JPH0215076A - 新規ペプチド誘導体 - Google Patents
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Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は医薬、殊に高血圧症予防治療剤として有用な下
記一般式(I)で示される親規ペプチド誘導体及びその
塩に関する。
記一般式(I)で示される親規ペプチド誘導体及びその
塩に関する。
[式中の記号は、以下の意味を有する。
R’ ; 低級アルキルスルホニル基、又ハモルポリ7
カルポニル基。
カルポニル基。
R2;アリール基。
R3;水酸基又はフェニル基で、置換されてイテモよい
低級アルキル基。
低級アルキル基。
n;0,1又は2(但し R3が低級アルキル基を意味
するときは1又は2を意味す る)。] 従来の技術) レニン阻害剤は、生体内昇圧系であるレニンアンジオテ
ンシン系の律速段階といわれているレニンとレニン基質
(アンジオテンシノーゲン)との反応を阻害し、アンジ
オテンシン■の生成を低下させることにより、血管収縮
作用やアルドステロン分泌作用など昇圧に強力に働くア
ンジオテンシン■の生成を抑制しようとするものである
。
するときは1又は2を意味す る)。] 従来の技術) レニン阻害剤は、生体内昇圧系であるレニンアンジオテ
ンシン系の律速段階といわれているレニンとレニン基質
(アンジオテンシノーゲン)との反応を阻害し、アンジ
オテンシン■の生成を低下させることにより、血管収縮
作用やアルドステロン分泌作用など昇圧に強力に働くア
ンジオテンシン■の生成を抑制しようとするものである
。
最近のレニン阻害剤の研究においては、天然レニン阻害
剤のペプスタチンに含まれている特異的アミノ酸のスタ
チンが、レニン基質アナログのLeu−ValやLeu
−Leu部位(レニンによる加水分解部位)の遷移状
態であると考え9合成レニこの遷移状態アナログの範嗜
に含まれ、注目すべき最新のレニン阻害剤としては、
J、 Med。
剤のペプスタチンに含まれている特異的アミノ酸のスタ
チンが、レニン基質アナログのLeu−ValやLeu
−Leu部位(レニンによる加水分解部位)の遷移状
態であると考え9合成レニこの遷移状態アナログの範嗜
に含まれ、注目すべき最新のレニン阻害剤としては、
J、 Med。
Chem、+ 28.1553(1985)+ J、
Med、 Chem、+ 28+ 1756(1985
)、特開昭61−33152号公報、特開昭61−12
2296号公報、特開昭61−236770号公報、特
開昭61−275257号公報や特開昭61−2752
58号公報などに記載されたペプチド類が挙げられる。
Med、 Chem、+ 28+ 1756(1985
)、特開昭61−33152号公報、特開昭61−12
2296号公報、特開昭61−236770号公報、特
開昭61−275257号公報や特開昭61−2752
58号公報などに記載されたペプチド類が挙げられる。
(発明が解決しようとする課題)
レニン阻害剤を臨床上使用しうるものとするためには。
(1) ヒトレニンに対して強力な阻害活性を有する
こと。
こと。
(2)臨床に適した作用時間の持続性があること。
(3)腸管からの吸収性に優れていること。
(4) ヒトレニンに対する阻害活性の特異性が高い
こと。
こと。
を備えたレニン阻害剤であることが要望されている。
阻害活性の増強の問題は、スタチンを導入した遷移状態
アナログとすることにより、また。
アナログとすることにより、また。
作用持続化の問題については、ペプチドのN末端及び/
又はC末端に保護基を導入することにより良好な結果を
生み出しており、一応の解決方向が与えられてきている
といえる。
又はC末端に保護基を導入することにより良好な結果を
生み出しており、一応の解決方向が与えられてきている
といえる。
しかしながら、腸管吸収性改善や特異性増強の問題につ
(・てはまだ未解決である。
(・てはまだ未解決である。
すなわち、腸管吸収性改善のためには、より低分子化が
考慮されるところであり、遷移状態アナログの開発研究
においても、より低分子のトリペプチドやジペプチドへ
の推移している。
考慮されるところであり、遷移状態アナログの開発研究
においても、より低分子のトリペプチドやジペプチドへ
の推移している。
しかし、従来公知の低分子遷移状態アナログレニン阻害
剤は、そのほとんどが消化管系の蛋白分解酵素により失
活し、腸管から吸収されないという問題があった。
剤は、そのほとんどが消化管系の蛋白分解酵素により失
活し、腸管から吸収されないという問題があった。
わずかに、前記特開昭61−236770号公報などに
開示のレニン阻害ペプチドだけが経口吸収について確認
しているが、ヒトレニンに特異的な活性強度や持続性に
ついてまだ充分とはいえず。
開示のレニン阻害ペプチドだけが経口吸収について確認
しているが、ヒトレニンに特異的な活性強度や持続性に
ついてまだ充分とはいえず。
その改善が要望されているのが実情である。
一方、前記特開昭61−33152号公報には、−般式
(詳細な基の定義については公報を参照)で示される化
合物が開示されている。しかしながら、該公報には、開
示一般式化合物の基R0のアリールとして、ヘテロアリ
ールが含まれると記載されているものの、ペテロ環の具
体的な記載は全く示されていない。
合物が開示されている。しかしながら、該公報には、開
示一般式化合物の基R0のアリールとして、ヘテロアリ
ールが含まれると記載されているものの、ペテロ環の具
体的な記載は全く示されていない。
また、ヨーロッパ特許第172347号や同第2004
06号にも、同様な化合物が開示されているものの、こ
れら公報に記載の化合物も本願化合物と化学構造を異に
して℃・る。
06号にも、同様な化合物が開示されているものの、こ
れら公報に記載の化合物も本願化合物と化学構造を異に
して℃・る。
(課題の解決手段)
このような技術水準下2本発明者らは、前記(1)〜(
4)の要請に応えうるレニン阻害剤の提供を目的として
鋭意研究した結果、シクロヘキシルスタチンのカルボキ
シル基にかえて1−置換テトラソリルーチオ、スルフィ
ニル又ハスルホニル基を導入することにより意外にも上
記目的達成が図られることを知見して本発明を完成した
。
4)の要請に応えうるレニン阻害剤の提供を目的として
鋭意研究した結果、シクロヘキシルスタチンのカルボキ
シル基にかえて1−置換テトラソリルーチオ、スルフィ
ニル又ハスルホニル基を導入することにより意外にも上
記目的達成が図られることを知見して本発明を完成した
。
すなわち2本発明は頭記一般式(1)で示される化合物
及びその塩を発明の構成とし、その提供を目的とする。
及びその塩を発明の構成とし、その提供を目的とする。
以下1本発明化合物につき詳述する。
(化合物)
本明細書の一般式の定義において「低級」なる用語は、
炭素数が1乃至6個の直鎖又は分岐状の炭素鎖を意味す
る。
炭素数が1乃至6個の直鎖又は分岐状の炭素鎖を意味す
る。
従って、「低級アルキル基」としては、具体的には例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
ブチル基、イソブチル基、 5ee−ブチル基、
tert−ブチル基、ペンチル(アミル)基、インペン
チル基、ネオペンチル23” 、 tert−ヘンチル
基、■−メチルブチル基。
ばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
ブチル基、イソブチル基、 5ee−ブチル基、
tert−ブチル基、ペンチル(アミル)基、インペン
チル基、ネオペンチル23” 、 tert−ヘンチル
基、■−メチルブチル基。
2−メチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基。
ヘキシル基、イソヘキシル基、1−メチルペンチル基、
2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、1,1
−ジメチルブチル基、■、2−ジブチブチ、3,3−ジ
メチルブチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチ
ル基、 1,1.2− トリメチルプロピル基、
1,2.2−トリメチルフロロピル基、1−エチル−1
−メチルブチル基。
2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、1,1
−ジメチルブチル基、■、2−ジブチブチ、3,3−ジ
メチルブチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチ
ル基、 1,1.2− トリメチルプロピル基、
1,2.2−トリメチルフロロピル基、1−エチル−1
−メチルブチル基。
■−エチルー2−メチルプロピル基等が挙げられる。
また、「低級アルキルスルホニル基」としてハ、メチル
スルホニル基、エチルスル*=ル基1プロピルスルホニ
ル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基
、インブチルスルホニル基、 5ec−ブチルスルホニ
ル基、 tert−ブチルスルホニル基、ペンチルスル
ホニル基、イソペンチルスルホニル基r tert−
ペンチルスルホニル基、ネオペンチルスルホニル基、ヘ
キシルスルホニル基、イソへキシルスルホニル基、1.
】−ジメチルブチルスルホニル基、 2.2−ジメチ
ルブチルスルホニル基、3,3−ジメチルブチルスルホ
ニル基等が挙げられる。
スルホニル基、エチルスル*=ル基1プロピルスルホニ
ル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基
、インブチルスルホニル基、 5ec−ブチルスルホニ
ル基、 tert−ブチルスルホニル基、ペンチルスル
ホニル基、イソペンチルスルホニル基r tert−
ペンチルスルホニル基、ネオペンチルスルホニル基、ヘ
キシルスルホニル基、イソへキシルスルホニル基、1.
】−ジメチルブチルスルホニル基、 2.2−ジメチ
ルブチルスルホニル基、3,3−ジメチルブチルスルホ
ニル基等が挙げられる。
「アリール基」は、芳香族炭化水素基を意味し、具体例
としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
本発明は、化合物(I)の塩をも包含するものである。
そのような塩としては、塩酸、硫酸。
硝酸、臭化水素酸、リン酸などの鉱酸、ギ酸。
酢酸、シュウ酸、コハク酸、フマール酸、マレイン酸、
リンゴ酸、クエン酸、酒石酸、メタンスルホン酸、エタ
ンスルホン酸、アスハラギン酸、グルタミン酸などの有
機酸や酸性アミノ酸との酸付加塩が挙げられる。
リンゴ酸、クエン酸、酒石酸、メタンスルホン酸、エタ
ンスルホン酸、アスハラギン酸、グルタミン酸などの有
機酸や酸性アミノ酸との酸付加塩が挙げられる。
本発明化合物(I)には、少なくとも4個の不斉炭素原
子が含まれており、光学異性体やジアステレオマーが存
在する。本発明にはこれら異性体の単離されたものやそ
の混合物が含まれる。
子が含まれており、光学異性体やジアステレオマーが存
在する。本発明にはこれら異性体の単離されたものやそ
の混合物が含まれる。
(製造法)
本発明化合物(I)は2種々の方法を適用して製造する
ことができる。
ことができる。
第1製法
第2製法
(丁)
第3製法
第4製法
(反応式中I R’l R21R3及びnは前記の意
味を有し、他の記号は以下の意味を有する。
味を有し、他の記号は以下の意味を有する。
R4;保護基を有していてもよいR1と同一の基。
R5;保護基を有していてもよい IH−イミダゾール
−4−イル基。
−4−イル基。
R6;保護基を有していてもよい水酸基。
M;水素原子又はアルカリ金属原子。
R’:低Rアルキルスルホニル基。
m:1又は2゜)
本発明化合物(I)は、従来公知のペプチド合成の常套
手段を適用することにより合成できる他。
手段を適用することにより合成できる他。
置換基の特徴に基づく合成法を適用して合成することが
できる。以下代表的な上記第1乃至4裂法につき詳述す
る。
できる。以下代表的な上記第1乃至4裂法につき詳述す
る。
第1製法
本発明化合物(I)は、一般式(n)で示される保護基
を有していてもよ−・N−[2−置換メチル−3−置換
プロピオニル]ヒスチジン又はそのC端活性化体と、一
般式(II[)で示される 3−アミノ−4−シクロへ
キシル−1−(1−置換テトラゾール−5−イル)チオ
(又はスルフィニル又はスルホニル)−2−置換ブタン
とを反応させ、必要により次いで保護基を除去すること
により製造することができる。
を有していてもよ−・N−[2−置換メチル−3−置換
プロピオニル]ヒスチジン又はそのC端活性化体と、一
般式(II[)で示される 3−アミノ−4−シクロへ
キシル−1−(1−置換テトラゾール−5−イル)チオ
(又はスルフィニル又はスルホニル)−2−置換ブタン
とを反応させ、必要により次いで保護基を除去すること
により製造することができる。
すなわち、化合物(II)として遊離酸又はN−ヒドロ
キシルアミン系活性エステルを用い、縮合剤の存在下で
反応させるカップリング法が適用できる。また、N−二
トロフェノール等のフェノール系、N−ヒドロスクシン
イミド、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等のN−ヒ
ドロキシルアミン系の化合物と反応させて得られる活性
エステル;炭酸モノアルキルエステル、あるいは有機酸
と反応させて得られる混合酸無水物や塩化ジフェニルホ
スホリル、N−メチルモルホリンとを反応させて得られ
るリン酸系混合酸無水物;酸ヒドラジドと亜硝酸(酸と
亜硝酸アルキルなど)と反応させて得られる酸アジド;
酸クロライド、酸ブロマイドなどの酸ハライド;対称型
酸無水物;等のC端活性化体を用いるC端活性化法を適
用することによっても製造することができる。
キシルアミン系活性エステルを用い、縮合剤の存在下で
反応させるカップリング法が適用できる。また、N−二
トロフェノール等のフェノール系、N−ヒドロスクシン
イミド、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等のN−ヒ
ドロキシルアミン系の化合物と反応させて得られる活性
エステル;炭酸モノアルキルエステル、あるいは有機酸
と反応させて得られる混合酸無水物や塩化ジフェニルホ
スホリル、N−メチルモルホリンとを反応させて得られ
るリン酸系混合酸無水物;酸ヒドラジドと亜硝酸(酸と
亜硝酸アルキルなど)と反応させて得られる酸アジド;
酸クロライド、酸ブロマイドなどの酸ハライド;対称型
酸無水物;等のC端活性化体を用いるC端活性化法を適
用することによっても製造することができる。
カップリング法のカップリング試薬としては。
N、 N’−シフクロへキシルカルボジイミド、カルボ
ニルジイミダゾール、ジフェニルホスホリルアジド(D
PPA )やジヱチルホスホリルシアニド等が好適であ
る。
ニルジイミダゾール、ジフェニルホスホリルアジド(D
PPA )やジヱチルホスホリルシアニド等が好適であ
る。
反応は通常溶媒中冷却下乃至室温下に行なわれる。用い
られる溶媒は反応に関与しない有機溶媒例工ばジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、エーテル、ジクロルメタン、ジクロ
ルエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジメトキシメタ
ン、ジメトキシエタン、酢酸エチル、ベンゼン、アセト
ニトリル、ジメチルスルホキシド等やこれらの混合溶媒
などが挙げられるが、これらの有機溶媒は適用される方
法に応じて適宜選択される。また、C端活性化体の種類
によっては無水の条件下に実施しなければならない場合
がある。
られる溶媒は反応に関与しない有機溶媒例工ばジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、エーテル、ジクロルメタン、ジクロ
ルエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジメトキシメタ
ン、ジメトキシエタン、酢酸エチル、ベンゼン、アセト
ニトリル、ジメチルスルホキシド等やこれらの混合溶媒
などが挙げられるが、これらの有機溶媒は適用される方
法に応じて適宜選択される。また、C端活性化体の種類
によっては無水の条件下に実施しなければならない場合
がある。
また、適用される方法によっては、N−メチルモルホリ
ン、トリエチルアミン、トリメチルアミン等の塩基の存
在下に反応させるのが反応を円滑に進行させる上で好ま
しい場合がある。
ン、トリエチルアミン、トリメチルアミン等の塩基の存
在下に反応させるのが反応を円滑に進行させる上で好ま
しい場合がある。
特に1本発明化合物(I)の製造法においては。
保護基、ラセミ化などの問題を考慮すると、アジド化法
やジエチルホスホリルシアニドなどを用いるカップリン
グ法が最も有利である。
やジエチルホスホリルシアニドなどを用いるカップリン
グ法が最も有利である。
このようにして製造された生成物に保護基があるとぎは
2次いでその保護基を脱離させる。
2次いでその保護基を脱離させる。
ここにカルボキシ基の保護基としては、ペプチド合成の
分野で通常カルボキシ基の保護基として用いられるエス
テル残基がよく、具体的にはベンジル基、あるいはp−
二トロベンジル基、p−メtert−ブチル基、メチル
基、エチル基等の低級アルキル基類、フェナシル基、4
−ピコリル基、シクロヘキシル等が挙げられる。また、
イミダゾリル基の保護基としてはトシル基、水酸基の保
護基としてはベンジル基、前記置換ベンジル基類やte
rt−ブチル基等が好ましい。
分野で通常カルボキシ基の保護基として用いられるエス
テル残基がよく、具体的にはベンジル基、あるいはp−
二トロベンジル基、p−メtert−ブチル基、メチル
基、エチル基等の低級アルキル基類、フェナシル基、4
−ピコリル基、シクロヘキシル等が挙げられる。また、
イミダゾリル基の保護基としてはトシル基、水酸基の保
護基としてはベンジル基、前記置換ベンジル基類やte
rt−ブチル基等が好ましい。
第2製法
本発明化合物(I)は、一般式(IV)で示される2−
置換メチル−3−置換プロピオン酸又は七〇〇端活性化
体と、一般式(V)で示される N−[1−シクロヘキ
シルメチル−2−!換−3−(1−[換テトラゾールー
5−イル)チオ(又はスルフィニル又はスルホニル)プ
ロビルコヒスチジンアミドと反応させ、必要により次い
で保護基を除去することによっても製造することができ
る。
置換メチル−3−置換プロピオン酸又は七〇〇端活性化
体と、一般式(V)で示される N−[1−シクロヘキ
シルメチル−2−!換−3−(1−[換テトラゾールー
5−イル)チオ(又はスルフィニル又はスルホニル)プ
ロビルコヒスチジンアミドと反応させ、必要により次い
で保護基を除去することによっても製造することができ
る。
反応条件等は第1製法と同様である。
第3裂法
本発明化合物中一般式(Ia)で示される化合物は。
一般式(Vl)で示される保護基を有していてもよいN
−(1−シクロヘキシルメチル−2,3−エポキシプロ
ピル)−Na−(2−置換メチル−3=置換フロピオニ
ル)ヒスチジンアミドと、 一般式(■)で示されるメ
ルカプタン又はそのアルカリ金属置換体とを反応させ、
必要により次いで保護基を除去することによって合成す
ることができる。
−(1−シクロヘキシルメチル−2,3−エポキシプロ
ピル)−Na−(2−置換メチル−3=置換フロピオニ
ル)ヒスチジンアミドと、 一般式(■)で示されるメ
ルカプタン又はそのアルカリ金属置換体とを反応させ、
必要により次いで保護基を除去することによって合成す
ることができる。
なお2反応式中Mが示すアルカリ金属原子としてはナト
リウム原子、カリウム原子などが挙げられる。
リウム原子、カリウム原子などが挙げられる。
反応は2反応に不活性な溶媒中に行うのが有利である。
このような溶媒としては、N、N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、インプロ
パツール、アセトン。
ド、ジメチルスルホキシド、エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、インプロ
パツール、アセトン。
メチルエチルケトン、ジクロルメタン、ジクロルエタン
、クロロホルム、四塩化炭素等の有機溶媒。
、クロロホルム、四塩化炭素等の有機溶媒。
又は水、あるいは水と有機溶媒との混合溶媒が挙げられ
る。
る。
化合物(■)としてメルカプタンを用いるときは。
塩基の存在下に行うのが有利であり、そのようなリウム
などの有機塩基や無機塩基が挙げられる。
などの有機塩基や無機塩基が挙げられる。
反応温度は、原料化合物の種類等の反応条件により異な
り、特に限定されず、冷却下、室温下あるいは加温下で
それぞれ行う場合がある。
り、特に限定されず、冷却下、室温下あるいは加温下で
それぞれ行う場合がある。
第4製法
本発明化合物中一般式(Ic)で示されるスルホキシド
又はスルホンは、一般式(Ib)で示されるスルフィド
を酸化することにより製造することができる。
又はスルホンは、一般式(Ib)で示されるスルフィド
を酸化することにより製造することができる。
スルフィドの酸化は緩和な条件で行えばスルホキシドを
与え、より強い条件で行えばスルホンを与える。
与え、より強い条件で行えばスルホンを与える。
酸化剤としては、過酸化水素や有機過酸を用いるのが好
適であり2、有機過酸としては過ギ酸、過酢酸、過安息
香酸9m〜クロロ過安息香酸、過フタル酸などが用いら
れるが、特に他に酸化を受けやすい基の存在を考慮し、
過酸化水素や過酢酸を用いるのが有利である。
適であり2、有機過酸としては過ギ酸、過酢酸、過安息
香酸9m〜クロロ過安息香酸、過フタル酸などが用いら
れるが、特に他に酸化を受けやすい基の存在を考慮し、
過酸化水素や過酢酸を用いるのが有利である。
反応は反応に不活性な有機溶媒2例えばジクロルメタン
、ジクロルエタン、四塩化炭素等中、化合物(Ib)を
、それに対し過剰モルの酸化剤で、室温下乃至加温下に
処理することにより行なわれる。
、ジクロルエタン、四塩化炭素等中、化合物(Ib)を
、それに対し過剰モルの酸化剤で、室温下乃至加温下に
処理することにより行なわれる。
このようにして製造された本発明化合物は、遊離のまま
あるいはその塩として単離され精製される。単離、精製
は、抽出、結晶化、再結晶、各種クロマトグラフィー等
の通常の化学操作を適用して行われる。
あるいはその塩として単離され精製される。単離、精製
は、抽出、結晶化、再結晶、各種クロマトグラフィー等
の通常の化学操作を適用して行われる。
また、ラセミ化合物は適当な原料化合物を用いることに
より、あるいは一般的なラセミ分割法により[たとえば
、一般的な光学活性酸(酒石酸等)とのジアステレオマ
ー塩に導き、光学分割する方法等コ立体化学的に純粋な
異性体に導くことができる。また2 ジアステレオマー
混合物は常法、たとえば分別結晶化またはクロマトグラ
フィー等により分離できる。
より、あるいは一般的なラセミ分割法により[たとえば
、一般的な光学活性酸(酒石酸等)とのジアステレオマ
ー塩に導き、光学分割する方法等コ立体化学的に純粋な
異性体に導くことができる。また2 ジアステレオマー
混合物は常法、たとえば分別結晶化またはクロマトグラ
フィー等により分離できる。
(発明の効果)
本発明のペプチド類(I)及びその塩は、ヒトレニンに
対して特異的で強力な阻害活性を有し、臨床的投与に適
した作用時間の持続性があり、かつ依存性高血圧症に対
する予防・治療剤として有用である。
対して特異的で強力な阻害活性を有し、臨床的投与に適
した作用時間の持続性があり、かつ依存性高血圧症に対
する予防・治療剤として有用である。
本発明化合物のヒトレニンに対する特異的でかつ強力な
阻害活性は以下に示す試験方法によって確認されたもの
である。
阻害活性は以下に示す試験方法によって確認されたもの
である。
0.5 ng/1nVhr (37℃)のアンジオテン
シンI生成活性を有するヒト血漿2501Ltに、市販
レニン活性フェート、 pH4,6)溶液(用時10
m1の蒸留水を加えて調製)225μを及び被検化合物
のジメチルスルホキシド溶液25.cgを加え攪拌し、
一部を37℃で2時間インキユーベーションし、残りを
4℃で放置し、各々より100ILtずつサンプリング
し、市販レニン活性測定キット(デキストラン炭末法)
を用いてラジオイムノアッセイにかけ、37℃及び4°
Cにおけるアンジオテンシン■生成量の差を測定するこ
とによって、50%阻害濃度IC,。(M)を求めた。
シンI生成活性を有するヒト血漿2501Ltに、市販
レニン活性フェート、 pH4,6)溶液(用時10
m1の蒸留水を加えて調製)225μを及び被検化合物
のジメチルスルホキシド溶液25.cgを加え攪拌し、
一部を37℃で2時間インキユーベーションし、残りを
4℃で放置し、各々より100ILtずつサンプリング
し、市販レニン活性測定キット(デキストラン炭末法)
を用いてラジオイムノアッセイにかけ、37℃及び4°
Cにおけるアンジオテンシン■生成量の差を測定するこ
とによって、50%阻害濃度IC,。(M)を求めた。
例えば、実施例1及び3の化合物(異性体混合物)のヒ
ト血漿でのIC5oは10 M程度であった。
ト血漿でのIC5oは10 M程度であった。
本発明ペプチド又はその塩を有効成分として含有する製
剤は1通常経ロ投与用ベグチド製剤用の担体、賦形剤そ
の他の添加剤を用いて錠剤、カプセル剤等の経口投与剤
とされるが、注射剤等の非経口投与製剤とすることもで
きる。
剤は1通常経ロ投与用ベグチド製剤用の担体、賦形剤そ
の他の添加剤を用いて錠剤、カプセル剤等の経口投与剤
とされるが、注射剤等の非経口投与製剤とすることもで
きる。
本発明化合物の臨床的投与量は適用する患者の症状1年
令、性別等を考慮して適宜決定され、2〜4回に分けて
投与される。
令、性別等を考慮して適宜決定され、2〜4回に分けて
投与される。
(実施例)
以下に実施例を掲記し1本発明の詳細な説明する。なお
原料化合物中の特定物質は新規化合物であり、参考例に
記載した方法あるいは参考例の方法に準じて製造するこ
とにより容易に入手することができる。
原料化合物中の特定物質は新規化合物であり、参考例に
記載した方法あるいは参考例の方法に準じて製造するこ
とにより容易に入手することができる。
参考例
1゜
3−t−ブトキシカルボニルアミノ−4−シクロヘキシ
ル−1,2−オキソブタン2.29g (10ミリモル
)、1−メチル−5−メルカプトテトラゾール1.16
g (1,0ミリモル)、 テトラヒドロフラン20
mlの溶液へ、 l−リエチルアミン1.4 ml
(10ミリモル)を加え、室温で一夜攪拌する。
ル−1,2−オキソブタン2.29g (10ミリモル
)、1−メチル−5−メルカプトテトラゾール1.16
g (1,0ミリモル)、 テトラヒドロフラン20
mlの溶液へ、 l−リエチルアミン1.4 ml
(10ミリモル)を加え、室温で一夜攪拌する。
反応液に、酢酸エチル100 mlを加え、水で洗った
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、濃縮する
。残渣にエーテル−n−ヘキサンを加え2表順化合物1
.5gの白色結晶を得た。
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、濃縮する
。残渣にエーテル−n−ヘキサンを加え2表順化合物1
.5gの白色結晶を得た。
融点 129〜136℃ (エーテル−n−ヘキサン
より)質量分析値(mlz) : 386 (M++
1 )、 330,286赤外線吸収スペクト/l/
(KBr ) em−1: 3356.2936゜
1688、1530.1178 核磁気共鳴スペクトル(CDCI3. TMS内部標準
)δppm : 1.42(9H,s、 t−Bu
O−)1’2R3,38)−3−N−t−ブトキシカル
ボニル3−t−ブトキシカルボニルアミノ−4−シクロ
ヘキシル−1,2−オキソブタン6.0g、 1−
(2−ヒドロキシエチル)−5−メルカプトテトラゾー
ル1.5g、及びメタノール30m1の溶液へ、トリエ
チルアミン0.7 mlを加え、室温で一夜攪拌する。
より)質量分析値(mlz) : 386 (M++
1 )、 330,286赤外線吸収スペクト/l/
(KBr ) em−1: 3356.2936゜
1688、1530.1178 核磁気共鳴スペクトル(CDCI3. TMS内部標準
)δppm : 1.42(9H,s、 t−Bu
O−)1’2R3,38)−3−N−t−ブトキシカル
ボニル3−t−ブトキシカルボニルアミノ−4−シクロ
ヘキシル−1,2−オキソブタン6.0g、 1−
(2−ヒドロキシエチル)−5−メルカプトテトラゾー
ル1.5g、及びメタノール30m1の溶液へ、トリエ
チルアミン0.7 mlを加え、室温で一夜攪拌する。
反応液へ酢酸エチル100 mlを加え、水で洗った後
。
。
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、濃縮する。残
渣をシリカゲルクロマトに付し、目的化合物を含むフラ
クションを濃縮した。残渣にn−ヘキサンを加え9表題
化合物2.0gの白色粉末を得た。
渣をシリカゲルクロマトに付し、目的化合物を含むフラ
クションを濃縮した。残渣にn−ヘキサンを加え9表題
化合物2.0gの白色粉末を得た。
質量分析値(mlz): 416 (M”+1)赤外
線吸収スペクトル(KBr ) cm−1: 341
2.2940゜1670、1524.1170 参考例 参考例2と同様にして (2R3,3S )−3−Nt
−ブトキシカルボニルアミノ−4−シクロヘキシル−1
−[(1−ベンジル−5−テトラゾリル)チオ]−2−
ブタノールの白色粉末を得た。
線吸収スペクトル(KBr ) cm−1: 341
2.2940゜1670、1524.1170 参考例 参考例2と同様にして (2R3,3S )−3−Nt
−ブトキシカルボニルアミノ−4−シクロヘキシル−1
−[(1−ベンジル−5−テトラゾリル)チオ]−2−
ブタノールの白色粉末を得た。
質量分析値(mlz) : 462 (M”+1 )
赤外線吸収スペクトル(KBr ) cm−1; 16
90.1522゜核磁気共鳴スペクトル(CDCI、、
TMS 内部標準)δppm : 0.8〜1.9
5(22H,b、 t−BuO−。
赤外線吸収スペクトル(KBr ) cm−1; 16
90.1522゜核磁気共鳴スペクトル(CDCI、、
TMS 内部標準)δppm : 0.8〜1.9
5(22H,b、 t−BuO−。
シクロヘキシルメチル−)。
5.44 (2H,s 。
〔XcH2−)。
7.34(5H,m。
フェニル)
参考例
(3S)−3−(N−t−ブトキシカルボニルアミノ)
−4−シクロヘキシル−[(1−エチル−5−テトラゾ
リル)チオ]−2−ブタノール5201TIg。
−4−シクロヘキシル−[(1−エチル−5−テトラゾ
リル)チオ]−2−ブタノール5201TIg。
m−クロロ過安息香酸600 mg、メチレンクロリド
20m7の溶液を、室温で一夜攪拌した後2重曹水、水
で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し。
20m7の溶液を、室温で一夜攪拌した後2重曹水、水
で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し。
減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトに付し、目
的物のフラクションを濃縮して表題化合物の白色粉末5
50 mgを得た。
的物のフラクションを濃縮して表題化合物の白色粉末5
50 mgを得た。
質量分析値(mlz) : 432 (M++1 )
赤外線吸収スペクトA/ (KBr ) crrrl
: 1688゜1520、1368.1342.11
72.1146核磁気共鳴スペクトル( δ ppm 二 1.44 (9H,s。
赤外線吸収スペクトA/ (KBr ) crrrl
: 1688゜1520、1368.1342.11
72.1146核磁気共鳴スペクトル( δ ppm 二 1.44 (9H,s。
1.64 (3H,t 。
3.83(2H,d。
4.74 (2H,q 。
CDCl、、TMS内部標準)
t BuO)+
−CH2CH,)。
CHCH25o2−)。
H
−CH,CH3)
参考例
5、(実施例3の原料)
参考例2で得た 3−N−t−ブトキシカルボニルアミ
ノ−4−シクロへキシル−1−[(2−ヒドロキシエチ
ル−5−テトラゾリル)チオコ2−ブタノール20gに
4N−塩酸/ジオキサン30 mlを加え、室温で一時
間攪拌した後、減圧下濃縮乾固させ、残直に、Nct−
t−ブトキシカルボニル−し−ヒスチジン1.2g、
1−ヒドロキシベンゾ) l)アゾール0.65 g
、 ジメチルホルムアミド20 mlを加える。上
記混合液を水冷下撹拌し、トリエチルアミン0.67
ml、 N、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド1
.0gを加え、室温で一夜攪拌する。
ノ−4−シクロへキシル−1−[(2−ヒドロキシエチ
ル−5−テトラゾリル)チオコ2−ブタノール20gに
4N−塩酸/ジオキサン30 mlを加え、室温で一時
間攪拌した後、減圧下濃縮乾固させ、残直に、Nct−
t−ブトキシカルボニル−し−ヒスチジン1.2g、
1−ヒドロキシベンゾ) l)アゾール0.65 g
、 ジメチルホルムアミド20 mlを加える。上
記混合液を水冷下撹拌し、トリエチルアミン0.67
ml、 N、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド1
.0gを加え、室温で一夜攪拌する。
不溶物をP去し2重曹水、エチルエーテルを加え。
析出する固体を沢取し、水、エーテルで洗浄し。
表題化合物の白色粉末1.3gを得た。
質量分析値(m/z): 553(M++1)。
575 (M++23 )
赤外線吸収スペクトル(KBr ) cm−+ :
2936゜1698、1644.1526.1172参
考例 6.(実施例1の原料) 参考例s ト同様ニジ−C(3S )−3−[(NaL
−ブトキシカルボニル−し−ヒスチジル)アミノコ−4
−シクロヘキシル−1−[(1−エチル−5−テトラゾ
リル)チオ]−2−ブタノールを得た。
2936゜1698、1644.1526.1172参
考例 6.(実施例1の原料) 参考例s ト同様ニジ−C(3S )−3−[(NaL
−ブトキシカルボニル−し−ヒスチジル)アミノコ−4
−シクロヘキシル−1−[(1−エチル−5−テトラゾ
リル)チオ]−2−ブタノールを得た。
質量スペクトル(m/z) : 537 (M”+1
)赤外線吸収スペクトル(KBr ) am−i :
1698゜1644.1526.1174 核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d、、 TMS内
部標準)H 4,30(2H1q? −CH2CH5 )。
)赤外線吸収スペクトル(KBr ) am−i :
1698゜1644.1526.1174 核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d、、 TMS内
部標準)H 4,30(2H1q? −CH2CH5 )。
参考例
7、(実施例2の原料)
参考例5と同様にして(2R8,38)−3−N−[(
N“−t−ブトキシカルボニル−L−ヒスチジル)アミ
ン]−4−シクロヘキシル−1−[(1ベンジル−5−
テトラゾリル)チオ]−2−ブタノールの白色粉末を得
た。
N“−t−ブトキシカルボニル−L−ヒスチジル)アミ
ン]−4−シクロヘキシル−1−[(1ベンジル−5−
テトラゾリル)チオ]−2−ブタノールの白色粉末を得
た。
質量分析値(m/z) : 599 (M”+1 )
赤外線吸収スペクトル(KBr ) cm−1: 1
696.1646゜1526、1170 参考例 8.(実施例4の原料) 参考例5と同様にして(3R)−3−N−[(Nc1 t ブトキシカルボニル−L−ヒスチジル)ア4−シクロヘ
キシル−[(1−エチル−テトラゾリル)スルホニル]
−2−ブタノーミ ノ ] 質量分析値(m/z) : 569 (M++1 )
赤外線吸収スペクトル(KBr ) cm−1: 17
00.1670゜1524.1452,1170.11
46核磁気共鳴スペクトル(CI)c13. TMS
内部標準)δppm : 1.44(9H,s、
t−BuO−)。
赤外線吸収スペクトル(KBr ) cm−1: 1
696.1646゜1526、1170 参考例 8.(実施例4の原料) 参考例5と同様にして(3R)−3−N−[(Nc1 t ブトキシカルボニル−L−ヒスチジル)ア4−シクロヘ
キシル−[(1−エチル−テトラゾリル)スルホニル]
−2−ブタノーミ ノ ] 質量分析値(m/z) : 569 (M++1 )
赤外線吸収スペクトル(KBr ) cm−1: 17
00.1670゜1524.1452,1170.11
46核磁気共鳴スペクトル(CI)c13. TMS
内部標準)δppm : 1.44(9H,s、
t−BuO−)。
1.62(3H,t、 −CH2CH5)1(2R8
,3S)−3−N−[(Na−t−フトキシカルポニル
ーL−ヒスチジル)アミン]−4−シクロヘキシル−1
−(1−メチル−5−テトラゾリルチオ)−2−ブタノ
ール522 ffg(1ミリモル)へ4N−塩酸/ジオ
キサン5 mlを加え、室温で一時間攪拌した後、減圧
下濃縮乾固させる。残渣に2−ベンジル−3−t−ブチ
ルスルホニルプロピオン酸284mg、 ジメチルホル
ムアミド10mtを加え、水冷下攪拌し、更にジフェニ
ルホスホリルアジド0.26m1. トリエチルアミ
ン0.42 m4を加えて。
,3S)−3−N−[(Na−t−フトキシカルポニル
ーL−ヒスチジル)アミン]−4−シクロヘキシル−1
−(1−メチル−5−テトラゾリルチオ)−2−ブタノ
ール522 ffg(1ミリモル)へ4N−塩酸/ジオ
キサン5 mlを加え、室温で一時間攪拌した後、減圧
下濃縮乾固させる。残渣に2−ベンジル−3−t−ブチ
ルスルホニルプロピオン酸284mg、 ジメチルホル
ムアミド10mtを加え、水冷下攪拌し、更にジフェニ
ルホスホリルアジド0.26m1. トリエチルアミ
ン0.42 m4を加えて。
室温で一夜攪拌する。反応液へ酢酸エチル50 mlを
加え2重曹水、水の順で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下濃縮する。残直をシリカゲルクロマト
に付し、目的化合物を含むフラクションを濃縮し、残直
にエーテルを加え、粉末化し。
加え2重曹水、水の順で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下濃縮する。残直をシリカゲルクロマト
に付し、目的化合物を含むフラクションを濃縮し、残直
にエーテルを加え、粉末化し。
表題化合物8017+gを得た。
Rf=0.45(クロロホルム:メタノール=5:1)
質量分析値(m/z) : 689 (M++1 )
赤外線吸収スペクトル(KBr ) cm−t :12
88、1114 1654.1532゜ 実施例2゜ [l、4−ジオキソ−4−モルホリノ−2−(1(38
) −3−N−[(N“−t−ブトキシカルボニル−し
−ヒスチジル)アミノコ−4−シクロヘキシル−1−(
1−ベンジル−5−テトラゾリルチオ)−2−ブタノー
ル598 mg(1ミリモル)に4N−塩酸/ジオキサ
ン10m1を加え、室温で一時間攪拌した後、減圧下濃
縮乾固させる。残渣に3−モルホリノカルボニル−2−
(1−ナフチルメチル)プロピオ/酸327mg、
ジメチルホルムアミド10r++Zを加え、水冷下攪拌
し、 更に1−ヒドロキシベンゾトリアゾール135f
f1g、 )リエチルアミン0.28 ml、 N、
N’−ジシクロへキシルカルボジイミド412 mgを
加えた後、室温で一夜攪拌する。
質量分析値(m/z) : 689 (M++1 )
赤外線吸収スペクトル(KBr ) cm−t :12
88、1114 1654.1532゜ 実施例2゜ [l、4−ジオキソ−4−モルホリノ−2−(1(38
) −3−N−[(N“−t−ブトキシカルボニル−し
−ヒスチジル)アミノコ−4−シクロヘキシル−1−(
1−ベンジル−5−テトラゾリルチオ)−2−ブタノー
ル598 mg(1ミリモル)に4N−塩酸/ジオキサ
ン10m1を加え、室温で一時間攪拌した後、減圧下濃
縮乾固させる。残渣に3−モルホリノカルボニル−2−
(1−ナフチルメチル)プロピオ/酸327mg、
ジメチルホルムアミド10r++Zを加え、水冷下攪拌
し、 更に1−ヒドロキシベンゾトリアゾール135f
f1g、 )リエチルアミン0.28 ml、 N、
N’−ジシクロへキシルカルボジイミド412 mgを
加えた後、室温で一夜攪拌する。
反応液へ酢酸エチル50 mlを加え9重曹水、水の順
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮
する。残渣をシリカゲルクロマトに付し、目的化合物を
含むフラクションを濃縮し、残渣に二一チルを加え、粉
末化し2表題化合物180 fngを得た。
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮
する。残渣をシリカゲルクロマトに付し、目的化合物を
含むフラクションを濃縮し、残渣に二一チルを加え、粉
末化し2表題化合物180 fngを得た。
Rf二0.60 (クロロホルム:メタノール−5:1
)質量分析値(m/z) : 808 (M+)赤外
線吸収スペクトル(KBr ) Cm−1: 164
6゜1!528.1450.1236 実施例 3゜ 実施例2と同様にして (3S)−4−7クロヘキシル
ー3−[[N“−[1,4−ジオキソ−4モルホリノー
2−(1−ナフチルメチル)ブチル]−L−ヒスチジル
]アミノコ−1−[[1(2−ヒドロキシエチル)−5
−テトラゾリル]チオ]−2−ブタノールの白色粉末を
得た。
)質量分析値(m/z) : 808 (M+)赤外
線吸収スペクトル(KBr ) Cm−1: 164
6゜1!528.1450.1236 実施例 3゜ 実施例2と同様にして (3S)−4−7クロヘキシル
ー3−[[N“−[1,4−ジオキソ−4モルホリノー
2−(1−ナフチルメチル)ブチル]−L−ヒスチジル
]アミノコ−1−[[1(2−ヒドロキシエチル)−5
−テトラゾリル]チオ]−2−ブタノールの白色粉末を
得た。
Rf=031 (クロロホルム:メタノール=5:1)
質量分析値(m/z) : 762 (M”+1 )
赤外線吸収スペクトル(KBr ) cm−r :
1646,1534゜1448.1116 実施例 4゜ (2R8,3S )−3−N−[(Nct−t−ブトキ
シカルボニル−し−ヒスチジル)アミノコ−4−シクロ
へキシル−1−(1−エチル−5−テトランリ/L/
ス/l/ホ= /l/ ) −2−ブタ/−ル460
mg (0,81ミリモル)に4N−塩酸/ジオキサン
10mtを加え、室温で一時間攪拌した後、減圧上濃縮
乾固さ−[ル。残渣に3−モルホリノカルボニル−2−
(1−ナフチルメチル)プロピオン酸265mg、
ジメチルホルムアミドl0m1を加え、水冷下攪拌し。
質量分析値(m/z) : 762 (M”+1 )
赤外線吸収スペクトル(KBr ) cm−r :
1646,1534゜1448.1116 実施例 4゜ (2R8,3S )−3−N−[(Nct−t−ブトキ
シカルボニル−し−ヒスチジル)アミノコ−4−シクロ
へキシル−1−(1−エチル−5−テトランリ/L/
ス/l/ホ= /l/ ) −2−ブタ/−ル460
mg (0,81ミリモル)に4N−塩酸/ジオキサン
10mtを加え、室温で一時間攪拌した後、減圧上濃縮
乾固さ−[ル。残渣に3−モルホリノカルボニル−2−
(1−ナフチルメチル)プロピオン酸265mg、
ジメチルホルムアミドl0m1を加え、水冷下攪拌し。
更にジフェニルホスホリルアジド0.2 ml、 トリ
エチルアミン0.34 mlを加えて、室温で一夜攪拌
する。
エチルアミン0.34 mlを加えて、室温で一夜攪拌
する。
反応液へ酢酸エチル100 mZを加え2重曹水、水の
順で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃
縮する。残渣をシリカゲルクロマトに付し、目的化合物
を含むフラクションを濃縮し、残直にエーテルを加えて
、粉末化し2表題化合物170mgを得た。
順で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃
縮する。残渣をシリカゲルクロマトに付し、目的化合物
を含むフラクションを濃縮し、残直にエーテルを加えて
、粉末化し2表題化合物170mgを得た。
Rf=0.54 (クロロホルム;メタノール=5:
1)質量分析値(m/z) 778(M++1)赤外
線吸収スペクトル(KBr ) cnrt : 16
44,1540゜1448、1342.1144.11
16特許出願人 山之内製薬株式会社
1)質量分析値(m/z) 778(M++1)赤外
線吸収スペクトル(KBr ) cnrt : 16
44,1540゜1448、1342.1144.11
16特許出願人 山之内製薬株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中の記号は以下の意味を有する。 R^1;低級アルキルスルホニル基、又はモルホリノカ
ルボニル基、 R^2;アリール基、 R^3;水酸基又はフェニル基で、置換されていてもよ
い低級アルキル基、 n;0、1又は2(但し、R^3が低級アルキル基を意
味するときは1又は2を意味す る)。] で示されるペプチド誘導体又はその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16469988A JPH0215076A (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 新規ペプチド誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16469988A JPH0215076A (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 新規ペプチド誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0215076A true JPH0215076A (ja) | 1990-01-18 |
Family
ID=15798192
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16469988A Pending JPH0215076A (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 新規ペプチド誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0215076A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102313626A (zh) * | 2011-03-28 | 2012-01-11 | 中国计量学院 | 液体式高速转子在线动平衡头及其技术实现 |
-
1988
- 1988-07-01 JP JP16469988A patent/JPH0215076A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102313626A (zh) * | 2011-03-28 | 2012-01-11 | 中国计量学院 | 液体式高速转子在线动平衡头及其技术实现 |
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