JPH021412A - オルト位に置換基を有するフェノール誘導体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、オルト位に置換基を何するフェノル誘導体の
製造方法に関するものであり、詳しくはオルト位に置換
基を有する脂肪族オキシベンゼン誘導体を四塩化チタン
で処理することにより、脱アルキル化されたオルト位に
置換基を有するフエノール誘導体を得る製造方法に関す
るものである。

（従来の技術） 前記一般式（Ｉ　Ｉ）で表わされるようなオルト位に置
換基を有するフェノール誘導体は、広く、医薬品や酸化
防止剤、あるいは写真用カプラー等に又はその中間原料
として用いられる。

従来、このようなオルト位に置換基を有するフェノール
誘導体を合成するには、フェノール誘導体に置換基を導
入する方法、脂肪族オキシベンゼン誘導体に置換基を導
入し脱アルキル化する方法、等がとられている。前者の
方法による製造を方が簡便であるが、導入する置換基の
製造条件あるいは原料の都合により前者の方法で製造す
ることができず、後者の方法をとることがしばしばある
。

この方法で置換基導入後の脱アルキル化反応は一部に、
プロトン酸（例えば塩化水素、臭化水素酸、トリフルオ
ロ酢酸）、ルイス酸（例えば塩化アルミニウム、臭化ア
ルミニウム、塩化ホウ素、臭化ホウ素）や、ヨウ化イオ
ン、メルカプトアニオンなどの一部のアニオン類が使わ
れるが、副反応が起こることがあり（例えばプロトン酸
ではアミド基の開裂、三級アルキル基の脱離、塩化アル
ミニウム、臭化ホウ素ではエステルの開裂、三級アルキ
ル基の脱離）、収率良くオルト位に置換基を有するフェ
ノール誘導体を得るには実用的でない。

（発明が解決しようとする課題） 本発明の目的は、上記従来技術の欠点に鑑み、オルト位
に置換基を有する脂肪族オキシベンゼン誘導体よりオル
ト位に置換基を有するフェノール誘導体を収率よく製造
する方法を提供することにある。

（課題を解決するための手段） すなわち本発明の目的は、下記の製造方法によって達成
された。

一般式（Ｉ）で表わされる化合物を四塩化チタンで処理
することを特徴とする一般式（Ｉ　Ｉ）で示される化合
物を得る製造方法。

一般式（Ｉ） 一般式（Ｉ１） 式中、Ｒは脂肪族基を表わし、Ｘは該ベンゼン環に窒素
原子あるいはイオウ原子を介して結合している置換基、
ハロゲン原子、又はカルボニル基もしくはチオカルボニ
ル基を介して結合している置換基を表わす（但しＸはホ
ルミル基を除（）。

Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、
脂肪族基、ヒドロキシル基、フェニル基、脂肪族オキシ
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基を表わす。但し
Ｒ４は脂肪族オキシ基を除く。

ＸＳＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は隣りどうしで脂環式の環
、又はベンゼン環に縮合する環を形成してもよい。

一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）でより好ましい置換
基としては、Ｘはハロゲン原子、脂肪族または芳香族オ
キシカルボニル基、アシル基、アシルアミノ基、カルバ
モイル基、スルファモイル基、脂肪族または芳香族チオ
基、脂肪族または芳香族アミノ基が挙げられ、Ｒ４はハ
ロゲン原子、脂肪族基、フェニル基、アシルアミノ基が
挙げられる。

以下に本発明の詳細な説明する。

４価のルイス酸はエーテルの開裂反応に使われた例は少
なく、特に四塩化チタンを用いた例はほとんどない。我
々は既に２−ヒドロキシ−３−アルコキシベンツアルデ
ヒド誘導体の製造方法に関して、四塩化チタンを用いて
温和な反応条件でエーテルの開裂が起きることを見出し
ている（特開昭５９−８２３３３）が、更に種々検討し
た結果、四塩化チタンがエーテルの開裂に対して広く一
般的でかつ選択的な反応剤として使えることを見出した
。すなわち、脂肪族オキシ基のオルト位に窒素原子ある
いはイオウ原子を持つ置換基、ノ＼ロゲン原子、または
オルト位の置換原子に酸素原子またはイオウ原子が結合
した置換基（ホルミル基は除く）が′あれば、四塩化チ
タンは温和な条件でエーテル結合を開裂することができ
、副反応がほとんどなく優れた反応剤であることを見出
した。また脂肪族オキシ基のさらにもう一方のオルト位
に置換基があればより温和な条件で脱アルキル化反応が
進行する反応剤であることを見出した。

一般式（Ｉ）お°よび（Ｉ　Ｉ）において、Ｒは脂肪族
基を表わす。

本明細書中で４脂肪族基”とは、炭素数１〜３２、好ま
しくは１〜２２の飽和または不飽和、鎖状または環状、
直鎖または分枝、置換または無置換の脂肪族炭化水素基
であり、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基のう
ちいずれでもよい。

例えばアルキル基についてはは、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ヘキシル、
オクチル、シクロヘキシル、２−エチルヘキシル、デシ
ル、ドデシル、ヘキサデシル、またはオクタデシルが挙
げられる。

一般式（Ｉ）および（Ｉ　Ｉ）において、Ｘは、ハロゲ
ン原子（例えばフッ素、塩素、臭素）、脂肪族または芳
香族オキシカルボニル（例えばメトキシカルボニル、ド
デシルオキシカルボニル、フェノキシカルボニル）、ア
シル基（例えばアセチル、ベンゾイル、ドデカノイル）
、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ、ベンゾイル
アミノ）、カルバモイル基（例えばＮ、Ｎ−ジメチルア
ミノくモイル、Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−メチル−
Ｎ−フェニルカルバモイル）、スルファモイル基（例え
ばＮ、Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎブチルスルファ
モイル）、脂肪族または芳香族チオ基（例えばメチルチ
オ、ブチルチオ、フェニルチオ）、脂肪族および芳香族
アミノ基（例えばＮ−メチルアミノ、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ、Ｎ−ジ
ブチルアミノ）を表わす。

Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、水素原子、ノ＼ロゲン原子
（例えばフッ素、塩素、臭素）、脂肪族基、ヒドロシキ
ル基、フェニル基、芳容族基、複素環基、脂肪族オキシ
基（例えばメトキシ、オクチルオキシ）、芳香族オキシ
基、アシルオキシ基、脂肪族および芳香族アシル基、ホ
ルミル基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ、ミ
リスチルアミノ）、カルバモイル基、スルホンアミド基
（例えばメタンスルホンアミド、オクタンスルホンアミ
ド）、スルファモイル基、スルホニル基、ニトロ基、カ
ルボキシル基およびシアノ基を表わす。

ただしＲ４がホルミル基および脂肪族オキシ基の場合を
除く。またＲ４は立体的にかさ高い置換基のほうが好ま
しい。

本発明により製造できる具体的化合物を後掲の第２表に
示すが必ずしもこれらに限定されるものではない。

本発明の反応を行うための溶媒としては、ハロゲン化炭
化水素（例えば四塩化炭素、クロロホルム、塩化エチレ
ン）、エーテル系溶媒（例えばエチルエーテル、ジメト
キシエタン、テトラヒドロフラン）、芳香族炭化水素（
例えばベンゼン、トルエン、クロルベンゼン、ニトロベ
ンゼン）を適当量用いることができる。

本発明で用いる四塩化チタンは、反応基質に対して０．
５〜１０倍モル、好ましくは１．０〜２．０倍モルの範
囲で用いることができる。

本発明の反応を行うための条件としては、反応温度−２
０〜１４０℃、好ましくは０〜１００℃で行うことがで
き、用いる基質によって最適化することが好ましい。反
応時間は上記の反応温度により異なり、製造的に好まし
いのは１時間から８時間の範囲であるが、時として選択
性を増すために数日反応させることが有利である場合も
ある。

以下本発明の具体的な例を実施例として述べるが、本発
明はこれらに限定されるものではない。

実施例１ ２−（２−エチルへキシルチオ）−４ ｔｅｒｔ−オクチルフェノールの合成 １−（２−エチルへキシルオキシ）−２−（２−エチル
へキシルチオ）−４−ｔｅｒｔ−オクチルベンゼン２３
．１ｇ　（０，０５モル）にエチレンクロリド１００ｎ
＋Ｉを加え、２５°Ｃで撹拌しながら、四塩化チタン６
．５ｍ１（０，０５５モル）を１０分かけて滴下した。

さらに８０℃で４時間撹拌後、濃塩酸６１を含む氷水１
５０ｎ＋１に反応液を注いだ。有機層を分岐して取り出
し、水１５０ｍ１で洗浄、飽和食塩水１００ｍ１で洗浄
した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過した後、
有機溶媒を減圧で留去し、油状の目的物１７．５ｇを得
た（定ｍ的）。

このものは既知の化合物と、赤外、ＮＭＲ。

Ｍ　Ａ　Ｓ　Ｓ各スペクトル及び液体クロマトグラフィ
の保持時間で完全に一致した。

液体クロマトグラフィーによる含量 目的物＞　９８９６　　　原料＜１９６実施例２ サリチル酸ブチル（Ａ）の合成（塩化アルミニウム、臭
化ホウ素との比較） ２−（２−エチルへキシルオキシ）安息香酸ブチルエス
テル（Ｂ）２０．６ｇ　（０，０７モル）にエチレンク
ロリド１００１を加え、２５℃で撹拌しながら、四塩化
チタン８．９ｎ＋ｌ（０，０７５モル）を２０分かけて
滴下した。さらに５０℃で４時間撹拌後、濃塩酸８ｍｌ
を含む氷水１５０ｍ１に反応液を注いだ。有機層を分岐
して取り出し、水１５０１で洗浄、飽和食塩水１００１
で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過し
た後、有機溶媒を減圧留去し、油状の目的物１２．８ｇ
を得た（条件ａ）。上記条件と同）、１な条件で四塩化
チタンの代わりに三塩化アルミニウム１０．０ｇ　（０
，０７５モル）を加えて３５℃で反応させた（条件ｂ）
。また上記条件と同様な条件で四塩化チタンの代わりに
三臭化ホウ素６．７ｍ１（０，０７２モル）を加えて反
応させ（条件Ｃ）　また別途この条件で反応温度を１０
℃に保ち反応させた（条件ｄ）。以上の試料の液体クロ
マトグラフィーによる定量結果を以下に示す。

原料（Ｂ）　　目的物（Ａ）　　サリチル酸　その他条
件ａ 条件す 条件Ｃ 条件ｄ ＜１？６ ５％ ２％ 〉９９％ ６０％ ５％ ７２％ ３０％　　　５％ ９３％　　　２％ １５％　　１１％ 備考 本発明 比較例 比較例 比較例 これらに示すように、四塩化チタンは、三塩化アルミニ
ウム、三臭化ホウ素に比べ、副反応が少なく、高収率で
目的物が得られることがわかる。

実施例３ ２．４−ジーｔｅｒｔ−ブチル−６−オクチルチオフェ
ノール（Ｃ）の合成（塩化アルミニウム、臭化ホウ素と
の比較） １−ブチルオキシ−２，４−ジーｔｅｒｔ−ブチル−６
−オクチルチオベンゼン（Ｄ）２０．３ｇ　（０，０５
モル）にエチレンクロリド１００１を加え、２５℃で撹
拌しながら、四塩化チタン６．５ｍ１（０，０５５モル
）を２０分かけて滴下した。さらに４時間撹拌した後、
濃塩酸食塩水１００１で洗浄した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。ろ過した後、有機溶媒を減圧留去し、油
状の目的物１７．５ｇを得た（条件ｅ）。

また別途反応温度を８０℃とし反応させた（条件ｆ）。

また条件ｅと同様な条件で四塩化チタンの代わりに三塩
化アルミニウム７．３ｇ（０，０５５モル）（条件ｇ）
を、また三臭化ホウ素４．６ｍ１（０，０５２モル）（
条件ｈ）を加え、それぞれ反応させた。以上の試料の液
体クロマトグラフィーによる定量結果を以下に示す。

原料（Ｄ） く１％ く２％ １１％ ４％ その他１ く１％ く１％ ７％ ９％ 目的物（Ｃ） 〉９７％ 〉９６％ ８２％ ８７％ 条件ｅ 条件ｆ 条件ｇ 条件ｈ １）その他は２位または４位、あるいは両方のｔｅｒｔ
−ブチル基のはずれた化合物を示す。

これらの結果に示すように、四塩化チタンは塩化アルミ
ニウム、臭化ホウ素に比べ副反応が少なく、さらに反応
条件が激しくなっても高収率で１］的物か得られること
かわかる。

実ｆ面例４ オルト位置換基（一般式（Ｉ）のＲ２）の影雷２−Ｎ、
Ｎ−ジエチルスルファモイル−４ｔｅｒｔ−オクチルフ
ェノールの合成 １−（２−エチルへキシルオキシ）−２−（Ｎ。

Ｎ−ジエチルスルファモイル）−４−ｔｅｒｔ−オクチ
ルベンゼン２２．６ｇ　（０，０５モル）にエチレンク
ロリド１００１を加え、２５°Ｃで撹拌しながら、四塩
化チタン６．５＋ｎ１（０，０５５モル）を２０分かけ
て滴下した。さらに８０℃で６時間反応した後、濃塩酸
６ｍｌを含む氷水１５０ｍ１に反応液を注いだ。有機層
を分岐して取り出し、’に１５０ｍ１で洗浄、飽和食塩
水１００１て洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。ろ過した後、何機溶媒を減圧留去し、油状の目的物
］、７．０ｇを得た（条件ｉ）。

４−ｔｅｒｔ−オクチルフェノールの合成上記反応の１
−（２−エチルへキシルオキシ）２−　（Ｎ、Ｎ−ジエ
チルスルファモイル−４ｔｅｒｔ−オクチルベンゼンの
代イつりに１（２−エチルへキシルオキシ）−４−ｔｅ
ｒｔオクチルベンゼンを使用し、同様な反応条件で反応
させた（条件Ｊ）。

以上の試料の液体クロマトグラフィーによる定量結果を
以下に示す。

原料　　目的物 条件ｉ　　　＜　５９６　　　　＞　９５％条件Ｊ　　
　＞９９９６　　　＜　　１％これらの結果の示すよう
に、オルト位にこのような置換基がある時にのみ脱アル
キル化反応が進行し、フェノール誘導体が高収率で得ら
れることがわかる。

実施例５ 実施例１と同様な方法で第１表に示した化合物を合成し
た。表中、Ｒの表示でＣ８Ｈ，□　（ＥＨ）は２−エチ
ルヘキシル基を表わす。

いずれも高収率で目的の化合物か得られることがわかる
。

晃 春 Ｃ４Ｈ９（ｔ） Ｃ５Ｈ１１（ｔ） （Ｉ■ Ｈ （ｉｆｔ Ｈ ｔ α℃ αつ Ｃ４Ｈ９（ｔ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式（ I ）で表わされる化合物を四塩化チタンで処
   理することを特徴とする一般式（II）で示される化合物
   を得る製造方法。 一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒは脂肪族基を表わし、Ｘは該ベンゼン環に窒素
   原子あるいはイオウ原子を介して結合している置換基、
   ハロゲン原子、又はカルボニル基もしくはチオカルボニ
   ル基を介して結合している置換基を表わす（但しＸはホ
   ルミル基を除く）。 Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４は、水素原子、ハロゲ
   ン原子、脂肪族基、ヒドロキシル基、フェニル基、脂肪
   族オキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基を表わ
   す。但しＲ＿４は脂肪族オキシ基を除く。 Ｘ、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４は隣りどうしで脂
   環式の環、又はベンゼン環に縮合する環を形成してもよ
   い。