JPH02103982A - 半導体発光装置 - Google Patents
半導体発光装置Info
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- JPH02103982A JPH02103982A JP15187988A JP15187988A JPH02103982A JP H02103982 A JPH02103982 A JP H02103982A JP 15187988 A JP15187988 A JP 15187988A JP 15187988 A JP15187988 A JP 15187988A JP H02103982 A JPH02103982 A JP H02103982A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 22
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract description 15
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 abstract description 11
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 6
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 3
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4006—Injection locking
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔目次〕
概要
産業上の利用分野
従来の技術
発明が解決しようとする課題
課題を解決するための手段
作用
実施例
本発明の一実施例
発明の効果
(第1図)
(第2〜6図)
〔概要〕
半導体発光装置に関し、
消光比の劣化なしにチャーピングを抑制して光通信の伝
送特性を向上させることのできる半導体発光装置を提供
することを目的とし、 所定の第1の波長で発振する分布帰還型の第1の単一モ
ードレーザと、第2の波長で発振する分布帰還型の第2
の単一モードレーザと、第1の単一モードレーザの出射
側に設けられ、第1の波長の光と第2の波長の光とを分
離する分離手段と、を備え、前記第1の単一モードレー
ザの活性層内に第2の単一モードレーザの光出力を注入
し、第1の単一モードレーザを電流パルスで変調するこ
とにより注入した前記光出力を変調するとともに、第1
の単一モードレーザの変調出力から注入した第2の単一
モードレーザの変調光を分離し、該第2の単一モードレ
ーザの変調光を信号光として取り出すように構成する。
送特性を向上させることのできる半導体発光装置を提供
することを目的とし、 所定の第1の波長で発振する分布帰還型の第1の単一モ
ードレーザと、第2の波長で発振する分布帰還型の第2
の単一モードレーザと、第1の単一モードレーザの出射
側に設けられ、第1の波長の光と第2の波長の光とを分
離する分離手段と、を備え、前記第1の単一モードレー
ザの活性層内に第2の単一モードレーザの光出力を注入
し、第1の単一モードレーザを電流パルスで変調するこ
とにより注入した前記光出力を変調するとともに、第1
の単一モードレーザの変調出力から注入した第2の単一
モードレーザの変調光を分離し、該第2の単一モードレ
ーザの変調光を信号光として取り出すように構成する。
本発明は、半導体発光装置に係り、詳しくは半導体レー
ザを電流パルスで変調した場合の緩和振動を抑えた半導
体発光装置に関する。
ザを電流パルスで変調した場合の緩和振動を抑えた半導
体発光装置に関する。
光通信システムにおいてはその光源として直接変調した
半導体レーザが用いられており、このような半導体レー
ザでは特に高速化と長距離伝送の性能の向上が要求され
る。また、半導体レーザを電流パルスで直接変調した場
合、通常、光パルスの立上がりにおいて緩和振動が観測
されるが、この緩和振動は半導体の活性層内のキャリア
密度の変動に起因する。かかる緩和振動はメインモード
のチャーピングを引き起こし伝送距離を制限するので、
抑制するのが望ましい。
半導体レーザが用いられており、このような半導体レー
ザでは特に高速化と長距離伝送の性能の向上が要求され
る。また、半導体レーザを電流パルスで直接変調した場
合、通常、光パルスの立上がりにおいて緩和振動が観測
されるが、この緩和振動は半導体の活性層内のキャリア
密度の変動に起因する。かかる緩和振動はメインモード
のチャーピングを引き起こし伝送距離を制限するので、
抑制するのが望ましい。
半導体レーザの利得は比較的広いスペクトル幅を持って
おり、横モード制御されていても、軸モードは完全に単
一になることはほとんどない。直流動作下で一見単一軸
モードにみえても、温度変化や、交流又は変調電流印加
下では多軸モード発振状態になる。そこで、共振器に波
長選択性をもたせたDFBレーザ(Distribut
ed Feedbackレーザ:分布帰還型レーザ)が
開発されている。このレーザでは、結晶内に作り付けた
回折格子により、利得スペクトル幅の範囲内で1つの波
長の光が選択的に反射されて単一軸モード(S L M
: SingleLongitudinal Mod
e)発振をする。
おり、横モード制御されていても、軸モードは完全に単
一になることはほとんどない。直流動作下で一見単一軸
モードにみえても、温度変化や、交流又は変調電流印加
下では多軸モード発振状態になる。そこで、共振器に波
長選択性をもたせたDFBレーザ(Distribut
ed Feedbackレーザ:分布帰還型レーザ)が
開発されている。このレーザでは、結晶内に作り付けた
回折格子により、利得スペクトル幅の範囲内で1つの波
長の光が選択的に反射されて単一軸モード(S L M
: SingleLongitudinal Mod
e)発振をする。
このようなりFB型レーザは高速変調時にも縦単一モー
ド発振であり、特に石英系光ファンバの低損失領域であ
る1、55μm帯光源として有望視されている。ここで
、DFB型レーザにおいても前述したような緩和振動を
抑える必要があり、緩和振動を抑える従来の技術として
は、例えばレーザに印加するバイアス電流を増加する方
法や、発振波長の同じ他のレーザの光を活性層内に注入
する方法がある。
ド発振であり、特に石英系光ファンバの低損失領域であ
る1、55μm帯光源として有望視されている。ここで
、DFB型レーザにおいても前述したような緩和振動を
抑える必要があり、緩和振動を抑える従来の技術として
は、例えばレーザに印加するバイアス電流を増加する方
法や、発振波長の同じ他のレーザの光を活性層内に注入
する方法がある。
しかしながら、このような従来の半導体発光装置にあっ
ては、緩和振動はある程度抑制できるものの、消光比が
悪くなるという問題点があった。
ては、緩和振動はある程度抑制できるものの、消光比が
悪くなるという問題点があった。
消光比とは、光出力がOFFのときのレベルとONのと
きのレベルの比であり、この消光比が悪いと伝送距離が
増加しない欠点がある。
きのレベルの比であり、この消光比が悪いと伝送距離が
増加しない欠点がある。
そこで本発明は、消光比の劣化なしにチャーピングを抑
制して光通信の伝送特性を向上させることのできる半導
体発光装置を提供することを目的としている。
制して光通信の伝送特性を向上させることのできる半導
体発光装置を提供することを目的としている。
第1図は本発明の原理説明図である。本発明による半導
体発光装置はλ□□(第1の波長)で発振する第1の単
一モードレーザ1と、λDFI! (第2の波長)で発
振する第2の単一モードレーザ2と、第1の単一モード
レーザ1の出射側に設けられ、λDFIIとλDFI!
とを分離する分離手段3と、からなり、λ。□1で発振
する第1の単一モードレーザ1の活性層内にλDF□の
第2の単一モードレーザ2の光を注入し、第1の単一モ
ードレーザ1を電流パルスで変調する。このとき、第2
の単一モードレーザ2の光は変調された後、分離手段3
により分離され、信号光として取り出される。
体発光装置はλ□□(第1の波長)で発振する第1の単
一モードレーザ1と、λDFI! (第2の波長)で発
振する第2の単一モードレーザ2と、第1の単一モード
レーザ1の出射側に設けられ、λDFIIとλDFI!
とを分離する分離手段3と、からなり、λ。□1で発振
する第1の単一モードレーザ1の活性層内にλDF□の
第2の単一モードレーザ2の光を注入し、第1の単一モ
ードレーザ1を電流パルスで変調する。このとき、第2
の単一モードレーザ2の光は変調された後、分離手段3
により分離され、信号光として取り出される。
本発明では、第1の単一モードレーザ1は第3図に示す
ようにパルスの立上がりで緩和振動のある光パルスを生
じ、波長は第6図に示すようにチャーピングし、このと
き同時に利得分布も変化する。そのため、注入した第2
の単一モードレーザ2の光は利得で増幅され、第5図の
ようになる。
ようにパルスの立上がりで緩和振動のある光パルスを生
じ、波長は第6図に示すようにチャーピングし、このと
き同時に利得分布も変化する。そのため、注入した第2
の単一モードレーザ2の光は利得で増幅され、第5図の
ようになる。
ここで、注入された第2の単一モードレーザ2の光は第
1の単一モードレーザ1の中で利得は受けるものの、屈
折率の変化による波長変化の影響は原理的に殆ど受けな
い。
1の単一モードレーザ1の中で利得は受けるものの、屈
折率の変化による波長変化の影響は原理的に殆ど受けな
い。
したがって、第6図に示すように第2の単一モードレー
ザ2の変調光はチャーピングしておらず、かつ消光比の
良好な光パルスとなる。
ザ2の変調光はチャーピングしておらず、かつ消光比の
良好な光パルスとなる。
以下、発明を図面に基づいて説明する。
第2〜6図は本発明に係る半導体発光装置の一実施例を
示す図である。まず、構成を説明する。
示す図である。まず、構成を説明する。
第2図は半導体発光装置のブロック図であり、この図に
おいて、10はλ/4シフトのDFBレーザ(第2の単
一モードレーザに相当)である。DFBレーザ10は、
その直流バイアス電流Tbがしきい値1th(スレショ
ールド値)に設定され、波長1.308μl11(第2
の波長:λIll□2)の光を発振する。
おいて、10はλ/4シフトのDFBレーザ(第2の単
一モードレーザに相当)である。DFBレーザ10は、
その直流バイアス電流Tbがしきい値1th(スレショ
ールド値)に設定され、波長1.308μl11(第2
の波長:λIll□2)の光を発振する。
レーザダイオードの場合、順方向に電流を流していくと
、しきい値電流以上になるとレーザ発振が起こり、コヒ
ーレントな光出力が急激に増加し始めるが、この点がし
きい値である。
、しきい値電流以上になるとレーザ発振が起こり、コヒ
ーレントな光出力が急激に増加し始めるが、この点がし
きい値である。
DFBレーザ10の光はセルフォックスレンズ11を介
してλ/4シフトのDFBレーザ(第1の単一モードレ
ーザに相当)12の活性層内に入力されている。セルフ
ォックスレンズ11はDFBレーザ10の光を、例えば
数μm程度に絞ってDFBレーザ12の狭い活性層内に
注入するもので、例えば単一の光学レンズでもよく、あ
るいは複数の光学レンズを組合わせたものでもよい。D
FBレーザ12は、その直流バイアス電流I、がしきい
値Iいの0.8倍にバイアスされHb =0.810)
、波長1.31μm(第1の波長:λDFI11)の光
を発振する。
してλ/4シフトのDFBレーザ(第1の単一モードレ
ーザに相当)12の活性層内に入力されている。セルフ
ォックスレンズ11はDFBレーザ10の光を、例えば
数μm程度に絞ってDFBレーザ12の狭い活性層内に
注入するもので、例えば単一の光学レンズでもよく、あ
るいは複数の光学レンズを組合わせたものでもよい。D
FBレーザ12は、その直流バイアス電流I、がしきい
値Iいの0.8倍にバイアスされHb =0.810)
、波長1.31μm(第1の波長:λDFI11)の光
を発振する。
このとき、外部から1.28Gb/sの伝送速度の伝送
情報で変調され、かつ振幅40mA(ビークルピーク値
: I P−P =40mA)の変調電流(電流パルス
)が供給される。DFBレーザ12とDFBレーザ10
の光出力は高屈折率のレンズ(分離手段に相当)13に
出力される。レンズ13にはλOF□(1,31μm)
と、λ□。(1,308μm)の2つの変調光が入射さ
れており、レンズ13はこれらのうちλ□■の変調光の
みを分離し、信号光として光通信用の光ファイバ14に
出力する。
情報で変調され、かつ振幅40mA(ビークルピーク値
: I P−P =40mA)の変調電流(電流パルス
)が供給される。DFBレーザ12とDFBレーザ10
の光出力は高屈折率のレンズ(分離手段に相当)13に
出力される。レンズ13にはλOF□(1,31μm)
と、λ□。(1,308μm)の2つの変調光が入射さ
れており、レンズ13はこれらのうちλ□■の変調光の
みを分離し、信号光として光通信用の光ファイバ14に
出力する。
以上の構成において、DFBレーザ12の発振出力は従
来と同様に第3図に示すような波形となり、パルスの立
上がりで緩和振動のある光パルスとなる。また、波長も
キャリアの変動のため、第6図に示すようにチャーピン
グする。一方、このときDFBレーザ12の利得分布は
第4図に示すように変化しており、波長λnvmtに対
する利得分布(a)〜(C)の利得の値はそれぞれga
、gb、geとなる。したがって、DFBレーザ12に
注入されたDFBレーザ10の光は上述の利得分布の影
響を受けて増幅され、第5図に示すような波形に変調さ
れる。この場合、DFBレーザ10の変調光はその強度
は第5図のように緩和振動が現れているものの、波長に
着目すると、第6図に示すように波長にはチャーピング
が殆ど生じていない。これは、DFBレーザ12の活性
層内に注入されたDFBレーザ10の光は活性層の中で
利得は受けるが、屈折率の変化による波長変化の影響は
殆ど受けないからである。したがって、チャーピングの
発生が有効に抑制されることになる。
来と同様に第3図に示すような波形となり、パルスの立
上がりで緩和振動のある光パルスとなる。また、波長も
キャリアの変動のため、第6図に示すようにチャーピン
グする。一方、このときDFBレーザ12の利得分布は
第4図に示すように変化しており、波長λnvmtに対
する利得分布(a)〜(C)の利得の値はそれぞれga
、gb、geとなる。したがって、DFBレーザ12に
注入されたDFBレーザ10の光は上述の利得分布の影
響を受けて増幅され、第5図に示すような波形に変調さ
れる。この場合、DFBレーザ10の変調光はその強度
は第5図のように緩和振動が現れているものの、波長に
着目すると、第6図に示すように波長にはチャーピング
が殆ど生じていない。これは、DFBレーザ12の活性
層内に注入されたDFBレーザ10の光は活性層の中で
利得は受けるが、屈折率の変化による波長変化の影響は
殆ど受けないからである。したがって、チャーピングの
発生が有効に抑制されることになる。
また、本実施例ではDFBレーザ12のバイアスがしき
い値よりも低く設定されているので、OFFのときの光
レベルが低く、消光比が良好なものとなる。そして、こ
のようにチャーピングが生ぜず、かつ消光比の良好なり
FBレーザ10の変調光はレンズ13により分離されて
信号光として光ファイバ14に送られ、光通信が行われ
る。
い値よりも低く設定されているので、OFFのときの光
レベルが低く、消光比が良好なものとなる。そして、こ
のようにチャーピングが生ぜず、かつ消光比の良好なり
FBレーザ10の変調光はレンズ13により分離されて
信号光として光ファイバ14に送られ、光通信が行われ
る。
本発明によれば、チャーピングがなく、かつ消光圧の良
好な光パルスを得ることができ、光通信システムの伝送
特性の向上、特に長距離大容量化に大きく寄与すること
ができる。
好な光パルスを得ることができ、光通信システムの伝送
特性の向上、特に長距離大容量化に大きく寄与すること
ができる。
第1図は本発明の原理説明図、
第2〜6図は本発明に係る半導体発光装置の一実施例を
示す図であり、 第2図はそのブロック図、 第3図はそのDFBレーザ12の光強度を示す図、第4
図はそのDFBレーザ12の利得分布を示す図、 第5図はそのDFBレーザ10の光出力の増幅の様子を
示す図、 第6図はその波長の変化を示す図である。 10・・・・・・DFBレーザ(第2の単一モードレー
ザ)11・・・・・・セルフォックスレンズ、12・・
・・・・DFBレーザ(第1の単一モードレーザ)13
・・・・・・レンズ(分離手段)、14・・・・・・光
ファイバ。 入ρFBz 入R7 第 図 Ib=0.81泊 13 : し2人′(りむ厨【手J更)−!7ヒrケム
つ9FBレーv7zのL洲シ耐Z示7図第3図 辰炙
示す図であり、 第2図はそのブロック図、 第3図はそのDFBレーザ12の光強度を示す図、第4
図はそのDFBレーザ12の利得分布を示す図、 第5図はそのDFBレーザ10の光出力の増幅の様子を
示す図、 第6図はその波長の変化を示す図である。 10・・・・・・DFBレーザ(第2の単一モードレー
ザ)11・・・・・・セルフォックスレンズ、12・・
・・・・DFBレーザ(第1の単一モードレーザ)13
・・・・・・レンズ(分離手段)、14・・・・・・光
ファイバ。 入ρFBz 入R7 第 図 Ib=0.81泊 13 : し2人′(りむ厨【手J更)−!7ヒrケム
つ9FBレーv7zのL洲シ耐Z示7図第3図 辰炙
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 第1の波長で発振する分布帰還型の第1の単一モードレ
ーザと、 第2の波長で発振する分布帰還型の第2の単一モードレ
ーザと、 第1の単一モードレーザの出射側に設けられ、第1の波
長の光と第2の波長の光とを分離する分離手段とを備え
、 前記第1の単一モードレーザの活性層内に第2の単一モ
ードレーザの光出力を注入し、 第1の単一モードレーザを電流パルスで変調することに
より注入した前記光出力を変調するとともに、 第1の単一モードレーザの変調出力から注入した第2の
単一モードレーザの変調光を分離し、該第2の単一モー
ドレーザの変調光を信号光として取り出すことを特徴と
する半導体発光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15187988A JPH02103982A (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | 半導体発光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15187988A JPH02103982A (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | 半導体発光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02103982A true JPH02103982A (ja) | 1990-04-17 |
Family
ID=15528203
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15187988A Pending JPH02103982A (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | 半導体発光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02103982A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5220572A (en) * | 1991-05-27 | 1993-06-15 | Pioneer Electronic Corporation | Light pulse generator |
WO2009154085A1 (ja) * | 2008-06-18 | 2009-12-23 | 株式会社ニコン | 種光発生装置、光源装置及びその調整方法、光照射装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
-
1988
- 1988-06-20 JP JP15187988A patent/JPH02103982A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5220572A (en) * | 1991-05-27 | 1993-06-15 | Pioneer Electronic Corporation | Light pulse generator |
WO2009154085A1 (ja) * | 2008-06-18 | 2009-12-23 | 株式会社ニコン | 種光発生装置、光源装置及びその調整方法、光照射装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2010003771A (ja) * | 2008-06-18 | 2010-01-07 | Nikon Corp | 種光発生装置、光源装置及びその調整方法、光照射装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
US8792083B2 (en) | 2008-06-18 | 2014-07-29 | Nikon Corporation | Seed light generation device, light source device, adjustment method thereof, light irradiation device, exposure device, and device manufacturing method |
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