JPH0132356Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0132356Y2 JPH0132356Y2 JP1983199929U JP19992983U JPH0132356Y2 JP H0132356 Y2 JPH0132356 Y2 JP H0132356Y2 JP 1983199929 U JP1983199929 U JP 1983199929U JP 19992983 U JP19992983 U JP 19992983U JP H0132356 Y2 JPH0132356 Y2 JP H0132356Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- boat
- support head
- wafer
- boat support
- work stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 31
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 15
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 10
- 230000004886 head movement Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】
〔考案の技術分野〕
この考案は半導体ウエーハ用ボートの搬送装置
にかかり、特に半導体ウエーハに加熱を施して不
純物の拡散、酸化等を施す炉装置に用いられる。
にかかり、特に半導体ウエーハに加熱を施して不
純物の拡散、酸化等を施す炉装置に用いられる。
半導体ウエーハ（以下ウエーハと略称する）に
不純物の拡散、酸化等を施すには、ウエーハをボ
ートと称される治具によつて平行に立て並べて第
１図に一部が示される加熱炉１に装入し、この炉
内を所定の雰囲気にし加熱を施す。図において１
ａは加熱炉の出入口で、ウエーハ２を載せたボー
ト３はボート供給テーブル４上に供給され定位に
置かれる。このボートに対し、加熱炉の出入口の
側方に設けられた上下動ワークステージ５に、こ
こを軸心にほぼ90゜回転するアーム６が取着され、
さらにこのアームの先端に例えばフオーク状のボ
ート支持ヘツド７が取着されるが、図示の装置は
アームが回動してもボート支持ヘツドの方向が変
わらないように、自在回転子８ａとこれをアーム
に沿つて押しあるいは引くコントロールロツド８
ｂとからなるヘツド定方向機構８を介在させてい
る。なお、上記上下動ワークステージ５はパルス
モータ５ａにより、また、アーム６はパルスモー
タ６ａにより駆動される。
不純物の拡散、酸化等を施すには、ウエーハをボ
ートと称される治具によつて平行に立て並べて第
１図に一部が示される加熱炉１に装入し、この炉
内を所定の雰囲気にし加熱を施す。図において１
ａは加熱炉の出入口で、ウエーハ２を載せたボー
ト３はボート供給テーブル４上に供給され定位に
置かれる。このボートに対し、加熱炉の出入口の
側方に設けられた上下動ワークステージ５に、こ
こを軸心にほぼ90゜回転するアーム６が取着され、
さらにこのアームの先端に例えばフオーク状のボ
ート支持ヘツド７が取着されるが、図示の装置は
アームが回動してもボート支持ヘツドの方向が変
わらないように、自在回転子８ａとこれをアーム
に沿つて押しあるいは引くコントロールロツド８
ｂとからなるヘツド定方向機構８を介在させてい
る。なお、上記上下動ワークステージ５はパルス
モータ５ａにより、また、アーム６はパルスモー
タ６ａにより駆動される。
上述の構成によりボートは、ボート供給テーブ
ル４上でボート支持ヘツド７に支持されたのち、
上下動ワークステージ５により加熱炉の入出口１
ａの高さに至る上昇運動と、アーム６の円弧運動
とによつて加熱炉の入出口に設けられた挿入用ス
テーシヨン９上に移されて搬送が達成される。
ル４上でボート支持ヘツド７に支持されたのち、
上下動ワークステージ５により加熱炉の入出口１
ａの高さに至る上昇運動と、アーム６の円弧運動
とによつて加熱炉の入出口に設けられた挿入用ス
テーシヨン９上に移されて搬送が達成される。
上記従来の装置によれば加熱炉の前面とその側
方がアームの旋回範囲と上昇、下降のための空間
が大きいという問題点があつた。
方がアームの旋回範囲と上昇、下降のための空間
が大きいという問題点があつた。
この考案は上記従来の問題点に鑑みて半導体ウ
エーハ用ボートの改良された搬送装置を提供す
る。
エーハ用ボートの改良された搬送装置を提供す
る。
本考案にかかる半導体ウエーハ用ボートの搬送
装置は、半導体ウエーハ用熱処理炉におけるウエ
ーハボート供給テーブルからウエーハボードを熱
処理炉のウエーハ入出口に移動させるためのボー
ト支持ヘツドと、このボート支持ヘツドを上記ウ
エーハ入出口を横切る方向にのみ水平に進退させ
るボート支持ヘツド進退機構と、上記ウエーハ入
出口の一側方に設けられた上記ボート支持ヘツド
進退機構を支持することにより上記ボート支持ヘ
ツドを片持状態に支持し、上記ボート支持ヘツド
進退機構及びボート支持ヘツドを共に上下方向に
のみ移動させる上下動ワークステージとを具備
し、かつ前記上下動ワークステージ及びボート支
持ヘツド進退機構はセンサを用いずパルスモータ
によつて駆動されることを特徴とするものであ
る。
装置は、半導体ウエーハ用熱処理炉におけるウエ
ーハボート供給テーブルからウエーハボードを熱
処理炉のウエーハ入出口に移動させるためのボー
ト支持ヘツドと、このボート支持ヘツドを上記ウ
エーハ入出口を横切る方向にのみ水平に進退させ
るボート支持ヘツド進退機構と、上記ウエーハ入
出口の一側方に設けられた上記ボート支持ヘツド
進退機構を支持することにより上記ボート支持ヘ
ツドを片持状態に支持し、上記ボート支持ヘツド
進退機構及びボート支持ヘツドを共に上下方向に
のみ移動させる上下動ワークステージとを具備
し、かつ前記上下動ワークステージ及びボート支
持ヘツド進退機構はセンサを用いずパルスモータ
によつて駆動されることを特徴とするものであ
る。
次に、この考案の１実施例を図面を参照して詳
細に説明する。
細に説明する。
第２図は１実施例の半導体ウエーハ用ボートの
搬送装置にかかり、叙上の第１図によつて説明し
た従来の搬送装置との相違点につき説明をするこ
ととし、従来と変らない部分は図面に同じ符号を
付けて示し、説明を省略する。
搬送装置にかかり、叙上の第１図によつて説明し
た従来の搬送装置との相違点につき説明をするこ
ととし、従来と変らない部分は図面に同じ符号を
付けて示し、説明を省略する。
第２図において、１１はボート支持ヘツド進退
機構で、上下動ワークステージ５に取着され、こ
の上下動ワークステージの接続点から熱処理炉１
のボート入出口方向に水平に進退する。すなわ
ち、ボート支持ヘツド７をウエーハ入出口を横切
る方向にのみ水平に進退させるとともに、このボ
ート支持ヘツド進退機構１１は上下動ワークステ
ージ５と共に動作するから、上記ボート支持ヘツ
ド７を水平方向と上下方向との組合わせになる自
在の方向に搬送する。
機構で、上下動ワークステージ５に取着され、こ
の上下動ワークステージの接続点から熱処理炉１
のボート入出口方向に水平に進退する。すなわ
ち、ボート支持ヘツド７をウエーハ入出口を横切
る方向にのみ水平に進退させるとともに、このボ
ート支持ヘツド進退機構１１は上下動ワークステ
ージ５と共に動作するから、上記ボート支持ヘツ
ド７を水平方向と上下方向との組合わせになる自
在の方向に搬送する。
次に、上記駆動は、図示を省略するCPUに予
め認定され入力されたスケジユールに基づいて発
せられる指令信号に基づいてパルスモータを駆動
して行なわれるが、この指令信号は、前後の工程
におけるウエーハ用ボートの流れ状態によつてコ
ントロールされる。このコントロールを行なうた
め、前後の工程の装置に光電センサを設け、この
情報信号を上記CPUに入れることにより、スム
ーズに一貫搬送が達成される。なお、上記搬送に
おけるパルスモータ駆動パルス数の設定に際して
は光電センサを用いてもよいが、通常の搬送稼働
には光電センサは用いない。
め認定され入力されたスケジユールに基づいて発
せられる指令信号に基づいてパルスモータを駆動
して行なわれるが、この指令信号は、前後の工程
におけるウエーハ用ボートの流れ状態によつてコ
ントロールされる。このコントロールを行なうた
め、前後の工程の装置に光電センサを設け、この
情報信号を上記CPUに入れることにより、スム
ーズに一貫搬送が達成される。なお、上記搬送に
おけるパルスモータ駆動パルス数の設定に際して
は光電センサを用いてもよいが、通常の搬送稼働
には光電センサは用いない。
上記指令信号は上記情報信号を加えてコントロ
ールするコントローラを介して上下動ワークステ
ージ５のパルスモータ５ａ、ボート支持ヘツド進
退機構１１のパルスモータ１１ａの夫々にパルス
を送り達成される。
ールするコントローラを介して上下動ワークステ
ージ５のパルスモータ５ａ、ボート支持ヘツド進
退機構１１のパルスモータ１１ａの夫々にパルス
を送り達成される。
上記によりボート３はボート供給テーブル４か
ら取上げられ、上昇し、または若干後退したのち
上昇してから前進し、挿入用ステーシヨン９上に
移される。そして熱処理炉中に挿入され処理が完
了したのちは上述の挿入ステーシヨンから逆のコ
ースで排除される。
ら取上げられ、上昇し、または若干後退したのち
上昇してから前進し、挿入用ステーシヨン９上に
移される。そして熱処理炉中に挿入され処理が完
了したのちは上述の挿入ステーシヨンから逆のコ
ースで排除される。
この考案によれば、従来の装置にみられるアー
ムの旋回がないので熱処理炉の前面が広く有効に
使用でき、装置がコンパクトにできる。この効果
は第３図に従来のものに比較して示される。すな
わち、従来の右下り斜線を施して示す搬送に要す
る区域はその一部がこの考案の区域を示す交斜線
を施した部分よりも広く図の左部に認められる。
ムの旋回がないので熱処理炉の前面が広く有効に
使用でき、装置がコンパクトにできる。この効果
は第３図に従来のものに比較して示される。すな
わち、従来の右下り斜線を施して示す搬送に要す
る区域はその一部がこの考案の区域を示す交斜線
を施した部分よりも広く図の左部に認められる。
次に、この考案によればボートを振り回すこと
がないので、ウエーハに損傷を与えず、かつ搬送
速度を向上させるのに効果がある。
がないので、ウエーハに損傷を与えず、かつ搬送
速度を向上させるのに効果がある。
次に、この考案の装置はウエーハを載置したボ
ートをそのまま搬送できるので、取扱い操作が簡
便である上に雰囲気を汚染しない顕著な利点があ
る。
ートをそのまま搬送できるので、取扱い操作が簡
便である上に雰囲気を汚染しない顕著な利点があ
る。
さらに、この考案によれば、駆動部分の制御に
センサを用いずにパルスモータによつて駆動制御
を行なうので、装置が簡潔に構成され、センサの
誤作動、故障等による障害なく使用できる利点が
ある。
センサを用いずにパルスモータによつて駆動制御
を行なうので、装置が簡潔に構成され、センサの
誤作動、故障等による障害なく使用できる利点が
ある。
第１図は従来の半導体ウエーハ用ボートの搬送
装置の斜視図、第２図は一実施例の半導体ウエー
ハ用ボートの搬送装置の斜視図、第３図はこの考
案の効果を説明するための上面図である。 １……ウエーハ用熱処理炉、１ａ……ウエーハ
用熱処理炉のウエーハ入出口、３……ウエーハ用
ボート、５……上下動ワークステージ、５ａ……
上下動ワークステージのパルスモータ、７……ボ
ート支持ヘツド、１１……ボート支持ヘツド進退
機構、１１ａ……ボート支持ヘツド進退機構のパ
ルスモータ。
装置の斜視図、第２図は一実施例の半導体ウエー
ハ用ボートの搬送装置の斜視図、第３図はこの考
案の効果を説明するための上面図である。 １……ウエーハ用熱処理炉、１ａ……ウエーハ
用熱処理炉のウエーハ入出口、３……ウエーハ用
ボート、５……上下動ワークステージ、５ａ……
上下動ワークステージのパルスモータ、７……ボ
ート支持ヘツド、１１……ボート支持ヘツド進退
機構、１１ａ……ボート支持ヘツド進退機構のパ
ルスモータ。
Claims (1)
- 半導体ウエーハ用熱処理炉におけるウエーハボ
ート供給テーブルからウエーハボートを熱処理炉
のウエーハ入出口に移動させるためのボート支持
ヘツドと、このボート支持ヘツドを上記ウエーハ
入出口を横切る方向にのみ水平に進退させるボー
ト支持ヘツド進退機構と、上記ウエーハ入出口の
一側方に設けられた上記ボート支持ヘツド進退機
構を支持することにより上記ボート支持ヘツドを
片持状態に支持し、上記ボート支持ヘツド進退機
構及びボート支持ヘツドを共に上下方向にのみ移
動させる上下動ワークステージとを具備し、かつ
前記上下動ワークステージ及びボート支持ヘツド
進退機構はセンサを用いずパルスモータによつて
駆動されることを特徴とする半導体ウエーハ用ボ
ートの搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19992983U JPS60111045U (ja) | 1983-12-29 | 1983-12-29 | 半導体ウエ−ハ用ボ−トの搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19992983U JPS60111045U (ja) | 1983-12-29 | 1983-12-29 | 半導体ウエ−ハ用ボ−トの搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60111045U JPS60111045U (ja) | 1985-07-27 |
| JPH0132356Y2 true JPH0132356Y2 (ja) | 1989-10-03 |
Family
ID=30760311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19992983U Granted JPS60111045U (ja) | 1983-12-29 | 1983-12-29 | 半導体ウエ−ハ用ボ−トの搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60111045U (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59186338A (ja) * | 1983-04-07 | 1984-10-23 | Mitsubishi Electric Corp | ボ−トエレベ−タ |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5678341U (ja) * | 1979-11-09 | 1981-06-25 |
-
1983
- 1983-12-29 JP JP19992983U patent/JPS60111045U/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59186338A (ja) * | 1983-04-07 | 1984-10-23 | Mitsubishi Electric Corp | ボ−トエレベ−タ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60111045U (ja) | 1985-07-27 |
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