JPH02148A - アゾ化合物の製法 - Google Patents
アゾ化合物の製法Info
- Publication number
- JPH02148A JPH02148A JP1009612A JP961289A JPH02148A JP H02148 A JPH02148 A JP H02148A JP 1009612 A JP1009612 A JP 1009612A JP 961289 A JP961289 A JP 961289A JP H02148 A JPH02148 A JP H02148A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- formula
- phenol
- benzyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- -1 azo compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 46
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 27
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 11
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims abstract description 8
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 49
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 17
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 14
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 11
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 claims description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 abstract description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 15
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 13
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 6
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 5
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- DPJCXCZTLWNFOH-UHFFFAOYSA-N 2-nitroaniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O DPJCXCZTLWNFOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KMRSVJOEUGWWBX-UHFFFAOYSA-M 2-nitrobenzenediazonium;chloride Chemical compound [Cl-].[O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1[N+]#N KMRSVJOEUGWWBX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MCSXGCZMEPXKIW-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-4-[(4-methyl-2-nitrophenyl)diazenyl]-N-(3-nitrophenyl)naphthalene-2-carboxamide Chemical compound Cc1ccc(N=Nc2c(O)c(cc3ccccc23)C(=O)Nc2cccc(c2)[N+]([O-])=O)c(c1)[N+]([O-])=O MCSXGCZMEPXKIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 3
- 150000001565 benzotriazoles Chemical group 0.000 description 3
- UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N cefatrizine Chemical group S([C@@H]1[C@@H](C(N1C=1C(O)=O)=O)NC(=O)[C@H](N)C=2C=CC(O)=CC=2)CC=1CSC=1C=NNN=1 UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- FMUYQRFTLHAARI-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C=C(O)C(C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 FMUYQRFTLHAARI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PBGKNXWGYQPUJK-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-2-nitroaniline Chemical compound NC1=CC=C(Cl)C=C1[N+]([O-])=O PBGKNXWGYQPUJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 2
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000006182 dimethyl benzyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 2
- DSZOTMKIKJOOPG-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)-phenyldiazene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DSZOTMKIKJOOPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUFFULVDNCHOFZ-UHFFFAOYSA-N 2,4-xylenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C)=C1 KUFFULVDNCHOFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKBFOGMANCMNTF-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-methyl-6-(1-phenylethyl)phenol Chemical compound C=1C(C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C=1C(C)C1=CC=CC=C1 BKBFOGMANCMNTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZLLZDZTQPBHAZ-UHFFFAOYSA-N 2-nitroaniline-4-sulfonic acid Chemical compound NC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1[N+]([O-])=O VZLLZDZTQPBHAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005917 3-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 1
- BBELMWNCSCNWAO-UHFFFAOYSA-N 4-butoxy-2-nitroaniline Chemical compound CCCCOC1=CC=C(N)C([N+]([O-])=O)=C1 BBELMWNCSCNWAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJDPAYNGRJNIDB-UHFFFAOYSA-M 4-chloro-2-nitrobenzenediazonium;chloride Chemical compound [Cl-].[O-][N+](=O)C1=CC(Cl)=CC=C1[N+]#N AJDPAYNGRJNIDB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XNOWTXSDOVXNMA-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)=C1 XNOWTXSDOVXNMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000694440 Colpidium aqueous Species 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 241000408495 Iton Species 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- YWJUZWOHLHBWQY-UHFFFAOYSA-N decanedioic acid;hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN.OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O YWJUZWOHLHBWQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 238000006193 diazotization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- NESLWCLHZZISNB-UHFFFAOYSA-M sodium phenolate Chemical compound [Na+].[O-]C1=CC=CC=C1 NESLWCLHZZISNB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 150000005671 trienes Chemical class 0.000 description 1
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B29/00—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling
- C09B29/10—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from coupling components containing hydroxy as the only directing group
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D249/16—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D249/18—Benzotriazoles
- C07D249/20—Benzotriazoles with aryl radicals directly attached in position 2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3472—Five-membered rings
- C08K5/3475—Five-membered rings condensed with carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/48—Stabilisers against degradation by oxygen, light or heat
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、対応する?−アリールー2H−ベンゾトリア
ゾールに変えうる中間体0−ニトロアゾベンゼンの製法
に関する。
ゾールに変えうる中間体0−ニトロアゾベンゼンの製法
に関する。
0−ヒドロキシフェニル−2H−ベンゾトリアゾール型
の紫外線吸収剤は従来、有機材料用の光安定剤として重
大な経済的関心を引いてきた。
の紫外線吸収剤は従来、有機材料用の光安定剤として重
大な経済的関心を引いてきた。
この種の化合物、その製造方法及びこれらの有用な2−
7リールー2H−ベンゾトリアゾール類の用途は1例え
ば米国特許第3,004゜896号、同第3,055,
896号、同第3.072.585号、同第3,074
,910号、同第3,189,615号及び同第3゜2
30.194号明細書から公知である。しかしこれらの
安定剤はある種の基質に対する相溶性に欠ける。これら
は高温でシート、フィルム繊維等に加工する間に著しく
発汗、昇華及び/又は揮発する傾向がある。こうして、
特に、極めて薄いフィルム及び被覆の場合には、不適出
に多量のベンゾトリアゾール安定剤が損なわれる。この
ことは、フィルム又は被覆が使用中に高温にさらされて
いる場合にも該当する。
7リールー2H−ベンゾトリアゾール類の用途は1例え
ば米国特許第3,004゜896号、同第3,055,
896号、同第3.072.585号、同第3,074
,910号、同第3,189,615号及び同第3゜2
30.194号明細書から公知である。しかしこれらの
安定剤はある種の基質に対する相溶性に欠ける。これら
は高温でシート、フィルム繊維等に加工する間に著しく
発汗、昇華及び/又は揮発する傾向がある。こうして、
特に、極めて薄いフィルム及び被覆の場合には、不適出
に多量のベンゾトリアゾール安定剤が損なわれる。この
ことは、フィルム又は被覆が使用中に高温にさらされて
いる場合にも該当する。
ベンゾトリアゾールの構造を変えることにより、相溶性
を改善し、安定剤の損失を減少するため1種々の試験が
行なわれている。
を改善し、安定剤の損失を減少するため1種々の試験が
行なわれている。
米国特許第3,230,194号明細書は、メチル基の
代りに長鎖アルキル基で置換されたベンゾトリアゾール
類、特に2− (2−ヒドロキシ−5−t−オクチルフ
ェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを開示しており、
これらの化合物はポリエチレンに優れた相溶性及び安定
化作用を示す。
代りに長鎖アルキル基で置換されたベンゾトリアゾール
類、特に2− (2−ヒドロキシ−5−t−オクチルフ
ェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを開示しており、
これらの化合物はポリエチレンに優れた相溶性及び安定
化作用を示す。
米国特許第4,127,586号明細書は。
加工性を改良するため2−アリール−2H−ベンゾトリ
アゾールの別の変性を開示している。
アゾールの別の変性を開示している。
即ち、化合物2−〔2−ヒドロキシ−3−(l−フェニ
ルエチル)−5−メチルフェニル〕2H−ベンゾトリア
ゾールは、従来公知のベンゾトリアゾール化合物より良
好な相溶性を示し、加工中の揮発による損失も少ない。
ルエチル)−5−メチルフェニル〕2H−ベンゾトリア
ゾールは、従来公知のベンゾトリアゾール化合物より良
好な相溶性を示し、加工中の揮発による損失も少ない。
特開昭50−158588号公報から、同様にベンゾト
リアゾール型の光安定剤、例えば2〔2−ヒドロキシ−
3−α、α−ジメチルベンジルー5−メチルフェニル)
−2H−ベンゾトリアゾールが公知になっている。
リアゾール型の光安定剤、例えば2〔2−ヒドロキシ−
3−α、α−ジメチルベンジルー5−メチルフェニル)
−2H−ベンゾトリアゾールが公知になっている。
更に、高温での加工中のベンゾトリアゾールの加工特性
を改良する努力がなされている。
を改良する努力がなされている。
本発明の中間体から誘導される化合物、例え1f2−(
2−ヒドロキシ−3,5−ジ(α、α−ジメチルベンジ
ル)フェニル)−2H−ベンゾトリアゾールは、高温加
工の間又は安定化された混合物がフィルム及び被覆とし
て常に気候及び光の作用にさらされているような最終用
途において、意外に少ない損失しか示さない。
2−ヒドロキシ−3,5−ジ(α、α−ジメチルベンジ
ル)フェニル)−2H−ベンゾトリアゾールは、高温加
工の間又は安定化された混合物がフィルム及び被覆とし
て常に気候及び光の作用にさらされているような最終用
途において、意外に少ない損失しか示さない。
本発明は、0−ニトロアゾベンゼン、即ち、対応する2
−アリール−2H−ベンゾトリアゾールに変えうる中間
体の製法に関する。
−アリール−2H−ベンゾトリアゾールに変えうる中間
体の製法に関する。
本発明方法は、置換フェノールを強アルカリ性アルカノ
ール中でジアゾ化アニリンとカップリングされることに
より成る。置換フェノールの溶解性のため1反応混合物
中の水を最小量にするのが有利である。
ール中でジアゾ化アニリンとカップリングされることに
より成る。置換フェノールの溶解性のため1反応混合物
中の水を最小量にするのが有利である。
本発明方法は、生ずるジアゾニウム塩の中和及びフェノ
ールの造塩に必要な化学量的量より著しく多い過剰のア
ルカリ水酸化物を使用する点で、従来技術と異なる0本
発明によれば、カップリングは過剰の水酸イオンの存在
で、11以上のpH値で行う。
ールの造塩に必要な化学量的量より著しく多い過剰のア
ルカリ水酸化物を使用する点で、従来技術と異なる0本
発明によれば、カップリングは過剰の水酸イオンの存在
で、11以上のpH値で行う。
従来技術は1強アルカリ性カップリング工程を回避する
ことを教示している。従って1本発明によるカップリン
グ工程が実施された成果は特に意外である。
ことを教示している。従って1本発明によるカップリン
グ工程が実施された成果は特に意外である。
弱アルカリ性条件下でのフェノールとジアゾニウム塩と
のカップリングは、芳香族アゾ誘導体の公知製造方法で
ある。ニューヨークのベンジャミン社(W 、 A 、
Benjamin 、 Inc 、 )発行、ジェイ
・デイ・ロバーツ(J、D。
のカップリングは、芳香族アゾ誘導体の公知製造方法で
ある。ニューヨークのベンジャミン社(W 、 A 、
Benjamin 、 Inc 、 )発行、ジェイ
・デイ・ロバーツ(J、D。
Roberts)及びエム・シイ・カセリオ(M、C。
Caserio)著、′ベイショック・プリンシブル・
オブ・オーガニック・ケミストリー(BasicPri
nciples of Organic Che
mistry )(1965)、893〜895頁には
、カップリング工程は約10のpHで最適に進行するが
、これより高いPH値ではほとんど進行しないことが強
調されている。
オブ・オーガニック・ケミストリー(BasicPri
nciples of Organic Che
mistry )(1965)、893〜895頁には
、カップリング工程は約10のpHで最適に進行するが
、これより高いPH値ではほとんど進行しないことが強
調されている。
更に、0−ニトロベンゼンジアゾニウム塩溶液はアルコ
ール及びアルカリ金属水酸化物の存在で不安定であり、
N2を発生しながら急速に分解することが公知である。
ール及びアルカリ金属水酸化物の存在で不安定であり、
N2を発生しながら急速に分解することが公知である。
この理由から、従来技術は過剰のアルカリ金属水酸化物
中でのカップリング反応を回避することを教示している
。ニューヨークのインターサイエンス(rntersc
ienc )発行、フィーツーデビット(Fierz−
David)等著、′ファンダメンタル・プロセッシイ
ズ会オブ・ダイ・ケミストリイ(Funda −men
ta l Processes of Dye C
hemistry) ”、(1949)239〜241
頁及び252〜253頁参照。
中でのカップリング反応を回避することを教示している
。ニューヨークのインターサイエンス(rntersc
ienc )発行、フィーツーデビット(Fierz−
David)等著、′ファンダメンタル・プロセッシイ
ズ会オブ・ダイ・ケミストリイ(Funda −men
ta l Processes of Dye C
hemistry) ”、(1949)239〜241
頁及び252〜253頁参照。
ニューヨークのインターサイエンス発行、エッチ・ヅオ
リンガー(H,Zollinger)著 ”アゾφアン
ド拳ジアゾ・ケミストリイ(Azo andDiazo
Che+5istry)” (1961) 24
9〜250頁には、強アルカリ性カップリングの場合に
は、平衡がジアゾニウムイオン側から移動することが報
告されている。
リンガー(H,Zollinger)著 ”アゾφアン
ド拳ジアゾ・ケミストリイ(Azo andDiazo
Che+5istry)” (1961) 24
9〜250頁には、強アルカリ性カップリングの場合に
は、平衡がジアゾニウムイオン側から移動することが報
告されている。
ソビエト連邦特許第360357号明細書には、ナトリ
ウムフェノラートを弱アルカリ性溶液中で過剰の酸性ジ
アゾニウム塩とカップリングさせることが記載されてい
るが、本発明による反応条件とは全く異なり、反応中に
pH値は11以下に急速に低下する。
ウムフェノラートを弱アルカリ性溶液中で過剰の酸性ジ
アゾニウム塩とカップリングさせることが記載されてい
るが、本発明による反応条件とは全く異なり、反応中に
pH値は11以下に急速に低下する。
反応を強アルカリ媒体中で、溶剤として低級アルコール
の存在で実施する場合には、従来技術の教示とは異なり
、0−ニトロアゾベンゼンは高収率で、高い純度で得ら
れる。
の存在で実施する場合には、従来技術の教示とは異なり
、0−ニトロアゾベンゼンは高収率で、高い純度で得ら
れる。
従って、本発明は、2−アリール−2H−ベンゾトリア
ゾール光安定剤の製造に使用される中間体である0−ニ
トロアゾベンゼンを製造することを目的とする。
ゾール光安定剤の製造に使用される中間体である0−ニ
トロアゾベンゼンを製造することを目的とする。
本発明は特に、式(■):
〔式中T7は水素又は塩素であり、Tsは水素、塩素、
炭素原子数1乃至4個のアルキル基、炭素原子数1乃至
4個のアルコキシ基、炭素原子数2乃至9個のカルボア
ルコキシ基、カルボキシ基又は−5o3Hを表わし、T
9は炭素原子数1乃至12個のアルキル基、炭素原子数
1乃至4個のアルコキシ基、フェニル基又は炭素原子数
1乃至8個のアルキル基、炭素原子数5乃至6個のシク
ロアルキル基、炭素原子数2乃至9個のカルボアルコキ
シ基、塩素、カルボキシエチル基、若しくは炭素原子数
7乃至9個のカルボアルコキシ基で置換されたフェニル
基、塩素、カルボキシエチル基又は炭素原子数7乃至9
個のアリールアルキル基を表わし、T、0は水素、炭素
原子数1乃至4個のアルキル基、炭素原子数1乃至4個
のアルコキシ基、塩素又は水酸基を表わし、Tよ、は炭
素原子数1乃至12個のアルキル基、塩素、炭素原子数
5乃至6個のシクロアルキル基又は炭素原子数7乃至9
個のアリールアルキル基を表わす〕で表わされる化合物
を製造する方法に関し、カップリングすべきフェノール
に対して化学量論酌量又は小過剰の、式(■); 〔式中T7及びTsは前記のものを表わす〕で表わされ
るアミンのジアゾニウム塩を、式〔式中T8.Tユ。及
びT工、は前記のものを表わす〕で表わされるフェノー
ルを含む強アルカリ性低級アルカノール溶液又はその水
溶液に添加すること、及び上記のフェノール溶液がアル
カリ金属水酸化物を、溶液のpH値が11以上になり、
酸性ジアゾニウム塩の中和後にも過剰の水酸イオンが存
在するような量で含むこと、及び反応温度を一15℃乃
至+30℃にすることを特徴とする。温度は一2℃乃至
+5℃であるのが有利である。
炭素原子数1乃至4個のアルキル基、炭素原子数1乃至
4個のアルコキシ基、炭素原子数2乃至9個のカルボア
ルコキシ基、カルボキシ基又は−5o3Hを表わし、T
9は炭素原子数1乃至12個のアルキル基、炭素原子数
1乃至4個のアルコキシ基、フェニル基又は炭素原子数
1乃至8個のアルキル基、炭素原子数5乃至6個のシク
ロアルキル基、炭素原子数2乃至9個のカルボアルコキ
シ基、塩素、カルボキシエチル基、若しくは炭素原子数
7乃至9個のカルボアルコキシ基で置換されたフェニル
基、塩素、カルボキシエチル基又は炭素原子数7乃至9
個のアリールアルキル基を表わし、T、0は水素、炭素
原子数1乃至4個のアルキル基、炭素原子数1乃至4個
のアルコキシ基、塩素又は水酸基を表わし、Tよ、は炭
素原子数1乃至12個のアルキル基、塩素、炭素原子数
5乃至6個のシクロアルキル基又は炭素原子数7乃至9
個のアリールアルキル基を表わす〕で表わされる化合物
を製造する方法に関し、カップリングすべきフェノール
に対して化学量論酌量又は小過剰の、式(■); 〔式中T7及びTsは前記のものを表わす〕で表わされ
るアミンのジアゾニウム塩を、式〔式中T8.Tユ。及
びT工、は前記のものを表わす〕で表わされるフェノー
ルを含む強アルカリ性低級アルカノール溶液又はその水
溶液に添加すること、及び上記のフェノール溶液がアル
カリ金属水酸化物を、溶液のpH値が11以上になり、
酸性ジアゾニウム塩の中和後にも過剰の水酸イオンが存
在するような量で含むこと、及び反応温度を一15℃乃
至+30℃にすることを特徴とする。温度は一2℃乃至
+5℃であるのが有利である。
反応終了後、反応混合物を酢酸又は鉱酸で酸性にし、生
成物を濾過により単離するのが有利である。
成物を濾過により単離するのが有利である。
Tsは炭素原子数1乃至4個のアルキル基、例えばメチ
ル基、エチル基又はn−ブチル基であってもよい、Ts
は炭素原子数1乃至4@のアルコキシ基、例えばメト
キシ基、ニドキシ基又はn−ブトキシ基であってもよい
、Tsはまた炭素原子数2乃至9個のカルボアルコキシ
基、例えばカルボメトキシ基、カルボエトキシ基又はカ
ルポーn−オクトキシ基を表わしてもよい。
ル基、エチル基又はn−ブチル基であってもよい、Ts
は炭素原子数1乃至4@のアルコキシ基、例えばメト
キシ基、ニドキシ基又はn−ブトキシ基であってもよい
、Tsはまた炭素原子数2乃至9個のカルボアルコキシ
基、例えばカルボメトキシ基、カルボエトキシ基又はカ
ルポーn−オクトキシ基を表わしてもよい。
T9は炭素原子数1乃至12個のアルキル基、例えばメ
チル基、エチル基、5eC−ブチル基、t−ブチル基、
アミル基、し−オクチル基又はn−ドデシル基であって
よい、T9は炭素原子61乃至8個のアルキル基で置換
されたフェニル基であってよく、その際アルキル基は例
えばメチル基、t−ブチル基、L−7ミル基又はt−オ
クチル基であってよい、T9は炭素原子数5乃至6個の
シクロアルキル基、例えばシクロペンチル基又はシクロ
ヘキシル基であってよい、T9 はまた炭素原子数2乃
至9個のカルボアルコキシ基、゛例えばカルボメトキシ
基、カルボエトキシ基、カルポーn−ブトキシ基又はカ
ルポーn−オクトキシ基であってよい。
チル基、エチル基、5eC−ブチル基、t−ブチル基、
アミル基、し−オクチル基又はn−ドデシル基であって
よい、T9は炭素原子61乃至8個のアルキル基で置換
されたフェニル基であってよく、その際アルキル基は例
えばメチル基、t−ブチル基、L−7ミル基又はt−オ
クチル基であってよい、T9は炭素原子数5乃至6個の
シクロアルキル基、例えばシクロペンチル基又はシクロ
ヘキシル基であってよい、T9 はまた炭素原子数2乃
至9個のカルボアルコキシ基、゛例えばカルボメトキシ
基、カルボエトキシ基、カルポーn−ブトキシ基又はカ
ルポーn−オクトキシ基であってよい。
T9は炭素原子数7乃至9個の7リールアルキル基、例
えばベンジル基、α−メチルベンジル基又はα、α−ジ
メチルベンジル基であってよい。
えばベンジル基、α−メチルベンジル基又はα、α−ジ
メチルベンジル基であってよい。
Tユ0は炭素原子数1乃至4個のアルキル基、例えばメ
チル基、エチル基又はn−ブチル基であってよい。
チル基、エチル基又はn−ブチル基であってよい。
T10は炭素原子数1乃至4個のアルコキシ基、例えば
メトキシ基、エトキシ基又はn−ブチロキシ基であって
よい。
メトキシ基、エトキシ基又はn−ブチロキシ基であって
よい。
Tよ、は炭素原子数1乃至8個のアルキル基、例えばメ
チル基、5ec−ブチル基、t−ブチル基、t−アミル
基又はt−オクチル基であってよい。
チル基、5ec−ブチル基、t−ブチル基、t−アミル
基又はt−オクチル基であってよい。
Tよ、は炭素原子数5乃至6個のシクロアルキル基、例
えばシクロペンチル基又はシクロヘキシル基であってよ
い、 Tl+ はまた炭素原子数7乃至9個のアリール
アルキル基、例えばベンジル基、α−メチルベンジル基
又はα、α−ジメチルベンジル基であってよい。
えばシクロペンチル基又はシクロヘキシル基であってよ
い、 Tl+ はまた炭素原子数7乃至9個のアリール
アルキル基、例えばベンジル基、α−メチルベンジル基
又はα、α−ジメチルベンジル基であってよい。
T7は水素であるのが有利である。
T、は水素、炭素原子数1乃至2個のアルキル基、メト
キシ基又はカルボキシ基であるのが有利である。
キシ基又はカルボキシ基であるのが有利である。
T9 は炭素原子数1乃至12個のアルキル基、シクロ
アルキルフェニル基、α−メチルベンジル基、α、α−
ジメチルベンジル基又はカルボキシエチル基であるのが
有利である。
アルキルフェニル基、α−メチルベンジル基、α、α−
ジメチルベンジル基又はカルボキシエチル基であるのが
有利である。
Tよ。は水素、水酸基又はメチル基であるのが有利であ
る。
る。
Tよ、は炭素原子数1乃至12個のアルキル基、シクロ
ヘキシル基、ベンジル基、α−メチルベンジル基又はα
、α−ジメチルベンジル基であるのが有利である。
ヘキシル基、ベンジル基、α−メチルベンジル基又はα
、α−ジメチルベンジル基であるのが有利である。
T9及びT工、は共にアルキル基である場合、炭素原子
数の総和が4であるのが有利である。
数の総和が4であるのが有利である。
T8は水素又は塩素であるのが特に有利である。
T9はメチル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オ
クチル基、5ec−ブチル基、シクロヘキシル基、カル
ボキシエチル基、α−メチルベンジル基又はα、α−ジ
メチルベンジル基であるのが特に有利である。
クチル基、5ec−ブチル基、シクロヘキシル基、カル
ボキシエチル基、α−メチルベンジル基又はα、α−ジ
メチルベンジル基であるのが特に有利である。
Tよ。は水素であるのが特に有利である。
T11はメチル基、5ec−ブチル基、t−ブチル基、
t−アミル基、t−オクチル基、α−メチルベンジル基
又はα、α−ジメチルベンジル基であるのが特に有利で
ある。
t−アミル基、t−オクチル基、α−メチルベンジル基
又はα、α−ジメチルベンジル基であるのが特に有利で
ある。
本発明によるアルカリ性カップリングは0−ニトロアゾ
ベンゼン中間体の製造に好適であり、この中間体は従来
の酸性カップリングでは低収率でしか得られないもので
ある。従って本発明方法は、T9 及びT、がアラルキ
ル基、例えばα−メチルベンジル基、α、α−ジメチル
ベンジル基又はt−オクチル基である0−ニトロアゾベ
ンゼンの製造に特に適当である。
ベンゼン中間体の製造に好適であり、この中間体は従来
の酸性カップリングでは低収率でしか得られないもので
ある。従って本発明方法は、T9 及びT、がアラルキ
ル基、例えばα−メチルベンジル基、α、α−ジメチル
ベンジル基又はt−オクチル基である0−ニトロアゾベ
ンゼンの製造に特に適当である。
出発物質、例えばフェノール類、0−ニトロアニリン、
4−クロル−2−ニトロアニリン又はα−メチルスチレ
ンは市場で入手しうるか、又は公知方法で簡単に製造す
ることができる。
4−クロル−2−ニトロアニリン又はα−メチルスチレ
ンは市場で入手しうるか、又は公知方法で簡単に製造す
ることができる。
O−ニトロベンゼンジアゾニウム化合物は、常用のジア
ゾ化法によって製造され、その際亜硝酸ナトリウムを酸
性溶液中で式(■)の0−ニトロアニリンに作用させる
。
ゾ化法によって製造され、その際亜硝酸ナトリウムを酸
性溶液中で式(■)の0−ニトロアニリンに作用させる
。
式(■)及び式(IX)の化合物を以下に若干例示する
。これらはすべて市場で入手しうる。
。これらはすべて市場で入手しうる。
フェノール類
2.4−ジ−t−ブチルフェノール
2.4−ジ−t−アミルフェノール
2.4−ジ−t−オクチルフェノール
2−t−ブチル−4−メチルフェノール2.4−ジ(α
、α−ジメチルベンジル)フェノール 2.4−ジ−n−オクチルフェノール 2.4−ジメチル−フェノール 3.4−ジメチル−フェノール 2−メチル−4−(α、α−ジメチルベンジル)フェノ
ール 2.4−ジクロル−フェノール 3.4−ジクロル−フェノール 2−(α、α−ジメチル−ベンジル)−4−メチルフェ
ノール 2−(α、α−ジメチル−ベンジル)−4−t−ブチル
フェノール 2−(α、α−ジメチル−ベンジル)−4−t−オクチ
ルフェノール 2−t−オクチル−4−(α、α−ジメチル−ベンジル
)フェノール 2−(α−メチルベンジル)−4−メチルフェノール 2−シクロへキシル−4−メチルフェノール2−see
−ブチル−4−ブチルフェノール2−t−ブチル−4−
sec−ブチルフェノール2−メチル−4−カルボキシ
エチルフェノール有利なフェノール類は下記のとおりで
ある。
、α−ジメチルベンジル)フェノール 2.4−ジ−n−オクチルフェノール 2.4−ジメチル−フェノール 3.4−ジメチル−フェノール 2−メチル−4−(α、α−ジメチルベンジル)フェノ
ール 2.4−ジクロル−フェノール 3.4−ジクロル−フェノール 2−(α、α−ジメチル−ベンジル)−4−メチルフェ
ノール 2−(α、α−ジメチル−ベンジル)−4−t−ブチル
フェノール 2−(α、α−ジメチル−ベンジル)−4−t−オクチ
ルフェノール 2−t−オクチル−4−(α、α−ジメチル−ベンジル
)フェノール 2−(α−メチルベンジル)−4−メチルフェノール 2−シクロへキシル−4−メチルフェノール2−see
−ブチル−4−ブチルフェノール2−t−ブチル−4−
sec−ブチルフェノール2−メチル−4−カルボキシ
エチルフェノール有利なフェノール類は下記のとおりで
ある。
2.4−ジ−t−ブチルフェノール
2.4−ジ−t−アミルフェノール
2.4−ジ−t−オクチルフェノール
2−t−ブチル−4−メチルフェノール2−sec−ブ
チル−4−t−ブチルフェノール2−(α−メチルベン
ジル)−4−メチルフェノール 2.4−ジ(α、α−ジメチル−ベンジル)フェノール 2−(α、α−ジメチル−ベンジル)−4−を−オクチ
ルフェノール 2−t−才クチル−4−(α、α−ジメチル−ベンジル
)フェノール 0−ニトロアニリン類 0−ニトロアニリン 4−クロル−2−ニトロアニリン 4.5−ジクロル−2−二トロアニリン4−メトキシ−
2−二トロアニリン 4−メチル−2−ニトロアニリン 4−エチル−2−ニトロアニリン n−ブチル−3−ニトロ−4−7ミノベンゾエート n−オクチル−3−ニトロ−4−7ミノベンゾエート 4−n−ブトキシ−2−二トロアニリン3−ニトロ−4
−アミン安息香酸 3−ニトロ−4−アミノベンゼンスルホン酸本発明にお
いて有利な0−ニトロアニリン類は、0−ニトロアニリ
ン及び4−クロル−2−二トロアニリンである。
チル−4−t−ブチルフェノール2−(α−メチルベン
ジル)−4−メチルフェノール 2.4−ジ(α、α−ジメチル−ベンジル)フェノール 2−(α、α−ジメチル−ベンジル)−4−を−オクチ
ルフェノール 2−t−才クチル−4−(α、α−ジメチル−ベンジル
)フェノール 0−ニトロアニリン類 0−ニトロアニリン 4−クロル−2−ニトロアニリン 4.5−ジクロル−2−二トロアニリン4−メトキシ−
2−二トロアニリン 4−メチル−2−ニトロアニリン 4−エチル−2−ニトロアニリン n−ブチル−3−ニトロ−4−7ミノベンゾエート n−オクチル−3−ニトロ−4−7ミノベンゾエート 4−n−ブトキシ−2−二トロアニリン3−ニトロ−4
−アミン安息香酸 3−ニトロ−4−アミノベンゼンスルホン酸本発明にお
いて有利な0−ニトロアニリン類は、0−ニトロアニリ
ン及び4−クロル−2−二トロアニリンである。
対応するO−ニトロアニリンのジアゾニウム塩を含む希
酸性溶液(好ましくはHCIで酸性にした)を対応する
フェノールの強アルカリ性溶液に加えることにより1反
応を行なう、低級アルカノール類としては炭素原子数1
乃至4個のアルカノール、例えばメタノール、エタノー
ル、インプロパツール及びn−ブタノールが挙げられる
が、メタノール、エタノール及びインプロパツールが有
利であり、メタノールが特に有利である。
酸性溶液(好ましくはHCIで酸性にした)を対応する
フェノールの強アルカリ性溶液に加えることにより1反
応を行なう、低級アルカノール類としては炭素原子数1
乃至4個のアルカノール、例えばメタノール、エタノー
ル、インプロパツール及びn−ブタノールが挙げられる
が、メタノール、エタノール及びインプロパツールが有
利であり、メタノールが特に有利である。
カップリング反応中には、出来るだけ少量の水しか存在
しないようにする。高濃度のジアゾニウム塩溶液を使用
し、低級アルカノールだけを含むか、又は含水量が最小
の希釈されたアルカノールを含むアルカリ性フェノール
溶液を使用するのが有利である。溶剤混合物はしよう少
なくとも50重量%、特に75重量%アルカノールから
成る。
しないようにする。高濃度のジアゾニウム塩溶液を使用
し、低級アルカノールだけを含むか、又は含水量が最小
の希釈されたアルカノールを含むアルカリ性フェノール
溶液を使用するのが有利である。溶剤混合物はしよう少
なくとも50重量%、特に75重量%アルカノールから
成る。
アルカリ性アルカノール溶液は、アルカリ金属水酸化物
1例えばNaOH及びKOH2特にN aOHを含む、
アルカリ金属水酸化物の量は、酸性ジアゾニウム塩を中
和した後に1反応混合物の本酸イオン濃度が依然として
pH11以上であるように選択する。
1例えばNaOH及びKOH2特にN aOHを含む、
アルカリ金属水酸化物の量は、酸性ジアゾニウム塩を中
和した後に1反応混合物の本酸イオン濃度が依然として
pH11以上であるように選択する。
原則として、フェノールに対して化学量論的量のジアゾ
ニウム塩を使用するが、小過剰(20%まで)が有利で
ある。これにより、生成物の単離が容易になり、また収
率も向上する。
ニウム塩を使用するが、小過剰(20%まで)が有利で
ある。これにより、生成物の単離が容易になり、また収
率も向上する。
本発明の中間体からは、次式(I)で表わされる対応す
る2−7リールー2H−ベンゾトリアゾールを得ること
ができる。
る2−7リールー2H−ベンゾトリアゾールを得ること
ができる。
′1゛2
式中T1は水素又は塩素を表わし、T2及びT3はそれ
ぞれ独立に式; (式中T4は水素又は低級アルキル基を表わす)の基を
表わし、その際T2及びT3 の一方はt−オクチル基
を表わしてもよい。
ぞれ独立に式; (式中T4は水素又は低級アルキル基を表わす)の基を
表わし、その際T2及びT3 の一方はt−オクチル基
を表わしてもよい。
T4が低級アルキル基を表わす場合には、これは特にメ
タ位又はパラ位、好ましくはパラ位に存在する6代表的
アルキル基は、炭素原子数1乃至6個のアルキル基、例
えばメチル基、エチル基、i−プロピル基、t−ブチル
基、1−アミル基及び3−メチル−ペンチル基である。
タ位又はパラ位、好ましくはパラ位に存在する6代表的
アルキル基は、炭素原子数1乃至6個のアルキル基、例
えばメチル基、エチル基、i−プロピル基、t−ブチル
基、1−アミル基及び3−メチル−ペンチル基である。
T2及びT3が同一のものを表わし、T4が水素又はp
−メチル基を表わす化合物が有利である。
−メチル基を表わす化合物が有利である。
T4は水素であるのが特に有利である。
化合物2−〔2−ヒドロキシ−3,5−ジー(α、α−
ジメチル−ベンジル)−フェニルツー2H−ベンゾトリ
アゾールは、特に有利である。
ジメチル−ベンジル)−フェニルツー2H−ベンゾトリ
アゾールは、特に有利である。
特に有利な化合物は、2−〔2−ヒドロキシ−3−を−
才クチル−5−(α、α−ジメチル−ベンジル)−フェ
ニル)−2H−ベンゾトリアゾール及び2−(2−ヒド
ロキシ−3−(α、α−ジメチル−ベンジル)−5−t
−オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールであ
る。
才クチル−5−(α、α−ジメチル−ベンジル)−フェ
ニル)−2H−ベンゾトリアゾール及び2−(2−ヒド
ロキシ−3−(α、α−ジメチル−ベンジル)−5−t
−オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールであ
る。
式(I)の化合物は、下記のように製造される。
工程工:
百。
■・
又は陰イオン、例えば塩素イオン又は硫酸イオンを表わ
す。
す。
■。
工程■:
T1 、T2及びT3は前記のものを表す。
工程ニ
ジアゾニウム化合物のカップリングは、酸性又はアルカ
リ性媒体中で行なうことができる。
リ性媒体中で行なうことができる。
カップリングされるフェノールが水酸基に対してオルト
位にアラルキル基を有し、反応を酸性媒体中で実施する
場合には、0−ニトロアゾベンゼン(71)の収率は理
論量の50%である。
位にアラルキル基を有し、反応を酸性媒体中で実施する
場合には、0−ニトロアゾベンゼン(71)の収率は理
論量の50%である。
カップリング反応を強アルカリ媒体(pH>11)中で
実施する場合には、意外にも理論量の80%以上の中間
生成物(VT)を得る。
実施する場合には、意外にも理論量の80%以上の中間
生成物(VT)を得る。
工程■
式(Vl)の化合物の2−アリール−2H−ベンゾトリ
アゾールへの還元閉環は、公知の還元法、例えば亜鉛及
びNaOH、ヒドラジンによる還元又は貴金属触媒によ
る接触還元によって行なう、これらの手段を使用すると
、良好なベンゾトリアゾール収率が生ずる。
アゾールへの還元閉環は、公知の還元法、例えば亜鉛及
びNaOH、ヒドラジンによる還元又は貴金属触媒によ
る接触還元によって行なう、これらの手段を使用すると
、良好なベンゾトリアゾール収率が生ずる。
式(I)の化合物は、一般に2−アリール−2H−ベン
ゾトリアゾールのような有効な光安定則であるばかりで
なく、高温での揮発による損失が以外に少ないため、高
温で加工しなければならないポリマー基質を安定化する
のに、特に有利である。
ゾトリアゾールのような有効な光安定則であるばかりで
なく、高温での揮発による損失が以外に少ないため、高
温で加工しなければならないポリマー基質を安定化する
のに、特に有利である。
従って、式(I)の化合物は、ポリマー、例えばポリエ
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート又
はそのコポリマー、ポリカーボネート、例えばビスフェ
ノールAとホスゲンより成るポリカーボネート、又はそ
のコポリマー、ポリスルホン、ポリアミド、例えばナイ
ロン−6、ナイロン−6,6、ナイロン−6/10等、
並びにコポリアミド、熱硬化性アクリル樹脂、熱可塑性
アクリル樹脂、ポリオレフィン、例えばポリエチレン、
ポリプロピレン、コポリオレフィン等及び高温加工及び
高温製造を必要とする他のポリマーの安定化に有用であ
る。
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート又
はそのコポリマー、ポリカーボネート、例えばビスフェ
ノールAとホスゲンより成るポリカーボネート、又はそ
のコポリマー、ポリスルホン、ポリアミド、例えばナイ
ロン−6、ナイロン−6,6、ナイロン−6/10等、
並びにコポリアミド、熱硬化性アクリル樹脂、熱可塑性
アクリル樹脂、ポリオレフィン、例えばポリエチレン、
ポリプロピレン、コポリオレフィン等及び高温加工及び
高温製造を必要とする他のポリマーの安定化に有用であ
る。
次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、例中「%
」は「重量%」を表わす。
」は「重量%」を表わす。
A :24−ジー α α−ジメチル−ベ
ンジル フ ノール この中間体を 米国特許第2,714,120号明細書
により製造した。フェノール705゜8g(7,5モル
)を、触媒としてのP−1ルエンスルホン酸l水和物2
5.7g (0,135モル)の存在でα−メチルスチ
レン1772゜7g(15モル)と混合し、N2気シ巧
下に140°Cで2.5時間加熱する0反応終了後、混
合物を110℃に冷却し、トルx ン1125 m !
;Lを加える。生じる溶液をNa2CO337,5g及
びNa0275gから成る水溶液750℃交で80℃で
洗浄する。有機相をNaC1水溶液1000m文で3回
洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、引続き濾過及
び真空蒸留により単離する。
ンジル フ ノール この中間体を 米国特許第2,714,120号明細書
により製造した。フェノール705゜8g(7,5モル
)を、触媒としてのP−1ルエンスルホン酸l水和物2
5.7g (0,135モル)の存在でα−メチルスチ
レン1772゜7g(15モル)と混合し、N2気シ巧
下に140°Cで2.5時間加熱する0反応終了後、混
合物を110℃に冷却し、トルx ン1125 m !
;Lを加える。生じる溶液をNa2CO337,5g及
びNa0275gから成る水溶液750℃交で80℃で
洗浄する。有機相をNaC1水溶液1000m文で3回
洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、引続き濾過及
び真空蒸留により単離する。
主フラクションは生成物1229.8g(理論量の49
.6%)を含む。
.6%)を含む。
沸点172〜175℃10.15〜0.18mmHg、
融点63〜65℃。
融点63〜65℃。
B カ ブリングによる2−ニトロ−2
°−ヒ ロキシー3° 5゛撹拌及び温度計を有する2
文の三頚丸底フラスコ中に26%ナフタリンスルホン酸
水溶液90.6g、トリエン・エックス−207(Tr
iton X −207;非イオン性表面活性剤)1
.9g、コノコ・エイエイニス−90エフ (C:on
oca AAS −90F ニドデシルベンゼンスル
ホン酸ナトリウム)5.6g及び水90m!;Lを入れ
る。混合物を40°Cに加温し、予め90°Cに加熱し
た2、4−ジー(α、α−ジメチル−ベンジル)フェノ
ール116.5gと混合し、徴しく撹拌しながら40℃
に保持する。
°−ヒ ロキシー3° 5゛撹拌及び温度計を有する2
文の三頚丸底フラスコ中に26%ナフタリンスルホン酸
水溶液90.6g、トリエン・エックス−207(Tr
iton X −207;非イオン性表面活性剤)1
.9g、コノコ・エイエイニス−90エフ (C:on
oca AAS −90F ニドデシルベンゼンスル
ホン酸ナトリウム)5.6g及び水90m!;Lを入れ
る。混合物を40°Cに加温し、予め90°Cに加熱し
た2、4−ジー(α、α−ジメチル−ベンジル)フェノ
ール116.5gと混合し、徴しく撹拌しながら40℃
に保持する。
冷O−ニトロベンゼンジアゾニウムクロリド溶液を濃塩
酸中で0−ニトロアニリン49.8g(0,36モル)
及び亜硝酸ナトリウム249g(0,36モル)から−
5℃乃至0℃で製造する。この溶液を反応混合物に3時
間滴下し、生ずる暗赤色乃至黒色の溶液を40℃に一夜
保持する0次に、温度を1時間65℃に、更30分95
℃に高める。温度を85℃に下げた後、粗製生成物、深
紅色粘稠性物質を単離する。
酸中で0−ニトロアニリン49.8g(0,36モル)
及び亜硝酸ナトリウム249g(0,36モル)から−
5℃乃至0℃で製造する。この溶液を反応混合物に3時
間滴下し、生ずる暗赤色乃至黒色の溶液を40℃に一夜
保持する0次に、温度を1時間65℃に、更30分95
℃に高める。温度を85℃に下げた後、粗製生成物、深
紅色粘稠性物質を単離する。
粉砕した粗製生成物を熱湯(75℃)200mlと混合
し、続いてメタノール400mfLと共に一夜放置する
。混合物を更に400mfLのメタノールと共に撹拌し
て微細な顆粒にした。
し、続いてメタノール400mfLと共に一夜放置する
。混合物を更に400mfLのメタノールと共に撹拌し
て微細な顆粒にした。
中間体81.9g(理論量の48.4%)が生じた。融
点139〜141℃。
点139〜141℃。
薄層クロマトグラムは、溶剤としてシクロヘキサン3部
及び酢酸エチル1部中、シリカゲル上でR1=0.61
を有する均一な生成物を示す。
及び酢酸エチル1部中、シリカゲル上でR1=0.61
を有する均一な生成物を示す。
例 1(参考例:対応する2−アリール−2−ベンゾト
リアゾールの製法) 2−〔2−ヒドロキシ−3,5−ジー(α。
リアゾールの製法) 2−〔2−ヒドロキシ−3,5−ジー(α。
α−ジメチル−ベンジル)フェニル)−2H−ベンゾト
リアゾール ガス導入管、撹拌機及び還流冷却器を有する5文の三頚
丸底フラスコ中に、例Bで製造したO−ニトロアゾベン
ゼン386g(0,805モル)及びトルエン1200
mMを入れる。この溶液にインプロパツール240mJ
1及び水240m1を加える。この溶液に窒素を導入し
ながら50.1%苛性ソーダ160m文を加える。亜鉛
158.2g(2,42グラム原子)を入れたビンを反
応フラスコに接続する0反応混合物中に亜鉛末を少量づ
つ90分間に加え、反応温度が40〜45℃にとどまる
ようにする。亜鉛の添加が終了した後、反応混合物を4
0℃に1時間保持し1次に70℃に3時間加温する。混
合物を室温に冷却し、濃塩酸600m文で酸性にする。
リアゾール ガス導入管、撹拌機及び還流冷却器を有する5文の三頚
丸底フラスコ中に、例Bで製造したO−ニトロアゾベン
ゼン386g(0,805モル)及びトルエン1200
mMを入れる。この溶液にインプロパツール240mJ
1及び水240m1を加える。この溶液に窒素を導入し
ながら50.1%苛性ソーダ160m文を加える。亜鉛
158.2g(2,42グラム原子)を入れたビンを反
応フラスコに接続する0反応混合物中に亜鉛末を少量づ
つ90分間に加え、反応温度が40〜45℃にとどまる
ようにする。亜鉛の添加が終了した後、反応混合物を4
0℃に1時間保持し1次に70℃に3時間加温する。混
合物を室温に冷却し、濃塩酸600m文で酸性にする。
亜鉛残渣を濾過により除去する。生成物を含む有機相を
希塩酸340mJlで4回洗浄する。
希塩酸340mJlで4回洗浄する。
真空蒸溜により溶剤を除去した後、粘稠な粗製生成物が
得られ、これは放置すると結晶する。
得られ、これは放置すると結晶する。
粗製生成物を精製するため、まず酢酸エチル750mj
Lから再結晶し、次にアセトニトリル/酢酸エチル混合
物(4: 1)1000m文から再結晶し、続いてトル
エン1250mJ1に溶かす、トルエン溶液を70%硫
酸水溶液で抽出して、着色の不純物を除去する。
Lから再結晶し、次にアセトニトリル/酢酸エチル混合
物(4: 1)1000m文から再結晶し、続いてトル
エン1250mJ1に溶かす、トルエン溶液を70%硫
酸水溶液で抽出して、着色の不純物を除去する。
帯黄白色結晶219.3g(理論量の60゜9%)を得
る。
る。
融点 140〜141 ’C1
分析値:C30H29N30
CHO
計算値 80.51 6.53 9.39実測値
80.53 6.54 9.51例 2 2−ニトロ−2゛−ヒドロキシ−3’、5’−ジ(α、
α−ジメチル−ベンジル)−アゾベンゼン 撹拌機、ガス導入管及び過圧安全装置を付けた500m
1の三頚フラスコ中に、固体水酸化カリウム13.5g
(0,21モル)及び水10mJlを加える。生ずる熱
い溶液をメタノール80mL;Lで冷却する。
80.53 6.54 9.51例 2 2−ニトロ−2゛−ヒドロキシ−3’、5’−ジ(α、
α−ジメチル−ベンジル)−アゾベンゼン 撹拌機、ガス導入管及び過圧安全装置を付けた500m
1の三頚フラスコ中に、固体水酸化カリウム13.5g
(0,21モル)及び水10mJlを加える。生ずる熱
い溶液をメタノール80mL;Lで冷却する。
2.4−ジー(α、α−ジメチル−ベンジル)−フェノ
ール16.5g(0,05モル)及びメタノール85m
J1を窒素気流下に加え、−4℃に冷却する。濃HC1
中にO−ニトロベンゼンジアゾニウムクロリド42.9
g(0゜06モル)を含む冷却溶液を、撹拌しながら1
5分間添加し、温度を一2℃〜0℃に保持する。
ール16.5g(0,05モル)及びメタノール85m
J1を窒素気流下に加え、−4℃に冷却する。濃HC1
中にO−ニトロベンゼンジアゾニウムクロリド42.9
g(0゜06モル)を含む冷却溶液を、撹拌しながら1
5分間添加し、温度を一2℃〜0℃に保持する。
生成したアゾ色素−フェノキシトによる深紅色着色が直
ちに生じる。混合物を一り℃〜+1’Cで10分間更に
撹拌し、続いて氷酢酸20m1で徐々に(2分間)酸性
にし、温度を+1℃〜+3℃に保持する。れんが色感濁
液を15分間更に撹拌し、その際温度上昇が起り、続い
て濾別する。I!!過残渣を氷40g及びメタノール1
60m文から成る溶液、最後に水1800m文で洗浄す
る。
ちに生じる。混合物を一り℃〜+1’Cで10分間更に
撹拌し、続いて氷酢酸20m1で徐々に(2分間)酸性
にし、温度を+1℃〜+3℃に保持する。れんが色感濁
液を15分間更に撹拌し、その際温度上昇が起り、続い
て濾別する。I!!過残渣を氷40g及びメタノール1
60m文から成る溶液、最後に水1800m文で洗浄す
る。
淡紅色粗製生成物を真空中で60°Cで75mmHgで
16時間乾燥する。収量は22.7g(理論量の82%
)である0分光光度計分析は86.7%の純度を示す、
融点135〜140℃。
16時間乾燥する。収量は22.7g(理論量の82%
)である0分光光度計分析は86.7%の純度を示す、
融点135〜140℃。
粗製生成物を熱n−ブタノール(Ig当り5+nJ1)
から再結晶する。融点147〜148℃。
から再結晶する。融点147〜148℃。
例 3
2−ニトロ−2°−ヒドロキシ−3°、5゛−ジー(α
、α−ジメチル−ベンジル)アゾベンゼン 例2の方法を使用して、固体苛性ソーダ13゜6g(0
,34モル)をメタノール145mMに溶かし、2.4
−ジー(α、α−ジメチル−ベンジル)−フェノール1
6.5g(0,05モル)及びメタノール20m1を添
加する。
、α−ジメチル−ベンジル)アゾベンゼン 例2の方法を使用して、固体苛性ソーダ13゜6g(0
,34モル)をメタノール145mMに溶かし、2.4
−ジー(α、α−ジメチル−ベンジル)−フェノール1
6.5g(0,05モル)及びメタノール20m1を添
加する。
溶液を+2℃に冷却する。その間に、o−二トロアニリ
ン8.3g(0,06モル)及び濃HCfL17.3g
及び水8m交中の亜硝酸ナトリウム4.3gとから0−
ニトロベンゼンジアゾニウムクロリド溶液を製造する。
ン8.3g(0,06モル)及び濃HCfL17.3g
及び水8m交中の亜硝酸ナトリウム4.3gとから0−
ニトロベンゼンジアゾニウムクロリド溶液を製造する。
アルカリ性溶液にジアゾニウム溶液を+2℃で2時間の
間に加える。深紅色混合物を+2℃で30分間撹拌し、
次に氷酢酸20mMで酸性にし、淡紅色沈澱を濾過によ
り単離する。生成物をメタノール50m1で3回、次に
水75mMで4回洗浄し、続いて75℃で乾燥する。収
量は、純度97%で21.6g(89%)である、融点
140〜142℃。
間に加える。深紅色混合物を+2℃で30分間撹拌し、
次に氷酢酸20mMで酸性にし、淡紅色沈澱を濾過によ
り単離する。生成物をメタノール50m1で3回、次に
水75mMで4回洗浄し、続いて75℃で乾燥する。収
量は、純度97%で21.6g(89%)である、融点
140〜142℃。
例4〜例16
アルカリ性カップリング
例2と同様に操作するが、2.4−ジー(α、α−ジメ
チル−ベンジル)−フェノール類代りに、他のフェノー
ル類を使用する。収率はフェノールの置換基により変動
する。
チル−ベンジル)−フェノール類代りに、他のフェノー
ル類を使用する。収率はフェノールの置換基により変動
する。
4−ジ−t−アミル 66
4−シー t−t’)fルア0 (50)”4−ジ−t
−オクチル 47b 4−ジー(α、α−ジメチルー ベンジル)82 8 2.4−ジー(α、α−ジメチル−ベンジル)89
c 9 2−(1−フェニルエチル)−4−メチル
84.310 4−メチル
58d11 2.4−ジ−n−オクチル
56e12 2−メチル−4−α、α−ジメチル−ベン
ジル 85米 13 2−α、α−ジメチル−ベンジルー4−メチル
6Bf 14 2−(α、α−ジメチル−ベンジル)4−t−
ブチル 54 15 2−(α、α−ジメチル−ベンジル)4−を−
オクチル 62 1Ei 2−t−オクチル−4−(α、α−ジメチ
ル−ベンジル)73 対照:フェノールを含まない □g注 (a) 高いアルカリ濃度を用いて例3と同様に(f
) (g) 木 操作した。
−オクチル 47b 4−ジー(α、α−ジメチルー ベンジル)82 8 2.4−ジー(α、α−ジメチル−ベンジル)89
c 9 2−(1−フェニルエチル)−4−メチル
84.310 4−メチル
58d11 2.4−ジ−n−オクチル
56e12 2−メチル−4−α、α−ジメチル−ベン
ジル 85米 13 2−α、α−ジメチル−ベンジルー4−メチル
6Bf 14 2−(α、α−ジメチル−ベンジル)4−t−
ブチル 54 15 2−(α、α−ジメチル−ベンジル)4−を−
オクチル 62 1Ei 2−t−オクチル−4−(α、α−ジメチ
ル−ベンジル)73 対照:フェノールを含まない □g注 (a) 高いアルカリ濃度を用いて例3と同様に(f
) (g) 木 操作した。
収率は精製後50%である。N2ガスの発生が起った(
理論量の48%)。
理論量の48%)。
N2発生−理論量の60%
例3により操作した。
N2ガス発生−理論量の29%
酸性カップリングでは、16〜19%の収率しか生じな
かった。
かった。
N ガス発生−理論量の33%
フェノールが存在しなかった場合、分解したジアゾニウ
ム溶液から理論量の約 67%のN2が発生する。
ム溶液から理論量の約 67%のN2が発生する。
4−クロル−2−二トロベンゼンジアゾニウムクロリド
をこのフェノールとカップリングさせる場合、収率は4
7%である。
をこのフェノールとカップリングさせる場合、収率は4
7%である。
例 17
2−ニトロ−2°−ヒドロキシ−3’ 、5’−ジー(
α α−ジメチル−ベンジル)−アゾベンゼン 例2においてメタノールの代りにエタノールを使用する
場合、N2の発生(理論量の50%)が認められる。上
記生成物が低収率(50゜5%)で得られる。
α α−ジメチル−ベンジル)−アゾベンゼン 例2においてメタノールの代りにエタノールを使用する
場合、N2の発生(理論量の50%)が認められる。上
記生成物が低収率(50゜5%)で得られる。
メタノールの代りにインプロパツールを使用しても、同
じ結果が得られる。
じ結果が得られる。
これらのデータは、メタノールがアルカリ性カップリン
グに対して適当な溶剤であることを示す。
グに対して適当な溶剤であることを示す。
例 18
4−クロル−2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3°、5
゛−ジ(α、α−ジメチル−ベンジル)−アゾベンゼン 比較例Bにおいて2−二トリロアニリンから製造したジ
アゾニウム溶液の代りに、4−クロル−2−二トリロア
ニリンから製造したジアゾニウム溶液を等当量で使用し
て、暗赤色生成物を47.3%を得る。
゛−ジ(α、α−ジメチル−ベンジル)−アゾベンゼン 比較例Bにおいて2−二トリロアニリンから製造したジ
アゾニウム溶液の代りに、4−クロル−2−二トリロア
ニリンから製造したジアゾニウム溶液を等当量で使用し
て、暗赤色生成物を47.3%を得る。
例 19(参考例)
5−クロル−2−〔2“−ヒドロキシ−3゜、5°−ジ
ー(α、α−ジメチル−ベンジル)−フェニル)−2H
−ベンゾトリアゾール例1において、2−ニトロ−2′
−ヒドロキシ−3’,5’−ジー(α、α−ジメチル−
ベンジル)−アゾベンゼンの代りに、4−クロル−2−
ニトロ−2゛−ヒドロキシ−3゛、5“−ジー(α、α
−ジメチル−ベンジル)−アゾベンゼンを使用して、生
成物70.0%を得る。淡褐色結晶は160〜161℃
で融解する。
ー(α、α−ジメチル−ベンジル)−フェニル)−2H
−ベンゾトリアゾール例1において、2−ニトロ−2′
−ヒドロキシ−3’,5’−ジー(α、α−ジメチル−
ベンジル)−アゾベンゼンの代りに、4−クロル−2−
ニトロ−2゛−ヒドロキシ−3゛、5“−ジー(α、α
−ジメチル−ベンジル)−アゾベンゼンを使用して、生
成物70.0%を得る。淡褐色結晶は160〜161℃
で融解する。
分析値 ; C30H2S N30
CHN
計算値 74.45 5.86 8.72実測値
74.53 6.11 8.72例1において、比
較例Bからの0−ニトロアゾベンゼンの代りに等当量の
2−ニトロ−2゛−ヒドロキシ−3′−t−オクチル−
5°−α、α−ジメチル−ベンジル−アゾベンゼンを使
用した。融点が102〜104°Cの上記化合物が得ら
れた。
74.53 6.11 8.72例1において、比
較例Bからの0−ニトロアゾベンゼンの代りに等当量の
2−ニトロ−2゛−ヒドロキシ−3′−t−オクチル−
5°−α、α−ジメチル−ベンジル−アゾベンゼンを使
用した。融点が102〜104°Cの上記化合物が得ら
れた。
Claims (4)
- (1)式(VII): ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) 〔式中T_7は水素又は塩素であり、T_8は水素、塩
素、炭素原子数1乃至4個のアルキル基、炭素原子数1
乃至4個のアルコキシ基、炭素原子数2乃至9個のカル
ボアルコキシ基、カルボキシ基又は−SO_3Hを表わ
し、T_9は炭素原子数1乃至12個のアルキル基、炭
素原子数1乃至4個のアルコキシ基、フェニル基又は炭
素原子数1乃至8個のアルキル基、炭素原子数5乃至6
個のシクロアルキル基、炭素原子数2乃至9個のカルボ
アルコキシ基、塩素、カルボキシエチル基若しくは炭素
原子数7乃至9個のカルボアルコキシ基で置換されたフ
ェニル基、塩素、カルボキシエチル基又は炭素原子数7
乃至9個のアリールアルキル基を表わし、T_1_0は
水素、炭素原子数1乃至4個のアルキル基、炭素原子数
1乃至4個のアルコキシ基、塩素又は水酸基を表わし、
T_1_1は炭素原子数1乃至12個のアルキル基、塩
素、炭素原子数5乃至6個のシクロアルキル基又は炭素
原子数7乃至9個のアリールアルキル基を表わす〕で表
わされる化合物を製造するため、カップリングすべきフ
ェノールに対して化学量論的量又は小過剰の式(VIII)
; ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) 〔式中T_7及びT_8は前記のものを表わす〕で表わ
されるアミンのジアゾニウム塩を、式 (IX); ▲数式、化学式、表等があります▼(IX) 〔式中T_9、T_1_0及びT_1_1は前記のもの
を表わす〕で表わされるフェノールを含む強アルカリ性
低級アルカノール溶液又はその水溶液に添加すること、
及び上記のフェノールの溶液がアルカリ金属水酸化物を
、溶液のpH値が11以上になり、酸性ジアゾニウム塩
の中和後にも過剰の水酸イオンが存在するような量で含
むこと、及び反応温度を−15℃乃至+30℃とし、反
応混合物を酸性にした後に生成物を単離することを特徴
とする中間体アゾ化合物の製法。 - (2)T_7が水素であり、T_8が水素、炭素原子数
1乃至2個のアルキル基、メトキシ基又はカルボキシ基
であり、T_9が炭素原子数1乃至12個のアルキル基
、シクロヘキシル基、フェニル基、α−メチルベンジル
基、α,α−ジメチル−ベンジル基又はカルボキシエチ
ル基であり、T_1_0が水素、水酸基又はメチル基で
あり、T_1_1が炭素原子数1乃至12個のアルキル
基、シクロヘキシル基、ベンジル基、α−メチルベンジ
ル基又はα,α−ジメチル−ベンジル基である特許請求
の範囲第1項記載の製法。 - (3)式(VII)で表わされる化合物が2−ニトロ−2
’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ(α,α−ジメチル−
ベンジル)−アゾベンゼンである特許請求の範囲第1項
記載の製法。 - (4)式(VII)で表わされる化合物が2−ニトロ−2
’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−オクチルアゾベ
ンゼンである特許請求の範囲第1項記載の製法。
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US918984 | 1978-06-26 | ||
US05/918,984 US4226763A (en) | 1978-06-26 | 1978-06-26 | 2-[2-Hydroxy-3,5-di-(.alpha.,α-dimethylbenzyl)-phenyl]-2H-benzotriazole and stabilized compositions |
US36914 | 1979-05-10 | ||
US06/036,914 US4278589A (en) | 1978-06-26 | 1979-05-10 | 2-[2-Hydroxy-3,5-di-(α,α-dimethylbenzyl)phenyl]-2H-benzotriazole and stabilized compositions |
US38768 | 1979-05-16 | ||
US06/038,768 US4275004A (en) | 1978-06-26 | 1979-05-16 | High caustic coupling process for preparing substituted 2-nitro-2'-hydroxyazobenzenes |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8065479A Division JPS557292A (en) | 1978-06-26 | 1979-06-26 | Manufacture of 22*22hydroxyy3*55disubstitutedd phenyl**2hhbenzotriazole*stabilized organic material and intermediate azo compound |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02148A true JPH02148A (ja) | 1990-01-05 |
JPH0236588B2 JPH0236588B2 (ja) | 1990-08-17 |
Family
ID=27365115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1009612A Granted JPH02148A (ja) | 1978-06-26 | 1989-01-18 | アゾ化合物の製法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0006564B1 (ja) |
JP (1) | JPH02148A (ja) |
HK (1) | HK97084A (ja) |
SG (1) | SG71384G (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005511705A (ja) * | 2001-12-05 | 2005-04-28 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 2−(2−ニトロフェニルアゾ)フェノール類の製造のための無有機溶媒法 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0031302A3 (de) * | 1979-12-21 | 1981-07-22 | Ciba-Geigy Ag | Benzotriazol UV-Absorber, Verfahren zu ihrer Herstellung und stabilisierte Mischungen |
EP0317561B1 (en) * | 1986-07-28 | 1991-01-30 | AlliedSignal Inc. | Sulfonate benzotriazoles and their use in polyamide |
EP0418198A1 (de) * | 1989-09-11 | 1991-03-20 | Ciba-Geigy Ag | Monosulfonierte 2-(2'-Hydroxyphenyl)benzotriazole |
JP2971338B2 (ja) * | 1994-09-09 | 1999-11-02 | 帝人株式会社 | 易染性メタ型芳香族ポリアミド繊維 |
US5574166A (en) * | 1995-04-19 | 1996-11-12 | Ciba-Geigy Corporation | Crystalline form of 2-(2-hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazole |
GB2311143B (en) * | 1995-04-19 | 1997-11-05 | Ciba Geigy Ag | Recording materials stabilized with benzotriazole uv absorbers |
US5852087A (en) * | 1996-02-13 | 1998-12-22 | Teijin Limited | Easily dyeable meta-linkage-containing aromatic polyamide fibers |
CN110003126B (zh) * | 2019-04-17 | 2022-07-22 | 威海金威化学工业有限责任公司 | 一种紫外线吸收剂Tinuvin 928的制备方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL223154A (ja) * | 1956-12-14 | |||
US3072585A (en) * | 1960-01-13 | 1963-01-08 | American Cyanamid Co | Vinylbenzyloxy phenylbenzotriazoles |
DE2065975C3 (de) * | 1970-03-14 | 1979-11-29 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Stabilisieren von Polyurethanen gegen Abbau und Verfärbung |
US4127586A (en) * | 1970-06-19 | 1978-11-28 | Ciba-Geigy Corporation | Light protection agents |
CH529815A (de) * | 1970-06-19 | 1972-10-31 | Ciba Geigy Ag | Verwendung von 2-(2'Hydroxyphenyl)-benztriazolverbindungen als Lichtschutzmittel |
US3983132A (en) * | 1974-08-23 | 1976-09-28 | Gaf Corporation | Branched chain dodecyl isomeric mixtures of 2-(5-dodecyl-2-hydroxy phenyl) benzotriazole as stabilizers for heat and light sensitive materials |
DE2647452A1 (de) * | 1975-11-07 | 1977-05-18 | Ciba Geigy Ag | Neue hydroxybenzylmalonsaeure-derivate |
DE2755340A1 (de) * | 1976-12-23 | 1978-06-29 | Ciba Geigy Ag | Neue polyalkylpiperidinderivate |
-
1979
- 1979-06-18 EP EP79102004A patent/EP0006564B1/de not_active Expired
-
1984
- 1984-10-15 SG SG713/84A patent/SG71384G/en unknown
- 1984-12-13 HK HK970/84A patent/HK97084A/xx not_active IP Right Cessation
-
1989
- 1989-01-18 JP JP1009612A patent/JPH02148A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005511705A (ja) * | 2001-12-05 | 2005-04-28 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 2−(2−ニトロフェニルアゾ)フェノール類の製造のための無有機溶媒法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0006564B1 (de) | 1981-12-30 |
EP0006564A2 (de) | 1980-01-09 |
JPH0236588B2 (ja) | 1990-08-17 |
EP0006564A3 (en) | 1980-04-16 |
HK97084A (en) | 1984-12-21 |
SG71384G (en) | 1985-03-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4275004A (en) | High caustic coupling process for preparing substituted 2-nitro-2'-hydroxyazobenzenes | |
US4347180A (en) | High caustic coupling process for preparing substituted 2-nitro-2'-hydroxyazobenzenes | |
CA1062266A (en) | Process for the production of 2-aryl-2h-benzotriazoles | |
JPH02782A (ja) | 新規な2―(2―ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール誘導体 | |
JPH02148A (ja) | アゾ化合物の製法 | |
CA1047500A (en) | Process for the manufacture of 2-(2-hydroxyphenyl) benztriazoles | |
US4008200A (en) | Method of stabilizing organic materials employing pyrazole compounds and stabilized compositions thereof | |
US2610969A (en) | production of diaryl pyrazolines | |
US4224451A (en) | Process for the preparation of 2-aryl-2H-benzotriazoles | |
JPH08208628A (ja) | ベンゾトリアゾ−ル化合物及びその製造方法 | |
US5739348A (en) | Method of synthesizing tert-amido-substituted 2-(2'-hydroxyphenyl) benzotriazole compounds in a one-step process | |
CA1241659A (en) | Method for producing a 2-phenylbenzotriazole | |
EP0034836B1 (de) | Verfahren zum Herstellen von Nitroazobenzolen | |
CA1168655A (en) | 2-[2-HYDROXY-3,5-DI-(.alpha.,.alpha.-DI-METHYLBENZYL) PHENYL]- 2H-BENZOTRIAZOLES AND STABILIZED COMPOSITIONS | |
US2981740A (en) | Certificate of correction | |
JPH07149741A (ja) | 2−ニトロアニリンと2,4−ジ置換フェノールとのアゾカップリング方法 | |
US3162643A (en) | Process for the production of osazones | |
US1835433A (en) | Ortho-hydroxy-benzylamine arsonic acids and process of making same | |
Burger et al. | Syntheses in the 5, 8-Dihydroxyquinaldine Series | |
US3063994A (en) | Optical whitening agents of the stilbene triazole type | |
US3352845A (en) | Method for producing azoic pigment | |
US3565893A (en) | Preparation of 2-(4-stilbyl) naphthotriazoles | |
US2211293A (en) | Pyrazolone derivatives | |
US4960955A (en) | Process for making 4-chloro-2-methyl-5-nitro-phenol | |
US4000156A (en) | Preparation of 4-methyl-2-pyrazolin-5-ones |