JPH0197833A - 高解像度測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、撮像装置の解像度を測定する高解像度測定装
置に関し、特に、高解像および高精度な高解像度測定装
置に関する。

［従来の技術］ 従来は、撮像装置の解像度を測定するには、第３図に示
すようなパターンを撮像し、解像度の測定評価を行なっ
ていた。

第３図は、従来の高解像度測定装置の正面図である。

同図において、７〜１４はテストパターンであり、それ
ぞれ、７は微少輝度（温度）差分解能テストパターン、
８は水平解像度テストパターン、９は垂直解像度テスト
パターン、１０は階調度テストパターン、１１は垂直分
解能テストパターン、１２は水平分解能テストパターン
、１３は画像歪テストパターン、１４は画角テストパタ
ーンである。なお、この高解像度測定装置は、一般に撮
像装置の正面に固定して使用していた。

ここで、撮像装置とパターンの距離は、撮像装置の光学
的特性上なるべく離れていることが望ましく、そのため
パターンはなるべく大型であることが望ましかった。ま
た、パターンが大型であれば測定解像度も向上するため
、より高精度な測定が期待てきたのである。

ここで、第４図により従来のテストパターンの解像性能
を求める。

第４図は、高解像度測定装置と撮像装置の位置関係を示
す側面図である。

同図において、１５はパターン面、１６は撮像装置であ
る。また、Ｘはパターン面１５の大きさ、ΔＸはパター
ンの寸法精度、Ｌは測定距離を示す。

この場合、解像度は、 Ｒ中Ｘ／ΔＸ と表せる。

一方、第１表は、赤外線撮像装置評価用パターンにおけ
る検討結果を示す。ここでは、製作にエツチングを用い
た場合と手書きによる場合とを対比させ、それぞれ最大
のパターンを製作している。

［解決すべき問題点］ 上述した従来の高解像度測定装置は、第１表から明らか
なように、パターンを大型にしても製作上の制約から実
際には解像能力は大差なく、６００〜７００が限界であ
り、大型化によってパターン表面の温度分布が大きくな
る結果、逆に測定精度が悪くなるという問題点があった
。

また、大型になるほど移動が困難となり、性能評価位置
が限られることとなるため、撮像範囲全般について均等
な評価を行なうことができないという問題点もあった。

本発明は、上記問題点にかんがみてなされたもので、高
解像および高精度な高解像度測定装置の提供を目的とす
る。

［問題点の解決手段］ 上記目的を達成するため、本発明の高解像度測定装置は
、表面にテストパターンを配したパターン面と、このパ
ターン面をパターン面に垂直な軸廻りに回転自在に保持
するパターン面取付部と、このパターン面取付部を撮像
範囲内の任意の位置で支持するステージとを備えた構成
としである。

すなわち、本発明の高解像度測定装置は、パターンを小
型化し、かつパターン面の構成を単純化するとともに、
このパターン面を水平・垂直方向の移動、およびパター
ン面に垂直な軸廻りの回転が可能なステージに取り付け
た構造としている。

［実施例］ 以下、図面にもとづいて本発明の詳細な説明する。

第１図は、本発明の一実施例に係る高解像度測定装置の
全体斜視図、第２図は第１図に示す高解像度測定装置の
パターン面の拡大正面図である。

なお、従来例と共通または対応する部分については同一
の符号で表す。

同図において、ｌはパターン（パターン部）、２はパタ
ーン取付面（パターン部取付部材）である。また、３は
ステージであり、枠材に囲まれた内部にジャバラ４と、
パターン部移動部材５を有している。そして、パターン
ｌには、新たにストレートエッチテストパターン６を有
している。

上記構成において、パターン取付面２は、第１図中の矢
印に示すように、パターン部移動部材５上で水平・垂直
方向に移動可能であり、またパターンｌに垂直な軸廻り
に回転自在である。また、パターン１上には、解像度テ
ストパターン８，９、微少輝度（温度）差分解能テスト
パターン７、階調度テストパターン１０の他、画角測定
および画像歪測定のためのストレートエッヂテストパタ
ーン６を設けである。このため、ステージ３との組合せ
によりパターンを用いたテスト項目を網羅し、かつパタ
ーンの小型化によって輝度（温度）分布を小さくしてい
る。

実際の解像度を求めてみると、パターンｌの大きさを１
７０Ｘ１７０ｍｍ、ステージ３の枠内における移動距離
を１５００Ｘ１５００ｍｍ、そしてΔＸが約±０．１ｍ
ｍとした場合、 Ｒ＝１５００１０．２＝７５００ となる。

すなわち、従来の高解像度ｉ１！！Ｉ定装置の約１０倍
の解像能力が得られたことになる。また、パターン表面
の輝度（温度）分布は、パターン面の小型化により、　
　±０．５’Ｃ以下とすることが可能であり、撮像範囲
全般について均等な評価を行なうことができる。

なお、本発明は上記実施例に限定されるものでなく、要
旨の範囲内における種々変形例を含むものである。例え
ば、上述の実施例では、パターン部をステージで保持す
るにあたり、パターン部移動部材を左右に移動させるな
どしているが、ステージを鉄板などで製作し、パターン
部取付部材に磁石を接着してステージ上に固定すること
もできる。また、ステージを回転可能な円盤とし、パタ
ーン部取付部材をこの円盤上で半径方向に移動可能に取
り付ける構成とすることもできる。

さらに、ステッピングモータを使用して位置決めを全自
動または半自動とすることもできる。

［発明の効果］ 以上説明したように本発明は、パターンを小型化するこ
とにより、高解像および高精度の輝度（温度）測定が可
能となるとともに、ステージによってパターンを解像範
囲内の任意の位置に移動可能とすることにより、撮像範
囲全域にわたって一部レベルの測定を行なうことが可能
な高解像度測定装置を提供できるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例に係る高解像度測定装置の全
体斜視図、第２図は第１図に示す高解像度測定装置のパ
ターン面の拡大正面図、第３図は従来の高解像度測定装
置の正面図、第４図は高解像度測定装置と撮像装置の位
置関係を示す側面図である。 ｌ：パターン ２：パターン取付面 ３：ステージ ４：ジャバラ ５：パターン部移動部材

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）表面にテストパターンを配したパターン面と、こ
   のパターン面をパターン面に垂直な軸廻りに回転自在に
   保持するパターン面取付部と、このパターン面取付部を
   撮像範囲内の任意の位置で支持するステージとを具備す
   ることを特徴とする高解像度測定装置。
2. （２）前記ステージが、撮像範囲内で前記パターン面取
   付部の移動範囲を取り囲む枠部材と、この枠部材の枠内
   で上記パターン面取付部材を水平方向、および垂直方向
   に移動可能に保持するパターン部移動部材とを有するも
   のである特許請求の範囲第１項記載の高解像度測定装置
   。