JPH02112890A - ダイヤモンドの切断方法 - Google Patents
ダイヤモンドの切断方法Info
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- JPH02112890A JPH02112890A JP63265780A JP26578088A JPH02112890A JP H02112890 A JPH02112890 A JP H02112890A JP 63265780 A JP63265780 A JP 63265780A JP 26578088 A JP26578088 A JP 26578088A JP H02112890 A JPH02112890 A JP H02112890A
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- 239000010432 diamond Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title abstract description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 39
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- -1 AI Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000010437 gem Substances 0.000 description 1
- 229910001751 gemstone Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000010979 ruby Substances 0.000 description 1
- 229910001750 ruby Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D1/00—Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor
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- B28D1/221—Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by cutting, e.g. incising by thermic methods
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
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- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/40—Removing material taking account of the properties of the material involved
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2101/00—Articles made by soldering, welding or cutting
- B23K2101/34—Coated articles, e.g. plated or painted; Surface treated articles
- B23K2101/35—Surface treated articles
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
- B23K2103/16—Composite materials, e.g. fibre reinforced
- B23K2103/166—Multilayered materials
- B23K2103/172—Multilayered materials wherein at least one of the layers is non-metallic
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
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- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本発明は、レーザーにより、ダイヤモンド薄板又はダイ
ヤモンド環等のダイヤモンドを切断または溝彫等の加工
方法に関するものである。
ヤモンド環等のダイヤモンドを切断または溝彫等の加工
方法に関するものである。
タイヤセントは現存するすべての物質の中で最も硬く耐
摩性の高い物質であるために、その加工は他の宝石や超
硬材料等により難しい。しかし、ある方向には脆く比較
的弱い面をもっている。
摩性の高い物質であるために、その加工は他の宝石や超
硬材料等により難しい。しかし、ある方向には脆く比較
的弱い面をもっている。
その性質を利用し、ダイヤモンド環を切断する際、へき
開面に沿ってダイヤモンドの原石を引割って所望の大き
さにするクリ−ピンク作業を行なう。
開面に沿ってダイヤモンドの原石を引割って所望の大き
さにするクリ−ピンク作業を行なう。
クリーピングのほかに薄いソーインクフレートにダイヤ
モンドパウダをつけて高速回転させたり、ワイヤーにダ
イヤモンドパウダをつけて切断したり(ワイヤーカット
)するソーインク作業によって切断する。
モンドパウダをつけて高速回転させたり、ワイヤーにダ
イヤモンドパウダをつけて切断したり(ワイヤーカット
)するソーインク作業によって切断する。
更に、ダイヤモンド薄板の場合、硬くて、脆いため加工
か困難で不可能に近い。一番可脂性のあるクリープフィ
ート研削切断でも最低の切り込み量で作業せざるを得す
非常に時間かかかるのか常である。
か困難で不可能に近い。一番可脂性のあるクリープフィ
ート研削切断でも最低の切り込み量で作業せざるを得す
非常に時間かかかるのか常である。
(発明が解決しようとする課題)
ダイヤモンド環のクリーピング作業をする場合には高度
の経験が必要で、切断したい場所と切断てきる場所が異
なったり、切断てさる場所に対する信頼性に欠ける場合
もある。ソーイングブレートまたはワイヤによるソーイ
ンク作業にはダイヤモンドか硬くて、脆いため、信頼性
に欠は易く、作業に非常に時間が掛かるのか欠点である
。ダイヤモンド薄板の場合、クリーピング作業による切
断はできず、クリープフィート研削切断をするか、非常
に時間が掛かるし、作業として信頼性に欠ける問題があ
る。
の経験が必要で、切断したい場所と切断てきる場所が異
なったり、切断てさる場所に対する信頼性に欠ける場合
もある。ソーイングブレートまたはワイヤによるソーイ
ンク作業にはダイヤモンドか硬くて、脆いため、信頼性
に欠は易く、作業に非常に時間が掛かるのか欠点である
。ダイヤモンド薄板の場合、クリーピング作業による切
断はできず、クリープフィート研削切断をするか、非常
に時間が掛かるし、作業として信頼性に欠ける問題があ
る。
また、塊にしろ、薄板にしろ、上記の加工中に欠けや割
れが非常に発生しやすく、正常に加工又は切断されるこ
とは少なく、されても欠けや割れによる損失が大きいの
か常である。
れが非常に発生しやすく、正常に加工又は切断されるこ
とは少なく、されても欠けや割れによる損失が大きいの
か常である。
ダイヤモンド表面に金属膜又は金属層を設けないでレー
ザー加工の場合、ダイヤモンドの欠けや割れが特に大き
く実用に至っていないのが現状である。
ザー加工の場合、ダイヤモンドの欠けや割れが特に大き
く実用に至っていないのが現状である。
(課題を解決するための手段)
レーザーによるダイヤモンドの加工や切断作業をする場
合に、欠けや割れがなくまたダイヤモンドの変質層を少
なくする方法を検討した結果1本発明に至り、その発明
の要旨は、ダイヤモンド表面に金属膜又は金属層を設け
て、レーザーによる加工、切断する方法である。
合に、欠けや割れがなくまたダイヤモンドの変質層を少
なくする方法を検討した結果1本発明に至り、その発明
の要旨は、ダイヤモンド表面に金属膜又は金属層を設け
て、レーザーによる加工、切断する方法である。
金属膜又は金属層の金属は、総ての種類の金属でもよく
、合金でもよい。蒸着により金属層を設ける場合には、
Au、Cu、 Cr、 Si、 Ti、 AI等が好ま
しく、金属箔による場合には、Au、 Ag、 Sn、
AI、Cu、 Fe、 Cr等が好ましい。また、C
VD法による人造ダイヤモンドの場合Siウェハー上に
生長させるため、密着したSiウェハーとともにダイヤ
モンドをレーザーにより加工、切断すればよい。
、合金でもよい。蒸着により金属層を設ける場合には、
Au、Cu、 Cr、 Si、 Ti、 AI等が好ま
しく、金属箔による場合には、Au、 Ag、 Sn、
AI、Cu、 Fe、 Cr等が好ましい。また、C
VD法による人造ダイヤモンドの場合Siウェハー上に
生長させるため、密着したSiウェハーとともにダイヤ
モンドをレーザーにより加工、切断すればよい。
金属膜又は金属層の厚さは、30Å以上ならよく、ダイ
ヤモンド薄板の場合には100ス以上が好ましい。ただ
、レーザーで加工又は切断後、その金属膜又は金属層は
、普通には不要のためそれらを取除くので、余り厚く付
けても無駄である。
ヤモンド薄板の場合には100ス以上が好ましい。ただ
、レーザーで加工又は切断後、その金属膜又は金属層は
、普通には不要のためそれらを取除くので、余り厚く付
けても無駄である。
ダイヤモンド表面に金属膜又は金属層を設ける方法とし
ては、純金属又は合金を蒸着、イオンブレーティング、
スパッタ、CVD法によりダイヤモンド上又は表面に金
属層を設けてもよく、無電解メツキ法によって金属膜を
設けてもよく、また展性が良い金属は箔にしてダイヤモ
ンド上又は表面に被せて密着させてもよい。
ては、純金属又は合金を蒸着、イオンブレーティング、
スパッタ、CVD法によりダイヤモンド上又は表面に金
属層を設けてもよく、無電解メツキ法によって金属膜を
設けてもよく、また展性が良い金属は箔にしてダイヤモ
ンド上又は表面に被せて密着させてもよい。
更にダイヤモンドと金属膜又は金属層との密着性を向上
させるために異なる金属を積層的にダイヤモンド上に重
ねて設けてもよい。
させるために異なる金属を積層的にダイヤモンド上に重
ねて設けてもよい。
またタイヤセントの全表面又は両面に金属膜又は金属層
を設けてもよいし、片面にのみ設けても本発明の加工、
切断は可能である。
を設けてもよいし、片面にのみ設けても本発明の加工、
切断は可能である。
ダイヤモンドは天然のものは勿論のこと、高圧法やCV
D法等による人造ダイヤモンドにもよく、これらの塊状
物は薄板状物につき本発明による加工、切断をすること
かできる。特に薄板の場合には適している。
D法等による人造ダイヤモンドにもよく、これらの塊状
物は薄板状物につき本発明による加工、切断をすること
かできる。特に薄板の場合には適している。
レーザーによる加工、切断とは穿孔、溝などの作成の加
工や切断を行なうことをいい、レーザーにはルビー、Y
AG、ガラスなどの固体レーザーと、 C02、Arな
との気体レーザーが使うことができる。
工や切断を行なうことをいい、レーザーにはルビー、Y
AG、ガラスなどの固体レーザーと、 C02、Arな
との気体レーザーが使うことができる。
更に、レーザービームな当てて作業している際空気を吹
きつけて、加工、切断時に生成するガス状生成物を除去
しながら作業した方かよい。
きつけて、加工、切断時に生成するガス状生成物を除去
しながら作業した方かよい。
また、ダイヤモンドの片面にのみ金属膜又は金属層を設
けた場合、レーザービームの当てる側はどちらからでも
よいか、金属膜又は金属層の付いている側からレーザー
ビームな当てた方か好ましい。
けた場合、レーザービームの当てる側はどちらからでも
よいか、金属膜又は金属層の付いている側からレーザー
ビームな当てた方か好ましい。
両面又は片面に金属層を付けたダイヤモンド薄板を銀ロ
ウで密着するか機械的に圧着して積層状態で一度に切断
することも可能である。
ウで密着するか機械的に圧着して積層状態で一度に切断
することも可能である。
また、レーザービームの送り速度は−・般には2m/w
in以下である。
in以下である。
(作用)
金属膜又は金属層を設けないタイヤセントはレーザーに
よる加工、切断では欠けや割れが多く、特に薄板等は切
断か不可能であったか、ダイヤモンドに金属膜又は金属
層を設けると欠けや割れがなく、また、加工面の変質層
も極度に少なく、表面の平滑性も数段優れ、小さなヘア
クラックも認められない程、加工、切断が可能になるの
かその理由は、はっきりしたことは分からないが、熱放
散効果と光拡散効果とのためであると考えられる。
よる加工、切断では欠けや割れが多く、特に薄板等は切
断か不可能であったか、ダイヤモンドに金属膜又は金属
層を設けると欠けや割れがなく、また、加工面の変質層
も極度に少なく、表面の平滑性も数段優れ、小さなヘア
クラックも認められない程、加工、切断が可能になるの
かその理由は、はっきりしたことは分からないが、熱放
散効果と光拡散効果とのためであると考えられる。
すなわち、金属膜又は金属層を設けることによって、レ
ーザービームの照射によって生じる高いパワー密度の熱
エネルギーをダイヤモンドより一般的に低い熱伝導率を
もつ金属がダイヤモンドの割れを防ぐ程度に保持し、温
度差による歪を軽減させるとともに、レーザービームを
適当に反射、屈折および拡散することにより、熱応力を
軽減するためであると思われる。
ーザービームの照射によって生じる高いパワー密度の熱
エネルギーをダイヤモンドより一般的に低い熱伝導率を
もつ金属がダイヤモンドの割れを防ぐ程度に保持し、温
度差による歪を軽減させるとともに、レーザービームを
適当に反射、屈折および拡散することにより、熱応力を
軽減するためであると思われる。
(実施例)
以下、本発明を実施例により詳細に説明する。
実施例1
30s*角で厚さ:lOuLmのプラズマ法CVD製ダ
イヤモンド薄板を両面0.5JLm R重ax以下に研
磨後、密着性を良くするために両面にスパッタ法により
まずTiを厚さ500ス付けた後、更に真空蒸着法にて
両面にCuを0.2gm付けた。
イヤモンド薄板を両面0.5JLm R重ax以下に研
磨後、密着性を良くするために両面にスパッタ法により
まずTiを厚さ500ス付けた後、更に真空蒸着法にて
両面にCuを0.2gm付けた。
金属層を付けてない上記と同じて同寸法のCVD製ダイ
ヤモンド薄板を比較例1として比較して、以下のレーザ
ーによる切断を行った。
ヤモンド薄板を比較例1として比較して、以下のレーザ
ーによる切断を行った。
すなわち、それぞれ別個に2−−Hさの透明アクリル板
上に置き、粘着テープで固定した後、 CO□ガスレー
ザー(波長1O06ルl)にてビーム径0.34mm、
送り速度0.:1m / sin 、出力30.60お
よび90Wの条件で2種類のダイヤモンド薄板それぞれ
5枚ずつにつき切断作用を行った。
上に置き、粘着テープで固定した後、 CO□ガスレー
ザー(波長1O06ルl)にてビーム径0.34mm、
送り速度0.:1m / sin 、出力30.60お
よび90Wの条件で2種類のダイヤモンド薄板それぞれ
5枚ずつにつき切断作用を行った。
その結果、それぞれにつき再現性はよく、それを表・l
に示す。なおヘアクラックの観察は40倍にて行った。
に示す。なおヘアクラックの観察は40倍にて行った。
実施例2
30■角で厚さ30JL■のプラズマ法CVD製ダイヤ
モンド薄板を片面o、sJL■Rmax以下に研磨後、
その片面にスパッタ法によりまずTiを厚さ 500ス
付けた後、更に真空蒸着法にてその片面にCuを0.2
gm付けた。
モンド薄板を片面o、sJL■Rmax以下に研磨後、
その片面にスパッタ法によりまずTiを厚さ 500ス
付けた後、更に真空蒸着法にてその片面にCuを0.2
gm付けた。
この薄板を5枚実施例1と同様な条件でレーザーにて切
断を行った。ただ、この場合、レーザービームは金属層
の付いている側から当てた。
断を行った。ただ、この場合、レーザービームは金属層
の付いている側から当てた。
その結果、それぞれにつき再現性はよく、それを表・l
に示す。
に示す。
両面に金属層を付けた方かレーザー出力か小さくても良
好に切断することがわかる。
好に切断することがわかる。
表 1
実施例3
実施例1で示した条件て切断した場合、実施例1および
2、比較例1について切断できた出力でのダイヤモンド
の切った面の両側のクラファイト変質層の厚さは次の様
であった。
2、比較例1について切断できた出力でのダイヤモンド
の切った面の両側のクラファイト変質層の厚さは次の様
であった。
更に実施例・lおよび2の切りしろは、レーザービーム
径0.34mmと同じで、切断面はほぼ平滑であったの
に対し、比較例・1の切りしろは0635〜0.75m
mて切断面は10〜15μmの凹凸かあった。
径0.34mmと同じで、切断面はほぼ平滑であったの
に対し、比較例・1の切りしろは0635〜0.75m
mて切断面は10〜15μmの凹凸かあった。
実施例4
実施例1で示した金属層を両面付けたダイヤモンド薄板
を積層する際、10gm厚さの非晶質銀ロウ箔をその間
にそれぞれ1枚ずつ挟んで10枚重ねた後、N2ガス雰
囲気の下で890℃で30分間熱処理し、非晶質銀ロウ
を溶かし10枚の薄板を生前積層した後、常温に戻した
後、出力1OOW以外は実施例1に示したレーザー切断
条件と同し条件で切断した。
を積層する際、10gm厚さの非晶質銀ロウ箔をその間
にそれぞれ1枚ずつ挟んで10枚重ねた後、N2ガス雰
囲気の下で890℃で30分間熱処理し、非晶質銀ロウ
を溶かし10枚の薄板を生前積層した後、常温に戻した
後、出力1OOW以外は実施例1に示したレーザー切断
条件と同し条件で切断した。
切断した後の結果は、実施例1の試料の出力90Wで切
断した場合と同様で、良好な結果を得た。
断した場合と同様で、良好な結果を得た。
(発明の効果)
従来、レーザーによりダイヤモンドを加工、切断するこ
とは不可俺であり、できても欠けや割れか非常に多く、
ロスか大きく、実用には供することは出来なかったが、
本発明により初めて可能となり、特にダイヤモンド薄板
での効果は著しく、加工、切断時、欠けや割れがなく、
また加工、切断された面の平滑性も優れ、その二次加工
も不要の状態である。
とは不可俺であり、できても欠けや割れか非常に多く、
ロスか大きく、実用には供することは出来なかったが、
本発明により初めて可能となり、特にダイヤモンド薄板
での効果は著しく、加工、切断時、欠けや割れがなく、
また加工、切断された面の平滑性も優れ、その二次加工
も不要の状態である。
Claims (1)
- ダイヤモンド表面に金属膜又は金属層を設けてレーザー
により加工、切断する方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63265780A JPH02112890A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | ダイヤモンドの切断方法 |
US07/424,447 US5012067A (en) | 1988-10-20 | 1989-10-20 | Diamond cutting method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63265780A JPH02112890A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | ダイヤモンドの切断方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02112890A true JPH02112890A (ja) | 1990-04-25 |
Family
ID=17421936
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63265780A Pending JPH02112890A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | ダイヤモンドの切断方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5012067A (ja) |
JP (1) | JPH02112890A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100338667B1 (ko) * | 2000-01-28 | 2002-05-30 | 박호군 | 레이저를 이용한 다이아몬드 막의 가공 방법 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0542656A1 (en) * | 1991-10-31 | 1993-05-19 | International Business Machines Corporation | Pattern propagation by blanket illumination of patterned thermal conductors and patterned thermal insulator on a thermal conductor |
JPH0640797A (ja) * | 1992-04-23 | 1994-02-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ダイヤモンドの加工方法 |
US5322987A (en) * | 1992-06-10 | 1994-06-21 | Iomega Corporation | Pneumatic hub locking device for etching optical servo tracks on magnetic disks |
US5584956A (en) * | 1992-12-09 | 1996-12-17 | University Of Iowa Research Foundation | Method for producing conductive or insulating feedthroughs in a substrate |
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US5753887A (en) * | 1995-05-16 | 1998-05-19 | Engraving Technologies, Inc. | Apparatus for laser engraving indicia on gemstones |
GB9514558D0 (en) | 1995-07-17 | 1995-09-13 | Gersan Ets | Marking diamond |
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US20070062917A1 (en) * | 2005-09-21 | 2007-03-22 | Quantronix Corporation | Laser cutting and sawing method and apparatus |
US20200164469A1 (en) * | 2017-05-15 | 2020-05-28 | The Trustees Of The University Of Pennsylvania | Systems and methods for laser cleaving diamonds |
CN114214552A (zh) * | 2021-12-02 | 2022-03-22 | 广东工业大学 | 一种金刚石制品及其制造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS58169940A (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-06 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
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1988
- 1988-10-20 JP JP63265780A patent/JPH02112890A/ja active Pending
-
1989
- 1989-10-20 US US07/424,447 patent/US5012067A/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
US5012067A (en) | 1991-04-30 |
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