JPH0155255B2 - - Google Patents

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JPH0155255B2
JPH0155255B2 JP57111600A JP11160082A JPH0155255B2 JP H0155255 B2 JPH0155255 B2 JP H0155255B2 JP 57111600 A JP57111600 A JP 57111600A JP 11160082 A JP11160082 A JP 11160082A JP H0155255 B2 JPH0155255 B2 JP H0155255B2
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JP
Japan
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formula
compound
group
lower alkyl
phenyl group
Prior art date
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Application number
JP57111600A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS595133A (en
Inventor
Osamu Takazawa
Mitsuaki Mukoyama
Kunio Kojo
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T Hasegawa Co Ltd
Original Assignee
T Hasegawa Co Ltd
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Publication date
Application filed by T Hasegawa Co Ltd filed Critical T Hasegawa Co Ltd
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Publication of JPS595133A publication Critical patent/JPS595133A/en
Publication of JPH0155255B2 publication Critical patent/JPH0155255B2/ja
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
  • Pyrane Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、下記式(1) 但し式中、R1は水素原子、低級アルキル基も
しくはフエニル基を示し、 R2は低級アルキル基、C3〜C9アルケニル基も
しくはフエニル基を示し、 ただし上記に於て、R1及びR2が同時にフエニ
ル基を示すことはない、 又は、R1及びR2は一緒になつて、(−CH2)−3
(−CH2)−4もしくは
The present invention is based on the following formula (1) However, in the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a phenyl group, and R 2 represents a lower alkyl group, a C 3 to C 9 alkenyl group, or a phenyl group. However, in the above, R 1 and R 2 do not simultaneously represent a phenyl group, or R 1 and R 2 together represent (-CH 2 )- 3 ,
(−CH 2 ) − 4 or

【式】を示 す、そして、R3は低級アルキル基を示し、R4
低級アルキル基、基OR3、C3−C9アルケニル基、
もしくは低級アルコキシで置換されていてもよい
フエニル基を示すか、或は
[Formula], and R 3 represents a lower alkyl group, R 4 represents a lower alkyl group, a group OR 3 , a C 3 -C 9 alkenyl group,
or phenyl group optionally substituted with lower alkoxy, or

【式】基を 示し、ここで、R3とR4は一緒になつて、(−CH2
)−4
[Formula] represents a group, where R 3 and R 4 taken together, (-CH 2
) −4 ,

【式】もしくは[Formula] or

【式】を示すことができ、そして、 nは0もしくは1を示すが、 ここで、 式(3)化合物のR3とR4とが一緒になつて環を形
成している場合には、R4はその一緒になつたエ
ーテル結合を含む環を示し且n=0であり、式(3)
化合物がそれ以外の化合物の場合にはR4は前記
したと同義であり且つn=1である、 で表わされる化合物の製法に関し、上記式(1)化合
物を、改善された容易な操作で、安価且つ入手容
易な原料を用いて、好収率で工業的に有利に製造
できる新しい合成径路による製法に関する。上記
式(1)で表わされるβ−アルコキシケトン類および
β−ケトアセタール類は香料、農業、医薬などの
分野における製造中間体として有用且つ重要な公
知化合物である。 更に詳しくは、本発明は、下記式(2) 但し式中、R1は水素原子、低級アルキル基も
しくはフエニル基を示し、 R2は低級アルキル基、C3〜C9アルケニル基も
しくはフエニル基を示し、 ただし、上記に於て、R1及びR2が同時にフエ
ニル基を示すことはない、 又は、R1及びR2は一緒になつて、(−CH2)−3
(−CH2)−4もしくは
[Formula] can be represented, and n represents 0 or 1, where R 3 and R 4 of the compound of formula (3) are combined to form a ring, R 4 represents a ring containing the ether bond and n=0, and the formula (3)
When the compound is another compound, R 4 has the same meaning as above and n=1. Regarding the method for producing the compound represented by the following, the compound of formula (1) above is prepared by an improved and easy operation, The present invention relates to a manufacturing method using a new synthetic route that can be produced industrially with good yield using inexpensive and easily available raw materials. β-Alkoxyketones and β-ketoacetals represented by the above formula (1) are known compounds that are useful and important as manufacturing intermediates in the fields of fragrances, agriculture, medicine, and the like. More specifically, the present invention is based on the following formula (2) However, in the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a phenyl group, and R 2 represents a lower alkyl group, a C 3 to C 9 alkenyl group, or a phenyl group. However, in the above, R 1 and R 2 does not simultaneously represent a phenyl group, or R 1 and R 2 together represent (-CH 2 )- 3 ,
(−CH 2 ) − 4 or

【式】を示 す、そして、X及びYは低級アルキル基もしくは
フエニル基を示し、またXとYは一緒になつて(−
CH2)−4、(−CH2)−5もしくは(−CH2)−2O(−CH2
)−
を示す、 で表わされるエナミン化合物と、下記式(3) 但し式中、R3は低級アルキル基を示し、 R4は低級アルキル基、基OR3、C3−C9アルケ
ニル基、もしくは低級アルコキシで置換されてい
てもよいフエニル基を示すか、或は
[Formula], and X and Y represent a lower alkyl group or a phenyl group, and X and Y together represent (-
CH 2 ) − 4 , (−CH 2 ) − 5 or (−CH 2 ) − 2 O(−CH 2
)−
2 , an enamine compound represented by and the following formula (3) However, in the formula, R 3 represents a lower alkyl group, and R 4 represents a lower alkyl group, a group OR 3 , a C 3 -C 9 alkenyl group, or a phenyl group optionally substituted with lower alkoxy, or

【式】基を示し、ここで、R3とR4は一 緒になつて、(−CH2)−4[Formula] represents a group, where R 3 and R 4 taken together represent (-CH 2 )- 4 ,

【式】 もしくは【formula】 or

【式】を示すことができ る、 で表わされる化合物とを、ルイス酸の存在下に接
触せしめることを特徴とする前記式(1)化合物の製
法に関する。 従来、式(1)に包含されるβ−アルコキシケトン
類の合成法としては、α,β−不飽和カルボニル
化合物にアルコールを1.4付加する提案が知られ
ている。また、式(1)に包含されるβ−ケトアセタ
ール類の合成法としては、1・3−ジカルボニル
化合物を、該化合物の一方のカルボニル基のみを
選択的にアセタール化する提案が知られている。 しかしながら、これら従来提案に於ては、先ず
煩雑な多工程をへて原料α,β−不飽和カルボニ
ル化合物あるいは、1・3−ジカルボニル化合物
を合成する必要があり、更に、そのような煩雑な
多工程を経たのち、それぞれアルコールの1.4付
加反応あるいは選択的にモノアセタール化すると
いう工程上の不利益がある。更に又、後者におい
ては、副生成物としてビニルエーテルの生成が回
避し難度い欠点がある。 又、別の提案として、例えば、四塩化チタンの
存在下、シリルエノールエーテルとアセタールあ
るいはオルトギ酸トリメチルとの縮合反応によ
り、β−アルコキシケトン類およびβ−ケトアセ
タール類を合成する方法が知られている。 該方法は、反応に用いるシリルエノールエーテ
ルが非常に高価であり且つ又その合成が煩雑であ
つて工業的製法には適さない欠陥がある。加え
て、β−アルコキシケトン類およびβ−ケトアセ
タール製の収率が低い難点がある。 従来、β−アルコキシケトン類およびβ−ケト
アセタール類の製造に関しては、上述した従来提
案以外の製法については全く知られていず且つ
又、そのような他の製法による合成の可能性につ
いても全く示唆されたことが無い。 本発明者等は、上述のような従来提案の不利益
乃至欠陥を克服して工業的に有利に式(1)β−アル
コキシケトン類およびβ−ケトアセタール類を製
造できる新しい合成経路を開発すべく研究を行つ
てきた。 その結果、工業的に容易に合成でき且つ安価な
前記式(2)エナミン化合物と前記式(3)アセタールも
しくはオルトギ酸エステルとをルイス酸の存在下
に接触せしめるという新しい合成径路によつて、
容易な操作で且つ好収率をもつて式(1)化合物を工
業的に有利に製造できることを発見した。 従つて、本発明の目的は、新しい合成経路によ
つて式(1)化合物を工業的に有利に製造できる式(1)
化合物の製法を提供するにある。 本発明の上記目的及び更に多くの他の目的なら
びに利点は以下の記載から一層明らかとなるであ
ろう。 本発明方法によれば、前記式(2)エナミン化合物
と前記式(3)アセタールもしくはオルトギ酸トリア
ルキルを、ルイス酸の存在下に接触させることに
より一挙に式(1)目的化合物を形成することができ
る。該式(2)エナミン化合物は、対応するカルボニ
ル化合物とアミンとを触媒の存在下に常法に従つ
て反応させることにより容易に合成することがで
きる。 上記式(2)エナミン化合物形成工程を含めて、本
発明方法を図式的に示すと、以下のように示すこ
とができる。 上記に於て、R1、R2、R3、R4、X、Y及びn
は前記したと同義である。 上記例に於て、式(4)カルボニル化合物と式(5)ア
ミンとの反応は、それ自体公知のエナミン化合物
合成法に従つて(エナミン合成例文献:G.Stork
et al.、J.Am.Chem.Soc.、85、207(1963);S.
Hunig et al.、O.S.、coll.、、808(1973).〕、
たとえば炭酸カリウム、p−トルエンスルホン酸
などの如き触媒の存在下に、式(4)化合物と式(5)化
合物とを接触せしめることにより容易に行うこと
ができる。 例えば、シクロヘキサノン(1.5モル)、モルホ
リン(1.8モル)、およびp−トルエンスルホン酸
(1.5g)のトルエン(300ml)の溶液を加熱還流
し、共沸する水を除去することにより、1−(N
−モルホリノ)−1−シクロヘキセンを約80%の
収率で得ることができる。 例えば上述のようにして得ることのできる式(2)
エナミン化合物に於て、R1の低級アルキル基の
例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、などの如きC1
C4のアルキル基、とくにはメチル基を例示する
ことができる。又、R2の低級アルキル基として
は、上記R1について例示したと同様なアルキル
基、とくにはC3〜C4アルキル基を例示できる。
R1及びR2の低級アルキル基は直鎖もしくは分枝
のいずれのアルキル基であつてもよい。又、R2
のC3〜C9アルケニル基の例としては、1−プロ
ペニル、2−メチル−1−プロペニル、6−メチ
ル−5−ヘプテン−2−イル1−ノネニルの如き
直鎖もしくは分枝のアルケニル基を例示すること
ができる。又、R1及びR2のフエニル基は、これ
らR1及びR2の両者が同時にフエニル基を示すこ
とはない。更に、R1及びR2は一緒になつて、(−
CH2)−3〔シクロペンテン〕、(−CH2)−4〔シクロヘ
キセン〕、
The present invention relates to a method for producing the compound of formula (1), which comprises contacting a compound represented by the following formula in the presence of a Lewis acid. Conventionally, as a method for synthesizing β-alkoxyketones included in formula (1), a proposal has been known in which 1.4 times of alcohol is added to an α,β-unsaturated carbonyl compound. Furthermore, as a method for synthesizing β-ketoacetals included in formula (1), there is a known proposal to selectively acetalize only one carbonyl group of a 1,3-dicarbonyl compound. There is. However, in these conventional proposals, it is first necessary to synthesize the raw material α,β-unsaturated carbonyl compound or 1,3-dicarbonyl compound through complicated multiple steps, and furthermore, such complicated steps are necessary. After going through multiple steps, each process has the disadvantage of 1.4-addition reaction of alcohol or selective monoacetalization. Furthermore, the latter method has the disadvantage that it is difficult to avoid the formation of vinyl ether as a by-product. As another proposal, a method is known for synthesizing β-alkoxyketones and β-ketoacetals, for example, by a condensation reaction of silyl enol ether and acetal or trimethyl orthoformate in the presence of titanium tetrachloride. There is. This method has the disadvantage that the silyl enol ether used in the reaction is very expensive and its synthesis is complicated, making it unsuitable for industrial production. In addition, there is a drawback that the yield of β-alkoxyketones and β-ketoacetals is low. Until now, with regard to the production of β-alkoxyketones and β-ketoacetals, no manufacturing methods other than those previously proposed have been known at all, and no possibility of synthesis by such other manufacturing methods has been suggested at all. I have never been The present inventors have developed a new synthetic route that can industrially advantageously produce β-alkoxyketones and β-ketoacetals of formula (1) by overcoming the disadvantages and defects of the conventional proposals as described above. I've been doing a lot of research. As a result, by a new synthetic route in which the enamine compound of formula (2), which can be easily synthesized industrially and is inexpensive, and the acetal or orthoformate of formula (3) are brought into contact in the presence of a Lewis acid,
It has been discovered that the compound of formula (1) can be industrially advantageously produced with easy operation and good yield. Therefore, an object of the present invention is to obtain a compound of formula (1) that can be industrially advantageously produced by a new synthetic route.
To provide a method for producing a compound. The above objects and many other objects and advantages of the present invention will become more apparent from the following description. According to the method of the present invention, the target compound of formula (1) can be formed at once by bringing the enamine compound of formula (2) into contact with the acetal or trialkyl orthoformate of formula (3) in the presence of a Lewis acid. Can be done. The enamine compound of formula (2) can be easily synthesized by reacting a corresponding carbonyl compound and an amine in the presence of a catalyst according to a conventional method. The method of the present invention, including the step of forming the enamine compound of formula (2) above, can be schematically illustrated as follows. In the above, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , X, Y and n
has the same meaning as described above. In the above example, the reaction between the carbonyl compound of formula (4) and the amine of formula (5) was carried out in accordance with the enamine compound synthesis method known per se (enamine synthesis example literature: G. Stork
et al., J.Am.Chem.Soc., 85 , 207 (1963); S.
Hunig et al., OS, coll., 5 , 808 (1973). ],
For example, this can be easily carried out by bringing the compound of formula (4) and the compound of formula (5) into contact in the presence of a catalyst such as potassium carbonate or p-toluenesulfonic acid. For example, 1-(N
-morpholino)-1-cyclohexene can be obtained in a yield of about 80%. For example, equation (2), which can be obtained as described above,
In enamine compounds, examples of lower alkyl groups for R 1 include C 1 - such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, etc.
Examples include C 4 alkyl groups, particularly methyl groups. Examples of the lower alkyl group for R2 include the same alkyl groups as exemplified above for R1 , particularly C3 to C4 alkyl groups.
The lower alkyl groups of R 1 and R 2 may be either straight chain or branched alkyl groups. Also, R 2
Examples of C3 - C9 alkenyl groups include straight chain or branched alkenyl groups such as 1-propenyl, 2-methyl-1-propenyl, 6-methyl-5-hepten-2-yl-1-nonenyl. I can give an example. Further, regarding the phenyl groups of R 1 and R 2 , both R 1 and R 2 do not represent a phenyl group at the same time. Furthermore, R 1 and R 2 together form (−
CH2 ) -3 [cyclopentene], ( -CH2 ) -4 [cyclohexene],

【式】〔3,4−ジ メチル−1,3−シクロヘキサジエン〕を示すこ
とができる。 このような式(2)化合物の例としては、たとえ
ば、1−(N−モルホリノ)−1−シクロヘキセ
ン、3,4−ジメチル−1−(N−モルホリノ)−
1,3−シクロヘキサジエン、1−(N−ピペリ
ジノ)−1−ヘキセン、5−メチル−2−(N−モ
ルホリノ)−2,4−ヘキサジエン、3−メチル
−1−(N−モルホリノ)−1−ブテン、β−(N
−ピペリジノ)スチレン、α−(N−モルホリノ)
スチレン、3,7−ジメチル−1−(N−モルホ
リノ)−1,6−オクタジエン、N−メチル−N
−(1−シクロヘキセニル)アニリン、1−(N−
モルホリノ)−1−シクロペンテン、1−(N−モ
ルホリノ)−1−ヘキセン、などを例示すること
ができる。 本発明方法によれば、上記の如き式(2)エナミン
化合物と、式(3)化合物とを、ルイス酸の存在下に
接触せしめて式(1)目的化合物を得ることができ
る。 上記反応は、好ましくはハロゲン化炭化水素溶
媒中で、ルイス酸の存在下に式(2)化合物と式(3)化
合物とを接触せしめることにより行うことができ
る。反応は室温でも進行するのでとくに加熱の必
要はないが、例えば約−60℃〜約40℃、より好ま
しくは約0゜〜約20℃の如き反応温度を例示でき
る。反応時間は適宜に選択でき、たとえば約0.5
時間〜約5時間、より好ましくは約1時間〜約2
時間の反応時間を例示することができる。 反応に際して、式(2)化合物に対する式(3)化合物
の使用量も適宜に選択でき、たとえば、式(2)化合
物1モルに対して約1〜約2モル程度の使用量を
例示することができる。更に、ルイス酸の使用量
も適宜に選択でき、たとえば、式(2)化合物1モル
に対して約0.1〜約2モル程度、より好ましくは
約1モル前後の使用量を例示することができる。 さらに、上記ハロゲン化炭化水素溶媒の例とし
ては、例えば、モノクロロメタン、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、モノクロロエタ
ン、1,2−ジクロロエタン、これらの混合物等
を例示できる。これらの有機溶媒の使用量には、
特別の制約は無いが、式(2)化合物に対し、例えば
約2〜約10重量倍程度の範囲を例示できる。ま
た、ルイス酸の例としては、四塩化チタン、四塩
化スズ、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、三フツ化
ホウ素ジエチルエーテル錯体、三フツ化ホウ素酢
酸錯体、臭化亜鉛等を挙げることができる。反応
生成物は、溶媒を留去したのち、所望により減圧
蒸留等の手段で精製することができる。 上記(2)エナミン化合物との反応に用いる式(3)化
合物に於て、R3の低級アルキル基の例としては、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ペンチルなどの如きC1−C5
ルキル基、好ましくはC1−C4アルキル基を例示
することができる。R4の基OR3におけるR3につ
いても同様である。又、R4の低級アルキル基の
例としては、上記R3について例示した同様な低
級アルキル基を例示することができる。又、R4
のC3−C9アルケニル基の例としては、式(2)のR2
についてすでに例示したと同様なアルケニル基を
例示できる。又、R4のフエニル基は低級アルコ
キシ基で置換されていてもよく、C1〜C4アルコ
キシ基とくにはメトキシ基を例示できる。 更に式(3)化合物においてR3とR4は一緒になつ
を示すことができる。このような式(3)化合物の例
としては、たとえば、オルトギ酸トリメチル、オ
ルトギ酸トリエチル、アセトアルデヒドジエチル
アセタール、アセトアルデヒド−ジn−ブチルア
セタール、ブタナールジエチルアセタール、3−
メチルブタナールジイソプロピルアセタール、ト
ランス−2−ブテナ−ルジメチルアセタール、ト
ランス−2−ヘキセナールジメチルアセタール、
3,7−ジメチル−6−オクテナールジエチルア
セタール、ベンツアルデヒドジエチルアセター
ル、フエニルアセトアルデヒドジエチルアセター
ル、p−アニスアルデヒドジメチルアセタール、
ヘリオナールジメチルアセタール、2−エトキシ
−5−ペンチルテトラヒドロフラン、2−メトキ
シテトラヒドロピラン、2−メトキシ−4−メチ
ルテトラヒドロピラン等を例示することができ
る。 本発明によれば、前に示した下記式(1) 但し式中、R1、R2、R3及びR4は前記したと同
義であり、nは0もしくは1を示すが、ここで、
式(3)化合物のR3とR4とが一緒になつて環を形成
している場合には、R4はその一緒になつた環を
示し且n=0であり、式(3)化合物がそれ以外の化
合物の場合にはR4は前記したと同義であり且つ
n=1である、 で表わされる化合物が、容易な操作で、安価且つ
入手容易な原料を用いて好収率で工業的に有利に
得られる。 上記式(1)におけるnの定義に明らかなとおり、
式(3)化合物が3ケの基OR3を有する場合(すなわ
ちR4もOR3)には形成される式(1)化合物におけ
る基OR3の数は2ケであり、式(3)化合物が2ケの
基OR3を有する場合(すなわちR4はOR3以外の
基)には形成される式(1)化合物における基OR3
数は1ケであり、式(3)化合物が1ケの基OR3を有
する場合(すなわちR3とR4とが一緒になつてエ
ーテル結合を含む環を形成している場合)には形
成される式(1)化合物における基OR3の数はゼロで
ある。 上述のようにして得られる式(1)化合物の例とし
ては、たとえば、以下の如き化合物を例示するこ
とができる。 例えば、2−ジエトキシメチルシクロヘキサ
ン、2−ジメトキシメチルシクロヘキサノン、2
−メトキシメチル−3,4−ジメチル−3−シク
ロヘキセノン、2−ジエトキシメチルヘキサナー
ル、3−ジメトキシメチル−5−メチル−4−ヘ
キセン−3−オンなどの如きβ−ケトアセタール
類;3−エトキシ−2−イソプロピルヘキサナー
ル、3−(4−メトキシフエニル)−2−イソプロ
ピル−3−メトキシプロパノール、2−ブチル−
3−エトキシブタナール2−ブチル−3−イソプ
ロポキシ−5−メチルヘキサナール、2−ブチル
−3−エトキシ−3−フエニルプロパノール、2
−(2−テトラヒドロピラニル)ヘキサナール、
2−(1−エトキシブチル)−3,7−ジメチル−
6−オクテナール、4−メトキシ−3−(2−メ
チル−1−プロペニル)−5−ヘプテン−2−オ
ン、4−エトキシ−3−(2−メチル−1−プロ
ペニル)−4−フエニル−2−ブタノン、2−(1
−エトキシエチル)シクロヘキサノン、2−(2
−ブトキシエチル)シクロヘキサノン、2−(1
−メトキシ−2−ブテニル)シクロヘキサノン、
2−(α−エトキシベンジル)シクロヘキサノン、
2−(2−テトラヒドロピラニル)シクロヘキサ
ノン、2−(1−メトキシ−2−ヘキセニル)シ
クロヘキサノン、2−(1−メトキシ−2−メチ
ル−3−(3,4−メチレンジオキシフエニル)
プロピル)シクロヘキサノン、2−(5−ペンチ
ル−2−テトラヒドロフラニル)シクロヘキサノ
ン、2−(1−エトキシエチル)シクロペンタノ
ン、2−(4−メチル−2−テトラヒドロピラニ
ル)シクロペンタノン、2−(1−エトキシ−3,
7−ジメチル−6−オクテニル)シクロペンタノ
ン、3−エトキシ−1−フエニル−1−ブタノ
ン、3−イソプロポキシ−5−メチル−2−フエ
ニルヘキサナールなどの如きβ−アルコキシケト
ン類。 次に、実施例により、本発明方法実施の数態様
を示す。 実施例 1 2−ジエトキシメチルシクロヘキサノンの合
成: 乾燥ジクロルメタン50ml中に、0.05モル(8.4
g)の1−(N−モルホリノ)−1−シクロヘキセ
ンと0.065モル(9.6g)のオルトギ酸トリエチル
を仕込み、0.065モル(16.9g)の四塩化スズを
約−40℃に於て、かくはん条件下、アルゴン雰囲
気下で添加する。添加後さらに約0℃で約1時間
かくはん条件下に反応させる。反応混合物中に水
50mlを添加し、さらに約1時間室温においてかく
はんする。有機層を分離し、食塩水で1回洗浄し
たのち、飽和重ソウ水で中和洗浄する。有機層
は、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのちジクロ
ルメタンを回収する。得られた粗製を減圧蒸留に
付して、沸点83〜84℃/2mmHgの留分として2
−ジエトキシメチルシクロヘキサノン9.0g(収
率90%)を得た。 実施例 2 2−(α−エトキシベンジル)シクロヘキサノ
ンの合成: 乾燥ジクロルメタン50mlと0.065モル(11.7g)
のベンツアルデヒドジエチルアセタールを仕込み
−30℃にかくはん冷却する。次に0.065モル(9.2
g)の三フツ化ホウ素ジエチルエーテル錯体を、
アルゴン雰囲気下添加し、約5分後0.05モル
(8.4g)の1−(N−モルホリノ)−1−シクロヘ
キセンを同様に添加する。添加後さらに室温で約
2時間かくはん条件下に反応させる。反応混合物
中に水50mlを添加し、さらに約1時間室温に於て
かくはんする。有機層を分離し、食塩水で1回洗
浄したのち、飽和重ソウ水で中和洗浄する。有機
層は、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、ジ
クロルメタンを回収する。得られた粗製を減圧蒸
留に付して、沸点120−122℃/1.5mmHgの留分と
して2−(α−エトキシベンジル)シクロヘキサ
ノン10.3g(収率89%)を得た。 実施例 3〜28 前記実施例1〜2と同様にして、後掲表−1に
示した式(2)エナミン化合物、式(3)化合物およびル
イス酸を用いて各種のβ−ケトアセタール類およ
びβ−アルコキシケトン類を合成した。その結果
を表−1に示す。
[Formula] [3,4-dimethyl-1,3-cyclohexadiene] can be shown. Examples of such compounds of formula (2) include 1-(N-morpholino)-1-cyclohexene, 3,4-dimethyl-1-(N-morpholino)-
1,3-cyclohexadiene, 1-(N-piperidino)-1-hexene, 5-methyl-2-(N-morpholino)-2,4-hexadiene, 3-methyl-1-(N-morpholino)-1 -butene, β-(N
-piperidino)styrene, α-(N-morpholino)
Styrene, 3,7-dimethyl-1-(N-morpholino)-1,6-octadiene, N-methyl-N
-(1-cyclohexenyl)aniline, 1-(N-
Examples include morpholino)-1-cyclopentene and 1-(N-morpholino)-1-hexene. According to the method of the present invention, the target compound of formula (1) can be obtained by bringing the enamine compound of formula (2) as described above into contact with the compound of formula (3) in the presence of a Lewis acid. The above reaction can be carried out by bringing the compound of formula (2) and the compound of formula (3) into contact in the presence of a Lewis acid, preferably in a halogenated hydrocarbon solvent. Since the reaction proceeds at room temperature, there is no particular need for heating, but the reaction temperature can be, for example, about -60°C to about 40°C, more preferably about 0° to about 20°C. The reaction time can be selected as appropriate, for example about 0.5
hours to about 5 hours, more preferably about 1 hour to about 2 hours
An example of the reaction time is hours. In the reaction, the amount of the compound of formula (3) to be used relative to the compound of formula (2) can be appropriately selected. can. Further, the amount of Lewis acid to be used can be selected as appropriate, and for example, about 0.1 to about 2 mol, more preferably about 1 mol, per 1 mol of the compound of formula (2) can be exemplified. Further, examples of the halogenated hydrocarbon solvent include monochloromethane, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, monochloroethane, 1,2-dichloroethane, and mixtures thereof. The amount of these organic solvents used includes
Although there is no particular restriction, the amount may be, for example, about 2 to about 10 times the weight of the compound of formula (2). Further, examples of Lewis acids include titanium tetrachloride, tin tetrachloride, aluminum chloride, zinc chloride, boron trifluoride diethyl ether complex, boron trifluoride acetic acid complex, zinc bromide, and the like. After the solvent is distilled off, the reaction product can be purified by means such as vacuum distillation, if desired. In the compound of formula (3) used for the reaction with the enamine compound (2) above, examples of the lower alkyl group of R 3 are:
Examples include C1 - C5 alkyl groups, preferably C1 - C4 alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, pentyl and the like. The same applies to R 3 in the group OR 3 of R 4 . Furthermore, examples of the lower alkyl group for R 4 include the same lower alkyl groups exemplified for R 3 above. Also, R 4
Examples of C 3 -C 9 alkenyl groups include R 2 in formula (2)
The same alkenyl groups as already exemplified can be exemplified. Further, the phenyl group of R 4 may be substituted with a lower alkoxy group, such as a C 1 -C 4 alkoxy group, particularly a methoxy group. Furthermore, in the compound of formula (3), R 3 and R 4 are combined can be shown. Examples of such compounds of formula (3) include trimethyl orthoformate, triethyl orthoformate, acetaldehyde diethylacetal, acetaldehyde-di-n-butylacetal, butanal diethylacetal, 3-
Methylbutanal diisopropyl acetal, trans-2-butenal dimethyl acetal, trans-2-hexenal dimethyl acetal,
3,7-dimethyl-6-octenal diethylacetal, benzaldehyde diethylacetal, phenylacetaldehyde diethylacetal, p-anisaldehyde dimethyl acetal,
Examples include helional dimethyl acetal, 2-ethoxy-5-pentyltetrahydrofuran, 2-methoxytetrahydropyran, and 2-methoxy-4-methyltetrahydropyran. According to the present invention, the following formula (1) shown above However, in the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as described above, and n represents 0 or 1, but here,
When R 3 and R 4 of the compound of formula (3) are combined to form a ring, R 4 represents the combined ring and n=0, and the compound of formula (3) In the case of other compounds, R 4 has the same meaning as above and n = 1. The compound represented by the following can be industrially produced with easy operation and in good yield using inexpensive and easily available raw materials. can be advantageously obtained. As is clear from the definition of n in the above formula (1),
When the compound of formula (3) has three groups OR 3 (that is, R 4 is also OR 3 ), the number of groups OR 3 in the compound of formula (1) formed is two, and the compound of formula (3) has 2 groups OR 3 (that is, R 4 is a group other than OR 3 ), the number of groups OR 3 in the compound of formula (1) formed is 1, and the compound of formula (3) has 1 When the compound of formula ( 1 ) is formed , the number of groups OR 3 is It is zero. Examples of the compound of formula (1) obtained as described above include the following compounds. For example, 2-diethoxymethylcyclohexane, 2-dimethoxymethylcyclohexanone, 2
-β-ketoacetals such as methoxymethyl-3,4-dimethyl-3-cyclohexenone, 2-diethoxymethylhexanal, 3-dimethoxymethyl-5-methyl-4-hexen-3-one; 3-ethoxy -2-isopropylhexanal, 3-(4-methoxyphenyl)-2-isopropyl-3-methoxypropanol, 2-butyl-
3-ethoxybutanal 2-butyl-3-isopropoxy-5-methylhexanal, 2-butyl-3-ethoxy-3-phenylpropanol, 2
-(2-tetrahydropyranyl)hexanal,
2-(1-ethoxybutyl)-3,7-dimethyl-
6-octenal, 4-methoxy-3-(2-methyl-1-propenyl)-5-hepten-2-one, 4-ethoxy-3-(2-methyl-1-propenyl)-4-phenyl-2- Butanone, 2-(1
-ethoxyethyl)cyclohexanone, 2-(2
-butoxyethyl)cyclohexanone, 2-(1
-methoxy-2-butenyl)cyclohexanone,
2-(α-ethoxybenzyl)cyclohexanone,
2-(2-tetrahydropyranyl)cyclohexanone, 2-(1-methoxy-2-hexenyl)cyclohexanone, 2-(1-methoxy-2-methyl-3-(3,4-methylenedioxyphenyl)
propyl)cyclohexanone, 2-(5-pentyl-2-tetrahydrofuranyl)cyclohexanone, 2-(1-ethoxyethyl)cyclopentanone, 2-(4-methyl-2-tetrahydropyranyl)cyclopentanone, 2-( 1-ethoxy-3,
β-alkoxyketones such as 7-dimethyl-6-octenyl)cyclopentanone, 3-ethoxy-1-phenyl-1-butanone, 3-isopropoxy-5-methyl-2-phenylhexanal, and the like. Examples will now be given to illustrate some aspects of carrying out the method of the invention. Example 1 Synthesis of 2-diethoxymethylcyclohexanone: 0.05 mol (8.4
g) 1-(N-morpholino)-1-cyclohexene and 0.065 mol (9.6 g) of triethyl orthoformate, and 0.065 mol (16.9 g) of tin tetrachloride were stirred at about -40°C. , added under an argon atmosphere. After the addition, the mixture is further reacted at about 0° C. for about 1 hour under stirring conditions. water in the reaction mixture
Add 50 ml and stir for an additional hour at room temperature. The organic layer is separated, washed once with brine, and then neutralized and washed with saturated sodium hydrogen chloride solution. The organic layer is dried over anhydrous magnesium sulfate, and then dichloromethane is recovered. The obtained crude product was subjected to vacuum distillation to obtain 2 fractions with a boiling point of 83-84℃/2mmHg.
-Diethoxymethylcyclohexanone 9.0 g (yield 90%) was obtained. Example 2 Synthesis of 2-(α-ethoxybenzyl)cyclohexanone: 50 ml of dry dichloromethane and 0.065 mol (11.7 g)
of benzaldehyde diethyl acetal and stirred and cooled to -30°C. Then 0.065 mol (9.2
g) boron trifluoride diethyl ether complex,
It is added under an argon atmosphere and after about 5 minutes 0.05 mol (8.4 g) of 1-(N-morpholino)-1-cyclohexene is added as well. After the addition, the mixture is further reacted at room temperature for about 2 hours under stirring conditions. 50 ml of water is added to the reaction mixture, and the mixture is further stirred at room temperature for about 1 hour. The organic layer is separated, washed once with brine, and then neutralized and washed with saturated sodium bicarbonate solution. After drying the organic layer over anhydrous magnesium sulfate, dichloromethane is recovered. The obtained crude product was subjected to vacuum distillation to obtain 10.3 g (yield: 89%) of 2-(α-ethoxybenzyl)cyclohexanone as a fraction with a boiling point of 120-122°C/1.5 mmHg. Examples 3 to 28 In the same manner as in Examples 1 to 2, various β-ketoacetals and β -Alkoxyketones were synthesized. The results are shown in Table-1.

【表】 〓ヘキセン エチル ズ(C
ヘキサナール
[Table] Hexene ethyl (C
)
hexanal

【表】
ヘキサノン
【table】
hexanone

【表】 ピルアセタール
ヘキサナール
[Table] Pyracetal
Hexanal

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 下記式(2) 但し式中、R1は水素原子、低級アルキル基も
しくはフエニル基を示し、 R2は低級アルキル基、C3〜C9アルケニル基も
しくはフエニル基を示し、 ただし上記に於て、R1及びR2が同時にフエニ
ル基を示すことはない、 又は、R1及びR2は一緒になつて、(−CH2)−3
(−CH2)−4もしくは【式】を示 す、そして、X及びYは低級アルキルもしくはフ
エニル基を示し、またXとYは一緒になつて(−
CH2)−4、(−CH2)−5もしくは(−CH2)−2O(−CH2
)−
を示す、 で表わされるエナミン化合物と、下記式(3) 但し式中、R3は低級アルキル基を示し、R4
低級アルキル基、基OR3、C3−C9アルケニル基、
もしくは低級アルコキシで置換されていてもよい
フエニル基を示すか、或は【式】基を 示し、ここで、R3とR4は一緒になつて、(−CH2
)−4、【式】もしくは 【式】を示すことができる、 で表わされる化合物とを、ルイス酸の存在下に接
触せしめることを特徴とする下記式(1) 但し式中、R1、R2、R3及びR4は前記したと同
義であり、nは0もしくは1を示すが、ここで、
式(3)化合物のR3とR4とが一緒になつて環を形成
している場合には、R4はその一緒になつたエー
テル結合を含む環を示し且つn=0であり、式(3)
化合物がそれ以外の化合物の場合にはR4は前記
したと同義であり且つn=1である、 で表わされる化合物の製法。
[Claims] 1. The following formula (2) However, in the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a phenyl group, and R 2 represents a lower alkyl group, a C 3 to C 9 alkenyl group, or a phenyl group. However, in the above, R 1 and R 2 do not simultaneously represent a phenyl group, or R 1 and R 2 together represent (-CH 2 )- 3 ,
(-CH 2 ) -4 or [Formula], and X and Y represent a lower alkyl or phenyl group, and X and Y together represent (-
CH 2 ) − 4 , (−CH 2 ) − 5 or (−CH 2 ) − 2 O(−CH 2
)−
2 , an enamine compound represented by and the following formula (3) However, in the formula, R 3 represents a lower alkyl group, R 4 represents a lower alkyl group, a group OR 3 , a C 3 -C 9 alkenyl group,
or a phenyl group optionally substituted with lower alkoxy, or a group of [Formula], where R 3 and R 4 are taken together to represent (-CH 2
) -4 , [Formula] or a compound represented by [Formula], which can be represented by the following formula (1), is brought into contact in the presence of a Lewis acid. However, in the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as described above, and n represents 0 or 1, but here,
When R 3 and R 4 of the compound of formula (3) are combined to form a ring, R 4 represents a ring containing an ether bond and n=0, and the formula (3)
When the compound is another compound, R 4 has the same meaning as above and n=1.
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