JPH02103726A - 垂直磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置に用いて好適な垂
直磁気ディスクの製造方法に関し、高透磁率な軟磁性層
の材質が垂直記録層や保護膜の材質よりも柔らかくても
、記録再生時における磁気ヘッドの不測の衝突（衝撃）
等に対する垂直記録層の耐久性を向上することを目的と
し、非磁性のディスク基板上に、高透磁率な軟磁性層及
び垂直記録層をこの順に積層形成した垂直磁気ディスク
の製造において、前記ディスク基板上にめっきによる下
地膜を形成し、該下地膜上に前記軟磁性層よりも硬質な
絶縁性の多数の柱状突起をそれぞれ所定間隔をもって形
成し、この柱状突起群を持つめっき下地膜上に該柱状突
起の先端が突出する膜厚の高透磁率な軟磁性層を電解め
っきにより形成した後、前記多数の柱状突起の先端が突
出した高透磁率な軟磁性層上に垂直記録層を形成する構
成とする。

〔産業上の利用分野〕

本発明は垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置に用いて
好適な垂直磁気ディスクの製造方法に係り、特に耐久性
の良い二層膜構造の垂直磁気ディスクの製造方法に関す
るものである。

近年、コンピューターシステムにおける高速化、大容量
化に伴い、その外部記憶装置として用いられている磁気
ディスク装置に対しても高速化と共に、益々高密度記録
化、大容量化が要求されている。

従って、磁気ディスクにおいても一般的に用いられてい
る塗布型の磁気ディスクに比べて、高密度記録化に有利
な磁性層をスパッタリング法やめっき法により形成する
薄膜磁気ディスクが注目され、更に近年では記録密度を
より向−ヒさせるために、薄膜磁性層の記録面に垂直に
磁化記録を行う一層膜構造の垂直磁気ディスクが提案さ
れ、実用化が進められている。

このような垂直磁気ディスクにおいては、高密度記録に
伴って情報を記録再生する磁気ヘッドとの間隙も益々微
小化し、記録再生時の磁気ヘッドがディスク面に接触、
または衝突し、該ディスク面を損傷させるクラッシュ障
害が発生し易くなる。

このため、前記磁気ディスクの垂直記録層の表面に保護
膜及び潤滑膜を設けてクラッシュ障害を防止した構造が
提案されているが、更に安定した耐久性の向上が必要と
されている。

〔従来の技術〕

従来の二層膜構造の垂直磁気ディスクは、第２図に示す
ようにアルマイト表面処理を施したアルミニウム板から
なる非磁性のディスク基板１上に、例えば３μｍ程度の
膜厚の旧−Ｆｅ等からなる高透磁率な軟磁性層（軟磁性
裏打ち層とも呼ぶ）２と０．１５μｍの膜厚のＣｏ−Ｃ
ｒからなる垂直記録層３とを連続スパッタリング法によ
り順に積層形成し、その表面に磁気ヘッドの衝突障害を
防止する比較的硬質な＋１４２・２０．、５ｉＯｚ等か
らなる保護膜４と、磁気ヘッドに対する摩擦、摩耗を低
減する、例えばパーフロロポリエーテル等からなる潤滑
膜５を施して耐久性を向上させている。また、その耐久
性を更に改善するためにディスク基板としても前記アル
マイト表面処理を施したアルミニウム基板の代わりに、
強化ガラス基板、或いはセラミック基板等の硬質基板の
適用も試みられている。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで上記したような二層膜構造の垂直磁気ディスク
においては、記録再生時の磁気ヘッドに対する磁束のリ
ターンパスとなり、かつ良好な記録再生効率を得るため
に厚く形成されているＮｉＦｅ等からなる高透磁率な軟
磁性層２の材質が、Ｃ。

Ｃｒからなる垂直記録層３や＾ｉ−ｗｃｈ等からなる保
護膜４と比べて比較的柔らかいため、ディスク基板１に
強化ガラス基板、或いはセラミック基板等の硬質基板を
適用し、垂直記録層３上の保護膜４に硬質なＡｆｚ０３
膜を用いても、記録再生時における磁気ヘッドの不測の
衝突（衝撃）等に対する垂直記録層３の損傷は避けられ
ず、耐久性を向上させることが困難であるという欠点が
あった。

またスパッタリング法により形成された垂直磁気ディス
クの表面は平滑な面となり、その表面に潤滑膜５を施し
ていることから、ＣＳ　Ｓ　（ＣｏｎｔａｃｔＳｔａｒ
ｔ　５ｔｏｐ）動作方式において、前記磁気ディスク面
上に停止した状態の磁気ヘッドが吸着し易く、該磁気デ
ィスクの回転開始時にヘッドクラッシュを引き起こすと
いった問題があった。

本発明は上記した従来の問題点に鑑み、高透磁率な軟磁
性層の材質が垂直記録層や保護膜の材質よりも柔らかく
ても、記録再生時における磁気ヘッドに対する垂直記録
層の耐久性を向上した新規な垂直磁気ディスクの製造方
法を提供することを目的とするものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は上記した目的を達成するため、非磁性のディス
ク基板上に、高透磁率な軟磁性層及び垂直記録層をこの
順に積層形成した垂直磁気ディスクの製造において、前
記ディスク基板上にめっきによる下地膜を形成し、該下
地膜上に前記軟磁性層よりも硬質な絶縁性の多数の柱状
突起をそれぞれ所定間隔をもって形成し、この柱状突起
群を持つめっき下地膜−１−に該柱状突起の先端が突出
する膜厚の高透磁率な軟磁性層を電解めっきにより形成
した後、前記多数の柱状突起の先端が突出した高透磁率
な軟磁性層上に垂直記録層を形成するＴ程を用いる。

（作　用］ 本発明の製造方法では、塗布型の磁気ディスクにおいて
記録磁性塗膜中にＡ　１１！　２０．等の硬質な細粒を
混入した膜構造とすることにより、該磁性塗膜の軟質性
を補強して磁気ヘッドに対する耐久性を高めていること
に着目して、材質的に高透磁率な軟磁性層よりも硬質な
多数の柱状突起をそれぞれ所定間隔をもって立設したデ
ィスク基板」−に、該柱状突起の先端が突出するように
高透磁率な軟磁性層を形成し、その表面に垂直記録層及
び保護膜を形成することにより、材質的に柔らかい高透
磁率な軟磁性層の耐衝撃性が前記硬質な多数の柱状突起
により補強され、しかもディスク表面がその柱状突起の
先端の突出により微小な凹凸面となるので磁気へントと
の接触面積が低減し、磁気ヘッドの吸着現象が防止され
等、耐久性が向上する。

〔実施例］ 以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。

第１図（ａ）〜（ｄ）は本発明に係る垂直磁気ディスク
の製造方法の一実施例を工程順に示す要部断面図である
。

先ず第１図（ａ）に示すように、予め表面にアルマイト
処理を施したアルミニウム、或いは表面を平坦に研磨加
工してなるガラス、セラミック等からなる非磁性のディ
スク基板１１トに、スパッタリング法等により　Ｎｉ−
Ｆｅなどからなる０、１μｍの膜厚のめっき下地膜１２
を被着形成し、引き続き該めっき下地膜１２−ヒに例え
ばＡ　ｆｆ　２０３からなる非磁性な絶縁層１３を３．
０５μｍの膜厚に被着形成し、その絶縁層１３−ヒに更
にレジスト膜を用いてエツチング用マスク１４を形成す
る。

次に第１図（ｂ）に示すように該エツチング用マスク１
４を介して前記絶縁膜１３を、ケミカルエツチング、ま
たはトライエツチング等により選択的にエツチングを行
って前記めっき下地膜１２にに、例えば直径が１μ臥高
さが３．０５μｍの多数の柱状突起１５を、ディスク基
板１１の半径方向及び円周方向にそれぞれ１０μｍ間隔
で点在するように形成する。

なお、上記多数の柱状突起１５は円柱状に限らず、角柱
状等であってもよい。

次に第１図（Ｃ）に示すようにその多数の柱状突起１５
が立設された前記めっき下地膜１２上に、該柱状突起１
５の先端が突出するようにＮｉ−Ｆｅからなる３μｍの
膜厚の高透磁率な軟磁性層１６を電解めっきにより形成
する。この場合、該多数の柱状突起１５の突出先端部分
は絶縁性（非導電性）であるためにめっき膜が付着する
ことはない。

その後、第１図（ｄ）に示すように核晶透磁率な軟磁性
層１６及び該軟磁性層１６より突出した多数の柱状突起
１５の突出先端を含む表面上に、Ｃｏ−Ｃｒからなる０
、１５μｍの膜厚の垂直記録層１７を形成し、該垂直記
録層１７１−に従来と同様にＡ　４２２０１．　ＳｉＯ
□等からなる保護膜１８と、磁気ヘッドに対する摩擦、
摩耗を低減する例えばパーフロロポリエーテル等からな
る潤滑膜】９を施して垂直磁気ディスクを完成させる。

このような構成の垂直磁気ディスクでは、材質が比較的
柔らかい高透磁率な軟磁性層１６中に硬質な多数の柱状
突起１５を設けていることにより、該軟磁性層１６十に
設けた垂直記録層１７の磁気ヘッドに対する耐衝撃性が
補強され、またディスク表面が微小な凹凸面となるので
磁気ヘッドとの接触面積の低減により磁気ヘッドの吸着
現象が解消される。

〔発明の効果〕

以−トの説明から明らかなように、本発明に係る垂直磁
気ディスクの製造方法によれば、機械的強度の低い材質
の高透磁率な軟磁性層が補強され、該軟磁性層上に設け
た垂直記録層の磁気ヘッドに対する耐衝撃性が著しく向
−ヒすると共に、磁気へ】　０ ラドの吸着現象も解消される等、耐久性の高い垂直磁気
ディスクが容易に得られる利点を有し、実用上、信頼性
の高い記録再生が実現できる。

従って、この種の二層膜構造の垂直磁気ディスクの製造
に適用して極めて有利である。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（ｄ）は本発明に係る垂直磁気ディスク
の製造方法の一実施例を工程順に示す 要部断面図、 第２図は従来の垂直磁気ディスクの製造方法を説明する
ための要部断面図である。 第１図（ａ）〜（ｄ）において、 １１はディスク基板、１２はめっき下地膜、１３は絶縁
層、１４はエツチング用マスク、１５は柱状突起、１６
は軟磁性層、１７は垂直記録層、１８は保護膜、１９は
潤滑膜をそれ（Ｑ） （Ｃ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 非磁性のディスク基板上（１１）に、高透磁率な軟磁性
   層（１６）及び垂直記録層（１７）をこの順に積層形成
   した垂直磁気ディスクの製造において、 上記ディスク基板（１１）上にめっきによる下地膜（１
   ２）を形成し、該下地膜（１２）上に前記軟磁性層（１
   ６）よりも硬質な絶縁性の多数の柱状突起（１５）をそ
   れぞれ所定間隔をもって形成し、この柱状突起群を持つ
   めっき下地膜（１２）上に該柱状突起（１５）の先端が
   突出する膜厚の高透磁率な軟磁性層（１６）を電解めっ
   きにより形成した後、前記多数の柱状突起（１５）の先
   端が突出した高透磁率な軟磁性層（１６）上に垂直記録
   層（１７）を形成することを特徴とする垂直磁気ディス
   クの製造方法。