JPH02118070A - 連続ｐｖｄ設備における予備加熱装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、鋼板などの長尺物を搬送させながら真空中
にて金属や金属化合物をコーティングする連続ＰＶＤ　
　（Ｐｈｙｓｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉ
ｏｎ　）設備における予備加熱装置に関するものである
。

（従来の技術） 連続ＰＶＤにおいては、金属や金属化合物のコーティン
グ前に被処理材を２００〜５００°Ｃに予熱する口上に
よって、被膜密着性の向上を図っている。

かような予熱方法としては、輻射加熱、直接通電加熱、
誘導加熱および電子ビーム加熱などがあげられるが、中
でも電子ビーム加熱方式は、真空中での熱効率が高く、
また制御性、応答性に優れているだけでなく、板幅方向
の均熱が得やすく、しかも被処理材の板幅、板厚および
搬送速度の変更に対してもスムーズに対応できることか
ら、ＰＶＤ処理における予備加熱方法として多用されて
いる。

しかしながらこの電子ビーム加熱は、１０−５Ｔｏｒｒ
という高真空下での処理であるため、被処理材表面に水
や油のような低融点物質等の汚染物が付着していると、
電子ビームを照射した際に、これらの汚染物がガスとし
て放出したり、また電子線の衝突によって飛散するため
、異常放電をおこして電子ビーム銃を破損する場合がし
ばしば見受けられた。また破を員には至らなくても、こ
れらの汚染物が電子ビームの絶縁物に付着して絶縁不良
をおこし、電子ビーム銃の作動に支障をきたしていた。

上記の問題の解決策として、特開昭６３〜１２５６７７
号公報では、電子ビーム銃の軸を傾斜させ、電子ビーム
の軌道については磁場を用いて偏向させることによって
鋼板に垂直に入射させる方法が開示されている。

また電子ビーム銃と予熱室とを差動排気構造として電子
ビーム銃の周囲を予熱室よりも高真空とすることにより
、予熱室における５ｌＦｉ表面汚染物によるガス放出に
よる悪影響を抑える技術も考えられている。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら上記の技術はいずれも、汚染物による放出
ガスに対しては効果があるものの、電子ビームの衝突に
よる飛散物についてはほとんど実効がないところに問題
を残していた。

というのはかかる飛散物は帯電するため、磁場及び電場
の影響を受けて容易に電子ビーム銃まで達成するからで
ある。

この発明は、上記の問題を有利に解決するもので、被処
理材である長尺薄板の表面に付着した汚染物のガス放出
や飛散に起因する電子銃のトラブルを効果的に回避して
、連続ｐｖｏの安定操業を可能ならしめる予備加熱装置
を提案することを目的とする。

（課題を解決するための手段） さて発明者らは、上記の問題を解決すべく鋭意研究を重
ねた結果、 （１）被処理材の表面に付着した汚染物のうち低融点物
質に起因したガスの放出は１５０°Ｃ以下の温度で生じ
ること、 （２）従って被処理材を１５０°Ｃ以上の温度に加熱し
てやれば低融点物質の大部分は放出されることを見出し
、かかる知見に基いてこの発明を完成させるに至ったの
である。

すなわちこの発明は、長尺の薄帯に連続してＰｖＤ処理
を施す連続ｐｖｏ装置における長尺薄帯の予備加熱装置
であって、該薄帯の走行方向に向けて輻射式予熱装置と
電子ビーム予熱装置を順次に配設したことからなる連続
Ｐｖ口設備における予熱加熱装置である。

以下、この発明を具体的に説明する。

第１図に、この発明に従う予備加熱装置の好適例を模式
で示す。図中番号ｌは真空チャンバーであり、排気口２
を通じて真空排気系（−示省略）により１０−’Ｔｏｒ
ｒ程度まで排気される。３および４はそれぞれ被処理材
（長尺薄板）５を挟んでその上下に配置された輻射加熱
ヒータであり、これらの輻射加熱ヒータ３および４とサ
ポートロール６７．８とで輻射式予熱装置を構成する。

また９は電子ビーム銃であり、この電子ビーム銃９とサ
ポートロール１０．１１とで電子ビーム予熱装置を構成
する。

さて連続ＰＶＤ装置内に導入された被処理材５は、まず
輻射式予熱装置において１５０″Ｃ以上の温度に加熱さ
れることによって、その表面に付着していた水分や油分
などの低融点物質の大部分は放出される。なお上記予熱
処理においては、被処理材を単に１５０°Ｃ以上に加熱
すればよいので、加熱装置に制御性や応答性がとくに要
求されることはない。

ついで輻射式予熱処理によって１５０　’Ｃ以上に加熱
された被処理材５は、電子ビーム予熱装置に送られ、こ
こで２５０〜５００°Ｃの目標温度まで制御性ならびに
応答性良く、均一に加熱されるのである。

（作　用） ここに被処理材５の表面に付着していた低融点物質は輻
射式予熱処理によってその大部分が放出しており、また
放出ガスは、遮へい板１２の作用によって電子ビーム装
置内に侵入することもないので、かかる低融点物質に起
因した実操業上のトラブルは完全に解決されるのである
。

なお輻射加熱ヒーターには、抵抗加熱方式やラジアント
チューブ方式、赤外線加熱方式など種々の方式があるが
、熱効率や制御性の点からは赤外線加熱方式がとりわけ
有利に適合する。

（実施例） 実施例１ 前１８第１図に示した予熱装置を用いて、幅：　５００
髄、厚み：０．３ｓの５ＩＪＳ　３０４を予熱した。そ
のときの予熱条件は表１に示したとおりである。

なおこのとき用いた鋼板は、表２に示したような面処理
なしのもの、および２通りの前処理を施したものであり
、また各鋼板の表面洗浄度はＪＩＳＺ　０３０５に示さ
れる接触角法にて評価した。

実操業中における異常放電回数を表２に比較して示す。

同表より明らかなように、電子ビームのみの従来装置を
用いた場合はいずれも異常放電が多発したが、この発明
に従う装置を用いて輻射式および電子ビーム式予熱を併
用した場合には異常放電の発生は全くなかった。

実施例２ 同じく前掲第１図に示した予熱装置を用いて、Ａｆｆｉ
、ＣｕおよびＴｉ板につき、表３に示す条件下に予熱処
理を施した。

実操業中における異常放電の発生回数を表３に併記する
。

同表より明らかなように、いずれの薄板についても輻射
加熱ヒーターを作動させることにより、電子ビーム処理
中におけるトラブルは発生しなかった。これに対して輻
射加熱ヒーターを作動させずに電子ビーム銃のみを作動
させて所定の温度に昇温させた場合は、異常放電が多発
した。

（発明の効果） かくしてこの発明によれば、電子ビーム銃を利用した薄
鋼板の予熱処理中における異常放電の発生を効果的に防
止することができるので、長尺の被処理材を安定して制
御性および応答性良く適正に均熱することができ、かく
して次工程のコーティング処理において密着性の良い被
膜が有利に形成される。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明に従う好適予備加熱装置の模式図で
ある。 １・・・真空チャンバー ２・・・排気口 ３．４・・・輻射加熱ヒーター ５・・・被処理材 ６、　７．　　（３，１０，１１・・・サポートロール
９・・・電子ビーム銃 １２・・・遮へい板

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、長尺の薄帯に連続してＰＶＤ処理を施す連続ＰＶＤ
   装置における長尺薄帯の予備加熱装置であって、 該薄帯の走行方向に向けて輻射式予熱装置 と電子ビーム予熱装置を順次に配設したことを特徴とす
   る連続ＰＶＤ設備における予備加熱装置。