 さらに、前記分配多岐管に連結し、前記流体ソースから前
    記分配ソースへの流体の流れを制御するために設けたゲート弁を具備することを
    特徴とする、特許請求の範囲の請求項15に記載の洗浄ステーション。
  17. 【請求項17】 複数の流体ラインと、各々の流体を格納した複数の流体ソ
    ースと、を有し、さらに、前記アセンブリは、前記複数の流体ラインに連結可能
    な選択弁を具備し、前記選択弁は、前記流体の内から選択した1つの流体を前記
    選択弁から前記分配多岐管に送給することができる複数の位置の中の1つの位置
    に調節可能であることを特徴とする、請求項15に記載の洗浄ステーション。
  18. 【請求項18】 前記選択弁は、前記流体ラインに連結可能な複数の流体吸
    入口を有する本体と、前記流体吸入口に連通する前記本体中の複数の流体通路と
    、前記本体に連結した弁部材と、前記弁部材と前記多岐管吸入口とに連通する排
    出チャネルと、を含むとともに、前記弁部材は、前記排出通路に連通する弁チャ
    ネルを貫設し、前記弁部材は、流体を前記流体通路の内の1つの流体通路から前
    記排出通路と、前記多岐管吸入口と、に送給すべく前記弁チャネルを前記流体通
    路の内の前記1つの流体通路に連通させて位置決めするように調節可能であると
    ともに、前記弁部材は、流体が残りの流体通路を通って流動することを防ぐため
    に残りの流体通路を塞ぐことを特徴とする、特許請求の範囲の請求項17に記載
    の洗浄ステーション。
  19. 【請求項19】 前記選択弁アセンブリは、前記排出通路を通る流体の流れ
    を制御するために開弁位置と閉弁位置に調節することが可能なゲート弁を前記排
    出通路中に有することを特徴とする、特許請求の範囲の請求項17に記載の洗浄
    ステーション。
  20. 【請求項20】 前記選択弁は、前記弁部材に連結した弁制御アセンブリを
    含むとともに、前記弁制御アセンブリは、前記流体通路の内から選択した1つの
    流体通路に前記弁チャネルを位置合わせすべく前記弁部材を移動させるように調
    節可能であることを特徴とする、特許請求の範囲の請求項19に記載の洗浄ステ
    ーション。
  21. 【請求項21】 さらに、前記選択弁に接続し、前記選択弁を通って前記流
    体通路に流れる流体を制御するプログラム作成可能な制御装置を具備することを
    特徴とする、特許請求の範囲の請求項17に記載の洗浄ステーション。
  22. 【請求項22】 各々の分配チャネルの中に逆止弁を有し、各々の逆止弁は
    、流体を夫々の流体保持部材に流入させることができる開弁位置と、前記分配チ
    ャネル中の流体の夫々の流体保持部材からの流れを阻止する閉弁位置と、に移動
    可能であることを特徴とする、特許請求の範囲の請求項15に記載の洗浄ステー
    ション。
  23. 【請求項23】 前記流体ディスペンサーが注射器であることを特徴とする
    、特許請求の範囲の請求項15に記載の洗浄ステーション。
  24. 【請求項24】 前記分配多岐管と前記流体ディスペンサーは、1つの装置
    として前記フレームに対して上下左右に可動であることを特徴とする、特許請求
    の範囲の請求項15に記載の洗浄ステーション。
  25. 【請求項25】 さらに、前記流体ディスペンサーに連結した複数の分配部
    材を具備し、各々の分配部材は、内部通路と、先端部中の半径方向に指向したア
    パーチャと、を有し、前記アパーチャは、流体の流れを前記先端部から半径方向
    に離間させるべく前記内部通路に連通することを特徴とする、特許請求の範囲の
    請求項15に記載の洗浄ステーション。
  26. 【請求項26】 さらに、前記フレームと前記分配多岐管とに連結するディ
    ストリビュータ支持体と、前記ディストリビュータ支持体に連結した駆動機構と
    、を含むとともに、前記駆動機構によって前記ディストリビュータ支持体と分配
    多岐管が1つの装置として前記フレームに対して可動であることを特徴とする、
    特許請求の範囲の請求項15に記載の洗浄ステーション。
  27. 【請求項27】 さらに、前記分配多岐管から離間した上部支持部材と、分
    配多岐管と前記上部支持部材を相互連結する第2駆動装置と、を含むとともに、
    前記流体ディスペンサーが前記分配多岐管と前記上部支持部材の間に介設し、第
    2駆動機構によって前記上部支持部材が前記分配多岐管に対して第1位置と第2
    位置に可動であり、前記上部支持部材が前記第2位置から前記第1位置に向かっ
    て移動すると同時に前記流体ディスペンサーが排気行程に沿って移動圧縮すると
    ともに、前記上部支持部材が前記第2位置から前記第1位置に向かって移動する
    と同時に前記流体ディスペンサーが吸気行程に沿って移動延出することを特徴と
    する、特許請求の範囲の請求項26に記載の洗浄ステーション。
  28. 【請求項28】 さらに、前記分配多岐管から離間した上部支持部材であっ
    て、前記流体ディスペンサーを前記分配多岐管と前記上部支持部材の間に可動的
    に介設した前記上部支持部材と、前記分配多岐管と前記上部支持部材を相互連結
    する駆動機構と、を含むとともに、前記駆動機構によって前記上部支持部材が前
    記分配多岐管に対して第1位置と第2位置に可動であり、前記流体ディスペンサ
    ーは、各々、前記分配多岐管に連結したコネクタと、前記コネクタに連結し、前
    記分配多岐管から流体を受け取るように定寸したバレルと、一端を前記バレルに
    滑動可能に内設するとともに他端を前記上部支持部材に装着したプランジャであ
    って、前記上部支持部材が前記第1位置と前記第2位置の間を移動すると同時に
    前記バレル内で軸線方向に移動する前記プランジャと、を含むことを特徴とする
    、特許請求の範囲の請求項15に記載の洗浄ステーション。
  29. 【請求項29】 前記コネクタは、排出ポートと、前記バレルを前記分配多
    岐管の夫々の分配チャネルに連結する吸入ポートと、を有し、前記上部支持部材
    が前記第1位置から前記第2位置に移動すると同時に前記プランジャは前記バレ
    ル内で吸気行程に沿って前記分配多岐管から離間しながら移動して流体を前記吸
    入ポートから前記バレル中に吸引させるとともに、前記プランジャは、分注行程
    に沿って前記分配多岐管に向かって移動して流体を前記排出ポートから前記分配
    部材に分注することを特徴とする、特許請求の範囲の請求項28に記載の洗浄ス
    テーション。
  30. 【請求項30】 前記コネクタは、前記排出ポートに連通する弁であって、
    流体又は空気が前記排出ポートから前記バレルに入らないように設けた前記弁を
    有することを特徴とする、特許請求の範囲の請求項29に記載の洗浄ステーショ
    ン。
  31. 【請求項31】 各流体ソースに連結する各流体ラインに連結可能な、試料
    格納アセンブリ中の選択試料を洗浄する洗浄ステーションにおいて、 フレームと、 前記フレームに連結した流体分注アセンブリと、 を具備するとともに、前記流体分注アセンブリは、 選択流体を通過させることができるように前記流体ラインに連結可能な選択弁
    と、 前記選択弁に連結し、前記選択弁を通過する流体を受け取るために設けた一列
    の注射器であって、各々の注射器が、バレルと、前記バレル内の軸線方向のプラ
    ンジャと、を有する、前記一列の注射器と、 前記注射器のバレルに連結し、前記選択弁に連結するとともに前記選択弁を通
    過する流体を受け取るために定寸した多岐管吸入口を有する多岐管であって、前
    記多岐管吸入口に連結するとともに流体を前記バレルに注入するために前記注射
    器のバレルに連通する複数の分配チャネルを有する前記多岐管と、 前記プランジャに連結し、前記プランジャを前記バレルと略軸線方向に位置合
    わせして保持する支持構造体であって、各々のプランジャの一部分が夫々の注射
    器のバレル内で軸線方向に移動する状態で前記多岐管に対して1つの装置として
    前記プランジャと一緒に移動可能な前記支持構造体と、 前記注射器から受け取った流体を前記試料格納アセンブリの試料に送給するた
    めに前記注射器に連結した一列の分配部材と、 を有することを特徴とする洗浄ステーション。
  32. 【請求項32】 前記多岐管は複数の排出アパーチャを有し、各々の排出ア
    パーチャは、前記分配チャネルの内の夫々1つの分配チャネルに連通するととも
    に前記注射器の内の夫々1つの注射器に連通し、各々の排出アパーチャ中に、開
    弁位置と閉弁位置に移動可能な多岐管弁を有し、各々の多岐管弁によって、閉弁
    位置のときには流体を前記排出アパーチャから夫々の分配チャネルの外に流出さ
    せることができるとともに閉弁位置のときには流体が前記排出アパーチャから流
    動することを阻止することを特徴とする、特許請求の範囲の請求項31に記載の
    洗浄ステーション。
  33. 【請求項33】 各々の分配部材は、内部通路と、先端部と、前記先端部中
    の半径方向に指向したアパーチャと、を有し、前記アパーチャは、流体の流れを
    前記先端部から半径方向に離間させて送り出すべく前記内部通路に連通すること
    を特徴とする、特許請求の範囲の請求項31に記載の洗浄ステーション。
  34. 【請求項34】 各々の注射器は、前記バレルに連結するとともに前記多岐
    管に連結したコネクタを有し、各々のコネクタは、流体を前記分配チャネルから
    バレル中に受け取るべく夫々の分配チャネルに連通する吸入ポートを有すること
    を特徴とする、特許請求の範囲の請求項31に記載の洗浄ステーション。
  35. 【請求項35】 各々の注射器は、流体を前記バレルから分配部材に送給す
    べく前記分配部材の内の夫々1つの分配部材に連通する排出ポートと、前記排出
    ポート中の弁部材と、を有し、前記弁部材は、開弁位置と閉弁位置に移動可能で
    、開弁位置のときに流体を前記排出ポートから外に流出させることができ、閉弁
    位置のときに流体を前記排出ポートから前記バレル中に流入することを阻止する
    ことを特徴とする、特許請求の範囲の請求項31に記載の洗浄ステーション。
  36. 【請求項36】 各々のコネクタは、前記弁部材に連結した付勢部材を有し
    、前記付勢部材によって前記弁部材が閉弁位置に付勢されることを特徴とする、
    特許請求の範囲の請求項35に記載の洗浄ステーション。
  37. 【請求項37】 前記選択弁は、前記流体ラインに連結可能な複数の流体吸
    入口を有する本体と、前記流体吸入口に連通する前記本体中の複数の流体通路と
    、前記本体に連結した弁部材と、前記弁部材と前記多岐管吸入口とから連通する
    排出チャネルと、を含むとともに、前記弁部材は、前記排出通路に連通する弁チ
    ャネルを貫設し、前記弁部材は、流体を前記流体通路の内の1つの流体通路から
    前記排出通路と、前記多岐管吸入口と、に送給すべく前記弁チャネルを前記流体
    通路の内の前記1つの流体通路に連通させて位置決めするように調節可能であり
    、前記弁部材は、流体が残りの流体通路を経て流れることを防ぐために残りの流
    体通路を封鎖することを特徴とする、特許請求の範囲の請求項31に記載の洗浄
    ステーション。
  38. 【請求項38】 さらに、前記弁制御アセンブリに連結し、前記流体通路に
    対する前記弁部材の調節を制御するプログラム作成可能なコントローラを具備す
    ることを特徴とする、特許請求の範囲の請求項37に記載の洗浄ステーション。
  39. 【請求項39】 さらに、プログラム作成可能なコントローラを具備し、前
    記選択弁は、前記コントローラに作動的に連結されるとともに前記弁部材を前記
    流体通路に対して自動調節する制御機構を有することを特徴とする、特許請求の
    範囲の請求項31に記載の洗浄ステーション。
  40. 【請求項40】 選択流体を格納した複数の流体ソースと、 各々が前記流体ソースの内の夫々1つの流体ソースに連結した複数の流体ライ
    ンと、 前記流体ソースに作動的に連結したコントローラと、 前記流体ラインに連結するとともに前記コントローラに作動的に連結し、フレ
    ームと、前記フレームに連結した流体分注アセンブリと、を含む洗浄ステーショ
    ンと、 を具備する洗浄ステーションアセンブリであって、前記流体分注アセンブリは、 前記流体ラインに連結可能であるとともに前記コントローラに作動的に連結し
    、前記流体の内から選択した1つの流体を通過させることができる複数の位置か
    ら選択した1つの位置に調節可能な選択弁であって、前記選択弁は、前記選択弁
    の前記流体ラインに対する位置を感知する位置センサを有し、前記位置センサは
    、前記選択弁の位置に関して前記コントローラに連通する、前記選択弁と、 前記選択弁に連結し、前記選択弁を通過する流体を受け取るために且つ流体を
    前記選択弁から分注するために配設した一列の流体保持部材と、 前記選択弁に連結した多岐管吸入口であって、前記選択弁を通過する流体を受
    け取るために定寸した前記多岐管吸入口を有し、流体を前記流体保持部材中に送
    給すべく前記流体保持部材に連結した多岐管と、 各々が前記流体保持部材の内の夫々1つの流体保持部材に連結し、各々を前記
    流体保持部材から流体を受け取るために設けた一列の分配部材であって、流体を
    試料に送給すべく前記試料格納アセンブリに対して位置決め可能な前記一列の分
    配部材と、 第1・第2廃物容器と、前記洗浄ステーションから廃液を受け取るべく前記第
    1・第2廃物容器と前記洗浄ステーションとに連結した排水ラインと、前記洗浄
    ステーションと前記第1・第2廃物容器の間の排水ラインに連結し、前記第1・
    第2廃物容器の内から選択した1つの廃物容器への廃液の流れを選択的に制御す
    るように調節可能な流れ制御部材と、有する、前記洗浄ステーションに連結した
    廃物管理システムと、 を有することを特徴とする洗浄ステーションアセンブリ。
  41. 【請求項41】 前記選択弁は、前記流体ラインに連結可能な複数の流体吸
    入口を有する本体と、前記流体吸入口に連通する前記本体中の複数の流体通路と
    、前記本体に連結した弁部材と、前記弁部材と前記多岐管とから連通する排出チ
    ャネルと、を含むとともに、前記弁部材は、前記排出通路に連通する弁チャネル
    を貫設し、前記弁部材は、流体を前記流体通路の内の1つの流体通路から前記排
    出通路と、前記多岐管と、に送給すべく弁チャネルを前記流体通路の内の前記1
    つの流体通路に連通させて位置決めするように調節可能であり、前記弁部材は、
    流体が残りの流体通路を流れることを防ぐために残りの流体通路を封鎖すること
    を特徴とする、特許請求の範囲の請求項40に記載の洗浄ステーションアセンブ
    リ。
  42. 【請求項42】 前記選択弁アセンブリは、前記コントローラに作動的に連
    結するとともに前記弁部材に連結した弁制御機構を含み、前記弁制御機構は、前
    記流体の内から選択した1つの流体を受け取るために前記弁部材を選択位置に移
    動させるように調節可能なことを特徴とする、特許請求の範囲の請求項41に記
    載の洗浄ステーションアセンブリ。
  43. 【請求項43】 前記流体保持部材が注射器であり、各々の注射器が、バレ
    ルと、前記バレル中に移動可能に設けたプランジャと、を有し、前記洗浄ステー
    ションは、前記プランジャを前記バレルと中心線を一致させて保持すべく前記プ
    ランジャに連結した支持プレートを含み、前記多岐管を前記注射器のバレルに連
    結し、前記支持プレートは、各々の夫々のバレル内で前記プランジャを軸線方向
    に移動させるべく前記多岐管とバレルに対して1つの装置として前記プランジャ
    と一緒に移動可能であり、前記多岐管は、前記選択弁に連通した多岐管吸入口を
    有し、前記分配プレートは、前記多岐管吸入口に連結するとともに前記バレル中
    に流体を送給すべく配設した複数の分配チャネルを有することを特徴とする、特
    許請求の範囲の請求項41に記載の洗浄ステーションアセンブリ。
  44. 【請求項44】 さらに、前記流体ソースの内の少なくとも1つの流体ソー
    スに連結した液位感知システムを具備することを特徴とする、特許請求の範囲の
    請求項41に記載の洗浄ステーションアセンブリ。
  45. 【請求項45】 前記液位感知システムは、複数のスイッチと、前記流体ソ
    ース中の液位が変化するにつれて前記複数のスイッチに対して移動可能なスイッ
    チ起動フロートと、を含むことを特徴とする、特許請求の範囲の請求項44に記
    載の洗浄ステーションアセンブリ。
  46. 【請求項46】 前記複数のスイッチがリードスイッチであり、前記スイッ
    チ起動フロートが、各々のリードスイッチを通過する毎に各々のリードスイッチ
    を作動させる磁気フロートであることを特徴とする、特許請求の範囲の請求項4
    5に記載の洗浄ステーションアセンブリ。
  47. 【請求項47】 前記液位感知システムは、前記スイッチに連結した複数の
    抵抗器を有するはしご型抵抗器(resistance ladder)を含むことを特徴とする
    、特許請求の範囲の請求項45に記載の洗浄ステーションアセンブリ。
  48. 【請求項48】 さらに、前記液位感知システムは、前記はしご型センサ(
    sensor ladder)に連結するとともに前記コントローラに連結したコーディング
    抵抗器を含むことを特徴とする、特許請求の範囲の請求項47に記載の洗浄ステ
    ーションアセンブリ。
  49. 【請求項49】 前記液位感知システムは、コントローラに作動的に連結し
    たことを特徴とする、特許請求の範囲の請求項44に記載の洗浄ステーションア
    センブリ。
  50. 【請求項50】 洗浄ステーションによって分配した選択流体による試料洗
    浄方法において、 洗浄ステーションの選択弁であって、複数の流体の内から選択した1つの流体
    を通過させるとともに残りの流体の通過を阻止することができるように調節可能
    な 前記選択弁に前記複数の流体を個別の流体ラインから送給し、 前記流体の内から選択した前記1つの流体を前記選択弁から分配多岐管に流動
    させることができるように前記選択弁を調節し、 選択した量の前記選択流体を前記分配多岐管で複数の流体分配アセンブリに略
    同時に分配し、 流体を前記流体分配アセンブリから複数の試料容器に略同時に分注し、 前記試料容器中に分注した流体で前記試料容器中の試料を洗浄することから成
    ることを特徴とする試料洗浄方法。
  51. 【請求項51】 さらに、 流体がハロゲン化流体又は非ハロゲン化流体か否かを判定し、 前記試料容器から流体を除去し、 前記試料容器から除去した流体を、前記ハロゲン化流体の第1流体容器と、前
    記非ハロゲン化流体の第2流体容器と、に連結した廃物ライン中に送給し、 流体がハロゲン化流体の場合、前記廃物ライン中の流れ制御部材を第1選択位
    置に切り換えるとともに、流体が非ハロゲン化流体の場合、前記流れ制御部材を
    第2選択位置に切り換えし、 流体がハロゲン化流体の場合、前記流れ制御部材で流体を前記第1流体容器中
    に送給するとともに、流体が非ハロゲン化流体の場合、前記流れ制御部材で流体
    を前記第2流体容器中に送給することを含むことを特徴とする、特許請求の範囲
    の請求項50に記載の試料洗浄方法。
  52. 【請求項52】 さらに、 前記流体の内の第2流体が前記選択弁を通過して前記流体の内の第1流体と残
    りの流体とが前記選択弁を通過することを阻止できるように前記選択弁を第1位
    置から第2位置に調節し、 前記分配多岐管で前記第2流体を前記流体分配アセンブリ中に分配し、 前記第2流体を前記流体分配アセンブリから複数の試料容器中に略同時に分注
    することを含むことを特徴とする、特許請求の範囲の請求項50に記載の試料洗
    浄方法。
  53. 【請求項53】 さらに、 前記第2流体がハロゲン化流体又は非ハロゲン化流体か否かを判定し、 前記第2流体を前記試料容器から除去し、 前記試料容器から除去した前記第2流体を、第1流体容器と、非ハロゲン化流
    体の第2流体容器と、に連結した廃物ライン中に送給し、 前記第2流体がハロゲン化流体の場合、前記廃物ライン中の流れ制御部材を第
    1選択位置に切り換えるとともに、前記第2流体が非ハロゲン化流体の場合、前
    記流れ制御部材を第2位置に切り換えし、 前記第2流体がハロゲン化流体の場合、前記流れ制御部材で前記第2流体を前
    記流れから前記第1流体容器中に送給するとともに、前記第2流体が非ハロゲン
    化流体の場合、前記流れ制御部材で前記第2流体を前記第2流体容器中に送給す
    ることを含むことを特徴とする、特許請求の範囲の請求項52に記載の試料洗浄
    方法。
  54. 【請求項54】 さらに、 前記流体ラインの内の少なくとも1つの流体ラインに連結した流体ソース中の
    流体の液位を検出することを含むことを特徴とする、特許請求の範囲の請求項5
    0に記載の試料洗浄方法。
  55. 【請求項55】 前記流体の液位検出は、はしご型抵抗器と、前記はしご型
    抵抗器に連結した複数のスイッチと、前記複数のスイッチを通過する流体の液位
    と共に移動し、前記はしご型抵抗器中の抵抗を変更すべく前記スイッチを起動さ
    せる前記スイッチ起動フロートと、を有するセンサシステムの抵抗を測定するこ
    とを含むことを特徴とする、特許請求の範囲の請求項54に記載の試料洗浄方法
  56. 【請求項56】 洗浄ステーションによって分配した選択流体による試料洗
    浄方法において、 選択流体を流体ラインから分配多岐管に送給し、 前記分配チャネルにおいて1方向に流動する前記選択流体を前記分配多岐管中
    の複数の分配チャネルに略一様に分配し、 各々の分配チャネル中の弁で阻止した前記流体が前記分配チャネルにおいて反
    対方向に流動することを阻止し、 選択した量の選択流体を前記分配多岐管で複数の流体ディスペンサー中に略同
    時に分配し、 流体を前記流体ディスペンサーから複数の試料容器中に略同時に分注すること
    から成ることを特徴とする試料洗浄方法。
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