JPH0197345A - Exposure system of shadow mask for color picture tube - Google Patents

Exposure system of shadow mask for color picture tube

Info

Publication number
JPH0197345A
JPH0197345A JP25383087A JP25383087A JPH0197345A JP H0197345 A JPH0197345 A JP H0197345A JP 25383087 A JP25383087 A JP 25383087A JP 25383087 A JP25383087 A JP 25383087A JP H0197345 A JPH0197345 A JP H0197345A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
shadow mask
light source
pattern
adherer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25383087A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shozo Takami
高見 昭三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP25383087A priority Critical patent/JPH0197345A/en
Publication of JPH0197345A publication Critical patent/JPH0197345A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To improve the utilization efficiency of an exposure system by making an illuminant part and a vacuum adherer relatively shiftable, and also making a mask pattern printable to plural vacuum adherers with one illuminant unit. CONSTITUTION:When one side of vacuum adherers adjacent to each other, for example, a vacuum adherer 2a ends its pattern printing and the other side vacuum adherer 2b is in a state of being printable, illuminant units 20a, 20b being situated as opposed to the adherer 2a are shifted to a broken line position to be opposed to the other side adherer 2b and printing takes place. During the period, vacuum suction of the adherer 2a is stopped and leaked to some extent, and then a close adhesion between a shadow mask material W and mask patterns 1a, 1b is released. This shadow mask material W is rolled on a takeup reel 11. Next, vacuum suction for sticking these mask patterns 1a, 1b close to the shadow mask material wound up is carried out.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) この発明は、カラー受像管用シャドウマスクの露光シス
テムに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to an exposure system for a shadow mask for a color picture tube.

(従来の技術) シャドウマスク型カラー受像管の蛍光面に対向して配設
されるシャドウマスクは、その対向面に多数の電子ビー
ム通過孔を有し、その電子ビーム通過孔を通過する電子
銃からの電子ビームを、蛍光面を構成する所定の蛍光体
層に選択的に入射させるように構成されている。
(Prior Art) A shadow mask disposed opposite to the phosphor screen of a shadow mask type color picture tube has a large number of electron beam passing holes on its opposing surface, and an electron gun passes through the electron beam passing holes. The electron beam is selectively made incident on a predetermined phosphor layer constituting the phosphor screen.

従来、このシャドウマスクの製造は、厚さ0.1〜0.
2mm程度のたとえば低炭素鋼からなる帯板状のシャド
ウマスク素材の両面に感光性樹脂を塗布し、その感光性
樹脂被膜の形成されたシャドウマスク素材の両面にマス
クパターンを密着し、いわゆる両面露光方式により上記
感光性樹脂被膜に所定のパターンを焼付けたのち、現像
し、さらに化学的にエツチングすることにより、上記シ
ャドウマスク素材の両面間を貫通する電子ビーム通過孔
を形成している。この製造方法において、多量生産方式
では、帯板状のシャドウマスク素材を長尺のまま間欠送
りして露光に供するが、そのほかに帯板状のシャドウマ
スク素材をシャドウマスク1枚分の大きさに切断して、
1−枚づつ露光する方法も既知である。
Conventionally, this shadow mask has been manufactured with a thickness of 0.1 to 0.
A photosensitive resin is coated on both sides of a band-shaped shadow mask material made of, for example, low carbon steel, about 2 mm thick, and a mask pattern is closely attached to both sides of the shadow mask material on which the photosensitive resin coating is formed, so-called double-sided exposure. After a predetermined pattern is printed on the photosensitive resin film using this method, it is developed and further chemically etched to form electron beam passage holes that penetrate between both surfaces of the shadow mask material. In this manufacturing method, in the mass production method, the strip-like shadow mask material is fed intermittently as a long length for exposure. Cut it and
Methods of exposing one sheet at a time are also known.

いづれの方法においても、その露光は、従来、第5図(
A)図に示すように、互いに整合関係に配置されて相対
向するマスクパターン(1a)、(1b)を備える複数
台の真空密着装置(2a)、(2b)・を任意に整列配
置し、その各真空密着装置(2a)、(2b)・・ごと
にその両面のマスクパターン(1a)、(1b)に対向
して、第5図(B)図に示すように、架台(3)上に立
設された支柱(4)に、水銀灯などの光源(5)1反射
鏡(6)、シャッター(7)などからなる光源部(8)
を固定した光源ユニット(9a)、(9b)を配置した
露光システムでおこなわれている。
In either method, the exposure is conventionally performed as shown in Fig. 5 (
A) As shown in the figure, a plurality of vacuum adhesion devices (2a), (2b) each having mask patterns (1a), (1b) facing each other and aligned with each other are arbitrarily arranged, For each of the vacuum adhesion devices (2a), (2b)... A light source section (8) consisting of a light source (5) such as a mercury lamp, a reflecting mirror (6), a shutter (7), etc. is mounted on a pillar (4) erected on the
The exposure system is equipped with fixed light source units (9a) and (9b).

すなわち、たとえば長大の帯板状のシャドウマスク素材
を連続的に露光する場合について述べると、各真空密着
装置(2a)、(2b)・・・の−側にシャドウマスク
素材(W)の送りリール(1,0)を、他側に巻き取り
リール(11)を設置し、送りリール(10)から一定
ピツチでマスクパターン(1a)、(]b)間に送り出
されたシャドウマスク素材(ul)の両面に、図示しな
い真空吸引装置によりマスクパターン(1a)、(1b
)を真空密着させたのち、その両面に対向する各光源ユ
ニット(9a)、(9b)のシャッター(7)を開いて
、光源(5)から放射される光をマスクパターン(1a
)、(]b)を介してシャドウマスク素材(W)の両面
に被着形成されている感光性樹脂被膜に照射する。そし
て、その照射量を真空密着装置(28)、(2b)・・
・に取付けられている受光器(図示せず)で1flll
定しながらその両面の感光性樹脂被膜に所定のパターン
を焼付ける。その後、真空吸引装置の吸引を停止し、真
空密着装置(2a)、(2b)・・・をリークさせてシ
ャドウマスク素材(讐)と各マスクパターン(1a)、
(1b)との密着を解除する。しかるのち、そのパター
ンの焼付けられたシャドウマスク素材(W)を巻き取り
リール(10)に巻きとる。すなわち、このシャドウマ
スクの露光プロセスは、素利送り→マスクパターン密着
→パターン焼付け→リーク→索材巻きとり(素材送り)
のサイクルで繰返されろ、。
That is, for example, in the case of continuously exposing a long strip-shaped shadow mask material, there is a feed reel for the shadow mask material (W) on the negative side of each vacuum contact device (2a), (2b), etc. A take-up reel (11) is installed on the other side of (1, 0), and a shadow mask material (UL) is sent out between the mask patterns (1a) and (]b) at a constant pitch from the feed reel (10). Mask patterns (1a) and (1b) are applied to both sides of the mask using a vacuum suction device (not shown).
), the shutters (7) of the light source units (9a) and (9b) facing each other are opened, and the light emitted from the light source (5) is transferred to the mask pattern (1a).
), (]b) to irradiate the photosensitive resin coating formed on both sides of the shadow mask material (W). Then, the irradiation amount is adjusted to the vacuum adhesion device (28), (2b)...
・1flll with the receiver (not shown) attached to
A predetermined pattern is printed on the photosensitive resin coating on both sides while holding the photosensitive resin film. After that, the suction of the vacuum suction device is stopped, and the vacuum adhesion devices (2a), (2b)... are leaked to remove the shadow mask material (enemy) and each mask pattern (1a).
Release the close contact with (1b). Thereafter, the shadow mask material (W) on which the pattern has been printed is wound onto a take-up reel (10). In other words, the exposure process for this shadow mask is as follows: basic feed → mask pattern adhesion → pattern baking → leak → cord winding (material feed)
The cycle is repeated.

=3= ところで、近年、高出力の超高圧水銀ランプやメタルハ
ライドランプなどの出現により照度が向」二し、上記露
光プロセスのサイクルのなかで、パターン焼付けに要す
る時間は大幅に短縮され、最も時間を要する工程は、マ
スクパターンを密着するための真空吸引であり、実質的
にパターン焼付けに要する時間は、上記露光プロセスの
全サイクルタイムの172以下となっている。
=3= By the way, in recent years, with the advent of high-output ultra-high pressure mercury lamps and metal halide lamps, illuminance has improved, and in the above exposure process cycle, the time required for pattern printing has been significantly shortened, making it the most time-consuming process. The step requiring this is vacuum suction to bring the mask pattern into close contact, and the time required for pattern printing is substantially less than 172 seconds of the total cycle time of the exposure process.

そのため、実質的な露光装置の利用効率が低く、高価な
露光装置を多数必要とするという問題点が発生している
As a result, there arises a problem in that the actual utilization efficiency of the exposure apparatus is low and a large number of expensive exposure apparatuses are required.

(発明が解決しようとする問題点) 上記のように、高出力の光源の出現により、シャドウマ
スクの露光プロセスのなかで、素材の両面に形成された
感光性樹脂波−矢ターン焼付けに要する時IYjfが大
幅に短縮され、マスクパターン密着のための真空吸引が
最も時間を要する工程となり、実質的な露光装置の利用
効率が低下している。
(Problems to be Solved by the Invention) As mentioned above, with the advent of high-output light sources, the time required to print the photosensitive resin waves formed on both sides of the material in the exposure process of a shadow mask. IYjf has been significantly shortened, and vacuum suction for mask pattern adhesion has become the most time-consuming process, resulting in a substantial reduction in the utilization efficiency of the exposure apparatus.

この発明は、上記問題点をかんがみてなされたものであ
り、露光装置の利用効率を大幅に向」二さ=4− せることを目的とする。
This invention has been made in view of the above-mentioned problems, and aims to significantly improve the utilization efficiency of an exposure apparatus.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(問題点を解決するための手段) 感光性樹脂被膜の被着形成された板状のシャ1くウマス
フ素材の両面にマスクパターンを真空密着させる複数台
の真空密着装置と、上記シャドウマスク素材の両面の感
光性樹脂被膜に密着したマスクパターンを介して上記画
面の感光性樹脂被膜に所定のパターンを焼付ける光源部
を備える複数台の光源ユニットとを有するカラー受像管
用シャドウマスクの露光システムにおいて、少なくとも
光源部と真空密着装置とを相対移動可能とし、1台の光
源ユニットにより複数台の真空密着装置に対して上記マ
スクパターンを焼付は可能に構成した。
(Means for Solving the Problems) A plurality of vacuum adhesion devices are used to vacuum adhere mask patterns to both sides of a plate-shaped shadow mask material on which a photosensitive resin film is adhered, and the shadow mask material is In an exposure system for a shadow mask for a color picture tube, the system includes a plurality of light source units each having a light source section that prints a predetermined pattern on the photosensitive resin coating of the screen through a mask pattern in close contact with the photosensitive resin coating on both sides, At least the light source section and the vacuum contact device are made relatively movable, and the mask pattern can be printed onto a plurality of vacuum contact devices using one light source unit.

(作 用) 上記のように、少なくとも光源部と真空密着装置とを相
対移動可能に構成すると、任意の1台の真空密着装置で
シャドウマスク素材にマスクパターンを密着させる真空
吸引をおこなっている間に、他の真空密着が完了した真
空密着装置に少なくとも光源部を相対移動させてパター
ンの焼付けをおこなうことができ、少ない光源ユニット
で焼付けをおこなうことができ、露光システムを構成す
る各装置の利用効率を大幅に向上させることができる。
(Function) As described above, if at least the light source section and the vacuum adhesion device are configured to be movable relative to each other, while any one vacuum adhesion device is performing vacuum suction to bring the mask pattern into close contact with the shadow mask material. In addition, patterns can be printed by moving at least the light source part relative to another vacuum bonding device that has completed vacuum bonding, and printing can be performed with a small number of light source units, making it possible to utilize each device that makes up the exposure system. Efficiency can be significantly improved.

(実施例) 以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明
する。
(Example) Hereinafter, the present invention will be described based on an example with reference to the drawings.

第1図にこの発明の一実施例である露光システムを示す
。この露光システムは、同(A)図に示すように互いに
整合関係に配置された相対向するマスクパターン(la
)、(1b)を備える複数台の真空密着装置(2a)、
(2b)・・・と、この真空密着装置(2a)、(2b
)・・・に対応して、その各マスクパターン(1a)、
(1b)の前面に配置される下記光源ユニット(2a)
、(2b)・・・とからなる。
FIG. 1 shows an exposure system that is an embodiment of the present invention. This exposure system consists of opposing mask patterns (la
), (1b), a plurality of vacuum adhesion devices (2a),
(2b)...and this vacuum adhesion device (2a), (2b)
)... corresponding to each mask pattern (1a),
The following light source unit (2a) placed in front of (1b)
, (2b)...

上記真空密着装置(2a)、 (2b)・・・の−側に
は、両面に感光性樹脂被膜の形成されたシャドウマスク
素材(11)をマスクパターン(1a)、(1b)間に
送り込む送りリール(10)が、また、他側には、上記
マスクパターン(1a)、(1b)間のパターン焼付け
を終了したシャドウマスク素材(w)を巻きとる巻きと
りリール(11)が設けられている。また、各真空密着
装置(2a)、(2b)−・・は、上記マスクパターン
(1a)、(1b)間に送込まれたシャドウマスク素材
(III)に対して、マスクパターン(la)、 (l
b)を真空密着させる図示しない真空吸引装置および各
対向する光源ユニット(20a)、(20b)からの照
射量を測定する受光器などを備える。
On the negative side of the vacuum adhesion devices (2a), (2b)..., there is a feed for feeding a shadow mask material (11) with a photosensitive resin film formed on both sides between the mask patterns (1a) and (1b). A reel (10) is provided on the other side, and a take-up reel (11) for winding up the shadow mask material (w) on which the pattern printing between the mask patterns (1a) and (1b) has been completed is provided. . In addition, each vacuum adhesion device (2a), (2b)--... is used for mask pattern (la), shadow mask material (III) sent between mask patterns (1a) and (1b), (l
b) includes a vacuum suction device (not shown) that brings the light into close contact with each other under vacuum, and a light receiver that measures the amount of irradiation from each of the opposing light source units (20a) and (20b).

また、上記光源ユニット(20a)、(20b)・・・
は、同(B)図に示すように走行可能な架台(21)、
この架台(21)上に立設された支柱(22)に取付け
られた光源(5)、反射鏡(6)、この反射鏡(6)の
前面部に設けられ、光源(5)からの光の放射を任意に
遮断するシャッター(7)などからなる光源部(8)を
有し、この光源部(8)をモータ(23)の駆動により
歯車などからなる駆動伝達機構(24)を介して、矢印
(25)で示すように支柱(21)とともに回転する構
造に構成されている。
In addition, the light source units (20a), (20b)...
As shown in the same figure (B), there is a movable frame (21),
A light source (5) attached to a support (22) erected on this pedestal (21), a reflecting mirror (6), and a light source (5) provided on the front side of this reflecting mirror (6). It has a light source part (8) consisting of a shutter (7) etc. that arbitrarily blocks the radiation of , is configured to rotate together with the support column (21) as shown by the arrow (25).

そして、この例の露光システムでは、複数台の真空密着
装[(2a)、(2b)・・・は、それぞれのマスクパ
ターン(1a)、(1b)を同方向に向けて同一線上に
配置され(直列配置)、この真空密着装置(2a)、(
2b) −ニ対シテ光源ユニット(2oa)、(20b
)は、両真空密着装置(2a)、(2b)間をそれぞれ
のマスクパターン(la)、 (lb)と一定間隔保っ
て矢印(26)で示すように平行移動できるように設置
されている。
In the exposure system of this example, a plurality of vacuum contact devices [(2a), (2b)... are arranged on the same line with their mask patterns (1a), (1b) facing the same direction. (Series arrangement), this vacuum adhesion device (2a), (
2b) - Two-piece light source unit (2oa), (20b)
) is installed so as to be able to move in parallel between the vacuum adhesion devices (2a) and (2b), keeping a constant distance from the respective mask patterns (la) and (lb), as shown by arrows (26).

(25)は、その走行を案内するレールなどからなる案
内部である。
(25) is a guide section consisting of a rail or the like that guides the running of the vehicle.

上記のように露光システムを構成すると、互いに隣接す
る一方の真空密着装置、たとえば真空密着装置(2a)
がパターン焼付けを終了し、他方の真空密着装置(2b
)がパターン焼付は可能な状態にあるとすると、上記一
方の真空密着装置(2a)に対向して位置する光源ユニ
ット(20a)、(20b)を、他方の真空密着装置(
2b)と対向する破線(27)で示す位置に移動してパ
ターン焼付けをおこなう。その期間中にパターン焼付け
を終了した一方の真空密着装置(2a)は、真空吸引を
停止してリークさせ、シャドウマスク素材(V)とマス
クパターン(1a)、(1b)との密着を解除させる。
When the exposure system is configured as described above, one of the vacuum contact devices adjacent to each other, for example, the vacuum contact device (2a)
finishes pattern baking, and the other vacuum adhesion device (2b
) is in a state where pattern printing is possible, the light source units (20a) and (20b) located opposite the one vacuum contact device (2a) are connected to the other vacuum contact device (2a).
The pattern is printed by moving to the position indicated by the broken line (27) opposite to 2b). One of the vacuum adhesion devices (2a) that has completed pattern printing during that period stops vacuum suction and leaks, releasing the adhesion between the shadow mask material (V) and the mask patterns (1a) and (1b). .

そしてパターン焼付けを終了したシャドウマスク素材(
W)を巻きとりリール(11)に巻きとる(このとき、
同時に送りリール(10)からシャドウマスク素材(W
)の未感光部分がマスクパターン(1a)、(1b)間
に送込まれる)。さらにその後、その送込まれたシャド
ウマスク素材(W)にマスクパターン(1a)、(1b
)を密着させる真空吸引を開始させる。
Then, the shadow mask material after pattern baking (
W) onto the take-up reel (11) (at this time,
At the same time, the shadow mask material (W) is sent from the feed reel (10).
) is sent between the mask patterns (1a) and (1b)). Furthermore, after that, the mask patterns (1a) and (1b) are applied to the sent shadow mask material (W).
) and start vacuum suction to bring them into close contact.

この露光システムの動作を真空密着装置(2a)、(2
b)をそれぞれ装置A、Bとして第2図にフローチャー
トで示す。
The operation of this exposure system is as follows: vacuum contact device (2a), (2)
b) is shown in a flowchart in FIG. 2 as devices A and B, respectively.

ところで、上記のように露光システムを構成すると、従
来、N台(複数台)の真空密着装置に対して2N台の光
源ユニットを必要としたものを、N/2台の少ない光源
ユニット(2a)、(2b)・・・で所要の焼付けをお
こなうことができ、従来にくらべて露光装置の利用効率
を大幅に向上させることができる。すなわち、上記のよ
うに露光システムを構成すると、単に光源ユニットの削
減でばかりでなく、生産性を低下することなく、それに
使用される光源(5)の使用量を減少でき、また露光に
要する消費電力も節約することができる。
By the way, when the exposure system is configured as described above, the conventional system that required 2N light source units for N vacuum contact devices (multiple units) can be replaced with N/2 fewer light source units (2a). , (2b) . . . , the required printing can be performed, and the utilization efficiency of the exposure device can be greatly improved compared to the conventional method. In other words, configuring the exposure system as described above not only reduces the number of light source units, but also reduces the amount of light source (5) used for it without reducing productivity, and also reduces the consumption required for exposure. Electricity can also be saved.

また、この例の露光システムは、第3図に示すように、
複数台の真空密着装置(2a)、(2b)・・・を所定
間隔離間させて並列配置し、各真空密着装置(2a)、
(2b)−間に光源ユニット(20a)、(20b) 
・=を配置する構成にすることもできる。
Furthermore, the exposure system of this example, as shown in FIG.
A plurality of vacuum bonding devices (2a), (2b), etc. are arranged in parallel with a predetermined interval, and each vacuum bonding device (2a),
(2b) - Light source unit (20a), (20b) between
・= can also be arranged.

この場合、真空密着装置(2a)、(2b)・・が1台
おきに、たとえば真空密着装置(2a)、(2c)がパ
ターン焼付けを終了し、その間の真空密着装置(2b)
がパターン焼付は可能な状態にあるとすると、それまで
それぞ九真空密着装置(2a)、(2c)側を向いてい
た光源ユニット(20)の光源部(8)を回転して真空
密着装置(2b)側に向けて真空密着装置(2b)のパ
ターン焼付けをおこなうことができる。この期間中にパ
ターン焼付けを終了した真空密着装置(2a)、(2c
)は、真空吸引を停+I−L、リークさせてシャドウマ
スク素材(II)とマスクパターン(1a)、(1b)
との密着を解除させる。そして、この焼付けを終了した
シャドウマスク素材(りを巻きとりリール(11)に巻
きとる(このとき、同時に送りリール(10)からシャ
ドウマスク素材(W)の未感光部分がマスクパターン(
1a)、(1b)間に送込まれる)。さらにその後、そ
の送込ま九たシャドウマスク素材(す)にマスクパター
ン(1a)、(1b)を密着させる真空吸引を開始させ
る。
In this case, every other vacuum adhesion device (2a), (2b), etc., for example, the vacuum adhesion device (2a), (2c) completes pattern printing, and the vacuum adhesion device (2b) in between finishes printing the pattern.
Assuming that pattern printing is possible, rotate the light source section (8) of the light source unit (20), which had been facing the vacuum adhering devices (2a) and (2c), respectively, to the vacuum adhering device. The pattern of the vacuum adhesion device (2b) can be printed toward the (2b) side. Vacuum adhesion devices (2a) and (2c) that completed pattern baking during this period
), stop vacuum suction +IL, leak and remove shadow mask material (II) and mask patterns (1a), (1b)
Break the close contact with. Then, the shadow mask material (W) that has been baked is wound onto the take-up reel (11) (at this time, the unexposed portion of the shadow mask material (W) is transferred from the feed reel (10) to the mask pattern (
1a) and (1b)). Furthermore, after that, vacuum suction is started to bring the mask patterns (1a) and (1b) into close contact with the fed-in shadow mask material (su).

この露光システムにおける露光装置の動作を真空密着装
!(28)、(Zb)、(2C)をそれぞわ装F/A、
B−Cとして第4図にフローチャートで示す。
The operation of the exposure equipment in this exposure system is vacuum-tightly mounted! (28), (Zb), and (2C) respectively in F/A,
The flowchart is shown in FIG. 4 as B-C.

ところで、」1記のように露光システムを構成すると、
N台の真空密着装置に対してN+1台の光源ユニット(
20a)、(20b)・・・でパターン焼付けをおこな
うことができ、従来−2N台必要とした光源ユニッ1〜
を、2N−(N+1)=N−1台でおこなうことができ
、前記実施例と同様に露光システムの各装置の利用効率
を大幅に向上させるなどの効果を奏する。
By the way, if you configure the exposure system as described in 1.
N+1 light source units (
20a), (20b)... can perform pattern printing, and the light source units 1 to 20, which conventionally required -2N units, can be printed.
This can be performed using 2N-(N+1)=N-1 units, and as in the embodiment described above, the efficiency of use of each device in the exposure system can be greatly improved.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

少なくとも、シャドウマスク素材の両面に被着形成され
た感光性樹脂被膜にマスクパターンを介して所定のパタ
ーンを焼付ける光源ユニットの光源部と、上記感光性樹
脂被膜にマスクパターンを真空密着させる真空密着装置
とを相対移動可能に構成すると、パターン焼付けを終了
した真空密着装置からシャドウマスク素材を取出し、そ
の後、新たに未感光シャドウマスク素材を装着してパタ
ーン焼付けの4備をおこなっている間に、少なくとも」
−記パターン焼付けに用いた光源ユニットの光源部を他
の真空密着を完了した真空密着装置に相対移動させてパ
ターン焼付けをおこなうことができ、少ない光源ユニッ
トで露光装置の利用効率を大幅に向上させることができ
る。
At least a light source section of a light source unit that prints a predetermined pattern via a mask pattern onto a photosensitive resin film formed on both sides of a shadow mask material, and a vacuum bonding unit that vacuum-adheres the mask pattern to the photosensitive resin film. If the shadow mask material is configured to be movable relative to the device, the shadow mask material is taken out from the vacuum bonding device after pattern baking is completed, and then, while a new unexposed shadow mask material is attached and the four preparations for pattern baking are performed, at least"
- Pattern printing can be performed by moving the light source section of the light source unit used for pattern printing relative to another vacuum bonding device that has completed vacuum bonding, greatly improving the utilization efficiency of exposure equipment with a small number of light source units. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図ないし第4図はこの発明の詳細な説明図で、第1
図(A)図および(B)図はそれぞれその一実施例であ
る真空密着装置と光源ユニツ1−との配置関係および光
源ユニットの構成を示す図、第2図はフローチャートで
示すその動作説明図、第3図は他の実施例における真空
密着装置と光源ユニットとの配置関係を示す図、第4図
はフローチャートで示すその動作説明図、第5図(A)
および(B)図はそれぞれ従来の真空密着装置と光源ユ
ニツ1−との配置関係およびその光源ユニットの構成を
示す図である。
Figures 1 to 4 are detailed explanatory diagrams of this invention.
Figures (A) and (B) are diagrams showing the arrangement relationship between the vacuum sealing device and the light source unit 1- and the configuration of the light source unit, respectively, and Figure 2 is an explanatory diagram of its operation shown in a flowchart. , FIG. 3 is a diagram showing the arrangement relationship between the vacuum sealing device and the light source unit in another embodiment, FIG. 4 is an explanatory diagram of its operation shown in a flowchart, and FIG. 5 (A)
and (B) are diagrams respectively showing the arrangement relationship between a conventional vacuum adhesion device and a light source unit 1-, and the configuration of the light source unit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 感光性樹脂被膜の被着形成された板状のシャドウマスク
素材の両面にマスクパターンを真空密着させる複数台の
真空密着装置と、上記シャドウマスク素材の両面の感光
性樹脂被膜に密着したマスクパターンを介して上記両面
の感光性樹脂被膜に所定にパターンを焼付ける光源部を
備える複数台の光源ユニットとを有するカラー受像用シ
ャドウマスクの露光システムにおいて、 少なくとも上記光源部と上記真空密着装置とを相対移動
可能とし、1台の光源ユニットにより複数台の真空密着
装置に対して上記マスクパターンを焼付け可能に構成し
たことを特徴とするカラー受像管用シャドウマスクの露
光システム。
[Scope of Claims] A plurality of vacuum adhering devices for vacuum adhering a mask pattern to both sides of a plate-shaped shadow mask material on which a photosensitive resin film has been deposited, and a photosensitive resin film on both sides of the shadow mask material. In an exposure system for a shadow mask for color image reception, the exposure system includes a plurality of light source units each including a light source unit that prints a predetermined pattern on the photosensitive resin coating on both sides through a mask pattern that is in close contact with the photosensitive resin film, at least the light source unit and the 1. An exposure system for a shadow mask for a color picture tube, characterized in that a vacuum contact device is movable relative to the vacuum contact device, and the mask pattern can be printed onto a plurality of vacuum contact devices using one light source unit.
JP25383087A 1987-10-09 1987-10-09 Exposure system of shadow mask for color picture tube Pending JPH0197345A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25383087A JPH0197345A (en) 1987-10-09 1987-10-09 Exposure system of shadow mask for color picture tube

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25383087A JPH0197345A (en) 1987-10-09 1987-10-09 Exposure system of shadow mask for color picture tube

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0197345A true JPH0197345A (en) 1989-04-14

Family

ID=17256726

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25383087A Pending JPH0197345A (en) 1987-10-09 1987-10-09 Exposure system of shadow mask for color picture tube

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0197345A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6485596B1 (en) Three-dimensional structure transfer method and apparatus
CN103229105A (en) Photoimaging
JPH0197345A (en) Exposure system of shadow mask for color picture tube
US3313225A (en) Automatic multiple photoprinting system
JP4407333B2 (en) Strip workpiece exposure system
US4588676A (en) Photoexposing a photoresist-coated sheet in a vacuum printing frame
KR101089601B1 (en) Coating device for light guide pannel
JP2685811B2 (en) Shadow mask exposure method and exposure apparatus thereof
KR100311250B1 (en) Manufacturing method of color classification mask
JP2005091903A (en) Aligner
KR100312698B1 (en) Exposure device for cathode ray tube
JPH0521005A (en) Laminating device for protection film of pattern printing plate
MY111421A (en) Method of forming phosphor screen of color cathode-ray tube and exposure apparatus
JP5002871B2 (en) Exposure equipment
JPH10125222A (en) Manufacture of shadow mask, and exposure device
JP2000181073A (en) Device and method for exposure
KR200147701Y1 (en) A light-exposing device equipped with a conveyor
JPH04106835A (en) Exposure light source device
JP2003022746A (en) Manufacturing method of shadow mask and manufacturing device of shadow mask
JP3033356B2 (en) Anode substrate manufacturing method
JP2001028232A (en) Aligner for band-like metal thin plate and method therefor
JPH027051A (en) Vacuum printing frame device
JPH04131835A (en) Method and device for manufacturing lens sheet
KR910007370Y1 (en) Lightening equipment of color picture tube
JPH08278634A (en) Pattern printer