JPH0195406A - 誘電体セラミック用焼結助剤 - Google Patents
誘電体セラミック用焼結助剤Info
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- JPH0195406A JPH0195406A JP62253379A JP25337987A JPH0195406A JP H0195406 A JPH0195406 A JP H0195406A JP 62253379 A JP62253379 A JP 62253379A JP 25337987 A JP25337987 A JP 25337987A JP H0195406 A JPH0195406 A JP H0195406A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は誘電体セラミック用焼結助剤に関し、特にた
とえば積層コンデンサなどに用いられる誘電体材料の主
成分に添加混合される誘電体セラミック用焼結助剤に関
する。
とえば積層コンデンサなどに用いられる誘電体材料の主
成分に添加混合される誘電体セラミック用焼結助剤に関
する。
(従来技術)
たとえば、チタン酸バリウム(BaTiOs) 、チタ
ン酸ストロンチウム(SrTi(h) 、酸化チタン(
TiOX)などを主体とする誘電体磁器は、通常130
0℃以上の温度で焼成される。
ン酸ストロンチウム(SrTi(h) 、酸化チタン(
TiOX)などを主体とする誘電体磁器は、通常130
0℃以上の温度で焼成される。
(発明が解決しようとする問題点)
このような磁器組成物を用いてたとえば積層コンデンサ
を製造する場合には、各セラミック層の間に内部電極が
介在されるが、誘電体組成物は上述したように1300
℃以上の温度で焼成されるため、未焼成のセラミック積
層体には、内部電極として高融点の白金、パラジウムな
どの貴金属のペーストが用いられる。しかしながら、こ
れらの貴金属は高価なため、積層コンデンサに占める内
部電極の材料費が30〜50%にものぼり、積層コンデ
ンサのコストダウンに対応できないことになる。さらに
、厚膜コンデンサでは、800〜1000℃で焼成する
低温焼結多層基板上に電極を形成できないなどの問題点
がある。
を製造する場合には、各セラミック層の間に内部電極が
介在されるが、誘電体組成物は上述したように1300
℃以上の温度で焼成されるため、未焼成のセラミック積
層体には、内部電極として高融点の白金、パラジウムな
どの貴金属のペーストが用いられる。しかしながら、こ
れらの貴金属は高価なため、積層コンデンサに占める内
部電極の材料費が30〜50%にものぼり、積層コンデ
ンサのコストダウンに対応できないことになる。さらに
、厚膜コンデンサでは、800〜1000℃で焼成する
低温焼結多層基板上に電極を形成できないなどの問題点
がある。
また、焼成温度が1300℃以上になれば、使用される
焼成炉の損傷が激しいので、焼成炉の保守、管理コスト
が使用時間の経緯とともに高くなり、しかも、焼成温度
が高いため、磁器化に要するエネルギコストも膨大なも
のとなる。
焼成炉の損傷が激しいので、焼成炉の保守、管理コスト
が使用時間の経緯とともに高くなり、しかも、焼成温度
が高いため、磁器化に要するエネルギコストも膨大なも
のとなる。
このため、最近では、低温焼結用の材料として鉛系のコ
ンデンサ材料、内部電極に安価なニッケルを用いた非還
元性のコンデンサ材料、さらには、内部電極として鉛、
鉛−錫合金を用い、あらかじめ積層体に内部電極が形成
される領域に空隙層を形成しておき、この空隙層に溶融
した鉛、鉛−錫合金を注入し、冷却、固化することによ
り、積層コンデンサとしたものがある。
ンデンサ材料、内部電極に安価なニッケルを用いた非還
元性のコンデンサ材料、さらには、内部電極として鉛、
鉛−錫合金を用い、あらかじめ積層体に内部電極が形成
される領域に空隙層を形成しておき、この空隙層に溶融
した鉛、鉛−錫合金を注入し、冷却、固化することによ
り、積層コンデンサとしたものがある。
しかしながら、従来よりすでに存在する誘電体材料につ
いて、そのものが有する特性が使用要求レベルに十分に
応えられるものである以上、この特性を損なわずに低温
で焼成できれば、それに越したことはない。
いて、そのものが有する特性が使用要求レベルに十分に
応えられるものである以上、この特性を損なわずに低温
で焼成できれば、それに越したことはない。
それゆえに、この発明の主たる目的は、たとえばコンデ
ンサ材料などの誘電体材料の焼成温度を下げることがで
きる、セラミック用焼結助剤を提供することである。
ンサ材料などの誘電体材料の焼成温度を下げることがで
きる、セラミック用焼結助剤を提供することである。
(問題点を解決するための手段)
この発明は、TeO2を0.5〜40モル%と、Li2
Oを1〜20モル%と、B2O3を10〜40モル%と
、SiO□を10〜50モル%と、RO(ただし、Rは
Ba、 Ca、 Srのうち少なくとも1種類以上)を
20〜70モル%含む、誘電体セラミック用焼結助
剤である。
Oを1〜20モル%と、B2O3を10〜40モル%と
、SiO□を10〜50モル%と、RO(ただし、Rは
Ba、 Ca、 Srのうち少なくとも1種類以上)を
20〜70モル%含む、誘電体セラミック用焼結助
剤である。
(発明の効果)
この発明によれば、誘電体材料の焼成温度を下げること
ができる。しかも、この場合、焼結された誘電体磁器は
その誘電損失に悪影舌が与えられない。
ができる。しかも、この場合、焼結された誘電体磁器は
その誘電損失に悪影舌が与えられない。
この発明の上述の目的、その他の目的、特徴および利点
は、以下の実施例の詳細な説明から一層明らかとなろう
。
は、以下の実施例の詳細な説明から一層明らかとなろう
。
(実施例)
この発明の誘電体セラミック用焼結助剤は、主体となる
誘電体材料を焼結する際に、あらかじめ所定の割合で誘
電体材料の主成分に添加混合された後成形体とされ、そ
の後焼成プロセスにもたらされる。この場合、誘電体セ
ラミック用焼結助剤は誘電体材料の主成分に対して、個
々に添加してもよいが、あらかじめセラミック用焼結助
剤を配合しておき、これを熱処理して溶融し、その後ガ
ラス化して粉砕したものを、誘電体材料の主成分に添加
混合してもよい。
誘電体材料を焼結する際に、あらかじめ所定の割合で誘
電体材料の主成分に添加混合された後成形体とされ、そ
の後焼成プロセスにもたらされる。この場合、誘電体セ
ラミック用焼結助剤は誘電体材料の主成分に対して、個
々に添加してもよいが、あらかじめセラミック用焼結助
剤を配合しておき、これを熱処理して溶融し、その後ガ
ラス化して粉砕したものを、誘電体材料の主成分に添加
混合してもよい。
ス且■
まず、表に示した組成の焼結助剤が得られるように、各
成分の酸化物、炭酸塩あるいは水酸化物を調合した。こ
れらをジルコニアボールを玉石としてポリポットボール
ミルで16時時間式混合。
成分の酸化物、炭酸塩あるいは水酸化物を調合した。こ
れらをジルコニアボールを玉石としてポリポットボール
ミルで16時時間式混合。
粉砕した後蒸発乾燥して、粉末を得た。得られた粉末を
白金のるつぼに入れ、1000℃で溶融し、これを急冷
することによってガラス化合物をつくった。このガラス
化合物をボールミルで200メツシユの篩を通過するよ
うに粗粉砕して、焼結助剤を準備した。
白金のるつぼに入れ、1000℃で溶融し、これを急冷
することによってガラス化合物をつくった。このガラス
化合物をボールミルで200メツシユの篩を通過するよ
うに粗粉砕して、焼結助剤を準備した。
一方、セラミック原料として、81.5BaTiOz
8BaZro、−10CaZr03−0.5MgTi
O3(モル比)の主成分にMnO□を0.2重量%添加
した組成物が得られるように、各原料の酸化物または炭
酸塩を調合した。これらをジルコニアボールを玉石とし
てポリポットボールミルで16時時間式混合、粉砕した
後蒸発乾燥して、粉末を得た。得られた粉末をジルコニ
ア質の匣にいれて1100℃の温度で2時間焼成した後
、200メツシユの篩を通過するように粗粉砕して、誘
電体粉末を準備した。
8BaZro、−10CaZr03−0.5MgTi
O3(モル比)の主成分にMnO□を0.2重量%添加
した組成物が得られるように、各原料の酸化物または炭
酸塩を調合した。これらをジルコニアボールを玉石とし
てポリポットボールミルで16時時間式混合、粉砕した
後蒸発乾燥して、粉末を得た。得られた粉末をジルコニ
ア質の匣にいれて1100℃の温度で2時間焼成した後
、200メツシユの篩を通過するように粗粉砕して、誘
電体粉末を準備した。
次に、準備した誘電体粉末に焼結助剤を表に示す割合で
添加し、これにポリビニルアルコール系のバインダを加
えてポリポットボールミルで16時時間式混合した。こ
れを蒸発乾燥し、造粒した後、1000kg/eJの圧
力で加圧して直径101墓6厚み11mの円板に成形し
て成形体を得た。この成形体を自然雰囲気中において9
00℃〜1350℃の温度で2時間焼成して、焼結体を
得た。
添加し、これにポリビニルアルコール系のバインダを加
えてポリポットボールミルで16時時間式混合した。こ
れを蒸発乾燥し、造粒した後、1000kg/eJの圧
力で加圧して直径101墓6厚み11mの円板に成形し
て成形体を得た。この成形体を自然雰囲気中において9
00℃〜1350℃の温度で2時間焼成して、焼結体を
得た。
得られた焼結体について、密度測定およびふくしん液に
漬けて焼結度の試験を行い、最適焼成温度を決定した。
漬けて焼結度の試験を行い、最適焼成温度を決定した。
また、得られた焼結体の両面に電極となる銀ペーストを
印刷塗布し、銀ペーストを空気中において800℃の温
度で30分分間−て、電極を形成して、コンデンサ(試
料)を得た。得られたコンデンサ(試料)について25
℃の温度における1kllz 、 IVr、m、sで
の誘電率(ε)、誘電損失(tanδ)および+20℃
を基準にした一25〜+85℃の温度範囲で誘電率の温
度特性を測定した。
印刷塗布し、銀ペーストを空気中において800℃の温
度で30分分間−て、電極を形成して、コンデンサ(試
料)を得た。得られたコンデンサ(試料)について25
℃の温度における1kllz 、 IVr、m、sで
の誘電率(ε)、誘電損失(tanδ)および+20℃
を基準にした一25〜+85℃の温度範囲で誘電率の温
度特性を測定した。
この測定結果を表に示した。
なお、表中、*印のものはこの発明範囲外のものである
。
。
この発明のセラミック用焼結助剤の組成範囲を限定した
のは次の理由による。
のは次の理由による。
つまり、試料番号19のようにTeO□が0.5モル%
未満になるか、試料番号14のようにLi2Oが1モル
%未満になると、焼成温度が1,300℃以上になり、
この発明の目的が達成できなくなるからである。一方、
試料番号24のようにTeO□が40モル%を超えるか
、試料番号18のようにLi2Oが20モル%を超える
と、焼結助剤そのものの溶融温度が低下し、その焼結助
剤を誘電体材料に配合して成形体とし、焼成プロセスに
もたらされる場合、焼結が完了する前に成形体が軟化変
形するため、焼結助剤としての役割を果たさないからで
ある。
未満になるか、試料番号14のようにLi2Oが1モル
%未満になると、焼成温度が1,300℃以上になり、
この発明の目的が達成できなくなるからである。一方、
試料番号24のようにTeO□が40モル%を超えるか
、試料番号18のようにLi2Oが20モル%を超える
と、焼結助剤そのものの溶融温度が低下し、その焼結助
剤を誘電体材料に配合して成形体とし、焼成プロセスに
もたらされる場合、焼結が完了する前に成形体が軟化変
形するため、焼結助剤としての役割を果たさないからで
ある。
また、試料番号31のように、B20.が10モル%未
満になると、焼成温度が1300℃以上になるからであ
る。一方、試料番号36のように、B20、が40モル
%を超えると、焼結助剤そのものの溶融温度が低下し、
その焼結助剤を誘電体材料に配合して成形体とし、焼成
プロセスにもたらされる場合、焼結が完了する前に成形
体が軟化変形するため、焼結助剤としての役割を果たさ
ないからである。
満になると、焼成温度が1300℃以上になるからであ
る。一方、試料番号36のように、B20、が40モル
%を超えると、焼結助剤そのものの溶融温度が低下し、
その焼結助剤を誘電体材料に配合して成形体とし、焼成
プロセスにもたらされる場合、焼結が完了する前に成形
体が軟化変形するため、焼結助剤としての役割を果たさ
ないからである。
さらに、試料番号37のようにSiO□が10モル%未
満になるか、試料番号42のようにSingが50モル
%を超えると、焼成温度が1300℃以上になってしま
うからである。
満になるか、試料番号42のようにSingが50モル
%を超えると、焼成温度が1300℃以上になってしま
うからである。
また、試料番号25のようにROが20モル%未満にな
るか、試料番号30のようにROが70モル%を超える
と、焼成温度が1300℃以上になるからである。
るか、試料番号30のようにROが70モル%を超える
と、焼成温度が1300℃以上になるからである。
さらに、この発明の誘電体セラミック用焼結助剤を誘電
体材料の主成分に添加する割合は、誘電体材料の主成分
によって異なるが、全体の0.05〜30.0重量%の
範囲である。これは、誘電体セラミック用焼結助剤の添
加する割合が試料番号1および2のように0.05重量
%未満では焼成温度の低減化が実現されず、一方、試料
番号13のように30.0重量%を超えると誘電体特性
が著しく損なわれたり、焼成が完了する前に軟化変形す
るからである。
体材料の主成分に添加する割合は、誘電体材料の主成分
によって異なるが、全体の0.05〜30.0重量%の
範囲である。これは、誘電体セラミック用焼結助剤の添
加する割合が試料番号1および2のように0.05重量
%未満では焼成温度の低減化が実現されず、一方、試料
番号13のように30.0重量%を超えると誘電体特性
が著しく損なわれたり、焼成が完了する前に軟化変形す
るからである。
なお、表において、温度特性について、B、 C、D
、EおよびFの各特性はJIS規格による温度特性を意
味し、各特性について詳細に説明すれば次のとおりであ
る。
、EおよびFの各特性はJIS規格による温度特性を意
味し、各特性について詳細に説明すれば次のとおりであ
る。
B特性:20℃における静電容量を基準として、−25
℃〜+85℃における容量変化 率が一10〜+10%を超えない。
℃〜+85℃における容量変化 率が一10〜+10%を超えない。
C特性:20℃における静電容量を基準として、−25
℃〜+85℃における容量変化 率が一20〜+20%を超えない。
℃〜+85℃における容量変化 率が一20〜+20%を超えない。
B特性:20℃における静電容量を基準として、−25
℃〜+85℃における容量変化 率が一30〜+20%を超えない。
℃〜+85℃における容量変化 率が一30〜+20%を超えない。
B特性:20℃における静電容量を基準として、−25
℃〜+85℃における容量変化 率が一55〜+20%を超えない。
℃〜+85℃における容量変化 率が一55〜+20%を超えない。
B特性:20℃における静電容量を基準として、−25
℃〜+85℃における容量変化 率が一80〜+30%を超えない。
℃〜+85℃における容量変化 率が一80〜+30%を超えない。
この実験例においては、この発明の焼結助剤を誘電体材
料に添加して焼成することによって、焼結助剤を未添加
のものに比べて、焼結温度を低減できることがわかる。
料に添加して焼成することによって、焼結助剤を未添加
のものに比べて、焼結温度を低減できることがわかる。
また、焼結助剤の添加量を増加していくと、室温におけ
る誘電率は低下するが、一方では、誘電率の温度特性が
B特性−B特性−り特性−C特性−B特性のように変化
し、その変化率を徐々に少なくでき、温度特性の改善に
効果がみられることがわかる。さらに、0.05重量%
の焼結助剤が添加されているときには、誘電率の低下現
象はみられないことがわかる。また、室温における誘電
損失は焼結助剤の添加量にほとんど影響されないことが
わかる。
る誘電率は低下するが、一方では、誘電率の温度特性が
B特性−B特性−り特性−C特性−B特性のように変化
し、その変化率を徐々に少なくでき、温度特性の改善に
効果がみられることがわかる。さらに、0.05重量%
の焼結助剤が添加されているときには、誘電率の低下現
象はみられないことがわかる。また、室温における誘電
損失は焼結助剤の添加量にほとんど影響されないことが
わかる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 TeO_2を0.5〜40モル%、 Li_2Oを1〜20モル%、 B_2O_3を10〜40モル%、 SiO_2を10〜50モル%、および RO(ただし、RはBa,Ca,Srのうち少なくとも
1種類以上)を20〜70モル%含む、誘電体セラミッ
ク用焼結助剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62253379A JPH0195406A (ja) | 1987-10-06 | 1987-10-06 | 誘電体セラミック用焼結助剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62253379A JPH0195406A (ja) | 1987-10-06 | 1987-10-06 | 誘電体セラミック用焼結助剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0195406A true JPH0195406A (ja) | 1989-04-13 |
Family
ID=17250541
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62253379A Pending JPH0195406A (ja) | 1987-10-06 | 1987-10-06 | 誘電体セラミック用焼結助剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0195406A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5392150A (en) * | 1991-05-15 | 1995-02-21 | Nippondenso Co., Ltd. | Optical information reading device |
US5543956A (en) * | 1992-10-08 | 1996-08-06 | Fuji Electric Co., Ltd. | Torsional vibrators and light deflectors using the torsional vibrator |
JP2008156182A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 焼結助剤、焼結体及セラミックコンデンサ |
-
1987
- 1987-10-06 JP JP62253379A patent/JPH0195406A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5392150A (en) * | 1991-05-15 | 1995-02-21 | Nippondenso Co., Ltd. | Optical information reading device |
US5543956A (en) * | 1992-10-08 | 1996-08-06 | Fuji Electric Co., Ltd. | Torsional vibrators and light deflectors using the torsional vibrator |
JP2008156182A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 焼結助剤、焼結体及セラミックコンデンサ |
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