JPH0198125A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法

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JPH0198125A
JPH0198125A JP25603387A JP25603387A JPH0198125A JP H0198125 A JPH0198125 A JP H0198125A JP 25603387 A JP25603387 A JP 25603387A JP 25603387 A JP25603387 A JP 25603387A JP H0198125 A JPH0198125 A JP H0198125A
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JP
Japan
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magnetic
thin film
recording medium
film
metal thin
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JP25603387A
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English (en)
Inventor
Akira Horiguchi
晃 堀口
Kenji Tokui
徳井 健二
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Victor Company of Japan Ltd
Original Assignee
Victor Company of Japan Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はオーディオ用又はビデオ用等の磁気テープの如
き磁気記録媒体の製造方法に関する。
[従来の技術] 従来、磁気記録媒体の配向方法としては、塗布型磁気記
録媒体の場合は一般的に、永久磁石の同磁極を対向させ
る方法、ソレノイドを用いる方法があり、また高分子成
形物基板上への強磁性蒸着薄膜よりなる磁気記録媒体の
場合は斜方蒸着法、磁場中蒸着法等が知られている。
[発明の解決すべき問題点] しかし、上記塗布型における、永久磁石の同極を対向さ
せる方法では、配向方向が、磁場に入る時と出る時で逆
転するため、効率が悪くなり、高性能なものは得難い。
またソレノイド法は反転がなく配向方向が一定であるが
、設備費が高くまた電力消費量が多いという欠点を有し
ていた。一方、蒸着法において一般的に行なわれている
のは斜方蒸着法であるが、これは蒸着効率が低いという
欠点を有していた。
[問題点を解決するための手段及び作用]本発明者らは
、塗布型磁気記録媒体及び高分子−成形物基体上への強
磁性蒸着薄膜よりなる磁気記録媒体の配向性を向上すべ
く鋭意検討した結果、上記磁気記録媒体に電流を流すこ
とにより長手方向に磁場を発生させ、配向させるという
、磁気記録媒体自体に配向器の役割を持たせることによ
り配向性を向上させることを見い出し本発明を完成した
即ち、本発明によれば高分子成形物基体に磁性層を設け
、前記磁性層における配向を行なう磁気記録媒体の製造
方法において、前記高分子成形物基体に金属薄膜を設け
前記磁性層調製後又は前記磁性層調製時に、前記金属薄
膜に電流を流すことにより、前記磁性層に前記高分子成
形物基体の長手方向の磁場を発生させ、配向させること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法が提供される。
本発明は一般に電流が流れると、電流方向に対し、右ね
じの回転方向の磁場が発生するとのアンペールの法則を
応用したものである。即ち、磁気記録媒体上の金属薄膜
に直流電流を金属薄膜の短手方向に流すことにより、長
手方向の磁場を発生させ、磁性層における配向を行なわ
せるものである。
[実 施 例] 以下図面と共に本発明の磁気記録媒体の製造方法の実施
例を説明する。
第1図は本発明の一実施例を説明するための斜視図であ
り、塗布型磁気記録媒体に関するものである。はじめに
高分子成形物基体であるベースフィルム10の一面に金
属(導電性)薄膜12を設けるがその材質はアルミニウ
ム、銅、銀等導電性であれば何でも良く、何を使用する
かはコスト、耐久性、物理的特性等を考慮した上で、適
宜決定すれば良い。金属薄膜12の作製方法は蒸着、ス
パッタリング、イオンブレーティング、無電解メツキ等
いずれの方法でも良い。ただし、金属薄膜12の厚みは
電気抵抗の厚み依存性を考慮した上で、必要な厚さに設
定する。
上記金属薄膜12の作製後、その上に磁性体を塗布して
磁性層14を形成する。この時、磁性層14の幅が金属
薄膜12の幅より小さくなる様に磁性体を塗布する。即
ち、金属薄膜1zの短手方向の両端部が露出するように
磁性層14が設けられるのである。
塗布直後に金属薄膜12の露出している両端部に一対の
電極te、 tgを接触させる。次に磁気記録媒体をそ
の長平方向に走行せしめつつ、電極te、 tgを介し
て直流電流Iを流す。この電流Iは金属薄膜12の短手
方向に流れるので、金属薄膜12のすぐ上にある磁性層
14内には、その長平方向の磁場Hが生じ、従って磁性
層14において配向が行なわれる。
電流Iによって発生する磁場Hは電流工からの距離に反
比例するが、金属薄膜12上に磁性層14を形成する本
実施例では、磁場Hの発生する磁性層14と電流Iの流
れる金属薄膜I4との間の距離が短いため、比較的小さ
な電流で大きな磁場が発生する。
電極te、 isの大きさは、電極18.18の端面に
近接する金属薄膜12に逆起電力が発生することから、
各金属薄膜12の短手方向の間隔に対し充分な大きさを
とることが好ましい。
次に本実施例における製造方法を更に詳述する。
Co含有7−Fe203100重量部、レシチン1ff
iffi部、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル共重合体15重量部、ポリウレタンエラストマー5重
量部、メチルエチルケトンとトルエンの混合溶媒320
重量部をサンドミルで充分混合分散し、これにポリイソ
シアネート系の硬化剤5重量部を加えて磁性塗料を作る
。第1図に示すように真空蒸着法によりポリエステルベ
ースフィルムlOの一面上にアルミニウムを厚さ1μm
蒸着して形成したアルミニウム蒸着面からなる導電性薄
膜12の上面にこの磁性塗料をコーティングし、その直
後導電性薄膜12の両端に置かれた一対の電極16゜1
8を通して電流5Aを導電性薄膜12の短手方向に流す
ことにより配向を行なった。その後、カレンダー処理を
行ない、40℃で48時間放置して硬化反応を行ない、
そしてスリットしてビデオ用の磁気テープを作製した。
第2図は本発明の第2実施例を説明するための斜視図で
あり、第1図の実施例同様、塗布型磁気記録媒体に関す
るものである。この実施例においては、金属薄膜12と
磁性層14が直接重ねられるのではなく、ベースフィル
ム10の両面にそれぞれ設けられている。即ち、本実施
例は磁性層14の位置がベースフィルムIOに対して金
属薄膜12と反対側とされている点が第1図の実施例と
異なる。本実施例では、金属薄膜12の下面が全面的に
露出しており、第1図のように磁性層14によってカバ
ーされる構成ではないから、一対の電極18.18が金
属薄膜12の短手方向の両端に容易に接触できる。
従って磁性層14の幅を短くする必要はない。
尚、電流Iの流れる金属薄膜12と磁場の発生する磁性
層14との間の距離はベースフィルムlOの厚さに依存
するが、ベースフィルム10の厚さは一般の磁気テープ
では15μm前後と非常に薄いため比較的小さな電流で
大きな磁場を発生させることが可能である。
本実施例の製造方法を更に詳述すると、実施例1と同様
に磁性塗料を作り、第2図に示すように、真空蒸着法に
よりポリエステルベースフィルムIOの一面上にアルミ
ニウムを厚さ1μm蒸着して導電性薄膜12を形成し、
ポリエステルベースフィルムの他面にこの磁性塗料をコ
ーティングして磁性層14を形成し二その直後金属薄膜
12の両端に置かれた一対の電極16.18を通して電
流5Aを金属薄膜12の短手方向に流すことにより配向
を行なった。
その後カレンダー処理を行ない、40℃で48時間放置
して硬化反応を行ない、そしてスリットしてビデオ用の
磁気テープを作製した。
第3図及び第4図は、第1図及び第2図の実施例の変化
態様を示す斜視図である。第1図及び第2図で説明した
ように、磁性層I4における配向を行なわせるため、本
発明では金属薄膜12に電流Iを流すわけであるが、こ
の電流Iの印加時に電極18、18以外の部分は電気的
に浮いている必要がある。しかし、コーティング装置の
設計上絶縁が難しい場合は、金属薄膜12上に磁性層1
4を形成する第1図の場合は第3図の如く、また金属薄
膜12と反対面に磁性層重4を形成する第2図の場合は
第4図の如く、不連続に金属薄膜■2を設ければ良い。
即ち、ベースフィルム10の短手方向に伸長する多数の
短冊状の並行導体12aを設けることにより、各導体1
2a同志が電気的に絶縁される。従って電流Iの印加時
には、電極16. l’8に接触している導体12aの
みが通電される。尚、第3図及び第4図では電極16.
18の図示を省略している。
不連続な金属薄膜12aを形成する方法は、例えば蒸着
形成面近傍にスリットをベースの走行速度と同期させて
走行させる方法、シャッターの開閉により形成する方法
等が考えられる。ただし、金属薄膜12aの厚みは電気
抵抗の厚み依存性を考慮した上で必要な厚さに設定する
第5図は第3実施例を説明する平面図である。
この実施例では電極の数を複数対とし、これらを直列接
続したものを用いる。即ち複数の+側電極lea 、 
18b 、 lee 、 ledと複数の一側電極18
a 。
18c 、 18dが各々対として対向しベースフィル
ムIOの長手方向に並べて設けられ、導線20によって
互いに隣の逆極性電極と接続され、全体として直列電極
を形成している。かかる構成の電極を用いて第3図又は
第4図の不連続金属薄膜に電流Iを印加すると、磁場H
の発生範囲が広くなるので、配向の効率が上がる。
第6図は本発明の第4実施例を説明するための斜視図で
あり、本実施例は磁性層14を磁性体のベースフィルム
上への塗布ではなく、強磁性体を蒸着により設けるもの
に関する。更に本実施例では強磁性体を蒸着させて磁性
層14を全て形成してから配向を行なうのではなく、蒸
着と同時進行的に配向を行なうものである。
はじめにベースフィルムlOの一面に金属薄膜12aを
不連続に設けるが、この場合における金属の選択及び金
属薄膜12の作製方法は前述の塗布型磁気記録媒体の時
と同様である。
上記金属薄膜12の作製の後、ベースフィルム10の他
の面に強磁性薄膜14aを形成させるが、その際不連続
金属薄膜12aに一対の電極16.18を接触させ走行
方向と直角に電流Iを流すと長手方向に磁場Hが発生し
配向が行なわれる。従って、磁場中蒸着となり、斜め蒸
着をしなくても同等以上の効果が期待できる。
ところで、塗布型磁気記録媒体の場合と同様に、電流I
によって発生する磁場Hは電流lからの距離に反比例す
るが、この場合、その距離はベースフィルムIOの厚さ
に依存する。ベースフィルム10の厚さが10〜20μ
mであるとすると、比較的小さな電流で大きな磁場を発
生させることができる。
なお、強磁性薄膜14aの形成方法は、蒸着、スパッタ
リング、イオンブレーティング、低温気相成長法等のい
ずれでもよい。また、不連続金属薄膜12aを連続にし
ても、電極以外が電気的に浮いていれば、同様の効果が
期待できるが、各部分での放電を抑える必要があるため
現実的な実用性はない。
上記第4実施例を更に詳述すると、第6図に示すように
真空度I X 10’Torrの真空槽(図示せず)内
でポリエステルベースフィルム10の一面上に連続蒸着
を行ない、強磁性蒸着膜14aを一面に有する長尺フィ
ルムを得た。尚、不連続金属薄膜12aにはアルミニウ
ムを用い、厚さ1μmする。一方、強磁性蒸着膜14a
にはCo −Nl  (N120vt%)金属を用い厚
さ2000人とした。また一対の電極1B。
18が不連続金属薄膜12aの両端に置かれ、Co −
N1の蒸着時に電流IAを流し磁場を発生させ長尺フィ
ルムを得た。本実施例による場合は、カレンダー処理及
び硬化処理は不要であるから、蒸着と配向がテープの全
長にわたって行なわれた段階で完成し、スリットするこ
とによりそのまま使用に供せる。
比較例 1 第1図の第1実施例と同様に調製した磁性塗料をポリエ
ステルベースフィルムにコーティングし、その直後対向
磁場により2000ガウスの配向磁場で配向を行なった
。その後、第1実施例と同様にして磁気テープを作製し
た。
前述の第1実施例及び第2実施例で得られた磁気テープ
と上記比較例1の評価結果を下表に示した。
比較例 2 第6図の第4実施例のCo −Ni  (Ni20vt
%)の連続蒸着の際電流Iを流さずこれを行ない、他は
第4実施例と同様の材料を用い、同様の処理により長尺
フィルムを得た。
第4実施例で得られた磁気テープと比較例2の関係から
、比較例2の長尺方向のHeが1000eであったのに
対し、第4実施例による場合はHeが4000cであり
、本発明の製造方法により作られた磁気記録媒体が優れ
た磁気的性質を有することは明らかである。
[発明の効果] 以上の説明から明らかなように本発明における記録媒体
の製造方法では基体上の金属薄膜に電流を流すことによ
り磁場を発生させて配向させるので、記録媒体自体に配
向器の働きをもたせることが可能となり、従って特別な
配向器を必要としない。また製造された記録媒体は、配
向性が良いので、最大磁束密度(B m)、保持力(H
e)及び角形比(Rs)等が向上するという優れた特長
を有するので本発明の産業上の利用性は極めて大きいも
のである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例を説明するための斜視図、
第2図は本発明の第2実施例を説明するための斜視図、
第3図及び第4図はそれぞれ第1実施例及び第2実施例
の変化態様を示す斜視図、第5図は本発明の第3実施例
を説明するための平面図、第6図は本発明の第4実施例
を説明するための斜視図である。 10・・・ベースフィルム   12.12a・・・金
属薄膜14、14a・・・磁性層    1B・・・+
側電極18・・・−側電極      20・・・導 
線発明者 堀 口  晃 徳  井  健  二 出 願 人 日本ビクター株式会社

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)高分子成形物基体に磁性層を設け、前記磁性層に
    おける配向を行なう磁気記録媒体の製造方法において、
    前記高分子成形物基体に金属薄膜を設け前記磁性層調製
    後又は前記磁性層調製時に、前記金属薄膜に電流を流す
    ことにより、前記磁性層に前記高分子成形物基体の長手
    方向の磁場を発生させ、配向させることを特徴とする磁
    気記録媒体の製造方法。
  2. (2)前記電流を流すに際し、前記金属薄膜の前記高分
    子成形物基体の短手方向における両端にそれぞれ接触す
    る電極を用いて直流電流を前記短手方向に流しつつ、前
    記高分子成形物基体を前記長手方向に移動せしめること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体
    の製造方法。
  3. (3)前記高分子成形物基体が磁気テープ用ベースフィ
    ルムであり、前記磁性層が塗布型磁性層であって、前記
    磁性層を前記金属薄膜上に塗布した後、前記金属薄膜に
    前記電流を流すことを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の磁気記録媒体の製造方法。
  4. (4)前記高分子成形物基体が磁気テープ用ベースフィ
    ルムであり、前記磁性層が塗布型磁性層であって、前記
    磁性層を前記金属薄膜と反対側の面に塗布した後、前記
    金属薄膜に前記電流を流すことを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造方法。
  5. (5)前記金属薄膜を前記長手方向に対して垂直かつ不
    連続に設けておき、前記金属薄膜の前記高分子成形物基
    体の短手方向における両端にそれぞれ接触する電極を用
    いて、前記金属薄膜中前記電極の接触するもののみを用
    いて直流電流を前記短手方向に流しつつ、前記高分子成
    形物基体を前記長手方向に移動せしめることを特徴とす
    る特許請求の範囲第3項又は第4項記載の磁気記録媒体
    の製造方法。
  6. (6)前記電極として直列に接続され前記長手方向に並
    べられた複数の対の電極からなるものを用いることを特
    徴とする特許請求の範囲第5項記載の磁気記録媒体の製
    造方法。
  7. (7)前記金属薄膜が前記長手方向に対して垂直かつ不
    連続に設けられ、前記磁性層が蒸着型磁性層であって、
    前記高分子成形物基体の一面であって前記金属薄膜のあ
    る面と反対側の面上に前記磁性層を蒸着して形成する際
    、前記金属薄膜に前記電流を流しつつ、前記高分子成形
    物基体を前記長手方向に移動せしめることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造方法。
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