JPH0155443B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0155443B2 JPH0155443B2 JP58242439A JP24243983A JPH0155443B2 JP H0155443 B2 JPH0155443 B2 JP H0155443B2 JP 58242439 A JP58242439 A JP 58242439A JP 24243983 A JP24243983 A JP 24243983A JP H0155443 B2 JPH0155443 B2 JP H0155443B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- semiconductor laser
- collimator lens
- parallel light
- image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 29
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
Landscapes
- Optical Head (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ビデオデイスクプレーヤや光情報デ
ータフアイル装置等の光学式記録再生装置の光学
ヘツド製造工程に用いられる光ビーム平行度調整
方法に関するものである。
ータフアイル装置等の光学式記録再生装置の光学
ヘツド製造工程に用いられる光ビーム平行度調整
方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
半導体レーザを使つた光学部品あるいは光学ヘ
ツドの光ビーム平行度調整方法の１つとして、平
行光ビームを集光して撮像管上に結像させその像
の大きさで調整する方法がある。その従来例を第
１図に示す。第１図において１の半導体レーザか
ら発光した光ビーム２ａはコリメータレンズ３で
平行光ビーム２ｂに変換される。なおコリメータ
レンズ３と半導体レーザ１は光学部品４として一
体化されている。次に平行光ビーム２ｂは拡大光
学系５により光ビーム２ｃとなつて撮像管６上の
点Ｐに結像し、モーター上にスポツト画像となつ
て観察される。従つて、平行光ビーム２ｂの平行
度はコリメータレンズ３と半導体レーザ１の光軸
方向の距離Ｓによつて決まり、距離Ｓが正確にコ
リメータレンズ３の焦点距離ｆであれば平行光ビ
ーム２ｂは平行になる。ここで拡大光学系５は平
行光ビーム２ｂが入射した時点Ｐにおける光スポ
ツトが最小になる様に構成されているから、平行
光ビーム２ｂが入射すると最小光スポツトになる
距離Ｓが焦点距離ｆからずれると第２図に示すよ
うな光学系路を通り撮像管６上に結像する光スポ
ツトの大きさは大きくなり鮮明度が低下する。従
つて調整しようとする光学部品４からの光ビーム
２ｂを拡大光学系５に入射させ、モニターを観察
しながら最小スポツトとなる様に距離Ｓを調整す
れば、平行光ビーム２ｂの平行度を調整すること
ができる。このような方法では精度を上げるため
に、光学系の拡大倍率と撮像管６及びモニターに
よる拡大倍率を合わせて100倍以上にすることが
多いが、半導体レーザ１の発光点のスポツト径は
非常に小さいため単に拡大しても十分な解像度を
得ることができない。実験では距離Ｓの調整精度
は数μm程度であり、平行光ビーム２ｂの平行度
にバラツキが出てくる。従つて光学部品４を光学
式記録再生装置の光学ヘツド等へ組込んだ場合、
デイスク上に照射する光ビームスポツトを均一に
することが困難であるという欠点を有していた。
ツドの光ビーム平行度調整方法の１つとして、平
行光ビームを集光して撮像管上に結像させその像
の大きさで調整する方法がある。その従来例を第
１図に示す。第１図において１の半導体レーザか
ら発光した光ビーム２ａはコリメータレンズ３で
平行光ビーム２ｂに変換される。なおコリメータ
レンズ３と半導体レーザ１は光学部品４として一
体化されている。次に平行光ビーム２ｂは拡大光
学系５により光ビーム２ｃとなつて撮像管６上の
点Ｐに結像し、モーター上にスポツト画像となつ
て観察される。従つて、平行光ビーム２ｂの平行
度はコリメータレンズ３と半導体レーザ１の光軸
方向の距離Ｓによつて決まり、距離Ｓが正確にコ
リメータレンズ３の焦点距離ｆであれば平行光ビ
ーム２ｂは平行になる。ここで拡大光学系５は平
行光ビーム２ｂが入射した時点Ｐにおける光スポ
ツトが最小になる様に構成されているから、平行
光ビーム２ｂが入射すると最小光スポツトになる
距離Ｓが焦点距離ｆからずれると第２図に示すよ
うな光学系路を通り撮像管６上に結像する光スポ
ツトの大きさは大きくなり鮮明度が低下する。従
つて調整しようとする光学部品４からの光ビーム
２ｂを拡大光学系５に入射させ、モニターを観察
しながら最小スポツトとなる様に距離Ｓを調整す
れば、平行光ビーム２ｂの平行度を調整すること
ができる。このような方法では精度を上げるため
に、光学系の拡大倍率と撮像管６及びモニターに
よる拡大倍率を合わせて100倍以上にすることが
多いが、半導体レーザ１の発光点のスポツト径は
非常に小さいため単に拡大しても十分な解像度を
得ることができない。実験では距離Ｓの調整精度
は数μm程度であり、平行光ビーム２ｂの平行度
にバラツキが出てくる。従つて光学部品４を光学
式記録再生装置の光学ヘツド等へ組込んだ場合、
デイスク上に照射する光ビームスポツトを均一に
することが困難であるという欠点を有していた。
発明の目的
本発明は、上記欠点を解消し、半導体レーザの
光をコリメータレンズで平行光ビームに変換する
場合の平行度の調整装置において、前記半導体レ
ーザに光ビームを帰還させることによつて精度の
向上を図り光学ヘツド等の製造工程に導入しうる
光ビーム平行度調整方法を提供することを目的と
するのである。
光をコリメータレンズで平行光ビームに変換する
場合の平行度の調整装置において、前記半導体レ
ーザに光ビームを帰還させることによつて精度の
向上を図り光学ヘツド等の製造工程に導入しうる
光ビーム平行度調整方法を提供することを目的と
するのである。
発明の構成
本発明は、半導体レーザから発せられたレーザ
光を平行にするためのコリメータレンズと前記半
導体レーザとの光軸を延長した位置に反射部材を
配置するとともに、前記反射部材と前記コリメー
タレンズとの間にハーフラーを配置し、前記反射
部材で反射したレーザ光を前記コリメータレン
ズ、前記ハーフミラーを透過した前記半導体レー
ザにもどして再び前記半導体レーザで反射するレ
ーザ光を前記ハーフミラーで反射させ、拡大光学
系を通して撮像管で結像させて得られる画像の大
きさが最小となるように前記半導体レーザとコリ
メータレンズとの距離を調整する光ビーム平行度
調整方法である。
光を平行にするためのコリメータレンズと前記半
導体レーザとの光軸を延長した位置に反射部材を
配置するとともに、前記反射部材と前記コリメー
タレンズとの間にハーフラーを配置し、前記反射
部材で反射したレーザ光を前記コリメータレン
ズ、前記ハーフミラーを透過した前記半導体レー
ザにもどして再び前記半導体レーザで反射するレ
ーザ光を前記ハーフミラーで反射させ、拡大光学
系を通して撮像管で結像させて得られる画像の大
きさが最小となるように前記半導体レーザとコリ
メータレンズとの距離を調整する光ビーム平行度
調整方法である。
実施例の説明
本発明の一実施例を第３図により説明する。第
３図において半導体レーザ１から発光した光ビー
ム２ａはコリメータレンズ３で平行光ビーム２ｂ
に変換される。半導体レーザ１とコリメータレン
ズ３は一体化され光学部品４となつており、光軸
方向の距離Ｓを調整することにより平行光ビーム
２ｂの平行度が変化する様構成されている。平行
光ビーム２ｂはハーフミラー５で通過する平光光
ビーム２ｃと反射してレンズ９，１０のレンズ群
から成る拡大光学系１１を通しカメラ１２上の点
P1に結像する平行光ビーム２ｄとに分離される。
平行光ビーム２ｃは反射ミラー６により反射され
平行光ビーム７ａとなつて再びハーフラー５を通
過し平行光ビーム７ｂとなる。平行光ビーム７ｂ
はコリメータレンズ３によつて集光し光ビーム７
ｃとなつて半導体レーザ１の発光端面に帰還す
る。この時発光点Ｑと帰還点Ｒを若干ずらす様に
反射ミラー６の取付角度θは設定されている。次
に再び半導体１の発光端面で反射した光ビーム８
ａはコリメータレンズ３で平行光ビーム８ｂに変
換され、ハーフミラー５で反射して平行光ビーム
８ｃになり、平行光ビーム２ｄと同様に、拡大光
学系１１を通し撮像管１２上の点P2に結像する。
１３はモニターで撮像管１２が撮像したP1及び
P2を各々画像１４、画像１５として映し出す。
３図において半導体レーザ１から発光した光ビー
ム２ａはコリメータレンズ３で平行光ビーム２ｂ
に変換される。半導体レーザ１とコリメータレン
ズ３は一体化され光学部品４となつており、光軸
方向の距離Ｓを調整することにより平行光ビーム
２ｂの平行度が変化する様構成されている。平行
光ビーム２ｂはハーフミラー５で通過する平光光
ビーム２ｃと反射してレンズ９，１０のレンズ群
から成る拡大光学系１１を通しカメラ１２上の点
P1に結像する平行光ビーム２ｄとに分離される。
平行光ビーム２ｃは反射ミラー６により反射され
平行光ビーム７ａとなつて再びハーフラー５を通
過し平行光ビーム７ｂとなる。平行光ビーム７ｂ
はコリメータレンズ３によつて集光し光ビーム７
ｃとなつて半導体レーザ１の発光端面に帰還す
る。この時発光点Ｑと帰還点Ｒを若干ずらす様に
反射ミラー６の取付角度θは設定されている。次
に再び半導体１の発光端面で反射した光ビーム８
ａはコリメータレンズ３で平行光ビーム８ｂに変
換され、ハーフミラー５で反射して平行光ビーム
８ｃになり、平行光ビーム２ｄと同様に、拡大光
学系１１を通し撮像管１２上の点P2に結像する。
１３はモニターで撮像管１２が撮像したP1及び
P2を各々画像１４、画像１５として映し出す。
以上の様に構成することにより、半導体レーザ
１の発光点Ｑと帰還点Ｒはモニター１３上に拡大
されて映し出されることになる。従つて平行光ビ
ーム２ｂの平行度が悪くなると画像１４，１５の
大きさは最小値からずれて大きくなり鮮明度が落
ちてくる。ここで画像１４は従来例と同様である
からこれを平行光ビーム２ａを調整することは精
度的に不十分であるが、画像１５は発光点が光軸
方向に拡大された像を観察した事と同等になり調
整精度を向上させることができる。その様子を第
４図で説明する。第４図は半導体レーザ１の発光
端面１ａがコリメータレンズ３の焦点距離ｆより
ΔSだけ内側にある状態を示している。幾何光学
より発光点Ｑの虚像R1′は焦点平面Ｆに対し対称
の位置に作られ、焦点距離ｆよりΔS外側となる。
このため光ビーム７ｃは発光端面１ａに帰還した
後反射し光ビーム８ａとなつて発光端面から2ΔS
の点R1に集光する。この距離は焦平面から3ΔS
の距離であり、半導体レーザ１の発光点Ｑ（焦平
面からΔS）の３倍に当たる。従つてコリメータ
レンズ３を通つた平行光ビーム８ｂは平行光ビー
ム２ｂより平行度ずれが大きくなり、点P2にお
いては点P1より光スポツトが３倍ぼけることな
になる。よつて画像１５の大きさが最小になるよ
う距離Ｓを調整すれば、その精度は、画像１４に
よつて調整した場合よりも３倍精度を向上させる
ことができる。
１の発光点Ｑと帰還点Ｒはモニター１３上に拡大
されて映し出されることになる。従つて平行光ビ
ーム２ｂの平行度が悪くなると画像１４，１５の
大きさは最小値からずれて大きくなり鮮明度が落
ちてくる。ここで画像１４は従来例と同様である
からこれを平行光ビーム２ａを調整することは精
度的に不十分であるが、画像１５は発光点が光軸
方向に拡大された像を観察した事と同等になり調
整精度を向上させることができる。その様子を第
４図で説明する。第４図は半導体レーザ１の発光
端面１ａがコリメータレンズ３の焦点距離ｆより
ΔSだけ内側にある状態を示している。幾何光学
より発光点Ｑの虚像R1′は焦点平面Ｆに対し対称
の位置に作られ、焦点距離ｆよりΔS外側となる。
このため光ビーム７ｃは発光端面１ａに帰還した
後反射し光ビーム８ａとなつて発光端面から2ΔS
の点R1に集光する。この距離は焦平面から3ΔS
の距離であり、半導体レーザ１の発光点Ｑ（焦平
面からΔS）の３倍に当たる。従つてコリメータ
レンズ３を通つた平行光ビーム８ｂは平行光ビー
ム２ｂより平行度ずれが大きくなり、点P2にお
いては点P1より光スポツトが３倍ぼけることな
になる。よつて画像１５の大きさが最小になるよ
う距離Ｓを調整すれば、その精度は、画像１４に
よつて調整した場合よりも３倍精度を向上させる
ことができる。
発明の効果
本発明は以上説明した様に、帰還光を測定する
ことにより半導体レーザとコリメータレンズの距
離を調整して平行光ビームを得るため、従来の方
法に比べ３倍精度を向上させることができる。こ
のため特に光学ヘツド製造工程で困難であつた光
ビームの平行度調整を容易にし、光学ヘツドの集
光特性を向上させることができる。
ことにより半導体レーザとコリメータレンズの距
離を調整して平行光ビームを得るため、従来の方
法に比べ３倍精度を向上させることができる。こ
のため特に光学ヘツド製造工程で困難であつた光
ビームの平行度調整を容易にし、光学ヘツドの集
光特性を向上させることができる。
第１図及び第２図は従来の光ビーム平行度調整
装置の構成図、第３図は本発明の一実施例の光ビ
ーム平行調整装置の構成図、第４図は同要部拡大
図である。 １……半導体レーザ、１ａ……発光端面、３…
…コリメータレンズ、５……ハーフミラー、６…
…反射ミラー、１１……拡大光学系、１２……撮
像管、１３……モニター。
装置の構成図、第３図は本発明の一実施例の光ビ
ーム平行調整装置の構成図、第４図は同要部拡大
図である。 １……半導体レーザ、１ａ……発光端面、３…
…コリメータレンズ、５……ハーフミラー、６…
…反射ミラー、１１……拡大光学系、１２……撮
像管、１３……モニター。
Claims (1)
- １ 半導体レーザから発せられたレーザ光を平行
にするためのコリメータレンズと前記半導体レー
ザとの光軸を延長した位置に反射部材を配置する
とともに、前記反射部材と前記コリメータレンズ
との間にハーフミラーを配置し、前記反射部材で
反射したレーザ光を前記コリメータレンズ、前記
ハーフミラーを透過した前記半導体レーザにもど
して再び前記半導体レーザで反射するレーザ光を
前記ハーフミラーで反射させ、拡大光学系を通し
て撮像管で結像させて得られる画像の大きさが最
小となるように前記半導体レーザとコリメータレ
ンズとの距離を調整する光ビーム平行度調整方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58242439A JPS60133417A (ja) | 1983-12-22 | 1983-12-22 | 光ビーム平行度調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58242439A JPS60133417A (ja) | 1983-12-22 | 1983-12-22 | 光ビーム平行度調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60133417A JPS60133417A (ja) | 1985-07-16 |
| JPH0155443B2 true JPH0155443B2 (ja) | 1989-11-24 |
Family
ID=17089102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58242439A Granted JPS60133417A (ja) | 1983-12-22 | 1983-12-22 | 光ビーム平行度調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60133417A (ja) |
-
1983
- 1983-12-22 JP JP58242439A patent/JPS60133417A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60133417A (ja) | 1985-07-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |