JPH02118201A - シリンダアクチュエータ - Google Patents

シリンダアクチュエータ

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JPH02118201A
JPH02118201A JP26958388A JP26958388A JPH02118201A JP H02118201 A JPH02118201 A JP H02118201A JP 26958388 A JP26958388 A JP 26958388A JP 26958388 A JP26958388 A JP 26958388A JP H02118201 A JPH02118201 A JP H02118201A
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JP
Japan
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pressure
spool
piston
control system
deviation
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JP26958388A
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English (en)
Inventor
Toshitaka Yamamoto
山本 敏隆
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はシリンダアクチュエータに関し、特に定常位置
偏差を低減したシリンダアクチュエータに関する。
[従来の技術] 従来のシリンダアクチュエータには、四方案内弁(電磁
比例弁、サーボ弁等)でピストンの位置制御するものが
ある。この場合、実測したピストン位置をフィードバッ
クして、入力されるピストン位置目標値と比較し、その
偏差に基づいて、四方案内弁をピストンに加わる外力に
応答させつつ、ピストン位置を制御する位置制御系シス
テムである。即ち、位置制御系の流体圧力がそのまま外
力に対しても働く構成を採る1系統システムと言えるも
のである。
例えば、第4図に示すとおり、従来のシリンダアクチュ
エータの構成は、ピストン1を正逆方向に摺動可能に収
納するシリンダ本体2と、シリンダ本体2内にピストン
1を介して区分されて成る第1及び第2のハウジング3
.4と、第1及び第2のハウジング3.4に夫々流体を
供給し、ピストン1を正逆方向に摺動させる圧力Psを
与えるための圧力ポンプ5と、圧力ポンプ5から第1及
び第2のハウジング3,4への流体の流れを仕切り、流
体圧力P、及びP2を規定する開閉自在な四方案内弁7
と、ピストン1の摺動に追随する連接棒8の先端の位置
をシリンダ位置の実測値として検出する位置検出器9と
、このシリンダ位置の実ハ1値χをフィードバックして
、入力されるシリンダ位置目標値χyetとの偏差1χ
+sl−χ|を算出する比較器10(減算器)とを有し
、その偏差値χ|..−χに基づいて、外力Fdを打消
しつつ、ピストンの位置を制御していた。
[発明が解決しようとする課題] ところが、従来のシリンダアクチュエータにおける流体
圧力P、及びP2の制御は、ピストンの位置制御を行う
だけでなく、ピストンに変動外力Fdに応答させた制御
をも同時に行う1系統システムを取ることから、必然的
に外力の変動Fdを外乱として直接被り、変動量の増大
に伴って、その定常位置偏差1χ|.、−χ|が大きく
なるという欠点があった。
即ち、従来のシリンダアクチュエータでは、剛性が低い
位置制御系である場合、第5図(b)に示すように、第
1及び第2のハウジング3.4の夫々には、圧力ポンプ
(Ps)からの一定の流体圧力(1/2 P s = 
70 kgf’/cj)が互いにバイアスとして加え、
ピストンに印加される外力Fdの増減分を相殺するよう
に流体圧力P1及びP2を対称的に変動させて制御して
も、慣性質量Mの変動及び変動外力Fdの変化量に比例
して、ピストンの定常位置度差1χ|..−χ|が増大
してしまうことが認められる。
そこで、本発明の技術的課題は、上記欠点に鑑み、ピス
トンに印加される非線形力である変動外力Fdの増大に
伴う定常位置変化1χrmf−χ|を低減し、かつ、応
答性の優れたシリンダアクチュエータを提供することで
ある。
また、本発明の他の技術的課題は、簡略な構造と高信頼
性を有するメカニカルな制御要素を組込んだシリンダア
クチュエータを提供することである。
[課題を解決するための手段] 本発明によれば、ピストンを往復動可能に収納したシリ
ンダ本体と、シリンダ本体内にピストンを介して区分さ
れ、所定のバイアス圧力172Psを常時印加されて成
る第1及び第2のハウジング部と、ピストン位置目標値
χrat とピストン位置実測値χとを比較して第1の
偏差χ21.−χを求め、該第1の偏差χreT−χに
基づいて、当該ピストン位置目標値χ+elにピストン
を移動させるように、第1のハウジング部に供給される
圧力媒体の圧力を位置制御系圧力P1として制御する位
置制御部とを有するシリンダアクチュエータにおいて、
位置制御系圧力P1にピストン受圧面積Aを乗算した値
P、−Aと、所定、のバイアス圧力112Psにピスト
ン受圧面積Aを乗算した値172 Ps−Aとを比較し
て、第2の偏差P、−A−1/2Ps−Aを求め、更に
、該第2の偏差P、・A−1/2Ps−Aに予め定めら
れた伝達関数G (s)を乗算し、得られた第3の偏差
G (s) X (P。
・A−1/2 P 5−A)に基づいて、ピストンに働
く慣性力Mχ″及び外力の変動Fdを打消すように、第
2のハウジング部に供給される圧力媒体の圧力を外乱変
動補償制御系圧力P2として制御する外力変動補償制御
部を設け、これにより、ピストンを慣性移動させて、位
置制御系におけるピストンの定常位置偏差]χrat−
χ|を低減させたことを特徴とするシリンダアクチュエ
ータが得られる。
また、本発明によれば、前記外力変動補償制御部は、両
端部と中央部の直径が異なるスプールと、該スプールを
往復動自在に収納する箱体と、該箱体内をスプールによ
り区分された第1及び第2のスプール室及びと、前記位
置制御系圧力を有する圧力媒体を第1のスプール室内に
導く位置制御系圧力通路と、スプールの一端側に設けら
れ、第1のスプール室内を臨む位置制御系受圧面とを有
し、これにより、前記位置制御系圧力(P1)に位置制
御系受圧面部の受圧面積(As)を乗算した値の第1の
スプール印加圧力(PI・As)をスプールの一端に印
加し、また、スプールの他端側に形成された積分用受圧
面部と、第2のスプール室内を積分用受圧面部により区
分されて成る一端側の第1の積分室及び他端側の第2の
積分室と、外部に設けられた第1の圧力ポンプから供給
される圧力媒体を第1及び第2の積分室の各々に導く第
1及び第2の供給積分通路と、第1及び第2の積分室内
の各々の圧力媒体を外部に設けられたタンクに導く第1
及び第2の排出積分通路と、第1及び第2の供給積分通
路に各々設けられた第1及び第2の供給流体抵抗部と、
第1及び第2の排出積分通路に各々設けられた第1及び
第2の排出流体抵抗部とを有し、第1の供給流体抵抗部
及び第1の排出流体抵抗部により、前記予め定められた
伝達関数G (s)を満足する粘性抵抗を発生するよう
な値に調整された第1の積分圧力値Pb′を有する圧力
媒体を、第1の積分室に導き、積分用受圧面部のうちの
第1の積分室を臨む受圧面積Abに該第1の積分圧力値
Pb′を乗算した値の第2のスプール印加圧力Ab’ 
 ・Pb′を、スプールの他端に印加し、第2の供給流
体抵抗部及び第2の排出流体抵抗部により、少なくとも
、前記所定のバイアス圧力1/2Psにピストン受圧面
積Aを乗算した値1/2Ps−Aを含むように調整され
た第2の積分圧力値Pbを6する圧力媒体を、第2の積
分室に導き、積分用受圧面部のうちの第2の積分室を臨
む受圧面積Abに第2の積分圧力値pbを乗算した値の
第3のスプール印加圧力Ab・Pbを、スプールの他端
に印加して、第1のスプール印加圧力P1・Asと第2
のスプール印加圧力Ab’  ・Pb′及び第3のスプ
ール印加圧力Ab−Pbの差をもって、スプールを移動
させ、さらに、外部に設けられた第2の圧力ポンプから
供給される圧力媒体を、前記第2のハウジング室に導く
外力変動補償通路と、該外力変動補償通路に配されて、
スプールの移動に応答して開閉し、ピストンに働く慣性
力Mχ″及び外力の変動Fdを打消すように、第2のハ
ウジング部に供給される圧力媒体の圧力を外乱変動補償
制御系圧力P2として調整する外力変動補償弁部とを有
し、これにより、ピストンを慣性移動させて、位置制御
系におけるピストンの定常位置偏差|χref−χ|を
低減させたことを特徴とするシリンダアクチュエータが
得られる。
[発明の概要] ここで、本発明の趣旨を容易に理解するために、その概
要を説明する。
先ず、一般的なピストンの運動方程式を、第1式に示す
Mχ +F d = A−P r  A ’ P 2 
   ・・・■二こで、M:慣性質量、A:ピストン受
圧面積。
Fd:外力、χ ニジリンダ加速度、P、:第1のハウ
ジング部側の単位圧力、P2 :第2のハウジング部側
の単位圧力である。
従来のシリンダアクチュエータの位置制御では、一定の
流体圧力1/2 P sを第1及び第2のハウジング部
に互いにバイアスとして掛けた状態で、流体圧力P1及
びP2を対称的に変動させていることから、第1式に示
した運動方程式は下記の第2式のように表される。
P+−1/2A・ (Mχ +Fd) +1/2@Ps P2諺−1/2A・(Mχ +Fd) +1/2・Ps        ・・・■即ち、第0式
から明らかなように、流体圧力P、及びP2は、位置制
御系の駆動力を発生させるだけでなく、外力の変動Fd
に対して対抗する力として、それぞれを互いに分担し、
且つ、加重させて発生させていることになる。
従来、位置制御系の流体圧力P1及びP2が、そのまま
慣性力Mχ”及び外力の変動Fdに対しても働いている
ために、非線形の外力の変動Fdが直接位置制御系に外
乱として働いてしまい、シリンダ位置目標値χtarと
実際の制御量χとの偏差の定常値である定常位置偏差1
χrag−χ|が大きくなり、外力の変動Fdに応じた
偏差を生じてしまうという欠点があった。
そこで、本発明では、非線形の慣性力の変動分Mχ“及
び外力の変動Fdに対抗して打ち消す方向の力を流体圧
力P 2 %発生させて、外乱要素を取り除く外乱補償
制御系と、変動外力Fdが働かない線形系の位置制御系
との2系統制御システムをとっている。これにより、流
体圧力P1では、位置制御系の駆動力のみを発生させる
ことが可能となり、その駆動力による慣性力で、ピスト
ン位置を定めることが確実にできるから、外乱による定
常位置偏差|χref−χ|を減少させることができる
以下、本発明に係わる具体的な外乱補償制御系について
説明する。
まず、先の第1式に示したピストンの運動方程式を変形
して、 p、−p2−1/A・ (Mχ +Fd)  ・・・■
と変形し、第3式の右辺にバイアス分172Psを挿入
して、 P + −P 2−1 / A・(Mχ +1/2Ps
)(−1/A−Fd+1/2 Ps) ・・・■ とし、この第4式を、P、及びP2のバランスをとって
、 AP、−Mχ →0 と成るように、下記の第5式及び第6式にまとめると、 P+−1/2A−Mχ +1/2・Ps  ・・・■P
 2−−1 / 2 A aM z   1 / A 
・F d+1/2・Ps           ・・・
■となる。
即ち、ピストンに加わる慣性力Mχ を位置制御系圧力
P1及び外乱補償系圧力P2に、変動外力Fdを外乱補
償系圧力P2に各々分担制御させ、非線形力である外力
Fdの影響を考慮することなく、位置制御系圧力P1を
線形系制御をするものである。
具体的には、外乱補償制御系圧力P2は、制御要素とし
て、ピストン受圧面積Aに位置制御系圧力P1を乗じた
力A−P、と、ピストン受圧面積Aに一定バイアス値1
/2Psを乗じた力1/2Ps・Aとを取り、係る制御
要素を比較して減算し、その偏差(A−PI−1/2P
s−A)に、伝達特性G(S):(α/S)を乗じるこ
とにより得られた偏差Δz−G(S) ×(A−P+ 
−1/2 P 5−A)に基づき、上記第5式及び第6
式を満足するように(AP、−Mχ −0)、調整操作
されている。
[実施例] 次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。
尚、第1図に於ける第2図と同符号の部分は、互いに同
じ機能を有するものとして、その説明を省略する。
一第1実施例− 第1図において、第1実施例のシリンダアクチュエータ
は、ピストン1を正逆方向に摺動可能に収納するシリン
ダ本体2と、シリンダ本体2内にピストン1を介して区
分されて成る第1及び第2のハウジング3,4と、第1
及び第2のハウジング34に夫々流体を供給し、ピスト
ン1を正逆方向に摺動させる圧力を与えるための第1及
び第2のポンプ5,6と、第1及び第2のポンプ5,6
から第1及び第2のハウジング3.4への流体の流れを
各々仕切る開閉自在な四方案内弁7及び三方案内弁12
(以下、位置制御用四方案内弁7、変動外乱補償制御用
三方案内弁12と呼ぶ。)と、これら位置制御用四方案
内弁7と外乱補償制御用三方案内弁12との開閉を各々
制御する位置制御部と外乱補償制御部とを有している。
位置制御部は、ピストン位置の実測値χとピストン位置
目標値χratとの偏差χtar−χのみに基づいて、
位置制御するものである。位置制御部は、ピストン1の
摺動に追随する連接環8の先端の位置をピストン位置実
n1値χとして検出する位差検出器つと、このシリンダ
位置の実測値χをフィードバックしてシリンダ位置目標
値χ2..のみとの偏差χrel−χを算出する減算器
10と、その偏差χ+el−χに基づいて、ピストンを
目標位置に到達するように、位置制御用四方案内弁7を
調整して、第1のポンプ5の圧力Psを所定圧力P1と
し、ピストンを慣性移動させる駆動力のみを与えている
一方、外乱補償制御部は、慣性力の変動分Mχ及び外力
の変動Fdを除いて、シリンダ1を慣性移動させるため
に、シリンダ1に働く慣性力の変動分Mχ”及び外力の
変動Fdを補償するものであり、ピストン受圧面積Aに
位置制御系圧力21乗じた力A−PIを算出するA係数
器15と、第2のハウジング部4に常時印加されている
所定のパイアスカ112PS−Aとを、外乱補償する2
つの制御要素として減算する減算器17と、その偏差(
A’PL −172Ps−A)に、伝達特性G (S)
:(α/S)を乗じて、偏差Δχ−G(S)x(A・P
+  1/2Ps−A)を求める伝達関数演算器18と
を備えており、この偏差Δχに応じて、記述したm5式
及び第6式を満足するように、外乱補償制御用三方案内
弁12の開閉を調整するものである。
これにより、第5図(a)に示すとおり、外乱補償用圧
力P2は、変動外力Fdを打ち消すように働く。この場
合、位置制御用圧力P1が、AP、−Mχ −〇を満足
し、静止時の入力χ|、−〇のときの常時一定の圧力(
L/2Ps=70kgf/cシ)と実質的に同一なるこ
とから、慣性力の変動分Mχ”及び変動外力Fdの影響
を除くことができた。
同様に、第8図(a)、(b)に示すとおり、ピストン
1の移動に際して生じる負荷の摩擦力によるヒステリシ
スを、本実施例(a)と従来例(b)とを比較した場合
においても、本実施例の方が小さなヒステリシスを示す
ことが分かった。
−第2実施例− 次に、第1実施例で説明した外力変動補償制御部を、純
機械的な補償バルブを用いて実現した場合について説明
する。
第2図及び第3図に示すように、本実施例の純機械的な
補償バルブは、まず、両端部と中央部の直径が異なる往
復動可能に配されたスプール21と、スプール21の一
端側(図面左側)に配された第1のスプール室22と、
他端側(図面右側)に配された第2のスプール室23と
を外力変動補償用シリンダ20内に有し、第1及び第2
のスプール室22及び23内に満たされる油圧の差によ
り、スプール21が第1及び第2のスプール室22及び
23間を往復運動する。
第1のスプール室22側には、位置制御系圧力P1を与
えるための圧力媒体を第1のスプール室22内に導く位
置制御系圧力通路23が接続されている。スプール21
の一端、即ち、第1のスプール室22側には位置制御系
受圧面24が形成され、第1のスプール室22内を臨ん
でいる。これにより、位置制御系圧力P、に位置制御系
受圧面部24の受圧面積Asを乗算した値の第1のスプ
ール印加力P1 ・Asが、スプール21の一端を他端
側に付勢する。なお、位置制御系圧力P、に加えられる
圧力媒体は、少なくとも、所定のバイアス圧力172P
sを有している。
第2のスプール室23は、スプール21の他端側に形成
された積分用受圧面部25により、一端側の第1の分室
26及び他端側の第2の分室27とに区分されている。
ここで、第1及び第2の分室26及び27は、後述する
ように実質的に積分動作を行うのに役立つことから、所
謂積分室とも呼ばれる。積分用受圧面部25のうちの第
1の分室26側の受圧面積はAb’ 、第2の分室27
側はAbである。第1及び第2の分室(26)及び(2
7)の各々には、圧力ポンプ28から供給される圧力媒
体Psを導く第1及び第2の供給通路29及び30が接
続されると共に、第1及び第2の分室26及び27内の
各々の圧力媒体を外部タンク31に導く第1及び第2の
排出通路32及び33が接続されている。また、第1及
び第2の供給通路(29)及び(30)のに各々には、
第1及び第2の供給用オリフィス34及び35が設けら
れ、第1及び第2の排出通路32及び33の各々には、
第1及び第2の排出用オリフィス36及び37が設けら
れている。
これら、オリフィス34〜37は圧力媒体の圧力を積分
する積分要素として働き、第1の供給用オリフィス34
と第1の排出用オリフィス36とが、協働して、伝達関
数G (s)を満足する粘性抵抗を発生するような第1
の分圧力値Pb′を有する圧力媒体を第1の分室26に
導くように調整されている。これにより、積分用受圧面
部25のうちの第1の分室26を臨む受圧面[Ab’ 
に第1の分圧力値Pb′を乗算した値の第2のスプール
印加力Ab’  ・Pb′を、スプール21に印加し、
スプール21を他端側に付勢する。
一方、第2の供給用オリフィス35と第2の排出用オリ
フィス37とが、協働して、圧力ポンプ28から供給さ
れる圧力媒体の圧力値Psを分圧し、少なくとも、所定
のバイアス圧力(1/2Ps)にピストン受圧面積Aを
乗算した値1/2 P s−Aを常時節2の分室27に
導くように調整される。
オリフィス35及び37の調整により、積分用受圧面部
25のうち第2の分室27内に置かれたスプール21が
一端側に付勢される。この場合、臨む受圧面積Abに第
2の分圧力値pb≧172Psを乗算した値の第3のス
プール印加力Ab−Pbがスプール21に印加される。
その結果、第2のスプール印加力Ab’Pb′と第3の
スプール印加力Ab −Pbとの和(F2−Ab−Pb
  Ab’  ・Pb’)と、第1のスプール印加力(
Fl−mIPI IIAs)との差(Fl−F2)によ
り、スプール(21)が移動する。
次に、外力変動補償用シリンダ20の中央部には、位置
制御系受圧面部24と積分用受圧面部25により第1及
び第2のスプール室22及び23から仕切られた第3の
スプール室41が形成されている。第3のスプール室4
1の中央部には、開口面部42が穿設されている。第2
のハウジング室4と連通ずる外力変動補償通路3つが開
口面部42を介して第3のスプール室41に接続されて
いる。仕切り部43が第3のスプール室41に穿設され
た開口面部42に対応して、スプール21の中央部に設
けられ、かつ、第3のスプール室41内を、第1のスプ
ール室側と第2のスプール室側に区分している。第3の
スプール室41のうち、第2のスプール室側は圧力ポン
プ38(なお、第3図においては、圧力ポンプ28と共
同して使用されている)から供給される圧力媒体が導か
れており、一方、第1のスプール室側は外部タンク31
に連通している。これにより、スプール21の移動に応
答して、仕切り部43が開口面部42を実質的に開閉す
る方向に移動し、スプール21が第1のスプール室側に
移動した場合は、圧力ポンプ38から供給される圧力媒
体が、外力変動補償通路39を通って、第2のハウジン
グ室4に導かれ、スプール21が第2のスプール室側に
移動した場合は、第2のハウジング室4からの圧力媒体
が、外力変動補償通路39を通って、外部タンク31に
排出される。すなわち、スプール21の移動量と移動方
向により、第2のハウジング室4の圧力を調整すること
になる。
ここで、第3図に示すχの矢印方向を正方向(図面の右
側方向)とすれば、外力Fdが正方向に働いた場合、ピ
ストン1は、これにつり合おうとして、第1のハウジン
グ室3の圧力PIが下がり、第2のハウジング室4の圧
力P2は上がる。
圧力P1が下がることにより、第1のスプール室22の
圧力も下がり、スプール21は、負方向(図面の左側方
向)に移動する。このため、仕切り部43も負方向に移
動して、開口面部42が圧力ポンプ38から供給される
圧力媒体に対して、より広く開口することになり、第2
のハウジング室4の圧力P2を上げる。このスプール2
1の動きは、第1のハウジング室3の圧力が、1/2・
Psとなるまで続く。
逆に、外力Fdが負方向に働いた場合、第1のハウジン
グ室3の圧力P1が上り、第2のハウジング室4の圧力
P2は下がる。これにより、スプール21は正方向(図
面の右側方向)に動き、開口面部42が外部タンク31
に対して、より広く開口することになり、第2のハウジ
ング室4の圧力媒体が外部タンク31に排出され、第2
のハウジング室4の圧力P2を下げる。スプール21の
動きは、第2のハウジング室4の圧力が、1/2ψPs
となるまで続く。
従って、外力Fdに対向する力は、実質的に、第1の実
施例と同様に、P2のみの圧力変化で補償することがで
きる。
[発明の効果コ 以上の説明から分るとおり、本発明によれば、ピストン
に働く外乱を補償し、位置制御を線形系とすることがで
きるから、ピストンの位置を慣性移動させて、制御する
ことが可能とな曳、その結果、定常位置偏差Iχ+el
−χ|を減少させることができ、停止精度を向上させ、
またヒステリシスをも減少させたシリンダアクチュエー
タが得られる。更に、メカニカルな外力変動補償制御を
行うことができるから、簡素化した構成で、信頼性を向
上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係わる第1の実施例のブロック図、第
2図は本発明に関わる第2の実施例の概念図、第3図は
第2の実施例を具体的に純機械的な補償バルブに適応し
た場合の断面図、第4図は従来のシリンダアクチュエー
タのブロック図、第5図(a)は本発明の実施例による
変動外力Fdに応じた流体圧力P1及びP2と定常位置
偏差χ|.l−χ|との変化を示す相関図、第5図(b
)は従来のシステムによる位置制御系のみを用いた場合
の変動外力と定常位置偏差Iχ2.l−χ|との変化を
示す相関図、第6図(a)は本発明の第1の実施例の場
合の追従精度を示す相関図、第6図(b)は従来におけ
る場合の追従精度を示す相関図、第7図(a)は第6図
(a)の丸部の拡大図、第7図(b)は第6図(b)の
丸部の拡大図、第8図(a)は本発明の第1の実施例に
おける目標値χ|..と実n1値χとのヒステリシスを
示す図、第8図(b)は従来の目標値χtarと実測値
χとのヒステリシスを示す図である。 1・・・ピストン、2・・・シリンダ、3.4・・・第
1及び第2のハウジング部、5,6・・・第1及び第2
のポンプ部、7・・・位置制御用四方案内弁、8・・・
連接棒、9・・・位置検出器、10・・・減算器、12
・・・外乱補償制御用三方案内弁、13・・・加速度検
出器、15・・・A係数器、17・・・減算器、18・
・・伝達関数演算器、20・・・箱体1121・・・ス
プール、22,23・・・第1及び第2のスプール室、
24・・・位置制御系受圧面部、25・・・積分用受圧
面部、26.27・・・第1及び第2の分室、28.3
8・・・圧力ポンプ、29.30・・・第1及び第2の
供給積分通路、31・・・外部タンク、32.33・・
・第1及び第2の排出通路、34.35・・・第1及び
第2の供給流体抵抗部、36.37・・・排出流体抵抗
部、39・・・外力変動補償通路、40・・・外力変動
補償弁部、41・・・第3のスプール室、42・・・開
口面部、43・・・仕切り部。 第1図 位置制御系 第2図 、116 第3図 第4図 第6図 第5図 (b) 第7図 (α) (b) 第8図 手続補正帯(自発) χref (cm) 昭和63年12月15日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ピストン(1)を往復動可能に収納したシリンダ本
    体(2)と、 シリンダ本体(2)内にピストン(1)を介して区分さ
    れ、所定のバイアス圧力(1/2Ps)を常時印加され
    て成る第1及び第2のハウジング部(3)及び(4)と
    、ピストン位置目標値(χ_r_e_f)とピストン位
    置実測値(χ)とを比較して第1の偏差(χ_r_e_
    f−χ)を求め、該第1の偏差(χ_r_e_f−χ)
    に基づいて、当該ピストン位置目標値(χ_r_e_f
    )にピストン(1)を移動させるように、第1のハウジ
    ング部(3)に供給される圧力媒体の圧力を位置制御系
    圧力(P_1)として制御する位置制御部とを有するシ
    リンダアクチュエータにおいて、 位置制御系圧力(P_1)にピストン受圧面積(A)を
    乗算した値(P_1・A)と、所定のバイアス圧力(1
    /2Ps)にピストン受圧面積(A)を乗算した値(1
    /2Ps・A)とを比較して、第2の偏差(P_1・A
    −1/2Ps・A)を求め、更に、該第2の偏差(P_
    1・A−1/2Ps・A)に予め定められた伝達関数G
    (s)を乗算し、得られた第3の偏差{G(s)×(P
    _1・A−1/2Ps・A)}に基づいて、ピストン(
    1)に働く慣性力Mχ″及び外力の変動Fdを打消すよ
    うに、第2のハウジング部(4)に供給される圧力媒体
    の圧力を外乱変動補償制御系圧力(P2)として制御す
    る外力変動補償制御部を設け、ピストン(1)を慣性移
    動させて、位置制御系におけるピストン(1)の定常位
    置偏差(|χ_r_e_f−χ|)を低減させたことを
    特徴とするシリンダアクチュエータ。 2、第1請求項記載のシリンダアクチュエータにおいて
    、前記外力変動補償制御部は、 両端部と中央部の直径が異なるスプール(21)と、該
    スプール(21)を往復動自在に収納する箱体(20)
    と、該箱体(20)内をスプール(21)により区分さ
    れた第1及び第2のスプール室(22)及び(23)と
    、前記位置制御系圧力(P1)を有する圧力媒体を第1
    のスプール室(22)内に導く位置制御系圧力通路(2
    3)と、スプール(21)の一端側に設けられ、第1の
    スプール室(22)内を臨む位置制御系受圧面(24)
    とを有し、前記位置制御系圧力(P_1)に位置制御系
    受圧面部(24)の受圧面積(As)を乗算した値の第
    1のスプール印加圧力(P_1・As)をスプール(2
    1)の一端に印加し、 また、スプール(21)の他端側に形成された積分用受
    圧面部(25)と、第2のスプール室(23)内を積分
    用受圧面部(25)により区分されて成る一端側の第1
    の積分室(26)及び他端側の第2の積分室(27)と
    、外部に設けられた第1の圧力ポンプ(28)から供給
    される圧力媒体を第1及び第2の積分室(26)及び(
    27)の各々に導く第1及び第2の供給積分通路(29
    )及び(30)と、第1及び第2の積分室(26)及び
    (27)内の各々の圧力媒体を外部に設けられたタンク
    (31)に導く第1及び第2の排出積分通路(32)及
    び(33)と、第1及び第2の供給積分通路(29)及
    び(30)に各々設けられた第1及び第2の供給流体抵
    抗部(34)及び(35)と、第1及び第2の排出積分
    通路(32)及び(33)に各々設けられた第1及び第
    2の排出流体抵抗部(36)及び(37)とを有し、第
    1の供給流体抵抗部(34)及び第1の排出流体抵抗部
    (36)により、前記予め定められた伝達関数G(s)
    を満足する粘性抵抗を発生するような値に調整された第
    1の積分圧力値(Pb′)を有する圧力媒体を、第1の
    積分室(26)に導き、積分用受圧面部(25)のうち
    の第1の積分室(26)を臨む受圧面積(Ab′)に該
    第1の積分圧力値(Pb′)を乗算した値の第2のスプ
    ール印加圧力(Ab′・Pb′)を、スプール(21)
    の他端に印加し、第2の供給流体抵抗部(35)及び第
    2の排出流体抵抗部(37)により、少なくとも、前記
    所定のバイアス圧力(1/2Ps)にピストン受圧面積
    (A)を乗算した値(1/2Ps・A)を含むように調
    整された第2の積分圧力値(Pb)を有する圧力媒体を
    、第2の積分室(27)に導き、積分用受圧面部(25
    )のうちの第2の積分室(27)を臨む受圧面積(Ab
    )に第2の積分圧力値(Pb)を乗算した値の第3のス
    プール印加圧力(Ab・Pb)を、スプール(21)の
    他端に印加して、第1のスプール印加圧力(P_1・A
    s)と第2のスプール印加圧力(Ab・Pb′)及び第
    3のスプール印加圧力(Ab・Pb)の差をもって、ス
    プール(21)を移動させ、 さらに、外部に設けられた第2の圧力ポンプ(38)か
    ら供給される圧力媒体を、前記第2のハウジング室(4
    )に導く外力変動補償通路(39)と、該外力変動補償
    通路(39)に配されて、スプール(21)の移動に応
    答して開閉し、ピストン(1)に働く慣性力Mχ″及び
    外力の変動Fdを打消すように、第2のハウジング部(
    4)に供給される圧力媒体の圧力を外乱変動補償制御系
    圧力(P2)として調整する外力変動補償弁部(40)
    とを有し、 これにより、ピストン(1)を慣性移動させて、位置制
    御系におけるピストン(1)の定常位置偏差(|χ_r
    _e_f−χ|)を低減させたことを特徴とするシリン
    ダアクチュエータ。
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