JPH0196326A - 流動層熱処理装置 - Google Patents

流動層熱処理装置

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Publication number
JPH0196326A
JPH0196326A JP25327487A JP25327487A JPH0196326A JP H0196326 A JPH0196326 A JP H0196326A JP 25327487 A JP25327487 A JP 25327487A JP 25327487 A JP25327487 A JP 25327487A JP H0196326 A JPH0196326 A JP H0196326A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fluidized bed
purge chamber
treated
chamber
bed furnace
Prior art date
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Pending
Application number
JP25327487A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Kawate
賢治 川手
Hiroya Mukai
向井 碩哉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daido Steel Co Ltd
Original Assignee
Daido Steel Co Ltd
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Publication date
Application filed by Daido Steel Co Ltd filed Critical Daido Steel Co Ltd
Priority to JP25327487A priority Critical patent/JPH0196326A/ja
Publication of JPH0196326A publication Critical patent/JPH0196326A/ja
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  • Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は流動層熱処理装置に関する。
無酸化雰囲気下で金属材料を加熱し、保持し、そして又
は冷却する熱処理が広く行われている。
例えば、無酸化雰囲気下で金属材料のマルテンパ処理や
オーステンバ処理等を行う場合である。かかる熱処理で
は、金属材料を熱効率良く均一・加熱し、均一保持し、
そして又は均一冷却することが重要であるが、同時にま
たそれらが正しく無酸化雰囲気下で行われることも重要
である。一方近年において、所謂雰囲気装置に比べ数倍
の熱伝達速度を有する流動層装置が注目されている。該
流動層装置は、分散板から流動化ガスを噴出させて該分
散板上の流動粒子を流動化させ、形成される流動層を利
用して被処理材を加熱し、保持し、そして又は冷却する
もので、熱効率良く且つ均一に被処理材を熱処理するこ
とができるという利点を有する。
本発明は、上記のような流動層の利点を活用して、正し
く無酸化雰囲気下で被処理材を連続的に熱処理すること
ができる流動層熱処理装置に関するものである。
〈従来の技術、その問題点〉 従来、無酸化雰囲気下で被処理材を流動層により熱処理
する装置として、入口パージ室と出口パージ室との間に
複数の流動層炉を設置し、これらをシール壁で囲んだ装
置が提案されている(特開昭61−190015.実開
昭6l−137656)、該装置は、入口パージ室でガ
ス置換した被処理材を、411送装誼により間欠的に移
送しつつ、シール壁で囲まれた処理室内において複数の
流動層炉で順次熱処理し、そして出口パージ室で再びガ
ス置換するものである。
ところが上記の従来装置には、被処理材の搬送装置がシ
ール壁で囲まれた処理室の外部に装備されているため、
実際のところ、該処理室内を正しく無酸化雰囲気下に維
持することが困難という問題点がある。処理室内の無酸
化雰囲気が乱れると、熱処理後の製品品質に重大な悪影
晋が及ぶことはいうまでもない。
く発すjが解決しようとする問題点、その解決手段〉 本発明は、叙」−の如き従来の問題点を解決する、改良
された流動層熱処理装置を提供するものである。
しかして本発明は、 装入側パージ室と装出側パージ室との間にそれぞれ昇降
装置を備える複数の流動層炉が設置され、装入側パージ
室及び装出側パージ室並びに複数の流動層炉はシール壁
で囲繞されるが如イ連結されて大気から遮断されており
、該シール壁等で囲繞される密閉室内に被処理材を装入
側パージ室から複数の流動層炉を経由して装出側パージ
室へと移送す°る搬送装着が装備されて成る流動層熱処
理装置に係る。
本発明において肝要な点は、装入側パージ室及び装出側
パージ室並びにそれらの間に設置された複数の流動層炉
をシール壁で囲繞するが如く連結して該シール壁等で囲
繞される密閉室を形成し、該密閉室内に被処理材を移送
するための搬送装置を装備して、正しく無酸化雰囲気下
で被処理材を熱処理し得るように構成した処にある。
以下、図面に基いて本発明の構成を更に詳細に説明する
〈実施例、その作用〉 第1図は本発明の一実施例を略示する全体図である。開
閉可能な扉11.12を有する装入側パージ室13と、
開閉可能な扉21.22を有する装出側パージ室23と
の間に、合計4個の流動層炉31,32,33.34が
直列に設置されている。流動層炉31,32.33は、
断熱材31a、32a、33aで囲まれた加熱室内にレ
トルト31b、32b、33bが装入され、該レトルト
31b、32b、33bにはヒータ31c、32c、3
3cが装備されていて、それぞれ下方に装備される分散
板から流動化ガス(例えば窒素ガス)を噴出させること
により該レトル)31b、32b、33b内に装填され
ている流動粒子が流動層を形成する構成となっている。
流動層炉34もほぼ同様の構成となっているが、図面の
場合、該流動層炉34は被処理材の冷却用に使用するた
め、ヒータが装備されていない。
そして、装入側パージ室13と流動層炉31との間、流
動層炉31 、32 、33 、34の相互間、流動層
炉34と装出側パージ室23との間、及びそれぞれ上下
面も含めて装入側パージ室13と装出側パージ室23と
の間がシール壁41で連結され、したがって該シール壁
41等で囲繞されるが如く大気から遮断された密閉室5
1が形成されている。該密閉室51内には、装入側パー
ジ室13及び装出側パージ室23内も同様となっている
が、被処理材Aを第1図において左側から右側へと間欠
的に移送するための搬送装2161が装備されており、
また装入側パージ室13と装出側パージ室23との間を
連結するシール壁41の上面には、流動層炉31,32
,33.34に対応する配置で昇降装置としてのシリン
ダ71,72,73.74が装備されている。
第2図は第1図の一実施例における搬送装置61を右側
面から見た状態で略示する部分拡大断面図である。図示
しない両側のシール壁41へ回動自在に軸支された駆動
軸61aに駆動スプロケット61bが固定され、該駆動
スプロケッ)61bには両側に従動ローラ61c、61
dを有する従動スブロケッ)61eがチェーン61fを
介して噛合されている。従動ローラ61c、61dには
上面の一部が開設された断面略矩形の短尺のレール61
hが従動ローラ61c、61dを囲繞するように当接し
ており、該レール61hからは受台61kが延設されて
いて、該受台61に上に被処理材AがaFIlされてい
る0図示しないモータにより駆動軸61a及び駆動スプ
ロケッ)61bを間欠的に回転させると、チェーン61
fを介して従動スプロケッ)61e及び従動ローラ61
c、61dも同様に回転するので、該従動ローラ61c
、61dに当接しているレール61hと共に受台61に
上に載置されている被処理材Aが、第1図において左側
から右側へと、間欠的に移送されるのである。
第3図は第1図の一実施例を正面から見た状態で略示す
る部分拡大断面図である。装入側パージ室13と装出側
パージ室23との間を連結するシールg41の上面にy
降装置としてのシリンダ72が装備され、該シリンダ7
2のシリンダロッド72aの先端にはその前後へ受片7
2bが突設されていて、該受片72bには複数の遊動ロ
ーラ72cが回動自在に軸支されている。第2図におい
て前述したように、駆動スプロケット61bの回転によ
りレール61hが図中左側から右側へと移送されてくる
と、該レール61hはシリンダ72の位置で遊動ローラ
72cに移載される。この段階で駆動スプロケッ)61
bの回転が止まり、シリンダ72が駆動してシリンダロ
ッド72−aが下降すると、レール61hと共に受台6
1に上に載置されている被処理材Aも下降して、該被処
理材Aは流動層炉32の流動層内へと装入される。流動
層炉32で所定の熱処理をされた後、レール6thと共
に被処理材Aは上記の場合と逆に上昇して元の位置に戻
り、この段階で駆動スプロケット61bの回転により図
中左側から移送されてくる別のレールによって図中右側
へと押出される。
第1図〜第3図において前述したので、繰り返しになる
その他の説明を省略するが、被処理材Aは、装入側パー
ジ室13においてガス置換されてから、搬送装置61で
密閉室51内へと移送され、該密閉室51内において、
搬送装置61及び昇降装置としてのシリンダ71,72
,73.74の相互に関係付けられて制御された間欠的
駆動により、流動層炉31.32において2段階で予熱
され、次いで流動層炉33で所定温度に加熱された後、
流動層炉34で冷却されて、最後に装出側パージ室23
において再びガス置換されてから、装置外へ抽出される
のである。
第4図は第1図に示した一実施例について流動層炉とシ
ール壁との連結状態を略示する部分拡大断面図である。
流動層炉32は、断熱材32aで囲まれた加熱室内にレ
トルト32bが装入され、該レトル)32bにはヒータ
32cが装備されていて、下方に装備された分散板32
dから流動化ガス(例えば窒素ガス)を噴出させること
により該レトル)32b内に装填されている流動粒子3
2eが流動層を形成する構成となっている。そして、該
レトル)32bの上部外周面には上面開設の受器32f
が突設されており、該受器32fにはシール用のサンド
32hが装填されていて、該サンド32h内にシール壁
41の先端が装入されている。流動層炉32とシール壁
41とはサンドシールを介して連結されているのである
が、かかるサンドシールに代えて、流動層炉32とシー
ル壁41とをフレキシブル蛇腹を介して連結してもよい
、双方をこのように連結すると、流動層炉32の特にレ
トルト32bが熱膨張を起こしても、シール壁41等で
囲繞される第1図の密閉室51内は正しく無酸化雰囲気
下に維持される。
以上1本発明の構成を図示した一実施例に基いて説明し
たが、本発明が該−実施例に限定されるというものでは
ない0例えば、流動層炉の設置個数やその構造自体は、
いうまでもなく被処理材の熱処理目的との関係で適宜に
選定され得るのである。
〈発明の効果〉 既に明らかなように1本発明には、シール壁等で囲繞さ
れる大気から遮断された密閉室内に被処理材の搬送装置
が装備されているため、被処理材を正しく無酸化雰囲気
下で熱処理することができ、したがって高品質の製品を
得ることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を略示する全体図。 第2図は第1図の一実施例を右側面から見た状態で略示
する部分拡大断面図、第3図は第1図の一実施例を正面
から見た状態で略示する部分拡大断面図、第4図は第1
図の一実施例について流動層炉とシール壁との連結状態
を略示する部分拡大断面図である。 13・・装入側パージ室、23・・装出側パージ室31
.32,33,34・・流動層炉 41・・シール壁、51・・密閉室 61・・搬送装置− 71,72,73,74・・シリンダ A・・被処理材 特許出願人 大同特殊鋼株式会社 代理人 弁理士 入 山 宏 正 第1図 ↓ 第4図 2d

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、装入側パージ室と装出側パージ室との間にそれぞれ
    昇降装置を備える複数の流動層炉が設置され、装入側パ
    ージ室及び装出側パージ室並びに複数の流動層炉はシー
    ル壁で囲繞されるが如く連結されて大気から遮断されて
    おり、該シール壁等で囲繞される密閉室内に被処理材を
    装入側パージ室から複数の流動層炉を経由して装出側パ
    ージ室へと移送する搬送装置が装備されて成る流動層熱
    処理装置。 2、流動層炉とシール壁とがサンドシールを介して連結
    された特許請求の範囲第1項記載の流動層熱処理装置。 3、流動層炉とシール壁とがフレキシブル蛇腹を介して
    連結された特許請求の範囲第1項記載の流動層熱処理装
    置。
JP25327487A 1987-10-07 1987-10-07 流動層熱処理装置 Pending JPH0196326A (ja)

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JP25327487A JPH0196326A (ja) 1987-10-07 1987-10-07 流動層熱処理装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP25327487A JPH0196326A (ja) 1987-10-07 1987-10-07 流動層熱処理装置

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JPH0196326A true JPH0196326A (ja) 1989-04-14

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ID=17249002

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JP25327487A Pending JPH0196326A (ja) 1987-10-07 1987-10-07 流動層熱処理装置

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JP (1) JPH0196326A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5227622A (en) * 1992-02-06 1993-07-13 Digital Stream Corp. Wireless input system for computer using pen position detection
JPH0665630A (ja) * 1992-08-21 1994-03-08 Saamaru:Kk 恒温焼入用熱処理炉
JP2013160418A (ja) * 2012-02-03 2013-08-19 Hamamatsu Heat Tec Kk 高速熱処理装置

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