JPH02147619A - Epoxy resin composition - Google Patents

Epoxy resin composition

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JPH02147619A
JPH02147619A JP63300773A JP30077388A JPH02147619A JP H02147619 A JPH02147619 A JP H02147619A JP 63300773 A JP63300773 A JP 63300773A JP 30077388 A JP30077388 A JP 30077388A JP H02147619 A JPH02147619 A JP H02147619A
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silicone
epoxy resin
resin
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organopolysiloxane
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健一 柳沢
Masaru Ota
賢 太田
Masatoshi Kamiya
正敏 神谷
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To improve moldability, printability, moisture resistance, thermal shock resistance, etc., by compounding a random-copolymerized silicone-modified epoxy resin, a specified curing agent, a silicone copolymer, a silicon rubber and a filler. CONSTITUTION:A random-copolymerized silicone-modified epoxy resin (A) is obtd. by reacting an epoxy resin (a) of an epoxy equivalent of 150-250 and a softening point of 60-130 deg.C, contg. a small amt. of ionic impurities and having two or more epoxy groups in the molecule with an organopolysiloxane (b) having a functional group reactive with the component (a). Separately, a random-copolymerized silicone-modified phenolic resin curing agent (B) is obtd. by reacting a phenol novolak resin (c) of an OH equivalent of 80-150 and a softening point of 60-120 deg.C and contg. a small amt. of ionic impurities with an organopolysiloxane (d) having a functional group reactive with the component (c). A mixture of the components A and B, 0.1-2wt.% silicone copolymer (C) of an SP value of 7-9 based on the mixture, 1-20wt.% silicone rubber (D) of an SP value of 7-9 based on the mixture and an inorg. filler (E) are compounded together.

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の利用分野) 本発明は成形加工性(型汚れ、樹脂パリ、成形ボイド、
離型性)、捺印性、耐湿性、耐熱衝撃性、半田耐熱性に
優れた半導体封止用のエポキシ樹脂組成物に関するもの
である。
Detailed Description of the Invention (Field of Application of the Invention) The present invention provides improvements in molding processability (mold stains, resin spots, molding voids,
The present invention relates to an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation that has excellent mold releasability), imprintability, moisture resistance, thermal shock resistance, and soldering heat resistance.

(従来技術) 近年IC%LSI、l−ランシスター、ダイオードなど
の半導体素子や電子回路等の樹脂封止には特性、コスト
等の点からエポキシ樹脂組成物が多量に、かつ最も一般
的に用いられている。
(Prior art) In recent years, epoxy resin compositions have been used in large quantities and most commonly for resin encapsulation of semiconductor elements such as IC%LSI, l-lan sisters, diodes, and electronic circuits due to their characteristics, cost, etc. It is being

しかし電子部品の量産性指向、軽薄短小化、集積度の増
大等に伴い封止樹脂に対する要求は厳しくなってきてお
り、成形加工性、捺印性、耐湿性、耐熱衝撃性、半田耐
熱性の改良が強く望まれており、特に成形加工性、捺印
性の向上と耐湿性、耐熱衝撃性、半田耐熱性とのバラン
スのとれたエポキシ樹脂組成物が強く要求されている。
However, as electronic components become more mass-producible, become lighter, thinner, shorter, and more compact, and the degree of integration increases, requirements for sealing resins are becoming stricter. In particular, there is a strong demand for epoxy resin compositions that have a good balance between improved molding processability and imprintability, as well as moisture resistance, thermal shock resistance, and soldering heat resistance.

しかしなから耐湿性や耐熱面!!性を改良ず◇f−5の
添加剤を配合しない、通常のエポキシ樹脂組成物におい
ても離型剤等の添加物の影響により型汚れ、樹脂パリ、
ボイドの発生や捺印性不良が発生し易い傾向に有るが、
耐湿性や耐熱衝撃性の改良のため、シリコーンオイル、
シリコーンゴム等のシリコーン化合物、合成ゴム、熱可
塑性樹脂等の添加剤を使用せざるを得ず、これらの添加
剤の使用により型汚れ、樹脂パリの発生、成形ボイド発
生、捺印性不良は更に悪化する傾向Cごある。
However, it is moisture resistant and heat resistant! ! ◇ Even in ordinary epoxy resin compositions that do not contain F-5 additives, mold stains, resin flakes, etc. may occur due to the influence of additives such as mold release agents.
Although there is a tendency for voids to occur and poor marking properties to occur,
Silicone oil, to improve moisture resistance and thermal shock resistance.
Additives such as silicone compounds such as silicone rubber, synthetic rubber, and thermoplastic resins must be used, and the use of these additives further worsens mold stains, resin flakes, molding voids, and poor marking properties. There is a tendency to

型汚れ、捺印性が悪くなるのは成形加工時にこららの添
加剤成分が成形品表面に浮き出すためであり、樹脂パリ
、成形ボイドが増加するのはこれらの成分がエポキシ樹
脂等との相溶性が悪いためである。
Mold stains and poor marking properties occur because these additive components stand out on the surface of the molded product during the molding process, and resin particles and molding voids increase because these components interact with epoxy resin, etc. This is due to poor solubility.

このような問題点を改良すべ〈従来種々の添加剤につい
て検討が行われてきており、成形加工性、捺印性等に効
果のあるものとしてはエポキシ樹脂j−G 硬化剤系に
単にシリコーンとポリアルキレシオキサイドの共重合体
からなるシリコーンオイルを添加することがすてに提案
されている(特開昭60−13841号公報、特公昭6
2−61.215号公報)が、これらは成形加工性、捺
印性の向上に効果は認められるものの、耐熱@撃性、半
田耐熱性には効果がなく、更には耐湿性については逆に
若干低下するものであった。
In order to improve these problems, various additives have been studied, and one that is effective in molding processability, marking properties, etc. is epoxy resin J-G. It has been proposed to add a silicone oil made of a copolymer of alkylene oxide (JP-A No. 60-13841, Japanese Patent Publication No. 60-13841,
2-61.215), although these are effective in improving molding processability and stamping properties, they are not effective in heat resistance @ impact resistance and soldering heat resistance, and furthermore, moisture resistance is slightly reduced. It was expected to decrease.

又、耐熱性(高Tg)、耐熱@撃性や半田耐熱性(耐ク
ラツク性)を改良するものとしてアルケニル基等を含有
するエポキシ樹脂とオルガノポリシロキサンとの付加重
合体をエポキシ樹脂系に添加した組成物が提案されてい
る(特開昭62−84147号公報、特開昭62−21
2417号公報等)が、これらはいずれも耐熱性(高T
g)、耐熱衝撃性や半田耐熱性(耐クラツク性)を改良
することを主目的とするものであり、これらの付加重合
体に含まれる未反応の非相溶のオルガノポリシロキサン
を多量に含むものであり成形加工性、捺印性と両立しな
いものでしかなかった。
Additionally, addition polymers of epoxy resins containing alkenyl groups and organopolysiloxanes are added to epoxy resin systems to improve heat resistance (high Tg), heat resistance @ impact resistance, and soldering heat resistance (crack resistance). compositions have been proposed (JP-A-62-84147, JP-A-62-21).
2417, etc.), but these are all heat resistant (high T
g) The main purpose is to improve thermal shock resistance and soldering heat resistance (crack resistance), and these addition polymers contain a large amount of unreacted and incompatible organopolysiloxane. However, it was only a product that was incompatible with moldability and stampability.

これ以外に添加剤として、芳香族系重合体とオルガノポ
リシロキサンとからなるブロック重合体が提案されてい
る(特開昭58−21417号公報)が、成形加工性、
捺印性、耐熱衝撃性は向上がみられるものの、ブロック
共重合体であるためにシリコーン部分の濃度にむらが生
じ、他の成分との相溶性が悪く不満足なものであり、半
田耐熱性についてはほとんど効果が見られないものであ
った。
In addition to this, a block polymer consisting of an aromatic polymer and an organopolysiloxane has been proposed as an additive (Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-21417), but it has poor moldability and
Although the imprintability and thermal shock resistance are improved, since it is a block copolymer, the concentration of the silicone part is uneven, and the compatibility with other components is poor, making it unsatisfactory. Almost no effect was observed.

更にオルガノポリシロキサンで変性したフェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂と同様にオルガノポリシロキサン
で変性したフェノール樹脂の少なくく とも一方を必須成分とし、フェノールノボラック型エポ
キシ樹脂と7エノール樹脂を任意成分とする組成物が提
案されている(特開昭62−136860号公報)がこ
れも半田浸漬後の耐湿性の向上を目的としたものであり
、樹脂組成物全体が疎水性にすることにあり、このため
に捺印性については犠牲となっており本願発明の目的で
あるバランスに欠けたものである。
Furthermore, there is a composition containing at least one of the phenol resins modified with organopolysiloxane as an essential component, as well as the phenol novolac type epoxy resin modified with organopolysiloxane, and the phenol novolac type epoxy resin and the 7-enol resin as optional components. The proposed method (Japanese Patent Application Laid-Open No. 136860/1986) is also aimed at improving the moisture resistance after immersion in solder, and the aim is to make the entire resin composition hydrophobic. However, there is a sacrifice in terms of gender, and the balance that is the object of the present invention is lacking.

(発明の目的) 本発明の目的とするところは、成形加工性(型汚れ、樹
脂パリ、成形ボイド離型性)、捺印性、耐湿性、耐熱衝
撃性、半田耐熱性のいずれもが良好な半導体封止用のエ
ポキシ樹脂組成物を提供することにある。
(Objective of the Invention) The object of the present invention is to provide a material with good molding processability (mold contamination, resin breakage, mold void mold releasability), stamping property, moisture resistance, thermal shock resistance, and soldering heat resistance. An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation.

(発明の構成) 本発明者らは従来技術では克服できなかったバランスの
とれた優れた半導体封止用エポキシ樹脂組成物を得んと
鋭意検討を進めた結果、オルガノポリシロキサンとエポ
キシ樹脂を反応させてなるランダム共重合シリコーン変
性エポキシ樹脂と硬化剤としてランダム共重合シリコー
ン変性フェノールノボラック樹脂の双方に相溶性があり
、特定の溶解度パラメーター(以下SP値という)を有
するシリコーン系共重合体を組み合わせることにより成
形加工性及び捺印性が従来のものに比してさらに向上し
、これに加えてリードフレームやICチップと封止樹脂
との密着性を向上させることにより半田耐熱性が優れた
ものが得られる。
(Structure of the Invention) The present inventors conducted intensive studies to obtain a well-balanced and excellent epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, which could not be overcome using conventional techniques. Combining a silicone-based copolymer that is compatible with both the random copolymerized silicone-modified epoxy resin obtained by the above process and the random copolymerized silicone-modified phenol novolak resin as a curing agent and has a specific solubility parameter (hereinafter referred to as SP value). This further improves molding processability and imprintability compared to conventional products, and in addition, by improving the adhesion between the lead frame and IC chip and the encapsulating resin, a product with excellent solder heat resistance can be obtained. It will be done.

更に該シリコーン系共重合体と相溶性の良いシリコーン
ゴム、液状合成ゴムまたはシリコーンゴムと液状合成ゴ
ムの混合物を組み合わせることにより成形加工性、捺印
性、半田耐熱性や耐衝撃性が著しく向上し、非常にバラ
ンスのとれた組成物が得られることを見いだし本発明を
完成するに至つtこ。
Furthermore, by combining silicone rubber, liquid synthetic rubber, or a mixture of silicone rubber and liquid synthetic rubber, which are highly compatible with the silicone copolymer, moldability, stampability, soldering heat resistance, and impact resistance are significantly improved. It was discovered that a very well-balanced composition could be obtained, leading to the completion of the present invention.

本発明で用いられる(A)成分としてのオルガノポリシ
ロキサンとエポキシ樹脂を反応させてなるランダム共重
合シリコーン変性エポキシ樹脂の原料として用いられる
オルガノポリシロキサンはエポキシ樹脂と反応しうる官
能基を有するものであり、これらの官能基としては例え
ば、アルコキシ基、水酸基、アミン基、ヒドロシリル基
が挙げられ、オルガノポリシロキサンの分子構造は直鎖
状、分枝状のいずれでも良い。
The organopolysiloxane used in the present invention as a raw material for the random copolymerized silicone-modified epoxy resin obtained by reacting the organopolysiloxane as component (A) with an epoxy resin has a functional group that can react with the epoxy resin. Examples of these functional groups include alkoxy groups, hydroxyl groups, amine groups, and hydrosilyl groups, and the molecular structure of the organopolysiloxane may be either linear or branched.

これらのすルガノポリシロキサンと反応させるエポキシ
樹脂としては1分子中に2個以上のエポキシ基を有する
ものであればいかなるものでも良く、例えばビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹
脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂及びこ
れらの変性樹脂等が挙げられ、これらのエポキシ樹脂は
1種又は2種以上混合して用いることも出来る。
The epoxy resin to be reacted with these surganopolysiloxanes may be any resin as long as it has two or more epoxy groups in one molecule, such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type. Examples include epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and modified resins thereof, and these epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

これらのエポキシ樹脂の中ではエポキシ当量が150〜
250、軟化点が60〜130°Cであり、かつNa”
、CI−等のイオン性不純物が出来る限り少ないものが
好ましい。
Among these epoxy resins, the epoxy equivalent is 150~
250, a softening point of 60 to 130°C, and Na”
, CI-, etc. are preferably contained as little as possible.

これらの原料を用いてランダム共重合シリコーン変性エ
ポキシ樹脂の反応方法は特に限定されるものではないが
、例えば2ヶ以上のアミノ基を有するオルガノポリシロ
キサンとエポキシ樹脂の一部のエポキシ基を反応せしめ
てランダム共重合物となすとかアルケニル基含有エポキ
シ樹脂と2ケ以上のハイドロシリル基を有するオルガノ
ポリシロキサンとを反応させてランダム共重合物を得る
などの方法がある。
The reaction method of the random copolymerized silicone-modified epoxy resin using these raw materials is not particularly limited, but for example, an organopolysiloxane having two or more amino groups is reacted with some epoxy groups of the epoxy resin. There are methods to obtain a random copolymer by reacting an alkenyl group-containing epoxy resin with an organopolysiloxane having two or more hydrosilyl groups.

本発明のランダム共重合シリコーン変性エポキシ樹脂は
オルガノポリシロキサンがランダムに共重合したもので
あり、単にブロック共重合したものに較ベシリコーンド
メインが均一に分散しているため成形加工性、捺印性、
耐湿性、耐熱衝撃性に優れるものとなる。
The random copolymerized silicone-modified epoxy resin of the present invention is a product in which organopolysiloxanes are randomly copolymerized, and the silicone domains are uniformly dispersed compared to those obtained by simple block copolymerization, resulting in improved moldability, printing properties, and
It has excellent moisture resistance and thermal shock resistance.

尚、本願発明において該ランダム共重合シリコーン変性
エポキシ樹脂は単独もしくは従来からあるエポキシ樹脂
と混合して用いても良いが、これら混合系においては該
ランダム共重合シリコーン変性エポキシ樹脂は50%以
上とすることが必要である。
In addition, in the present invention, the random copolymerized silicone-modified epoxy resin may be used alone or mixed with conventional epoxy resins, but in these mixed systems, the random copolymerized silicone-modified epoxy resin should account for 50% or more. It is necessary.

本発明で用いられる(B)成分としてのランダム共重合
シリコーン変性フェノールノボラック樹脂は硬化剤とし
ての働きをするものである。
The random copolymerized silicone-modified phenol novolac resin used as component (B) in the present invention functions as a curing agent.

これらのランダム共重合シリコーン変性フェノールノボ
ラック樹脂の原料として用いられるオルガノポリシロキ
サンはフェノールノボラック樹脂と反応しうる官能基を
有するものであり、これらの官能基きしては例えばエポ
キシ基、アルコキシ基、ヒドロシリル基が挙げられ、オ
ルガノポリシロキサンの分子構造は直鎖状、分校状のい
ずれでも良い。
The organopolysiloxane used as a raw material for these random copolymerized silicone-modified phenol novolak resins has a functional group that can react with the phenol novolak resin, and these functional groups include, for example, epoxy groups, alkoxy groups, and hydrosilyl groups. The molecular structure of the organopolysiloxane may be either linear or branched.

これらのオルガノポリシロキサンと反応させるフェノー
ルノボラック樹脂としてはフェノールノボラック、タレ
ゾールノボラック及びこれらの変性樹脂等が挙げられ、
これらはL種又は2種以上混合して用いることも出来る
Examples of the phenol novolak resins to be reacted with these organopolysiloxanes include phenol novolacs, talesol novolaks, and modified resins thereof.
These can also be used in L types or in a mixture of two or more types.

用いられるフェノールノボラック樹脂は水酸基当量が8
0〜150、軟化点が60〜120°Cであり、Na”
、CI−等のイオン性不純物ができるだけ少ないものが
好ましい。
The phenol novolac resin used has a hydroxyl equivalent of 8
0 to 150, the softening point is 60 to 120°C, and Na"
, CI-, and other ionic impurities are preferably as few as possible.

本発明のランダム共重合シリコーン変性フェノールノボ
ラック樹脂は反応性官能基を有するオルガノポリシロキ
サンとフェノールノボラック樹脂とを第3級アミン類あ
るいは有機ホスフィン化合物等の触媒の存在下で反応さ
せることにより得られ本発明のランダム共重合シリコー
ン変性フェノールノボラック樹脂はオルガノポリシロキ
サンがランダムに共重合したものであり、単にブロック
共重合したものに較ベシリコーンドメインが均一に分散
しているため成形加工性、捺印性、耐湿性、耐熱衝撃性
に優れる。
The random copolymerized silicone-modified phenol novolak resin of the present invention is obtained by reacting an organopolysiloxane having a reactive functional group with a phenol novolak resin in the presence of a catalyst such as a tertiary amine or an organic phosphine compound. The random copolymerized silicone-modified phenol novolak resin of the invention is a product in which organopolysiloxane is randomly copolymerized, and compared to a simple block copolymerization product, the silicone domains are uniformly dispersed, so it has improved moldability, printing properties, and Excellent moisture resistance and thermal shock resistance.

尚、本願発明において該ランダム共重合シリコーン変性
フェノール樹脂硬化剤は単独もしくは他の7Lノールノ
ボラツク系硬化剤と混合して用いても良いが、これらの
混合系に8いては該ランダム共重合シリコーン変性フェ
ノール樹脂は硬化剤系の内50重量%以上用いることが
望ましい。
In addition, in the present invention, the random copolymerized silicone-modified phenol resin curing agent may be used alone or in combination with other 7L nornovolac type curing agents, but in these mixed systems, the random copolymerized silicone-modified phenol It is desirable to use resin in an amount of 50% by weight or more in the curing agent system.

本発明で用いられる(C)成分としてのSP値が7〜9
のシリコーン系共重合体は、エポキシ樹脂とランダム共
重合シリコーン変性フェノール樹脂との相溶性改善に効
果があり成形加工性、捺印性さらにリードフレームやI
Cチップと封止樹脂との密着性向上による半田耐熱性向
上に効果も有している。
The SP value of component (C) used in the present invention is 7 to 9.
The silicone copolymer is effective in improving the compatibility between epoxy resin and random copolymerized silicone-modified phenol resin, and is effective in improving molding processability, marking properties, and lead frames and I
It also has the effect of improving soldering heat resistance by improving the adhesion between the C chip and the sealing resin.

該シリコーン系共重合体のSP値が7を下回ると疎水性
になりすぎエポキシ樹脂、ランダム共重合シリコーン変
性フェノール樹脂との相溶性が低下し、又9を上回れば
親水性になりすぎ、エポキシ樹脂との相溶性は向上する
がランダム共重合シリコーン変性フェノール樹脂との相
溶性が低下するためシリコーン系共重合体のSP値は7
〜9の範囲内に有ることが必要である。
When the SP value of the silicone copolymer is less than 7, it becomes too hydrophobic and the compatibility with epoxy resin and random copolymerized silicone-modified phenol resin decreases, and when it exceeds 9, it becomes too hydrophilic and the epoxy resin The SP value of the silicone copolymer is 7 because the compatibility with the random copolymerized silicone-modified phenol resin decreases.
It is necessary that it be within the range of ~9.

シリコーン系共重合体についてはSP値が7〜9の範囲
内にあるものであれば特に構造に制限はないが具体例を
あげれば 但し、RI−R6は同じ基であってもそれぞれ異なる基
であっても良い。
Regarding silicone copolymers, there is no particular restriction on the structure as long as the SP value is within the range of 7 to 9. It's okay to have one.

のような構造を存するオルガノポリシロキサンとアルキ
レンオキサイドとの共重合体、あるいはR0〜R4; 
−CH,、−C,H,、−CH=CH,、(つ但し、R
3−R4は同じ基であってもそれぞれ異なる基であって
も良い。
A copolymer of organopolysiloxane and alkylene oxide having a structure such as, or R0 to R4;
-CH,, -C,H,, -CH=CH,, (However, R
3-R4 may be the same group or may be different groups.

のような構造を有するオルガノポリシロキサン七スチレ
ンとの共重合体等があげられる。
Examples include a copolymer of organopolysiloxane with heptastyrene having the structure shown below.

これらのシリコーン系共重合体は樹脂分(A−1−B)
に対して0.1−12重量%の範囲内で用いられる。
These silicone copolymers have a resin content (A-1-B)
It is used within the range of 0.1-12% by weight.

これらの添加量が0.1重量%を下回れば半田耐熱性の
向上効果が不十分となり、又12重量%を上回れば成形
加工性が低下する。
If the amount added is less than 0.1% by weight, the effect of improving soldering heat resistance will be insufficient, and if it exceeds 12% by weight, moldability will be reduced.

更に本発明の(D)成分として用いられるSP値が7〜
9の範囲にあるシリコーンゴム、液状合成ゴム又はシリ
コーンゴムと液状合成ゴムの混合物は、(C)成分とし
て用いられるシリコーン系共重合体と相溶性の良い低応
力剤であり、(A)成分のランダム共重合シリコーン変
性エポキシ樹脂及び(B)成分のランダム共重合シリコ
ーン変性フェノール樹脂と(C)成分のシリコーン系共
重合体と組み合わせて用いることにより成形加工性、捺
印性、半田耐熱性、耐熱衝撃性のいずれもが著しく向上
する。
Furthermore, the SP value used as component (D) of the present invention is 7 to
Silicone rubber, liquid synthetic rubber, or a mixture of silicone rubber and liquid synthetic rubber in the range of 9 is a low stress agent that is highly compatible with the silicone copolymer used as component (C), and is a low stress agent that is compatible with the silicone copolymer used as component (C). When used in combination with a random copolymerized silicone-modified epoxy resin, a random copolymerized silicone-modified phenol resin as the component (B), and a silicone copolymer as the component (C), moldability, stampability, soldering heat resistance, and thermal shock resistance can be improved. Both sexes are significantly improved.

この理由は、シリコーン系共重合体(C)により改善さ
れたランダム共重合シリコーン変性エポキシ樹脂(A)
と(B)成分のランダム共重合シリコーン変性フェノー
ル樹脂との相溶性がシリコーンゴム、液状合成ゴム又は
シリコーンゴムと液状合成ゴムとの混合物(D)を組み
合わせることにより更に向上するため、成形加工性、捺
印性、半田耐熱性が著しく向上するためである。
The reason for this is that the random copolymerized silicone-modified epoxy resin (A) is improved by the silicone-based copolymer (C).
The compatibility between the random copolymerized silicone-modified phenolic resin of component (B) is further improved by combining silicone rubber, liquid synthetic rubber, or a mixture (D) of silicone rubber and liquid synthetic rubber; This is because marking properties and soldering heat resistance are significantly improved.

又低応力効果のあるランダム共重合シリコーン変性エポ
キシ樹脂(A)及びランダム共重合シリコーン変性フェ
ノール樹脂(B)とシリコーンゴム、液状合成ゴム又は
シリコーンゴムと液状合成ゴムとの混合物(D)が組み
合わさることにより耐熱衝撃性が著しく向上するものと
考えられる。
Furthermore, a random copolymerized silicone-modified epoxy resin (A) and a random copolymerized silicone-modified phenol resin (B), which have low stress effects, are combined with silicone rubber, liquid synthetic rubber, or a mixture of silicone rubber and liquid synthetic rubber (D). It is thought that this significantly improves thermal shock resistance.

本発明の(D)成分として用いられるもののうちシリコ
ーンゴムは三次元架橋したいわゆる硬化したものであり
、そのSP値が7〜9の範囲のものであれば特に制限は
ない。シリコーンゴムの形状としては平均粒径が30μ
m以下で、球状(アスペクト比が1.5以下)のものが
望ましく、またランダム共重合シリコーン変性エポキシ
樹脂又及びランダム共重合シリコーン変性フェノール樹
脂の両方もしくはこれらの一方に反応性もしくは親和性
を有するシリコーンゴムが望ましく、更にはこれらの平
均粒径が15μm以下の球状のものが好ましい。これら
のシリコーンゴムとしては例えばビニル基を存するオル
ガノポリシロキサンと水素基を存するオルガノポリシロ
キサンを界面重合させて得られる球状のシリコーンゴム
等が挙げられる。
Among the silicone rubbers used as component (D) of the present invention, the silicone rubber is three-dimensionally crosslinked and so-called cured, and there are no particular limitations as long as its SP value is in the range of 7 to 9. The average particle size of silicone rubber is 30μ
m or less, preferably spherical (with an aspect ratio of 1.5 or less), and has reactivity or affinity with random copolymerized silicone-modified epoxy resin and/or random copolymerized silicone-modified phenol resin. Silicone rubber is preferred, and spherical rubber with an average particle size of 15 μm or less is more preferred. Examples of these silicone rubbers include spherical silicone rubbers obtained by interfacial polymerization of organopolysiloxanes containing vinyl groups and organopolysiloxanes containing hydrogen groups.

これらのシリコーンゴムは樹脂分(A十B)に対して1
〜20重量%の範囲内で用いられる。
These silicone rubbers have a ratio of 1 to the resin content (A + B).
It is used within the range of 20% by weight.

これらの添加量が1重量%を下回れば成形加工性、捺印
性、耐熱衝撃性、半田耐熱性の向上効果が不十分になり
、又20重量%を上回れば成形時の熱時硬度、成形品の
強度が低下してしまう。
If the amount of these additives is less than 1% by weight, the effect of improving moldability, stampability, thermal shock resistance, and soldering heat resistance will be insufficient, and if it exceeds 20% by weight, the hardness at the time of molding and the molded product will be insufficient. strength will decrease.

又液状合成ゴムはジエン系ゴム質ポリマーで分子内に硬
化剤と反応しうるエポキシ基を1個以上有するものが望
ましいく、例えばエポキシ化ポリブタジェンゴム等が挙
げられる。
The liquid synthetic rubber is preferably a diene-based rubbery polymer having one or more epoxy groups capable of reacting with a curing agent in its molecule, such as epoxidized polybutadiene rubber.

これらの液状合成ゴムは樹脂分(A+B)に対して0.
5〜15重量%の範囲内で用いられる。
These liquid synthetic rubbers have a ratio of 0.0% to the resin content (A+B).
It is used in a range of 5 to 15% by weight.

これらの添加量が0.5重量%を下回れば成形加工性、
捺印性、耐熱衝撃性、半田耐熱性の向上効果が不十分に
なり、又15重量%を上回れば成形時の熱時硬度、成形
品の強度が低下してしまう。
If the amount of these additions is less than 0.5% by weight, moldability is improved.
The effects of improving stampability, thermal shock resistance, and soldering heat resistance will be insufficient, and if it exceeds 15% by weight, the hot hardness during molding and the strength of the molded product will decrease.

更にシリコーンゴムと液状合成ゴムとの混合物としては
、シリコーンゴム分100部にたいして液状合成ゴム分
が20〜lOO部の範囲で混合したものが望ましい。
Further, as a mixture of silicone rubber and liquid synthetic rubber, it is preferable that the liquid synthetic rubber is mixed in a range of 20 to 100 parts per 100 parts of silicone rubber.

又これらのシリコーンゴムと液状合友ゴムとの混合物は
樹脂分(A+B)に対して05〜13重量%の範囲内で
用いられる。
A mixture of these silicone rubbers and liquid rubber is used in an amount of 05 to 13% by weight based on the resin content (A+B).

これらの添加量が0.5重量%を下回れば成形加工性、
捺印性、耐熱衝撃性、半田耐熱性の向上効果が不十分に
なり、又13重量%を上回れば成形時の熱時硬度、成形
品の強度が低下してしまう。
If the amount of these additions is less than 0.5% by weight, moldability is improved.
The effects of improving stampability, thermal shock resistance, and soldering heat resistance will be insufficient, and if it exceeds 13% by weight, the hot hardness during molding and the strength of the molded product will decrease.

本発明で用いられる(E)成分としての無機充填剤とし
ては結晶シリカ、熔融シリカ、アルミナ、炭酸カルシウ
ム、タルク、マイカ、ガラス繊維等が挙げられこれらは
1種又は2種以上混合して使用される。
Examples of the inorganic filler as component (E) used in the present invention include crystalline silica, fused silica, alumina, calcium carbonate, talc, mica, glass fiber, etc. These may be used singly or in combination of two or more. Ru.

これらの中で特に結晶シリカ又は熔融シリカが好適に用
いられる。
Among these, crystalline silica or fused silica is particularly preferably used.

本発明において、ランダム共重合シリコーン変性エポキ
シ樹脂(A)、ランダム共重合シリコーン変性フェノー
ル樹脂(B)、シリコーン系共重合体(C)、シリコー
ンゴムおよび/または合成ゴム(D)及び無機充填剤(
E)の他に必要に応じてBDMA等の第3級アミン類、
イミダゾール類、1.8−ジアザビシクロ(5,4,0
)ウンデセン−7、トリフェニルホスフィン等の有機リ
ン化合物等の硬化促進剤、天然ワックス類、合成ワック
ス類等の離型剤、ヘキサブロムベンゼン、デカブロムビ
フェニルエーテル、三酸化アンチモン等の難燃剤、カー
ボンブラック、ベンガラ等の着色剤、シランカップリン
グ剤その地熱可塑性樹脂等を適宜添加配合することが出
来る。
In the present invention, random copolymerized silicone-modified epoxy resin (A), random copolymerized silicone-modified phenol resin (B), silicone copolymer (C), silicone rubber and/or synthetic rubber (D), and inorganic filler (
In addition to E), if necessary, tertiary amines such as BDMA,
imidazoles, 1,8-diazabicyclo(5,4,0
) Hardening accelerators such as organic phosphorus compounds such as undecene-7 and triphenylphosphine, mold release agents such as natural waxes and synthetic waxes, flame retardants such as hexabromobenzene, decabromo biphenyl ether, and antimony trioxide, and carbon. Coloring agents such as black and red iron oxide, silane coupling agents, geothermal plastic resins, etc. can be appropriately added and blended.

本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物を製造する場
合の一般的な方法としては、所定の組成比の原料をミキ
サー等によって十分均一に混合した後、更にロールやニ
ーダ−等により溶融混合処理し、次いで冷却固化させ適
当な大きさに粉砕することにより、容易に行うことがで
きる。
A general method for manufacturing the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation of the present invention is to mix raw materials with a predetermined composition ratio sufficiently uniformly using a mixer, etc., and then melt-mix them using a roll, kneader, etc. This can be easily carried out by cooling, solidifying, and pulverizing into an appropriate size.

(実施例) 実施例1 ランダム共重合シリコーン変性エポキシ樹脂(イ)*’
            90重量部臭素化フェノール
ノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当量370、軟化点
65℃、臭素含有率37wt%)10 〃 ランダム共重合シリコーン変性フェノール樹脂(ハ)本
=                      50
7/オルガノポリシロキサンとアルキレンオキサイドと
の共重合体水@           6 〃シリコー
ンゴム           7  tt溶融シリカ 
          470 ll三酸化アンチモン 
        25 l/シランカップリング剤  
      2 〃1.8−ジアザビシクロ(5,4,
0)ウンデセン−7tt カルナバワックス          311カーボン
ブラツク           3  //を常温で十
分に混合し、さらに95〜100°Cで混練し、冷却し
た後粉砕してタブレット化して本願発明の半導体封止用
エポキシ樹脂組成物を得た。
(Example) Example 1 Random copolymerized silicone-modified epoxy resin (a)*'
90 parts by weight Brominated phenol novolac epoxy resin (epoxy equivalent: 370, softening point: 65°C, bromine content: 37 wt%) 10 Random copolymerized silicone-modified phenol resin (c) pieces = 50
7/Copolymer water of organopolysiloxane and alkylene oxide @ 6 Silicone rubber 7 tt fused silica
470 ll antimony trioxide
25 l/silane coupling agent
2 〃1.8-diazabicyclo(5,4,
0) Undecene-7tt Carnauba Wax 311 Carbon Black 3// are sufficiently mixed at room temperature, further kneaded at 95 to 100°C, cooled, and then crushed to form tablets to obtain the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation of the present invention. I got something.

この材料の型汚れ性、樹脂パリをトランスファー成形機
(成形条件:金型温度175°C1硬化時間2分)を用
いて判定すると共に、得られた成形品を175°0.4
時間で後硬化しパッケージ内部のボイド、捺印性、耐熱
衝撃性、耐湿性および半田耐熱性を評価した。
The mold staining property and resin parity of this material were determined using a transfer molding machine (molding conditions: mold temperature: 175°C, curing time: 2 minutes), and the molded product obtained was evaluated at 175°C.
The package was post-cured for several hours, and voids inside the package, stampability, thermal shock resistance, moisture resistance, and soldering heat resistance were evaluated.

その結果を第2表に示した。The results are shown in Table 2.

実施例2 実施例1においてランダム共重合シリコーン変性エポキ
シ樹脂(イ)をランダム共重合シリコーン変性エポキシ
樹脂(ロ)本2かえ、ランダム共重合シリコーン変性フ
ェノール樹脂(ハ)ヲランダム共重合シリコーン変性フ
ェノール樹脂(ニ)*1、オルガノポリシロキサンとア
ルキレンオキサイドとの共重合体をスチレンとオルガノ
ポリシロキサンとの共重合体水7に変え、更にシリコー
ンゴム7重量部を20重量部に変えた以外は実施例1と
同様にして半導体封止用エポキシ樹脂組成物を得た。
Example 2 In Example 1, the random copolymerized silicone-modified epoxy resin (a) was replaced with two random copolymerized silicone-modified epoxy resins (b), and the random copolymerized silicone-modified phenol resin (c) was replaced with the random copolymerized silicone-modified phenol resin (c). D) *1. Example 1 except that the copolymer of organopolysiloxane and alkylene oxide was changed to copolymer water 7 of styrene and organopolysiloxane, and 7 parts by weight of silicone rubber was changed to 20 parts by weight. An epoxy resin composition for semiconductor encapsulation was obtained in the same manner as above.

この材料の型汚れ性、樹脂パリをトランスファー成形機
(成形条件:金型温度175℃、硬化時間2分)を用い
て判定すると共に、得られた成形品を175°018時
間で後硬化しパッケージ内部のボイド、捺印性、耐熱衝
撃性、耐湿性および半田耐熱性を評価した。
The mold staining property and resin release of this material were determined using a transfer molding machine (molding conditions: mold temperature 175°C, curing time 2 minutes), and the resulting molded product was post-cured at 175°C for 18 hours and packaged. Internal voids, imprintability, thermal shock resistance, moisture resistance, and soldering heat resistance were evaluated.

その結果を第2表に示した。The results are shown in Table 2.

実施例3〜9 同様にし第1表に示す組成物の半導体封止用エポキシ樹
脂組成物を得た。
Examples 3 to 9 Epoxy resin compositions for semiconductor encapsulation having the compositions shown in Table 1 were obtained in the same manner.

この半導体封止用エポキシ樹脂組成物の評価結果を第2
表に示す。
The evaluation results of this epoxy resin composition for semiconductor encapsulation were evaluated in the second
Shown in the table.

比較例1−12 同様にし第1表に示す組成物の半導体封止用エポキシ樹
脂組成物を得た。
Comparative Example 1-12 In the same manner, an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation having the composition shown in Table 1 was obtained.

この半導体封止用エポキシ樹脂組成物の評価結果を第2
表に示す。
The evaluation results of this epoxy resin composition for semiconductor encapsulation were evaluated in the second
Shown in the table.

(以下 ろに百ン *1式(I)で示されるエポキシ樹脂とオルソアリルフ
ェノールとの共重合エポキシ樹脂と式(II)で示され
るオルガノポリシロキサンとをランダム共重合エポキシ
樹脂/オルガノポリシロキサンを100/20(重量比
)で反応させたランダム共重合シリコーン変性エポキシ
樹脂(エポキシ当量250、軟化点78°C) イσし m/n+m=o、○9 零2式(III)で示されるエポキシ樹脂とビスフェノ
ールAとの共重合エポキシ樹脂と式(IV)で示される
オルガノポリシロキサンとをランダム共重合エポキシ樹
脂/オルガノポリシロキサンを100/20(重量比)
で反応させたランダム共重合シリコーン変性エポキシ樹
脂(エポキシ当量260、軟化点75°C) (i1/m/r+十m二〇、05 *3式(V)で示されるフェノールとオルソアリルフェ
ノールとのランダム共重合ノボラックと式(Vl)で示
されるオルガノポリシロキサンとをランダム共重合ノボ
ラック/オルガノポリシロキサンをI OO/20 (
重ffi比)で反応させたランダム共重合シリコーン変
性フェノール樹脂(OH当量125、軟化点95°C) 1飢m/n+m=0.08 本4フエノールノボラツク樹脂(OH当量110゜軟化
点95℃)と式〔■〕で示されるオルガノポリシロキサ
ンとを、フェノールノボラック樹脂/オルガノポリシロ
キサンを100/20(重量比)で反応させたランダム
共重合シリコーン変性フェノール樹脂(OH当ff11
27、軟化点97°C)本5フエノールノボラツク樹脂
(OH当ff1106、軟化点100℃)と式〔■〕で
示される両末端エポキシ変性ジメチルシロキサンとを、
フェノールノボラック樹脂/ジメチルシロキサンを10
0/33.3(重量比)で反応させたランダム共重合シ
リコーン変性フェノール樹脂(OH当量157、軟化点
96°C) *6式(II)で示される共重合体 *7式(X)で示される共重合体 ゴム(平均粒径I5μ、球状、SP値7.5)零I0ブ
タジェンゴムの不飽和二重結合の一部を酸化し、エポキ
シ化した液状エポキシ化ポリブタジェンゴム(酸素含有
ff17%、粘度5500ポイズ、SP値8.4) (y入子 牟白) *6式(XI)で示されるポリジメチルシロキサン本”
ビニル基含有オルガノポリシロキサンと水素含有オルカ
ッポリシロキサンとの界面重合により三次元架橋させて
得られる球状の固形シリコーン零11型曇りが発生する
までの成形ショツト数にて判定。
(Hereinafter referred to as Ronihyakun*1 A random copolymerization of an epoxy resin represented by formula (I) and orthoallylphenol and an organopolysiloxane represented by formula (II) to form an epoxy resin/organopolysiloxane. Random copolymerized silicone-modified epoxy resin reacted at 100/20 (weight ratio) (epoxy equivalent: 250, softening point: 78 °C) Copolymerization of resin and bisphenol A. Random copolymerization of epoxy resin and organopolysiloxane represented by formula (IV). Epoxy resin/organopolysiloxane 100/20 (weight ratio).
Random copolymerized silicone-modified epoxy resin (epoxy equivalent: 260, softening point: 75°C) (i1/m/r+10m20,05) A random copolymerized novolak and an organopolysiloxane represented by formula (Vl) are combined to form a random copolymerized novolac/organopolysiloxane I OO/20 (
Random copolymerized silicone-modified phenol resin (OH equivalent: 125, softening point: 95°C) reacted at 4 phenol novolak resin (OH equivalent: 125, softening point: 95°C) 1 m/n+m = 0.08 ) and the organopolysiloxane represented by the formula [■], a random copolymerized silicone-modified phenol resin (OH per ff11
27, softening point 97°C) This 5 phenol novolac resin (OH ff1106, softening point 100°C) and both terminal epoxy-modified dimethylsiloxane represented by the formula [■],
Phenol novolak resin/dimethylsiloxane 10
Random copolymerized silicone-modified phenol resin (OH equivalent 157, softening point 96°C) reacted at 0/33.3 (weight ratio) *6 Copolymer represented by formula (II) *7 With formula (X) The copolymer rubber shown (average particle size I5μ, spherical, SP value 7.5) is a liquid epoxidized polybutadiene rubber (oxygen-containing ff17) in which a part of the unsaturated double bonds of zero I0 butadiene rubber is oxidized and epoxidized. %, viscosity 5500 poise, SP value 8.4) (y Neriko Mujiro) *Polydimethylsiloxane represented by formula 6 (XI)”
Type 011 spherical solid silicone obtained by three-dimensional crosslinking through interfacial polymerization of vinyl group-containing organopolysiloxane and hydrogen-containing orcappolysiloxane. Judgment is based on the number of molding shots until fogging occurs.

*12得られた成形品のベント部の樹脂パリの長さを測
定。
*12 Measure the length of the resin pad at the vent part of the molded product obtained.

*llQショット目の成形品を使用し、捺印後セロテー
プをはがし!二時、捺印が取られた数で判定。
*Use a molded product with llQ shots and peel off the sellotape after stamping! At 2 o'clock, the judgment is based on the number of seals taken.

表中には成形品50個中の捺印のはがれた個数を示す。The table shows the number of peeled stamps out of 50 molded products.

*1′成形成形0個(後硬化175℃、8Hrs)を温
度サイクルテスト(150°C〜−65°C)にかけ、
500サイクルのテストを行いクラックの発生した個数
で判定。表中には成形品20個中のクラックの発生した
個数を示す。
*1' 0 molded pieces (post-curing 175°C, 8Hrs) were subjected to a temperature cycle test (150°C to -65°C),
Judging by the number of cracks that occur after 500 cycles of testing. The table shows the number of cracks in 20 molded products.

本15成形品100個(後硬化175°0.8Hrs)
を120℃の高圧水蒸気中で1000時間の耐湿テスト
を行い発生した不良個数で判定。表中には成形品100
個中の不良の発生した個数を示す。
100 pieces of 15 molded products (post-curing 175°0.8Hrs)
A 1,000-hour moisture resistance test was conducted in high-pressure steam at 120°C, and the number of defective pieces was determined. The table shows 100 molded products.
Indicates the number of defective items among the items.

零16成形品16個(後硬化175°C,8Hrs)を
85°C185%の水蒸気中で72時間処理後、260
℃の半田浴に10秒浸漬しシラツクの発生した個数で判
定。表中には成形品16個中のクラックの発生した個数
を示す。
After treating 16 pieces of Zero 16 molded products (post-curing at 175°C, 8Hrs) in 85°C and 185% steam for 72 hours, 260
It was immersed in a solder bath at ℃ for 10 seconds and judged by the number of pieces that generated silk. The table shows the number of cracks among 16 molded products.

(以下余白) (発明の効果) ランダム共重合シリコーン変性エポキシ樹脂及びランダ
ム共重合シリコーン変性フェノール樹脂の両者に相溶性
のある溶解度パラメーター(SP値)を有するシリコー
ン系共重合体を組み合わせることにより成形加工性、捺
印性及び密着性の向上による半田耐熱性の向上が図られ
、さらにシリコーン系共重合体と相溶性の良いシリコー
ンゴム、液状合成ゴムまたはシリコーンゴムと液状合成
ゴムとの混合物を組み合わせることによりさらにいっそ
うの成形加工性、捺印性、半田耐熱性の向上が図られ、
更に耐衝撃性が顕著に向上した半導体封圧用エポキシ樹
脂組成物が得られる。
(Left below) (Effects of the invention) Molding can be performed by combining a silicone copolymer having a solubility parameter (SP value) that is compatible with both a random copolymerized silicone-modified epoxy resin and a random copolymerized silicone-modified phenol resin. By combining silicone rubber, liquid synthetic rubber, or a mixture of silicone rubber and liquid synthetic rubber, which has good compatibility with silicone-based copolymers, the soldering heat resistance is improved by improving the properties, imprintability, and adhesion. Further improvements in moldability, stampability, and solder heat resistance have been made.
Furthermore, an epoxy resin composition for semiconductor sealing pressure with significantly improved impact resistance is obtained.

この半導体封止用エポキシ樹脂組成物は耐衝撃性に優れ
ることから大きなチップを封止することが可能で、且つ
半田耐熱性にも非常に優れることから薄いパッケージに
用いても信頼性の高いものである。
This epoxy resin composition for semiconductor encapsulation has excellent impact resistance, making it possible to encapsulate large chips, and has excellent soldering heat resistance, making it highly reliable even when used in thin packages. It is.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)(A)オルガノポリシロキサンとエポキシ樹脂を
反応させてなるランダム共重合シリコーン変性エポキシ
樹脂 (B)オルガノポリシロキサンとフェノールノボラック
樹脂を反応させてなるランダム共重合シリコーン変性フ
ェノール樹脂硬化剤 (C)SP値が7〜9の範囲にあるシリコーン系共重合
体 (D)SP値が7〜9の範囲にあるシリコーンゴム (E)無機充填剤 を必須成分とし、樹脂成分(A+B)に対してシリコー
ン系共重合体(C)を0.1〜12重量%、シリコーン
ゴム(D)を1〜20重量%含有することを特徴とする
エポキシ樹脂組成物。
(1) (A) Random copolymerized silicone-modified epoxy resin made by reacting organopolysiloxane and epoxy resin (B) Random copolymerized silicone-modified phenol resin curing agent made by reacting organopolysiloxane and phenol novolac resin (C ) Silicone copolymer with an SP value in the range of 7 to 9 (D) Silicone rubber with an SP value in the range of 7 to 9 (E) Inorganic filler is an essential component and is based on the resin component (A + B) An epoxy resin composition containing 0.1 to 12% by weight of a silicone copolymer (C) and 1 to 20% by weight of silicone rubber (D).
(2)特許請求項(1)において(D)成分としてSP
値が7〜9の範囲にある液状合成ゴムを用い、樹脂分(
A+B)に対して液状合成ゴム(D)を0.5〜15重
量%含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
(2) SP as component (D) in patent claim (1)
Using liquid synthetic rubber with a value in the range of 7 to 9, the resin content (
An epoxy resin composition containing 0.5 to 15% by weight of liquid synthetic rubber (D) based on A+B).
(3)特許請求項(1)において(D)成分としてSP
値が7〜9の範囲にあるシリコーンゴムと液状合成ゴム
との混合物を用い樹脂分(A+B)に対してシリコーン
ゴムと液状合成ゴムの混合物(D)を0.5〜13重量
%含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
(3) SP as component (D) in patent claim (1)
Use a mixture of silicone rubber and liquid synthetic rubber with a value in the range of 7 to 9, and contain 0.5 to 13% by weight of the mixture (D) of silicone rubber and liquid synthetic rubber based on the resin content (A + B). An epoxy resin composition characterized by:
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