JPH01305598A - 多層プリント回路基板 - Google Patents
多層プリント回路基板Info
- Publication number
- JPH01305598A JPH01305598A JP13542888A JP13542888A JPH01305598A JP H01305598 A JPH01305598 A JP H01305598A JP 13542888 A JP13542888 A JP 13542888A JP 13542888 A JP13542888 A JP 13542888A JP H01305598 A JPH01305598 A JP H01305598A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper
- printed circuit
- resin
- conductive paste
- printed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 53
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 40
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 37
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 5
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 claims description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 37
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 37
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 abstract description 11
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 7
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 abstract description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 abstract description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 abstract description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 5
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005553 drilling Methods 0.000 abstract description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 abstract 1
- 239000012783 reinforcing fiber Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 16
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 16
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical class [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- -1 organic acid salts Chemical class 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 229960004643 cupric oxide Drugs 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000011134 resol-type phenolic resin Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 3
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 3
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- XCZKKZXWDBOGPA-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 XCZKKZXWDBOGPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920006038 crystalline resin Polymers 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N dichloridooxygen Chemical compound ClOCl RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVJAHWMTSXACSQ-UHFFFAOYSA-N 2-amino-3-methylbutan-2-ol Chemical compound CC(C)C(C)(N)O QVJAHWMTSXACSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLUWLNIMIAFOSY-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzenesulfinic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)=O VLUWLNIMIAFOSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010040844 Skin exfoliation Diseases 0.000 description 1
- IDCBOTIENDVCBQ-UHFFFAOYSA-N TEPP Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OP(=O)(OCC)OCC IDCBOTIENDVCBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N Tert-Butylhydroquinone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1O BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N aldehydo-D-glucose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C=O GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N borane Chemical class B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 1
- 229940120693 copper naphthenate Drugs 0.000 description 1
- SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L copper;3-(4-ethylcyclohexyl)propanoate;3-(3-ethylcyclopentyl)propanoate Chemical compound [Cu+2].CCC1CCC(CCC([O-])=O)C1.CCC1CCC(CCC([O-])=O)CC1 SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004250 tert-Butylhydroquinone Substances 0.000 description 1
- 235000019281 tert-butylhydroquinone Nutrition 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子機器の軽量小型化に必須の高密度のプリ
ント回路基板を積層して成る多層プリント回路に関する
。
ント回路基板を積層して成る多層プリント回路に関する
。
電子機器分野における高密度化の要求は、益々高度化し
、プリント回路基板の多層化が進みつつある。従来、多
層プリンI・回路の製造にあたっては両面に銅箔を張っ
たプリント基板をザブトラクトを行う方法)にて予め回
路形成を行い、このプリント回路基板を複数枚積層し、
更に未加工のプリント基板及びプリプレグと積層した後
、外面部の回路加工及び多層回路間のスルーボールメツ
キによる接続を行って多層プリンI・回路を作成する。
、プリント回路基板の多層化が進みつつある。従来、多
層プリンI・回路の製造にあたっては両面に銅箔を張っ
たプリント基板をザブトラクトを行う方法)にて予め回
路形成を行い、このプリント回路基板を複数枚積層し、
更に未加工のプリント基板及びプリプレグと積層した後
、外面部の回路加工及び多層回路間のスルーボールメツ
キによる接続を行って多層プリンI・回路を作成する。
しかし、上記方法により複数枚積層されるプリン1回路
基板の製造は、工程が長く、より一層効率的なプリント
回路基板の作成法の開発が望まれている。
基板の製造は、工程が長く、より一層効率的なプリント
回路基板の作成法の開発が望まれている。
本発明は、従来技術における複数枚積層されるプリント
回路基板の製造の工程を合理化することを目的としてお
り、種々の導電性ペーストの印刷法によるプリント回路
基板の作成を検討した。導電性ペースI・とじて最もポ
ピユラーである銀を導電材料とした導電性ペーストの使
用も可能であるが、高価であるため製造コストの低減を
図ることはできなかった。工程の合理化が可能で製造コ
スI・の低減を図り得るプリント回路基板の製法は、銅
系の導電性ペーストの使用によって可能となった。
回路基板の製造の工程を合理化することを目的としてお
り、種々の導電性ペーストの印刷法によるプリント回路
基板の作成を検討した。導電性ペースI・とじて最もポ
ピユラーである銀を導電材料とした導電性ペーストの使
用も可能であるが、高価であるため製造コストの低減を
図ることはできなかった。工程の合理化が可能で製造コ
スI・の低減を図り得るプリント回路基板の製法は、銅
系の導電性ペーストの使用によって可能となった。
又、従来より銅系の導電性ペースI・の組成改良や銅系
の導電性ペースI・を用いて印刷回路を形成する試のは
、特公昭52−2.1936号、特公昭57−1115
8号及び特開昭57−34606号等にて、種々なされ
てきたが、近年の要求性能の高度化に伴うより厳しい条
件下、例えば高湿度雰囲気中に於りる長期の信頼性、冷
熱ザイクルに対する信頼性等に問題があり、現実にはア
ンダーコート、オーハーク−1−等によっての解決が試
のられているが、未だ満足の行くレヘルに至っていない
。上記のような銅系の印刷回路は、一般に酸化による導
電性の劣化が危惧されるが、本発明の銅系ペーストをプ
リンI・回路基板に用いた多層プリント回路においては
、(1)プリプレグとの一体化により十分な酸化に対す
る保護がなされる。(2)導通部はスルーホールメツキ
により酸化雰囲気より遮断される等によって極めて高い
信頼性を実現することができた。
の導電性ペースI・を用いて印刷回路を形成する試のは
、特公昭52−2.1936号、特公昭57−1115
8号及び特開昭57−34606号等にて、種々なされ
てきたが、近年の要求性能の高度化に伴うより厳しい条
件下、例えば高湿度雰囲気中に於りる長期の信頼性、冷
熱ザイクルに対する信頼性等に問題があり、現実にはア
ンダーコート、オーハーク−1−等によっての解決が試
のられているが、未だ満足の行くレヘルに至っていない
。上記のような銅系の印刷回路は、一般に酸化による導
電性の劣化が危惧されるが、本発明の銅系ペーストをプ
リンI・回路基板に用いた多層プリント回路においては
、(1)プリプレグとの一体化により十分な酸化に対す
る保護がなされる。(2)導通部はスルーホールメツキ
により酸化雰囲気より遮断される等によって極めて高い
信頼性を実現することができた。
〔問題点を解決するための手段]
本発明は、耐熱樹脂フィルムに銅系導電性ペースI・に
より回路パターンを印刷して回路を形成したプリンI・
回路基板を?fi数枚積層し、電気的に接続して成る多
層プリント回路基板である。
より回路パターンを印刷して回路を形成したプリンI・
回路基板を?fi数枚積層し、電気的に接続して成る多
層プリント回路基板である。
−b、 N己11i4熱性樹脂フィルムとしては、非品
性樹脂の熱変形温度(AST門D648に準する)が1
70°C以上のフィルム、例えば、ポリエーテルスルホ
ン、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリスルボン、
ポリアミFイミF、ポリフェニレンオキザイド等のフィ
ルム、及び結晶性樹脂の融点(nsc法による)が27
0°C以上のフィルム、例えば、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリフェニレンザルファイド、液晶ポリマー、
ポリエーテルケトン等のフィルムが挙げられる。非品性
樹脂の熱変形温度が170°C以下及び結晶性樹脂の融
点が270°C以下の場合、多層回路基板をプレス一体
化する際にフローを生しる為、好ましくない。又、上記
フィルムの表面は、接着性を向上させる為プラスマ処理
、コロリ°放電処理等の表面処理を行う事は、構わない
。
性樹脂の熱変形温度(AST門D648に準する)が1
70°C以上のフィルム、例えば、ポリエーテルスルホ
ン、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリスルボン、
ポリアミFイミF、ポリフェニレンオキザイド等のフィ
ルム、及び結晶性樹脂の融点(nsc法による)が27
0°C以上のフィルム、例えば、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリフェニレンザルファイド、液晶ポリマー、
ポリエーテルケトン等のフィルムが挙げられる。非品性
樹脂の熱変形温度が170°C以下及び結晶性樹脂の融
点が270°C以下の場合、多層回路基板をプレス一体
化する際にフローを生しる為、好ましくない。又、上記
フィルムの表面は、接着性を向上させる為プラスマ処理
、コロリ°放電処理等の表面処理を行う事は、構わない
。
本面・1熱樹脂フイルムに導電性ペーストを印刷後加熱
乾燥してプリント回路基板を形成する。
乾燥してプリント回路基板を形成する。
−、l−
銅系の導電性ペーストの成分としては、基本的には金属
銅粉を熱硬化樹脂成分に分11りすることにより得られ
る。」二層全屈銅粉としては、通常100μ以下のフレ
ーク状、樹枝状、球状或いは不定型のいずれかであって
も良く、又、金、銀、ニッケル等の他、金属によって被
覆または混合されても良く、又、その製法は、限定され
ない。又、」二層熱硬化樹脂成分としてはエポキシ樹脂
、ポリヒニルブチラール樹脂、アルキッド樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹
脂等の樹脂成分が挙げられる。上記金属銅粉と熱硬化樹
脂成分の配合比率は、通常全固形分を100重景%とし
た時に金属銅粉50〜90重量%に対し熱硬化樹脂成分
10〜50重量%の範囲にある。
銅粉を熱硬化樹脂成分に分11りすることにより得られ
る。」二層全屈銅粉としては、通常100μ以下のフレ
ーク状、樹枝状、球状或いは不定型のいずれかであって
も良く、又、金、銀、ニッケル等の他、金属によって被
覆または混合されても良く、又、その製法は、限定され
ない。又、」二層熱硬化樹脂成分としてはエポキシ樹脂
、ポリヒニルブチラール樹脂、アルキッド樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹
脂等の樹脂成分が挙げられる。上記金属銅粉と熱硬化樹
脂成分の配合比率は、通常全固形分を100重景%とし
た時に金属銅粉50〜90重量%に対し熱硬化樹脂成分
10〜50重量%の範囲にある。
好ましくは本発明の銅系の導電性ペーストの成分として
は、更に銅化合物及び前記銅化合物を還元させる還元性
物質を含有することが望ましい。
は、更に銅化合物及び前記銅化合物を還元させる還元性
物質を含有することが望ましい。
ごごで銅化合物としては、例えば塩化第二銅のハロゲン
化物、ナフテン酸銅の如き銅の有機酸塩、アセチルアセ
l−ンのCu (1+ )キレートの如きt同のへ− 錯体及び酸化第一銅や酸化第二銅の如き銅の酸化物など
が代表的である。この銅化合物により上記金属粉の表面
を被覆するか、それに付着させておくことが望ましい。
化物、ナフテン酸銅の如き銅の有機酸塩、アセチルアセ
l−ンのCu (1+ )キレートの如きt同のへ− 錯体及び酸化第一銅や酸化第二銅の如き銅の酸化物など
が代表的である。この銅化合物により上記金属粉の表面
を被覆するか、それに付着させておくことが望ましい。
而して、本発明では、表面を銅化合物で被覆するか、又
は銅化合物が付着した金属銅粉は金属銅粉と銅化合物と
で構成されるものとみなされる。例えば、通常市販され
る銅粉は酸化第二銅の如き銅酸化物で大なり小なり被覆
され、又はそれらが付着しているので、」二層市販銅粉
は金属銅粉と銅化合物とから成るものと見なし得る。
は銅化合物が付着した金属銅粉は金属銅粉と銅化合物と
で構成されるものとみなされる。例えば、通常市販され
る銅粉は酸化第二銅の如き銅酸化物で大なり小なり被覆
され、又はそれらが付着しているので、」二層市販銅粉
は金属銅粉と銅化合物とから成るものと見なし得る。
上記銅化合物を還元させる還元性物質としては、例えば
還元糖類、アスコルビン酸、ヒドラジン化合物、ホルマ
リン、水素化ホウ素化合物、ホスフィン誘導体、トルエ
ンスルフィン酸、ヘンゼンスルフィン酸、ハイドロキノ
ン、カテコール等、及び標準電極電位値によって銅より
卑なる金属類、還元性基を有する樹脂などの如きものが
ある。
還元糖類、アスコルビン酸、ヒドラジン化合物、ホルマ
リン、水素化ホウ素化合物、ホスフィン誘導体、トルエ
ンスルフィン酸、ヘンゼンスルフィン酸、ハイドロキノ
ン、カテコール等、及び標準電極電位値によって銅より
卑なる金属類、還元性基を有する樹脂などの如きものが
ある。
これら還元性物質は一種でも良いが、2種以上混合使用
しても構わない。
しても構わない。
上記銅化合物の使用量は金属銅100重量部に対して銅
化合物の銅分として0.1〜30重量部が好ましく、上
記還元性物質の使用量目前記銅化合物の使用量や」二層
還元性物質が、その分子量当たりに示す還元能により左
右されろために」二層還元性物質の種類により決まるが
、前記銅化合物の銅分全量を金属銅に還元析出−已しめ
るに足る量を用いるのが好ましい。
化合物の銅分として0.1〜30重量部が好ましく、上
記還元性物質の使用量目前記銅化合物の使用量や」二層
還元性物質が、その分子量当たりに示す還元能により左
右されろために」二層還元性物質の種類により決まるが
、前記銅化合物の銅分全量を金属銅に還元析出−已しめ
るに足る量を用いるのが好ましい。
上記銅化合物及び還元性物質を用いることにより、後述
の多層プリント回路基板の加工工程におりる積層プレス
後のスルーポールメツキにおいては銅系の導電性ペース
I・に対するメンキ付き信頼性に優れた効果を示すこと
か判明した。
の多層プリント回路基板の加工工程におりる積層プレス
後のスルーポールメツキにおいては銅系の導電性ペース
I・に対するメンキ付き信頼性に優れた効果を示すこと
か判明した。
更に好ましくは、上記還元性物質である還元性の基を有
する樹脂としては下記の構造の還元性基を有する熱硬化
樹脂が望ましい(以下、還元性熱硬化樹脂とする)。
する樹脂としては下記の構造の還元性基を有する熱硬化
樹脂が望ましい(以下、還元性熱硬化樹脂とする)。
例えば、ハイドロキノン、カテコール、2−メチル−ハ
イドロキノン、ビニルハイFロキノン、ターシャリ−ブ
チルハイドロキノン、クロルハイドロニ1−ノン、フェ
ニルハイドロキノン等ヲフェノールホルムアルデヒト樹
脂、メラミンポルムアルデヒ]樹脂、尿素ホルムアルデ
ヒド樹脂、ヘンヅグアリ・ミンポルムアルデヒド樹脂等
のホルムアルデヒド縮合樹脂にブレンド又は共縮合する
か、又はごれらの化合物をボルムアルデヒドと縮合せし
めて樹脂化して得られるものであり、かつ有機成分中受
なくとも10重量%以上、好ましくは20重量%以上の
上記還元性基を含有することが望ましい。
イドロキノン、ビニルハイFロキノン、ターシャリ−ブ
チルハイドロキノン、クロルハイドロニ1−ノン、フェ
ニルハイドロキノン等ヲフェノールホルムアルデヒト樹
脂、メラミンポルムアルデヒ]樹脂、尿素ホルムアルデ
ヒド樹脂、ヘンヅグアリ・ミンポルムアルデヒド樹脂等
のホルムアルデヒド縮合樹脂にブレンド又は共縮合する
か、又はごれらの化合物をボルムアルデヒドと縮合せし
めて樹脂化して得られるものであり、かつ有機成分中受
なくとも10重量%以上、好ましくは20重量%以上の
上記還元性基を含有することが望ましい。
この限りにおいて」−記還元性熱硬化樹脂成分中には、
更にエポキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アルキ
ッド樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹
脂等の他の樹脂成分を含有しても良い。
更にエポキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アルキ
ッド樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹
脂等の他の樹脂成分を含有しても良い。
−1−記(a)金属銅粉、(b)銅化合物、及び(c)
銅化合物を還元させる還元性物質及び/又は還元性基を
含有する還元性熱硬化樹脂成分(以下、(a)、(b)
及び(C)と略)の成分からなる導電性ペーストの(a
)、(b)及び(C)の配合割合は、通常全固形分を1
00重量%とじた時に(a)、(b)及び(C)が各々
(a)50〜85重量%(b)0.1〜10重量%及び
(C)10〜40重景%の範囲にあり、好ましくば(a
)60〜80重里%(b) 0 、5〜8重量%及び(
C) 15〜35重量%の範囲にあることが望ましい。
銅化合物を還元させる還元性物質及び/又は還元性基を
含有する還元性熱硬化樹脂成分(以下、(a)、(b)
及び(C)と略)の成分からなる導電性ペーストの(a
)、(b)及び(C)の配合割合は、通常全固形分を1
00重量%とじた時に(a)、(b)及び(C)が各々
(a)50〜85重量%(b)0.1〜10重量%及び
(C)10〜40重景%の範囲にあり、好ましくば(a
)60〜80重里%(b) 0 、5〜8重量%及び(
C) 15〜35重量%の範囲にあることが望ましい。
上記&ll成の銅系の導電性ペーストを用いることによ
り積層プレス後のスルーホールの孔明はドリル加工にて
スミア−現象(Fグル切削時、高速ドリルによる発熱に
て樹脂部分の軟化、溶融を生じメツキ接続を行うべきプ
リント回路面の樹脂付着にて導通不良となる現象)の防
止に効果のあることが判明した。
り積層プレス後のスルーホールの孔明はドリル加工にて
スミア−現象(Fグル切削時、高速ドリルによる発熱に
て樹脂部分の軟化、溶融を生じメツキ接続を行うべきプ
リント回路面の樹脂付着にて導通不良となる現象)の防
止に効果のあることが判明した。
又、銅系の導電性ペースト中に公知の貯蔵安定性改良助
剤であるキレ−I・他剤、樹脂成分の硬化反応を調整す
る硬化促進助剤、印刷性向上の為のレベリング剤、チク
ソトロビック性付与剤、消泡剤等の助剤、非導電性の充
填剤を導電性を阻害しない範囲において混合使用しても
差し支えない。
剤であるキレ−I・他剤、樹脂成分の硬化反応を調整す
る硬化促進助剤、印刷性向上の為のレベリング剤、チク
ソトロビック性付与剤、消泡剤等の助剤、非導電性の充
填剤を導電性を阻害しない範囲において混合使用しても
差し支えない。
上記銅系の導電性ペーストの各成分は、通常有機溶剤に
溶解又は分散せしめて印刷用ペースI・とし、スクリー
ン印刷法等の手段によって耐熱樹脂フィルム基板上に所
望の回路パターンを形成し、通常80〜220°C好ま
しくは100〜180°Cの温度で加熱して有機溶剤を
蒸発除去せしめ、かつ樹脂成分の硬化反応を行わせる。
溶解又は分散せしめて印刷用ペースI・とし、スクリー
ン印刷法等の手段によって耐熱樹脂フィルム基板上に所
望の回路パターンを形成し、通常80〜220°C好ま
しくは100〜180°Cの温度で加熱して有機溶剤を
蒸発除去せしめ、かつ樹脂成分の硬化反応を行わせる。
本工程において銅系導電性ペーストの表面酸化防止のた
め、不活性ガス雰囲気にて加熱硬化することが望ましい
。
め、不活性ガス雰囲気にて加熱硬化することが望ましい
。
上記の如き導電性インクを用いたプリント回路の形成は
、耐熱樹脂フィルムの片面でも又、両面にも形成されプ
リント回路基板として用いられる。
、耐熱樹脂フィルムの片面でも又、両面にも形成されプ
リント回路基板として用いられる。
上記のプリント回路基板は、両側にプリプレグを、その
外側に最も一般的には銅張りプリント基板を重ね、加熱
加圧することによって積層される。プリプレグとは、ガ
ラス等の繊維系強化材にエポキシ樹脂又はポリイミド樹
脂等の樹脂成分を含浸してなる未反応又は部分反応した
熱硬化樹脂材料であり、通常150〜200°Cl2O
〜120分、5〜60kg/ cfで加圧によって内層
板と外側の銅張りプリント基板を強固に一体化し、かつ
プリント回路の絶縁利となる。〔第1図参照) 又、プリンI・回路基板を2枚以上用い、その間にプリ
プレグを挟め、」二層と同様にして積層することも勿論
可能である。これらのプリント回路W板に、通常の両面
に回路を有するプリンI・回路基板と同様に、孔明り、
スルーホールメツキ、バターニング、レジスト膜形成等
の加工を施し、外面部の回路加工及び外面部配線と内層
部配線の電気的導通を取り多層プリンI・回路を得る。
外側に最も一般的には銅張りプリント基板を重ね、加熱
加圧することによって積層される。プリプレグとは、ガ
ラス等の繊維系強化材にエポキシ樹脂又はポリイミド樹
脂等の樹脂成分を含浸してなる未反応又は部分反応した
熱硬化樹脂材料であり、通常150〜200°Cl2O
〜120分、5〜60kg/ cfで加圧によって内層
板と外側の銅張りプリント基板を強固に一体化し、かつ
プリント回路の絶縁利となる。〔第1図参照) 又、プリンI・回路基板を2枚以上用い、その間にプリ
プレグを挟め、」二層と同様にして積層することも勿論
可能である。これらのプリント回路W板に、通常の両面
に回路を有するプリンI・回路基板と同様に、孔明り、
スルーホールメツキ、バターニング、レジスト膜形成等
の加工を施し、外面部の回路加工及び外面部配線と内層
部配線の電気的導通を取り多層プリンI・回路を得る。
又、外面には銅張りプリント回路基板ではなく、通常の
樹脂基板を用い、アディティブ法(銅等の導体金属の無
電解メツキ又は無電解メンキと電解メツキの組合せ法)
によって外面部の回路形成及び外面部配線と内層部配線
の電気的導通を取り多層プリント回路とすることも可能
である。
樹脂基板を用い、アディティブ法(銅等の導体金属の無
電解メツキ又は無電解メンキと電解メツキの組合せ法)
によって外面部の回路形成及び外面部配線と内層部配線
の電気的導通を取り多層プリント回路とすることも可能
である。
以上の工程によって得られた銅系導電性ペース1−を用
いた多層プリント回路基板は効率の高い生産性、低価格
及び信頼性を兼備えたT業的に有用なものである。
いた多層プリント回路基板は効率の高い生産性、低価格
及び信頼性を兼備えたT業的に有用なものである。
以下に本発明を実施例を挙げて具体的に説明する。
第1図は、本発明番こ係る多層プリント回路基板の構成
の一実施例を示す説明図である。
の一実施例を示す説明図である。
第1図中、1、]゛は外層銅張基板、2.2′はくの銅
箔、3.3”、3゛°は各層の基板に挟まれるプリプレ
グ、4.4゛は内層のプリント回路基板、5.5 ’
、5 ”、5゛”はその所望の形状にプリント加工され
た銅系導電性ペースト印刷回路である。
箔、3.3”、3゛°は各層の基板に挟まれるプリプレ
グ、4.4゛は内層のプリント回路基板、5.5 ’
、5 ”、5゛”はその所望の形状にプリント加工され
た銅系導電性ペースト印刷回路である。
以下に実施例を記載するが、以下に記載する部及び%は
それぞれ重量部及び重■%を意味し、又例中に記載する
濃度は、全成分中の該成分の割合を重量%で表す。
それぞれ重量部及び重■%を意味し、又例中に記載する
濃度は、全成分中の該成分の割合を重量%で表す。
以下に記載する実施例のスクリーン印刷法による印刷体
は下記の如き方法で形成したものである。
は下記の如き方法で形成したものである。
被印刷物面に、全長200mm、幅5 mmの線状の印
刷体を180メンシユ テトロン製のスクリーンを用い
て銅系の導電性ペーストで回路パターンを印刷し、それ
ぞれの実験の硬化条件で硬化させて印刷体を形成した。
刷体を180メンシユ テトロン製のスクリーンを用い
て銅系の導電性ペーストで回路パターンを印刷し、それ
ぞれの実験の硬化条件で硬化させて印刷体を形成した。
又、導電性の目安として記載した抵抗値、比抵抗値はそ
れぞれテスター(横河電機社製 Type−32C)
、ボイーストンブリッジ(横河電機社製 Type−2
755)を用いて抵抗値を測定し、」二層硬化物の厚め
、長さ及び幅を測定して比抵抗値を算出した。
れぞれテスター(横河電機社製 Type−32C)
、ボイーストンブリッジ(横河電機社製 Type−2
755)を用いて抵抗値を測定し、」二層硬化物の厚め
、長さ及び幅を測定して比抵抗値を算出した。
以下に記載する実施例中の耐久試験は、旧L −107
D記載の熱衝撃試験10ザイクル後、MIL −106
D記載の耐湿試験100サイクルを行い、抵抗値の変化
を測定した。又、メンキイ」き性及びスミア−状態は銅
系導電性ペース)・と接続しているスルーポールを任意
に100孔選択し、断面を観察し不良数を表示した。
D記載の熱衝撃試験10ザイクル後、MIL −106
D記載の耐湿試験100サイクルを行い、抵抗値の変化
を測定した。又、メンキイ」き性及びスミア−状態は銅
系導電性ペース)・と接続しているスルーポールを任意
に100孔選択し、断面を観察し不良数を表示した。
実施例−1
工業用銅粉(不定型、平均粒径15μ、酸化銅約2.0
%含有)における表面の銅酸化物を溶去した金属銅粉1
00部、エチレングリコールモノブチルエーテルに溶解
した樹脂分80%であるアルコール可溶性レゾール型フ
ェノール樹脂20.9部を混合してなる導電性ペースト
を耐熱樹脂フィルムとして100μポリエーテルスルポ
ンフイルム(三井東圧化学社製)の片面に印刷し、10
0’C20分間予備乾燥した後、反対面を印刷し、15
0°C1時間加熱硬化した。その後、ガラス繊組織布に
エポキシ樹脂を含浸した0、1mm厚のプリプレグ2枚
及び上記0゜6 mm厚の片面銅張樹脂基板を積層し1
80°C50分40kg / c+F+条件にて硬化一
体化した。
%含有)における表面の銅酸化物を溶去した金属銅粉1
00部、エチレングリコールモノブチルエーテルに溶解
した樹脂分80%であるアルコール可溶性レゾール型フ
ェノール樹脂20.9部を混合してなる導電性ペースト
を耐熱樹脂フィルムとして100μポリエーテルスルポ
ンフイルム(三井東圧化学社製)の片面に印刷し、10
0’C20分間予備乾燥した後、反対面を印刷し、15
0°C1時間加熱硬化した。その後、ガラス繊組織布に
エポキシ樹脂を含浸した0、1mm厚のプリプレグ2枚
及び上記0゜6 mm厚の片面銅張樹脂基板を積層し1
80°C50分40kg / c+F+条件にて硬化一
体化した。
印刷体の測定点にドリルで孔明けしメツキ法によりドリ
ル孔に銅メツキを施し、印刷体のドリル部の保護と外層
部との電気的導通を取った後、ドライフィルムを用いて
、外層の銅箔をスルーホールのランドを残してエツチン
グ除去し、測定用サンプルとした。
ル孔に銅メツキを施し、印刷体のドリル部の保護と外層
部との電気的導通を取った後、ドライフィルムを用いて
、外層の銅箔をスルーホールのランドを残してエツチン
グ除去し、測定用サンプルとした。
実施例−2
工業用銅粉(不定型、平均粒径15μ、酸化銅約2.0
%含有)を110部、硬化後年揮発分80%であるアル
コール可溶性レゾール型フェノール樹脂(フェノール1
モルとホルマリン3モルとから得られたレゾール型フェ
ノール樹脂)23部、2−ヒドロキシ−3−フェノキシ
プロピルボスファイト20部、ツメチルアミノエタノー
ル4部、シアセ[・ノアルー1−ルとエチレングリコ1
−ルモノメチJレエーう−ル(1:1.)からなる混合
溶媒29部、酢酸2部を混合してなる導電性ペーストを
用いて、耐熱樹脂フィルJ、とり、−ζ50μポリ・1
″ミI、フィルム(商品名カシトン デュポン社製)を
用い実施例−1と同様に4(す定圧サンプルを作製し7
た。
%含有)を110部、硬化後年揮発分80%であるアル
コール可溶性レゾール型フェノール樹脂(フェノール1
モルとホルマリン3モルとから得られたレゾール型フェ
ノール樹脂)23部、2−ヒドロキシ−3−フェノキシ
プロピルボスファイト20部、ツメチルアミノエタノー
ル4部、シアセ[・ノアルー1−ルとエチレングリコ1
−ルモノメチJレエーう−ル(1:1.)からなる混合
溶媒29部、酢酸2部を混合してなる導電性ペーストを
用いて、耐熱樹脂フィルJ、とり、−ζ50μポリ・1
″ミI、フィルム(商品名カシトン デュポン社製)を
用い実施例−1と同様に4(す定圧サンプルを作製し7
た。
実施例−3
工業用銅粉(不定型、平均粒径15μ、酸化111i1
1約2.0%含有)を110部、エチI/ンクリ I−
ルモノゾチルエーテルに溶解した樹脂分)′IO%のハ
イドに1キノン変性レゾール型フェノール樹脂(ハイド
ロキノン2モルとフェノール0.5モルとポルマリン6
モルをアンモニア触媒の存在下で反応さ−u7得た。)
を42部、I・リス(N、N’ −ジメヂルアミノ)フ
ェノール0.2部、アセ1〜酢酸工チル12部を混合し
てなる導電性ペーストを用いて、耐熱フィルノ・として
100〃のポリエーテルイミド(ウルテル・GE社製)
を用い実施例−1と同様に測定り゛ンプルを作製した。
1約2.0%含有)を110部、エチI/ンクリ I−
ルモノゾチルエーテルに溶解した樹脂分)′IO%のハ
イドに1キノン変性レゾール型フェノール樹脂(ハイド
ロキノン2モルとフェノール0.5モルとポルマリン6
モルをアンモニア触媒の存在下で反応さ−u7得た。)
を42部、I・リス(N、N’ −ジメヂルアミノ)フ
ェノール0.2部、アセ1〜酢酸工チル12部を混合し
てなる導電性ペーストを用いて、耐熱フィルノ・として
100〃のポリエーテルイミド(ウルテル・GE社製)
を用い実施例−1と同様に測定り゛ンプルを作製した。
比較例−1
実施例−1にて得られた導電性ペーストを用い、実施例
−1と同様の月面銅張樹脂基板に印刷し、150°C1
時間加熱硬化し測定用サンプルを作製した。
−1と同様の月面銅張樹脂基板に印刷し、150°C1
時間加熱硬化し測定用サンプルを作製した。
比較例−2
実施例−2にて1))られた導電性ペース)・を用い、
比較例−1と同様にして測定サンプルを作製した。
比較例−1と同様にして測定サンプルを作製した。
比較例−3
実施例−3にて得られた導電性ペーストを用い、比較例
−■と同様にして測定用サンプルを作製した。
−■と同様にして測定用サンプルを作製した。
比較例−4
前述の片面銅張樹脂基板にクレゾールノボランク型エポ
キシ系樹脂を塗布し150°C30分加熱硬化しアンダ
ーコートとした。厚みは15μであった。
キシ系樹脂を塗布し150°C30分加熱硬化しアンダ
ーコートとした。厚みは15μであった。
その上に実施例−34こて得られた導電性ペース1−を
印刷し、150°C1時間加熱硬化した後、更に十記エ
ボ;1−シ系樹脂を印刷し、150°C30分加熱硬化
し、オーバーコートとじて測定用サンプルとした。
印刷し、150°C1時間加熱硬化した後、更に十記エ
ボ;1−シ系樹脂を印刷し、150°C30分加熱硬化
し、オーバーコートとじて測定用サンプルとした。
ごこでオーバーコートの厚みは13μであった。
作製した測定用サンプルの初期比抵抗値、初期抵抗値及
び耐久試験後の抵抗値、又、実施例の積層プレスしたサ
ンプルについては、耐久試験後の断面観察によるスルー
ボールメツキと銅系導電性ペーストとの剥がれ数とスミ
ア−発生数を下記の表−1に示す。表−1に見られる如
く銅系導電性ペーストを内層に用いることにより優れた
抵抗値の安定性が得られるこ々が分かる。
び耐久試験後の抵抗値、又、実施例の積層プレスしたサ
ンプルについては、耐久試験後の断面観察によるスルー
ボールメツキと銅系導電性ペーストとの剥がれ数とスミ
ア−発生数を下記の表−1に示す。表−1に見られる如
く銅系導電性ペーストを内層に用いることにより優れた
抵抗値の安定性が得られるこ々が分かる。
[発明の効果〕
本発明の方法を実施することにより得られる銅系導電性
ペース1−を用いた多層プリント回路基板は効率の高い
生産性、低価格及び信頼性を兼備えた工業的に有用なも
のである。
ペース1−を用いた多層プリント回路基板は効率の高い
生産性、低価格及び信頼性を兼備えた工業的に有用なも
のである。
第1図は、本発明に係る多層プリント回路基板の構成の
一実施例を示す説明図である。 1.1” ・・・・外層銅張基板 2.2″ ・・・・銅箔 3〜3パ・・・・プリプレグ 4.4” ・・・・内層のプリント回路基板5〜5′°
゛ ・・・銅系導電性ペースト印刷回路特許出願人 三
井東圧化学株式会社 代 理 人 (7525)最 」二 正 太 部第
1 図 1.1 / −−−−−−−−−−−一外層銅張基板2
.2/−・−銅箔
一実施例を示す説明図である。 1.1” ・・・・外層銅張基板 2.2″ ・・・・銅箔 3〜3パ・・・・プリプレグ 4.4” ・・・・内層のプリント回路基板5〜5′°
゛ ・・・銅系導電性ペースト印刷回路特許出願人 三
井東圧化学株式会社 代 理 人 (7525)最 」二 正 太 部第
1 図 1.1 / −−−−−−−−−−−一外層銅張基板2
.2/−・−銅箔
Claims (1)
- 1)耐熱樹脂フィルムに銅系導電性ペーストにより回路
パターンを印刷して回路を形成したプリント回路基板を
複数枚積層し、電気的に接続して成る多層プリント回路
基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63135428A JP2690744B2 (ja) | 1988-06-03 | 1988-06-03 | 多層プリント回路基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63135428A JP2690744B2 (ja) | 1988-06-03 | 1988-06-03 | 多層プリント回路基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01305598A true JPH01305598A (ja) | 1989-12-08 |
JP2690744B2 JP2690744B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=15151499
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63135428A Expired - Lifetime JP2690744B2 (ja) | 1988-06-03 | 1988-06-03 | 多層プリント回路基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2690744B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58117606A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-13 | 三井東圧化学株式会社 | スル−ホ−ル部の導電方法 |
JPS62188180U (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-30 |
-
1988
- 1988-06-03 JP JP63135428A patent/JP2690744B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58117606A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-13 | 三井東圧化学株式会社 | スル−ホ−ル部の導電方法 |
JPS62188180U (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-30 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2690744B2 (ja) | 1997-12-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN100578685C (zh) | 导电性糊剂和使用它的多层印刷布线板 | |
JP2777747B2 (ja) | 電磁波シールド層を有するプリント抵抗器内蔵多層プリント回路板 | |
EP0955795B1 (en) | Conductive paste for filing via-hole, double-sided and multilayer printed circuit boards using the same, and method for producing the same | |
JPH11126978A (ja) | 多層配線基板 | |
EP2333787B1 (en) | Conductive paste and method for manufacturing multilayer printed wiring board using the same | |
US6080336A (en) | Via-filling conductive paste composition | |
WO2008047718A1 (fr) | Tableau de connexions imprimées multicouche et procédé de fabrication de celui-ci | |
JP3634984B2 (ja) | 配線基板 | |
JP2004223559A (ja) | 電極接続用金属粉体組成物、及び、電極の接続方法 | |
JP2004234900A (ja) | 導電性粒子を用いた導電性ペースト、及び、これを用いた接続用シート | |
JPS61154096A (ja) | 多層印刷配線板の製造方法 | |
JPH01305598A (ja) | 多層プリント回路基板 | |
JP4354047B2 (ja) | ビア充填用導電ペースト組成物 | |
JPS63237497A (ja) | 多重層プリント回路 | |
CN112703272B (zh) | 具有在层压期间形成的导电迹线的催化层压板 | |
JP2000077849A (ja) | 配線基板とその製造方法 | |
JPH0575225A (ja) | 金属ベース印刷配線基板及びその製造方法 | |
JPH10178249A (ja) | 配線基板およびその製造方法 | |
JP2001155544A (ja) | 導電性ペーストおよびそれを用いた配線基板の製造方法 | |
WO2012011165A1 (ja) | 多層プリント配線板およびその製造方法 | |
JP4481733B2 (ja) | 多層配線基板用導電性ペースト組成物 | |
JPH02252294A (ja) | 多層板の製造法 | |
JP4534793B2 (ja) | プリント配線板及びプリント配線板の製造方法 | |
JP4763813B2 (ja) | 多層プリント配線板およびその製造方法 | |
JP2931565B2 (ja) | 配線基板およびその製造方法 |