JPH01309794A - フィルムコンデンサーの製造方法 - Google Patents
フィルムコンデンサーの製造方法Info
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- JPH01309794A JPH01309794A JP63140010A JP14001088A JPH01309794A JP H01309794 A JPH01309794 A JP H01309794A JP 63140010 A JP63140010 A JP 63140010A JP 14001088 A JP14001088 A JP 14001088A JP H01309794 A JPH01309794 A JP H01309794A
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- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000009760 electrical discharge machining Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
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- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/073—Shaping the laser spot
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はフィルムコンデンサーの製造方法に関し、特に
マージン(蒸M層の無い帯状部)形成に関するものであ
る。
マージン(蒸M層の無い帯状部)形成に関するものであ
る。
従来の技術
以下図面を参照しながら、従来のフィルムコンデンサー
の製造方法の一例について説明する。
の製造方法の一例について説明する。
第3図は従来のフィルムコンデンサーの製造方法のうち
放電加工による横マージン形成装置の構成図を示す。第
3図において、20は蒸着フィルム、21はガイドロー
ル、22は歯車状電極である。蒸着フィルム2oはガイ
ドロール21によって歯車状電極22に接触するように
走行させられ、歯車状電極22を通過時に放電加工によ
って蒸着膜の除去が行われる。第4図は放電加工によっ
て横マージンが形成された蒸着フィルムの模式図である
。23は横マージンである。歯車状電極22によって第
4図に示すような、平行な横マージン23が形成される
。
放電加工による横マージン形成装置の構成図を示す。第
3図において、20は蒸着フィルム、21はガイドロー
ル、22は歯車状電極である。蒸着フィルム2oはガイ
ドロール21によって歯車状電極22に接触するように
走行させられ、歯車状電極22を通過時に放電加工によ
って蒸着膜の除去が行われる。第4図は放電加工によっ
て横マージンが形成された蒸着フィルムの模式図である
。23は横マージンである。歯車状電極22によって第
4図に示すような、平行な横マージン23が形成される
。
第5図は従来のフィルムコンデンサーの製造方法のうち
、テープ・マージン法による縦マージン形成装置の構成
図を示す。24はベース・フィルム、25はキャン、2
6は蒸発源、27はマスク用テープである。走行するベ
ース・フィルム24をキャン26に接する所で冷却しな
がら蒸発源26によって蒸tする。ベース・フィルム2
4はマスク用テープ27と共に走行し、ベース・フィル
ム24のマスク用テープ27と重なった部分だけが蒸着
されずマージンとなる。
、テープ・マージン法による縦マージン形成装置の構成
図を示す。24はベース・フィルム、25はキャン、2
6は蒸発源、27はマスク用テープである。走行するベ
ース・フィルム24をキャン26に接する所で冷却しな
がら蒸発源26によって蒸tする。ベース・フィルム2
4はマスク用テープ27と共に走行し、ベース・フィル
ム24のマスク用テープ27と重なった部分だけが蒸着
されずマージンとなる。
第6図は従来のフィルムコンデンサーの製造方法のうち
、オイル・マージン法による縦マージン形成装置の構成
図を示す。28はオイル供給ノズルである。走行するベ
ース・フィルム24の幅方向所定位置にオイル供給ノズ
ル28によってオイルl布Lベース・フィルム24がキ
ャン25に接する所で冷却されながら蒸発源26によっ
て蒸着されるのに、前記オイル塗布部分では蒸着を妨げ
ることによってマージンを形成する。
、オイル・マージン法による縦マージン形成装置の構成
図を示す。28はオイル供給ノズルである。走行するベ
ース・フィルム24の幅方向所定位置にオイル供給ノズ
ル28によってオイルl布Lベース・フィルム24がキ
ャン25に接する所で冷却されながら蒸発源26によっ
て蒸着されるのに、前記オイル塗布部分では蒸着を妨げ
ることによってマージンを形成する。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記のような構成のうち、放電加工による
横マージン形成方法は接触式の加工であるため、マージ
ン幅が最小0.5H程度で大きいこと、マージンの加工
性が不十分で蒸着膜の残存物があること、そして蒸着フ
ィルムの幅が180間を越えると十分な加工ができない
という課題があった。
横マージン形成方法は接触式の加工であるため、マージ
ン幅が最小0.5H程度で大きいこと、マージンの加工
性が不十分で蒸着膜の残存物があること、そして蒸着フ
ィルムの幅が180間を越えると十分な加工ができない
という課題があった。
マタ、テープ・マージン法はマスク用テープの蛇行等の
ため位置合せの精度が出にくい。さらに、オイル・マー
ジン法と共通した点として、真空中の作業であるため、
位置合わせに時間と熟練を要し十分な位置精度を得るの
がむずかしく、機種切替も容易でないという課題を有し
ていた。
ため位置合せの精度が出にくい。さらに、オイル・マー
ジン法と共通した点として、真空中の作業であるため、
位置合わせに時間と熟練を要し十分な位置精度を得るの
がむずかしく、機種切替も容易でないという課題を有し
ていた。
本発明は上記課題に濫み、加工性と加工精度が良好で広
幅加工を可能とし、しかも作業性が良く機種切替の容易
なフィルムコンデンサーの製造方法を提供するものであ
る。
幅加工を可能とし、しかも作業性が良く機種切替の容易
なフィルムコンデンサーの製造方法を提供するものであ
る。
課題を解決するだめの手段
上記課題を解決するために本発明のフィルムコンデンサ
ーの製造方法は、波長が2μm以下でパルス幅が0.1
m8以下のレーザ・ビームを用いて蒸着層を加工する。
ーの製造方法は、波長が2μm以下でパルス幅が0.1
m8以下のレーザ・ビームを用いて蒸着層を加工する。
またレーザ・ビームを焦点距離が異なる2枚のレンズを
両者の焦点距離の和もしくは差の間隔で1組以上設置し
た整形光学装置を通過させ、ビーム光路内に設けた凸型
円柱レンズによって集光するものである。
両者の焦点距離の和もしくは差の間隔で1組以上設置し
た整形光学装置を通過させ、ビーム光路内に設けた凸型
円柱レンズによって集光するものである。
作 用
本発明は上記した構成によって、発振器から出たレーザ
・ビームの断面形状を整形光学装置にて変化させ平行な
ビームとしだ後、ビーム光路内に配置された凸型円柱レ
ンズで所定の位置に集光される。蒸着フィルムに波長が
2μm以下のレーザ・ビームを照射すると、ビーム吸収
率の高い蒸着膜が優先的に加工され、吸収率の低いベー
ス・フィルムは加工されない。さらにレーザ・ビームを
1ms以下のパルス幅で照射すると、エネルギー分布の
ピークが高くなり加工性が向上し残存物もなく、蒸着膜
の除去にともなう熱伝導によるフィルム・ダメージも生
じにくい。また、整形光学装置の拡大率を大きくするこ
とによって広幅加工も可能となシ、ビーム光路内の凸型
円柱レンズを交換することによシ容易に機種切替するこ
ともできる。
・ビームの断面形状を整形光学装置にて変化させ平行な
ビームとしだ後、ビーム光路内に配置された凸型円柱レ
ンズで所定の位置に集光される。蒸着フィルムに波長が
2μm以下のレーザ・ビームを照射すると、ビーム吸収
率の高い蒸着膜が優先的に加工され、吸収率の低いベー
ス・フィルムは加工されない。さらにレーザ・ビームを
1ms以下のパルス幅で照射すると、エネルギー分布の
ピークが高くなり加工性が向上し残存物もなく、蒸着膜
の除去にともなう熱伝導によるフィルム・ダメージも生
じにくい。また、整形光学装置の拡大率を大きくするこ
とによって広幅加工も可能となシ、ビーム光路内の凸型
円柱レンズを交換することによシ容易に機種切替するこ
ともできる。
実施例
以下本発明の一実施例のフィルムコンデンサーのマージ
ン形成装置について、図面を参照しながら説明する。
ン形成装置について、図面を参照しながら説明する。
第1図は本発明の第1の実施例におけるフィルムコンデ
ンサーのマージン形成装置の構成図を示すものである。
ンサーのマージン形成装置の構成図を示すものである。
第1図において、1は電気光学素子を内蔵したパルス発
振YAGレーザ発振器、2はYAGレーザ・ビーム、3
は凹型円柱レンズ、4は凸型円柱レンズ、5は反射鏡、
6は凸型円柱レンズ、71[着フィルム、8はマージン
、9はガイド・ロールである。
振YAGレーザ発振器、2はYAGレーザ・ビーム、3
は凹型円柱レンズ、4は凸型円柱レンズ、5は反射鏡、
6は凸型円柱レンズ、71[着フィルム、8はマージン
、9はガイド・ロールである。
電気光学素子を内蔵したパルス発振YAGレーザ発振器
1より出たレーザ・ビーム2aは、焦点距離の差の間隔
で設置された凹型円柱レンズ3と凸型円柱レンズ4によ
って、平行なレーザ・ビーム2bとして横方向に拡大さ
れる。レーザ・ビーム2bはさらに反射鏡6によって凸
型円柱レンズ6に入射され集光される。波長1.06μ
mのパルス発振YAGレーザ・ビームは電気光学素子に
よってジャイアント・パルス化され、)くルス幅カ10
n8程度となる。加工エネルギーとじて1工のパルスを
照射すると、500訂幅の蒸着フィルム7の全幅にわた
ってマージン8を加工幅0.1羽で、フィルムを損傷す
ることなく形成することができる。YAGレーザ発振器
1に内蔵されたEiT;、 R光学素子は通常のもので
毎秒60回繰り返すことができるので、ガイド・ロー/
L/9によって蒸着フィルム7を走行させることによっ
て、平行なマージン8を連続的に形成することができる
。
1より出たレーザ・ビーム2aは、焦点距離の差の間隔
で設置された凹型円柱レンズ3と凸型円柱レンズ4によ
って、平行なレーザ・ビーム2bとして横方向に拡大さ
れる。レーザ・ビーム2bはさらに反射鏡6によって凸
型円柱レンズ6に入射され集光される。波長1.06μ
mのパルス発振YAGレーザ・ビームは電気光学素子に
よってジャイアント・パルス化され、)くルス幅カ10
n8程度となる。加工エネルギーとじて1工のパルスを
照射すると、500訂幅の蒸着フィルム7の全幅にわた
ってマージン8を加工幅0.1羽で、フィルムを損傷す
ることなく形成することができる。YAGレーザ発振器
1に内蔵されたEiT;、 R光学素子は通常のもので
毎秒60回繰り返すことができるので、ガイド・ロー/
L/9によって蒸着フィルム7を走行させることによっ
て、平行なマージン8を連続的に形成することができる
。
以上のように本実施例によれば、電気光学素子を内蔵し
たパルス発振YAGレーザ発振器と、凹型円柱レンズと
凸型円柱レンズより構成された整形光学装置と、凸型円
柱レンズをビーム光路内に設けることにより、500朋
幅の蒸着フィルムの全幅にわたって、平行なマージンを
フィルムを損傷することなく連続的に形成することがで
きる。
たパルス発振YAGレーザ発振器と、凹型円柱レンズと
凸型円柱レンズより構成された整形光学装置と、凸型円
柱レンズをビーム光路内に設けることにより、500朋
幅の蒸着フィルムの全幅にわたって、平行なマージンを
フィルムを損傷することなく連続的に形成することがで
きる。
以下本発明の第2の実施例について図面を参照しながら
説明する。
説明する。
第2図は本発明の第2の実施例を示すフィルム・コンデ
ンサーのマージン形成装置の構成図である。1oは音響
光学素子を内蔵した連続発振YAGiレーザ発振器、1
1ばYAGレーザ・ビーム、12は凹型円柱レンズ、1
3は凸型円柱レンズ、14は反射鏡、16と16は凸型
円柱レンズ、17は蒸着フィルム、18はマージン、1
9はガイド90−ルである。3台のYAGレーザ発振器
10から出たレーザ・ビーム11aは焦点距離の差の間
隔で設置された凹型円柱レンズ12と凸型円柱レンズ1
3によってそれぞれ横方向に拡大され、3本の平行なレ
ーザ・ビーム11bが得られる。レーザ・ビーム11b
はさらに反射鏡14によってビーム光路内の凸型円柱レ
ンズ16の列に入射される。凸型円柱レンズ16を蒸着
フィルム1T上に焦点位置が来るように、また、集光方
向が蒸着フィルム17の走行方向に一致するように設置
する。さらに、凸型円柱レンズ16の列を集光方向が蒸
着フィルム17の走行方向に直交するようにし、凸型円
柱レンズ16と所定の間隔を設けることにより、蒸着フ
ィルム17上に、短軸が走行方向にある楕円集光スポッ
トを形成することができる。YAGレーザ発振器1oか
ら、加工エネルギー1omTを持つパルス幅100 n
s程度のビームを照射すると、加工幅2朋で4本のマー
ジンを蒸着フィルム1了の走行方向に形成していくこと
ができる。したがって、3台のYAGレーザ発振器10
と整形光学装置と凸型円柱レンズ15と16によって、
12本のマージンを形成することができる。
ンサーのマージン形成装置の構成図である。1oは音響
光学素子を内蔵した連続発振YAGiレーザ発振器、1
1ばYAGレーザ・ビーム、12は凹型円柱レンズ、1
3は凸型円柱レンズ、14は反射鏡、16と16は凸型
円柱レンズ、17は蒸着フィルム、18はマージン、1
9はガイド90−ルである。3台のYAGレーザ発振器
10から出たレーザ・ビーム11aは焦点距離の差の間
隔で設置された凹型円柱レンズ12と凸型円柱レンズ1
3によってそれぞれ横方向に拡大され、3本の平行なレ
ーザ・ビーム11bが得られる。レーザ・ビーム11b
はさらに反射鏡14によってビーム光路内の凸型円柱レ
ンズ16の列に入射される。凸型円柱レンズ16を蒸着
フィルム1T上に焦点位置が来るように、また、集光方
向が蒸着フィルム17の走行方向に一致するように設置
する。さらに、凸型円柱レンズ16の列を集光方向が蒸
着フィルム17の走行方向に直交するようにし、凸型円
柱レンズ16と所定の間隔を設けることにより、蒸着フ
ィルム17上に、短軸が走行方向にある楕円集光スポッ
トを形成することができる。YAGレーザ発振器1oか
ら、加工エネルギー1omTを持つパルス幅100 n
s程度のビームを照射すると、加工幅2朋で4本のマー
ジンを蒸着フィルム1了の走行方向に形成していくこと
ができる。したがって、3台のYAGレーザ発振器10
と整形光学装置と凸型円柱レンズ15と16によって、
12本のマージンを形成することができる。
発明の効果
以上のように本発明は、波長が2μm以下でパルス幅が
1m11以下のレーザビームを用いることによシ蒸着層
のみを加工してマージン加工を行うことができ、また焦
点距離が異なる2枚のレンズを両者の焦点距離の和もし
くは差の間隔で1組以上設置した整形光学装置と、ビー
ム光路内に凸型円柱レンズとを設けることによシ、加工
性と加工精度が良好で広幅加工が可能で、しかも機種切
替も容易にすることができる。
1m11以下のレーザビームを用いることによシ蒸着層
のみを加工してマージン加工を行うことができ、また焦
点距離が異なる2枚のレンズを両者の焦点距離の和もし
くは差の間隔で1組以上設置した整形光学装置と、ビー
ム光路内に凸型円柱レンズとを設けることによシ、加工
性と加工精度が良好で広幅加工が可能で、しかも機種切
替も容易にすることができる。
第1図は本発明の第1の実施例におけるフィルムコンデ
ンサーのマージン形成装置の構成図、第2図は本発明の
第2の実施例におけるフィルムコンデンサーのマージン
形成装置の構成図、第3図は従来のフィルムコンデンサ
ーの製造方法のうち放電加工による横マージン形成装置
の構成図、第4図は放電加工によって横マージンが形成
された蒸着フィルムの模式図、第5図は従来のフィルム
コンデンサーの製造方法のうちテープ・マージン法によ
る縦マージン形成装置の構成図、第6図は従来のフィル
ムコンデンサーの製造方法のうちオイル・マージン法に
よる縦マージン形成装置の構成図である。 2・・・・・・YAGレーザ・ビーム、3・旧・・凹型
円柱レンズ、4.6・・・…凸型円柱レンズ、11・・
・・・・YAGレーザ・ビーム、12・・・・・・凹型
円柱レンズ、13.15.16・・・・・・凸型円柱レ
ンズ。
ンサーのマージン形成装置の構成図、第2図は本発明の
第2の実施例におけるフィルムコンデンサーのマージン
形成装置の構成図、第3図は従来のフィルムコンデンサ
ーの製造方法のうち放電加工による横マージン形成装置
の構成図、第4図は放電加工によって横マージンが形成
された蒸着フィルムの模式図、第5図は従来のフィルム
コンデンサーの製造方法のうちテープ・マージン法によ
る縦マージン形成装置の構成図、第6図は従来のフィル
ムコンデンサーの製造方法のうちオイル・マージン法に
よる縦マージン形成装置の構成図である。 2・・・・・・YAGレーザ・ビーム、3・旧・・凹型
円柱レンズ、4.6・・・…凸型円柱レンズ、11・・
・・・・YAGレーザ・ビーム、12・・・・・・凹型
円柱レンズ、13.15.16・・・・・・凸型円柱レ
ンズ。
Claims (2)
- (1)電極となる蒸着層を有しコンデンサーの製造に用
いられる有機フィルム上に蒸着層の無い帯状部を形成す
る工程において、波長が2μm以下でパルス幅が1ms
以下のレーザ・ビームを用いて蒸着層を加工することを
特徴とするフィルムコンデンサーの製造方法。 - (2)レーザビームを焦点距離が異なる2枚のレンズを
両者の焦点距離の和もしくは差の間隔で1組以上設置し
た整形光学装置を通過させ、ビーム光路内に設けた凸型
円柱レンズによって集光することを特徴とする請求項1
記載のフィルムコンデンサーの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63140010A JPH01309794A (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 | フィルムコンデンサーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63140010A JPH01309794A (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 | フィルムコンデンサーの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01309794A true JPH01309794A (ja) | 1989-12-14 |
Family
ID=15258835
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63140010A Pending JPH01309794A (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 | フィルムコンデンサーの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01309794A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2673557A1 (fr) * | 1991-03-08 | 1992-09-11 | Ugine Aciers | Procede et dispositif optique statique pour irradiation laser d'un produit metallique en mouvement et son application au traitement de toles magnetiques. |
FR2679477A1 (fr) * | 1991-07-26 | 1993-01-29 | Aerospatiale | Procede de decoupe par faisceau laser d'un materiau recouvrant un substrat et dispositifs pour sa mise en óoeuvre. |
JP2006116570A (ja) * | 2004-10-22 | 2006-05-11 | Miyachi Technos Corp | レーザ集光ユニット及びレーザ加工装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5794482A (en) * | 1980-12-05 | 1982-06-11 | Hitachi Ltd | Pattern forming device by laser |
JPS61249693A (ja) * | 1985-04-24 | 1986-11-06 | シ−メンス、アクチエンゲゼルシヤフト | プラスチツクフイルム上の金属の無い帯状部の形成方法 |
-
1988
- 1988-06-07 JP JP63140010A patent/JPH01309794A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS61249693A (ja) * | 1985-04-24 | 1986-11-06 | シ−メンス、アクチエンゲゼルシヤフト | プラスチツクフイルム上の金属の無い帯状部の形成方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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FR2679477A1 (fr) * | 1991-07-26 | 1993-01-29 | Aerospatiale | Procede de decoupe par faisceau laser d'un materiau recouvrant un substrat et dispositifs pour sa mise en óoeuvre. |
US5321227A (en) * | 1991-07-26 | 1994-06-14 | Societe Nationale Industrielle Et Aerospatiale | Method and apparatus using a laser beam to deeply cut a material covering a substrate |
JP2006116570A (ja) * | 2004-10-22 | 2006-05-11 | Miyachi Technos Corp | レーザ集光ユニット及びレーザ加工装置 |
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