JPH01298670A - ガス放電スイッチ - Google Patents
ガス放電スイッチInfo
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- JPH01298670A JPH01298670A JP1086675A JP8667589A JPH01298670A JP H01298670 A JPH01298670 A JP H01298670A JP 1086675 A JP1086675 A JP 1086675A JP 8667589 A JP8667589 A JP 8667589A JP H01298670 A JPH01298670 A JP H01298670A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J17/00—Gas-filled discharge tubes with solid cathode
- H01J17/38—Cold-cathode tubes
- H01J17/40—Cold-cathode tubes with one cathode and one anode, e.g. glow tubes, tuning-indicator glow tubes, voltage-stabiliser tubes, voltage-indicator tubes
- H01J17/44—Cold-cathode tubes with one cathode and one anode, e.g. glow tubes, tuning-indicator glow tubes, voltage-stabiliser tubes, voltage-indicator tubes having one or more control electrodes
Landscapes
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
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- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
- Switches Operated By Changes In Physical Conditions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、少なくとも二つの同軸の電極が設けられ、
これらの電極が同軸の孔を備え、中央の放電域の中にガ
ス放電路を形成し、また電極の縁に絶縁域を形成するガ
ス放電スイッチに関する。
これらの電極が同軸の孔を備え、中央の放電域の中にガ
ス放電路を形成し、また電極の縁に絶縁域を形成するガ
ス放電スイッチに関する。
ガス放電の点弧は陰極の後側空間中に荷電粒子を注入す
ることにより行われる。
ることにより行われる。
[従来の技術]
所定のガス放電路のための点弧電圧、及び点弧特性曲線
におけるガス圧力pと電極間隔りとの積に関係する点弧
電圧の通常用いられるグラフ表示は、周知のように点弧
確率を相応に考慮しながら放電装置を特徴づけるための
重要な補助手段を形成する。所定のガス放電路の耐電圧
強度を確かめる際に一般に無限に大きい平板コンデンサ
とその点弧特性曲線とが比較のために引用される。しか
しながらかかる放電路の実用的な構造形式は有限の寸法
を有する電極を備える0点弧特性曲線(パッシェンの曲
線)の右側のカーブを調べるためには、すなわち電圧最
小値を含むいわゆる遠い方の絶縁破壊領域を調べるため
には、平らな場合によっては縁にいわゆるロゴウスキ形
状を備え縁を丸められた2枚の板を相互に平行に配置す
るだけで十分であるが、かかる構造の装置はパッシェン
の曲線の左側の部分の特性曲線、すなわちいわゆる近い
方の絶縁破壊領域を調べるためには用いることができな
い、なぜならばそのときには迂回放電が発生するおそれ
があるからである。かかる迂回放電は、相互に同軸に配
置されその縁で電極間隔に比べて小さい曲率半径により
相互に離れるように曲げられ内側の円筒形の絶縁体表面
に沿って導かれている平板電極を備えた電極構造により
回避できる。従って電極の曲げられた円筒形縁領域と中
空円筒形絶縁体の内壁との間には、常に隙間が形成され
る。
におけるガス圧力pと電極間隔りとの積に関係する点弧
電圧の通常用いられるグラフ表示は、周知のように点弧
確率を相応に考慮しながら放電装置を特徴づけるための
重要な補助手段を形成する。所定のガス放電路の耐電圧
強度を確かめる際に一般に無限に大きい平板コンデンサ
とその点弧特性曲線とが比較のために引用される。しか
しながらかかる放電路の実用的な構造形式は有限の寸法
を有する電極を備える0点弧特性曲線(パッシェンの曲
線)の右側のカーブを調べるためには、すなわち電圧最
小値を含むいわゆる遠い方の絶縁破壊領域を調べるため
には、平らな場合によっては縁にいわゆるロゴウスキ形
状を備え縁を丸められた2枚の板を相互に平行に配置す
るだけで十分であるが、かかる構造の装置はパッシェン
の曲線の左側の部分の特性曲線、すなわちいわゆる近い
方の絶縁破壊領域を調べるためには用いることができな
い、なぜならばそのときには迂回放電が発生するおそれ
があるからである。かかる迂回放電は、相互に同軸に配
置されその縁で電極間隔に比べて小さい曲率半径により
相互に離れるように曲げられ内側の円筒形の絶縁体表面
に沿って導かれている平板電極を備えた電極構造により
回避できる。従って電極の曲げられた円筒形縁領域と中
空円筒形絶縁体の内壁との間には、常に隙間が形成され
る。
低圧力放電路は周知のように約2MAまでの大きい電流
と約100kVまでの高い電圧とのためのスイッチとし
て適している。このガス放電スイッチは、1トル(丁o
rr)未満の作動ガス望ましくは水素の圧力と1cm未
満の電極間隔とにより、10kVを超える電圧でパブジ
エンの曲線の左側のカーブにおいて作動する。このスイ
ッチは電流を投入するだけで再び遮断することはできな
いので、大きいコンデンサの放電のために特に適してい
る。ガス放電スイッチは陽極と陰極とを備え、これらの
電極は相互に同軸に配置され、中央の放電域とそれに続
く遮蔽域と電極の縁に絶縁域とを形成する。遮蔽域は同
軸に延びるリング円筒形の溝から成る。それに続いて電
極が絶縁域の中で半径方向に曲げられ、それぞれリング
円板形の絶縁体の板面のうちの一つに結合されている。
と約100kVまでの高い電圧とのためのスイッチとし
て適している。このガス放電スイッチは、1トル(丁o
rr)未満の作動ガス望ましくは水素の圧力と1cm未
満の電極間隔とにより、10kVを超える電圧でパブジ
エンの曲線の左側のカーブにおいて作動する。このスイ
ッチは電流を投入するだけで再び遮断することはできな
いので、大きいコンデンサの放電のために特に適してい
る。ガス放電スイッチは陽極と陰極とを備え、これらの
電極は相互に同軸に配置され、中央の放電域とそれに続
く遮蔽域と電極の縁に絶縁域とを形成する。遮蔽域は同
軸に延びるリング円筒形の溝から成る。それに続いて電
極が絶縁域の中で半径方向に曲げられ、それぞれリング
円板形の絶縁体の板面のうちの一つに結合されている。
絶縁体の内縁のそばの絶縁域の中では、軸方向における
電極間隔がほぼ放電路における間隔と同じ大きさである
。この従来例では絶縁体に沿った絶縁破壊の危険が存在
する(「アイイーイー会報(Proc、 IEE )
J第111巻、第1号、1964手1月、第203〜2
13ページ参照)。
電極間隔がほぼ放電路における間隔と同じ大きさである
。この従来例では絶縁体に沿った絶縁破壊の危険が存在
する(「アイイーイー会報(Proc、 IEE )
J第111巻、第1号、1964手1月、第203〜2
13ページ参照)。
電極の中に同軸の孔を備えたガス放電スイッチ、いわゆ
る擬似火花ギャップスイッチはパルス状の低圧力ガス放
電により制御できる。主放電は中空陰極放電により導入
され、荷電粒子の注入により点弧される。この目的のた
めに制御装置が用いられ、この制御装置は孔を備え陰極
の後備空間を囲む濠を有する。放電路は渣によりグロー
放電である予イオン化放電の領域から分離されている。
る擬似火花ギャップスイッチはパルス状の低圧力ガス放
電により制御できる。主放電は中空陰極放電により導入
され、荷電粒子の注入により点弧される。この目的のた
めに制御装置が用いられ、この制御装置は孔を備え陰極
の後備空間を囲む濠を有する。放電路は渣によりグロー
放電である予イオン化放電の領域から分離されている。
籠とグロー放電域との間には遮蔽と電位制御とのための
種々の補助電極を設けることができる(「サイエンティ
フィック インストルメンテイション(Sci、 In
5tr、 ) J第19巻(1986年)、英国物理学
会、第466〜470ページ参照)、 更に、ガス放電
スイッチの中に電子とイオンとを加速するために同軸の
孔を備えた多数の電極を比較的小さい間隔を置いて相互
に同軸に配置できることが知られている。このlR層体
の端部の電極及び場合によっては内部の電極の一部も直
流電圧に接続されている。しかしながらこの公知の実施
例では絶縁体が放電路から直接見える範囲に置かれてい
るので、絶縁体の内側表面への蒸着と放電域からの光子
による照射とが防止されていない(アメリカ合衆国特許
第4335485号明細書参照)。
種々の補助電極を設けることができる(「サイエンティ
フィック インストルメンテイション(Sci、 In
5tr、 ) J第19巻(1986年)、英国物理学
会、第466〜470ページ参照)、 更に、ガス放電
スイッチの中に電子とイオンとを加速するために同軸の
孔を備えた多数の電極を比較的小さい間隔を置いて相互
に同軸に配置できることが知られている。このlR層体
の端部の電極及び場合によっては内部の電極の一部も直
流電圧に接続されている。しかしながらこの公知の実施
例では絶縁体が放電路から直接見える範囲に置かれてい
るので、絶縁体の内側表面への蒸着と放電域からの光子
による照射とが防止されていない(アメリカ合衆国特許
第4335485号明細書参照)。
[発明が解決しようとする課題]
この発明は、相互に平行に配置されかつ同軸の孔を備え
た電極を有する公知のガス放電スイッチを簡単化しかつ
改良することを目的とする。
た電極を有する公知のガス放電スイッチを簡単化しかつ
改良することを目的とする。
[課題を解決するための手段1
この目的はこの発明に基づき、少なくとも二つの同軸の
電極が設けられ、これらの電極が同軸の孔を備え、中央
の放電域の中にガス放電路を形成し、また電極の縁に絶
縁域を形成し、陰極の後側空間中の荷電粒子を注入する
ことによりガス放電を点弧するために制御装置が設けら
れ、放電域中の電極の間隔が、リング円板形の絶縁体の
内縁に沿う電極の軸線方向における絶縁域中の電極の間
隔より大きく、絶縁域中で電極がそれぞれ絶縁体の板面
のうちの一つに結合され、後者の間隔が少なくとも絶縁
域の間に形成された遮蔽域中の電極の間隔と同じ大きさ
であり、遮蔽域中には絶縁体を遮蔽するための手段が設
けられていることを特徴とするガス放電スイッチにより
達成される。
電極が設けられ、これらの電極が同軸の孔を備え、中央
の放電域の中にガス放電路を形成し、また電極の縁に絶
縁域を形成し、陰極の後側空間中の荷電粒子を注入する
ことによりガス放電を点弧するために制御装置が設けら
れ、放電域中の電極の間隔が、リング円板形の絶縁体の
内縁に沿う電極の軸線方向における絶縁域中の電極の間
隔より大きく、絶縁域中で電極がそれぞれ絶縁体の板面
のうちの一つに結合され、後者の間隔が少なくとも絶縁
域の間に形成された遮蔽域中の電極の間隔と同じ大きさ
であり、遮蔽域中には絶縁体を遮蔽するための手段が設
けられていることを特徴とするガス放電スイッチにより
達成される。
[発明の効果]
放電域における電極間隔が絶縁域及び遮蔽域における電
極間隔より大きいこの発明に基づくガス放電スイッチで
は、放電の位置を放電域中に特に放電路に沿って限定す
ることができる。絶縁体が直接見えないので絶縁体への
蒸着が防止される。
極間隔より大きいこの発明に基づくガス放電スイッチで
は、放電の位置を放電域中に特に放電路に沿って限定す
ることができる。絶縁体が直接見えないので絶縁体への
蒸着が防止される。
[実施例]
次にこの発明に基づくガス放電スイッチの複数の実施例
を示す図面により、この発明の詳細な説明する。
を示す図面により、この発明の詳細な説明する。
第1図に示すガス放電スイッチの一実施例では二つの電
極2.3が相互に同軸に配置され、これらの電極のうち
電極2は例えば陰極としてまた電極3は陽極としてvi
続され、これらの電極はそれぞれ回転体を形成する。−
点鎖線により示された回転軸線は符号4が付けられてい
る。電極2,3は同軸の孔5又は6を備え、この孔に沿
って放電路lOが形成される。電極2,3は導電性金属
例えば特殊鋼から成り、放電路に接して例えばタングス
テン又はモリブデンのような高融点の金属又はこれらの
合金から成る入れ子8.9を備える。放電路IOの周り
には拡大された間隔りを備えた電極2と3の間の空間に
より放電域11が形成され、特に入れ子8と9の間に放
電域が生じている。孔5.6の直径は放電域11の中の
電極2と3の間隔りより小さく選ばれるのが有利である
0例えば約2〜8mm、望ましくは4〜6mm、特に約
5mmのこの間隔りは、リング円板形の絶縁体16の内
縁に沿う電極2.3の軸方向における絶縁域中の円電極
の間隔dl より著しく大きく、かつ放電域11と絶縁
体16との間の遮蔽域12における間隔d2より大きい
のが有利であり、この絶縁体には電極2.3の縁が気密
に取り付けられている0間隔d1は少なくとも間隔d2
と同じ大きさであり1例えば約0.5〜6mm、望まし
くは2〜4mm、特に約3mmとすることができる。厚
さAを有するリング円板形の絶縁体16は電気絶縁材料
から成る台23により延長され、この台は同時に電極2
゜3の外側端部の間の絶縁路の延長のために役立つ。
極2.3が相互に同軸に配置され、これらの電極のうち
電極2は例えば陰極としてまた電極3は陽極としてvi
続され、これらの電極はそれぞれ回転体を形成する。−
点鎖線により示された回転軸線は符号4が付けられてい
る。電極2,3は同軸の孔5又は6を備え、この孔に沿
って放電路lOが形成される。電極2,3は導電性金属
例えば特殊鋼から成り、放電路に接して例えばタングス
テン又はモリブデンのような高融点の金属又はこれらの
合金から成る入れ子8.9を備える。放電路IOの周り
には拡大された間隔りを備えた電極2と3の間の空間に
より放電域11が形成され、特に入れ子8と9の間に放
電域が生じている。孔5.6の直径は放電域11の中の
電極2と3の間隔りより小さく選ばれるのが有利である
0例えば約2〜8mm、望ましくは4〜6mm、特に約
5mmのこの間隔りは、リング円板形の絶縁体16の内
縁に沿う電極2.3の軸方向における絶縁域中の円電極
の間隔dl より著しく大きく、かつ放電域11と絶縁
体16との間の遮蔽域12における間隔d2より大きい
のが有利であり、この絶縁体には電極2.3の縁が気密
に取り付けられている0間隔d1は少なくとも間隔d2
と同じ大きさであり1例えば約0.5〜6mm、望まし
くは2〜4mm、特に約3mmとすることができる。厚
さAを有するリング円板形の絶縁体16は電気絶縁材料
から成る台23により延長され、この台は同時に電極2
゜3の外側端部の間の絶縁路の延長のために役立つ。
放電路10の上方には陰極の後側空間24を囲むケース
26を備えた制御装!!t25が設けられている。ケー
ス26の中空円筒形延長部は予イオン化中空陰極28を
形成し、この予イオン化中空陰極は中空陰極域32を囲
みかつ予イオン化空間30の陽極域31の中へ突入する
。ケース26は孔27を備え、またガスを透過させる金
属製分離壁29により中空陰極域32から分離されてい
る0分離壁29は孔を備え特に目の細かい格子又は網か
ら成ることができる。予イオン化空間30はつぼ形の制
御電極(賦活電極)33により囲まれ、この制御電極は
リング形の絶縁体34上に置かれ、この絶縁体は電極2
と気密に結合されている。
26を備えた制御装!!t25が設けられている。ケー
ス26の中空円筒形延長部は予イオン化中空陰極28を
形成し、この予イオン化中空陰極は中空陰極域32を囲
みかつ予イオン化空間30の陽極域31の中へ突入する
。ケース26は孔27を備え、またガスを透過させる金
属製分離壁29により中空陰極域32から分離されてい
る0分離壁29は孔を備え特に目の細かい格子又は網か
ら成ることができる。予イオン化空間30はつぼ形の制
御電極(賦活電極)33により囲まれ、この制御電極は
リング形の絶縁体34上に置かれ、この絶縁体は電極2
と気密に結合されている。
電極2.3のうちの少なくとも一つ例えば陰極2は、放
電域11と絶縁体16との間に少なくとも一つのシール
ド18を備え、このシールドは陽極3の相応の凹所21
の中に突入し、放電域11と絶縁体16との間の遮蔽域
l企が0字リング形の形状を備えるようになっている。
電域11と絶縁体16との間に少なくとも一つのシール
ド18を備え、このシールドは陽極3の相応の凹所21
の中に突入し、放電域11と絶縁体16との間の遮蔽域
l企が0字リング形の形状を備えるようになっている。
ガス放電スイッチのこの実施例により、放電路lOから
絶縁体16への拡散並びに放電域11からの紫外線光子
及びX線光子による絶縁体の照射が実際上防止されてい
る。
絶縁体16への拡散並びに放電域11からの紫外線光子
及びX線光子による絶縁体の照射が実際上防止されてい
る。
イオン化可能なガスの充填は、放電路10に沿った電極
間隔りとガス圧力pとの積が増加するときに、ガス放電
スイッチの点弧電圧が低下するように選ばれている。放
電路lOに沿った急速な火花に似たガス放電は、制御電
極33を用いた予イオン化空間30の中の予放電と共に
、又は破壊電圧を超えたときに導入される0例えば約4
mmの放電路に沿った間隔りと例えばそれぞれ約2mm
の絶縁域13の中の間隔d1及び遮蔽域12の中の間隔
d2 、並びに圧力p=60P&のヘリウムによるガス
充填、従って積pXD=240Pa*mmのとき、少な
くとも20kVの放電路lOの耐電圧強度が得られる。
間隔りとガス圧力pとの積が増加するときに、ガス放電
スイッチの点弧電圧が低下するように選ばれている。放
電路lOに沿った急速な火花に似たガス放電は、制御電
極33を用いた予イオン化空間30の中の予放電と共に
、又は破壊電圧を超えたときに導入される0例えば約4
mmの放電路に沿った間隔りと例えばそれぞれ約2mm
の絶縁域13の中の間隔d1及び遮蔽域12の中の間隔
d2 、並びに圧力p=60P&のヘリウムによるガス
充填、従って積pXD=240Pa*mmのとき、少な
くとも20kVの放電路lOの耐電圧強度が得られる。
ガス放電スイッチの特別な実施例では、予イオン化空間
30を貫き回転軸&!4にほぼ平行に向いた磁界を用い
ることができる。この磁界により放電維持電圧を低減し
、従ってトリガを受は入れる圧力範囲を拡大できる。
30を貫き回転軸&!4にほぼ平行に向いた磁界を用い
ることができる。この磁界により放電維持電圧を低減し
、従ってトリガを受は入れる圧力範囲を拡大できる。
第2図に示すガス放電スイッチの実施例では、電極2,
3の相互に向かい合う表面又は入れ子8.9が放電路1
0に沿って図面では符号が付けられていない凹所を備え
、この凹所が放電域11の中の電極の間隔を補助的に増
大する。この実施例では電極2.3が放電域11と絶縁
体16との間にそれぞれシールド18又は19を備え、
これらのシールドが向かい合った電極の相応の凹所21
又は22の中へ突入する。この実施例では遮蔽域12の
中に放電域11と絶縁体16との間に相前後して二つの
U字リング形の拡散阻止部が生じ、これらの拡散阻止部
が放電域11から絶縁体16への金属蒸気の拡散を防止
する。
3の相互に向かい合う表面又は入れ子8.9が放電路1
0に沿って図面では符号が付けられていない凹所を備え
、この凹所が放電域11の中の電極の間隔を補助的に増
大する。この実施例では電極2.3が放電域11と絶縁
体16との間にそれぞれシールド18又は19を備え、
これらのシールドが向かい合った電極の相応の凹所21
又は22の中へ突入する。この実施例では遮蔽域12の
中に放電域11と絶縁体16との間に相前後して二つの
U字リング形の拡散阻止部が生じ、これらの拡散阻止部
が放電域11から絶縁体16への金属蒸気の拡散を防止
する。
第3図に示すガス放電スイッチの実施例では放電路の直
列回路が用いられ、この直列回路は相応に一層高いスイ
ッチ作動電圧を実現する。この実施例では電極2と3の
間に更に中間電極41が設けられ、この中間電極は同様
に同軸の孔42を備え孔5.6と共に放電路44.45
の直列回路を形成する。中間電極41はリング形の二つ
のシールド46.47を備え、これらのシールドはそれ
ぞれ他の二つの電極の相応の凹所48又は49の中へ突
入する。これらのシールド46.47は同様に金属蒸着
に対する拡散阻止部として働く、この実施例ではスイッ
チ作動電圧の相応の上昇が得られる。中間電極41を備
えたガス放電スイッチの図示の実施例のほかに、−層高
い電圧のために更に別の中間電極を用いることもできる
。
列回路が用いられ、この直列回路は相応に一層高いスイ
ッチ作動電圧を実現する。この実施例では電極2と3の
間に更に中間電極41が設けられ、この中間電極は同様
に同軸の孔42を備え孔5.6と共に放電路44.45
の直列回路を形成する。中間電極41はリング形の二つ
のシールド46.47を備え、これらのシールドはそれ
ぞれ他の二つの電極の相応の凹所48又は49の中へ突
入する。これらのシールド46.47は同様に金属蒸着
に対する拡散阻止部として働く、この実施例ではスイッ
チ作動電圧の相応の上昇が得られる。中間電極41を備
えたガス放電スイッチの図示の実施例のほかに、−層高
い電圧のために更に別の中間電極を用いることもできる
。
第4図には、予成電空間30を備えた陰極の後備空間2
4の特別な構成だけが示されている。この実施例では補
助電極が設けられ、この補助電極は阻止電極52として
働き、リング形の二つの絶縁体55と56の間に配置さ
れている。この阻止電極52はほぼ中空円筒形に形成さ
れ、その下端部はケース26の中の孔27を遮蔽する。
4の特別な構成だけが示されている。この実施例では補
助電極が設けられ、この補助電極は阻止電極52として
働き、リング形の二つの絶縁体55と56の間に配置さ
れている。この阻止電極52はほぼ中空円筒形に形成さ
れ、その下端部はケース26の中の孔27を遮蔽する。
この阻止電極52にはスイッチ作動過程の前に正の電位
が印加されるのが有利であり、この電位は孔27を通っ
てケース26の中に入り込みスイッチ作動過程の早すぎ
る作!11tJI始を防止する。従って絶縁体55への
金属蒸気の拡散が起こり得ない、第2の絶縁体56に対
しては予イオン化電極32の付加部53を設けるのが合
目的であり、この付加部が絶縁体56を遮蔽する。
が印加されるのが有利であり、この電位は孔27を通っ
てケース26の中に入り込みスイッチ作動過程の早すぎ
る作!11tJI始を防止する。従って絶縁体55への
金属蒸気の拡散が起こり得ない、第2の絶縁体56に対
しては予イオン化電極32の付加部53を設けるのが合
目的であり、この付加部が絶縁体56を遮蔽する。
i5図に示す実施例では阻止電極52が制御電極33の
中に組み込まれている。この目的のために制御電極はそ
の下端部が陰極の後側空間24のケース26の孔27を
覆うまで延長されている。
中に組み込まれている。この目的のために制御電極はそ
の下端部が陰極の後側空間24のケース26の孔27を
覆うまで延長されている。
従って陰極電位に対する阻止電極52の電位は、予イオ
ン化空間30の中の予イオン化放電の維持電圧に等しく
、予イオン化空間の高さhl により必要な大きさに調
節できる。それゆえに高さhlは一般に少なくとも数C
mとなろう。
ン化空間30の中の予イオン化放電の維持電圧に等しく
、予イオン化空間の高さhl により必要な大きさに調
節できる。それゆえに高さhlは一般に少なくとも数C
mとなろう。
特別に有利な実施例は、制御81電極33のケースがマ
イクロ波を入射するための窓51を備えることにより得
られる。この窓はプラスチック又は石英から成るのが有
利である。
イクロ波を入射するための窓51を備えることにより得
られる。この窓はプラスチック又は石英から成るのが有
利である。
fJrJG図に示すガス放電スイッチの実施例では、つ
ぼ形の予イオン化電極が減結合電極54により陰極2か
ら分離され、減結合電極はそれぞれ絶縁体57又は58
により制御電極33及び電極2から分離されている。予
イオン化中空陰極の無いガス放電スイッチのこの実施例
では、減結合電極54が予イオン化空間34の中のイオ
ン化を放電路lOから減結合するために用いられる。
ぼ形の予イオン化電極が減結合電極54により陰極2か
ら分離され、減結合電極はそれぞれ絶縁体57又は58
により制御電極33及び電極2から分離されている。予
イオン化中空陰極の無いガス放電スイッチのこの実施例
では、減結合電極54が予イオン化空間34の中のイオ
ン化を放電路lOから減結合するために用いられる。
沿面放電による制御部を備えた第7図に示すガス放電ス
イッチの実施例ではリング形のトリガ電極60が設けら
れ、このトリガ電極は、金属より大きい電気抵抗率を有
する材料例えば有a賀の絶縁物望ましくはプラスチック
特にマイラー又は半導体又はグラファイトから成り図で
は幾分厚めに示されている薄い中間層59により、陰極
の後側空間24のケース26から分離されている。中間
層59の厚さは大きくとも約0.1〜0.2mmとする
のが有利であり、一般に0.5mmを著しく超えること
はない、沿面放電のための制御装置はケース61を備え
るのが合目的であり、このケースは例えば金属から成る
ことができる。トリガ電極60と陰極との間に制御電圧
パルスを印加することにより、薄い中間層59の表面を
経て、場合によっては比較的高い電圧による事前の化成
の後に、沿面放電が強心1される。この沿面放電により
荷電粒子及びプラズマが陰極の後側空間の中に注入され
、荷電粒子及びプラズマが放電路1゜でのスイッチ作動
過程を誘発する。
イッチの実施例ではリング形のトリガ電極60が設けら
れ、このトリガ電極は、金属より大きい電気抵抗率を有
する材料例えば有a賀の絶縁物望ましくはプラスチック
特にマイラー又は半導体又はグラファイトから成り図で
は幾分厚めに示されている薄い中間層59により、陰極
の後側空間24のケース26から分離されている。中間
層59の厚さは大きくとも約0.1〜0.2mmとする
のが有利であり、一般に0.5mmを著しく超えること
はない、沿面放電のための制御装置はケース61を備え
るのが合目的であり、このケースは例えば金属から成る
ことができる。トリガ電極60と陰極との間に制御電圧
パルスを印加することにより、薄い中間層59の表面を
経て、場合によっては比較的高い電圧による事前の化成
の後に、沿面放電が強心1される。この沿面放電により
荷電粒子及びプラズマが陰極の後側空間の中に注入され
、荷電粒子及びプラズマが放電路1゜でのスイッチ作動
過程を誘発する。
表面に沿って沿面放電が点弧される中間層59の内径D
Iは、陰極の後側空間24のケース26の内B d ?
より大きく選ぶのが有利である。それにより中間層5
9の矢印66により示された自由表面が、ケース26の
内側円筒面の上級により放電路10に沿った放電に対し
て遮蔽される。
Iは、陰極の後側空間24のケース26の内B d ?
より大きく選ぶのが有利である。それにより中間層5
9の矢印66により示された自由表面が、ケース26の
内側円筒面の上級により放電路10に沿った放電に対し
て遮蔽される。
中間層59の矢印66により決定される表面に沿った沿
面放電の個所の放電路10からの距離は、主として陰極
の後側空間24の高さh2により決定される。この高さ
は、沿面放電路の浸食を制限するために従ってガス放電
スイッチの寿命期間を増加するために、できるだけ大き
く選ばれるのが有利である。ガス放電スイッチの実用的
な実施例では、この高さh2はケース26の内径d7の
少なくとも約2倍とするのが有利である。
面放電の個所の放電路10からの距離は、主として陰極
の後側空間24の高さh2により決定される。この高さ
は、沿面放電路の浸食を制限するために従ってガス放電
スイッチの寿命期間を増加するために、できるだけ大き
く選ばれるのが有利である。ガス放電スイッチの実用的
な実施例では、この高さh2はケース26の内径d7の
少なくとも約2倍とするのが有利である。
第8図に示す実施例では予イオン化空間30の中に熱陰
極62を設けることもでき、この熱陰極には加熱装置例
えば加熱コイル63が付設され、この加熱装置は適当な
スイッチ64を介して加熱電流源65に接続できる0間
接に又は場合によっては直接に加熱される熱陰極62を
備えたこの実施例では、電子流は減結合電極54により
制御される。
極62を設けることもでき、この熱陰極には加熱装置例
えば加熱コイル63が付設され、この加熱装置は適当な
スイッチ64を介して加熱電流源65に接続できる0間
接に又は場合によっては直接に加熱される熱陰極62を
備えたこの実施例では、電子流は減結合電極54により
制御される。
更に、第9図に示すガス放電スイッチは内部の水素貯蔵
器を備えることもでき、この水素貯蔵器は例えば水素又
は重水素のための金属製のガス貯蔵器68から成ること
ができる。このガス貯蔵器は例えばパラジウム、チタン
又はタンタルから成ることができ、これらの物質の格子
の中に水素が貯蔵される。ガス貯蔵器68は同様に加熱
装置を備え、この加熱装置は例えば図示されていない加
熱′電流源に接続された加熱コイル70から成ることが
できる。ガス貯蔵器68のガスの蓄えはこの発明に関連
してガス放電スイッチのための圧力調節系として働く、
この実施例では例えば予イオン化放電の維持電圧又はガ
スの圧力を測定し、これらの(tiに関係してガス補給
をyJmすることができる。
器を備えることもでき、この水素貯蔵器は例えば水素又
は重水素のための金属製のガス貯蔵器68から成ること
ができる。このガス貯蔵器は例えばパラジウム、チタン
又はタンタルから成ることができ、これらの物質の格子
の中に水素が貯蔵される。ガス貯蔵器68は同様に加熱
装置を備え、この加熱装置は例えば図示されていない加
熱′電流源に接続された加熱コイル70から成ることが
できる。ガス貯蔵器68のガスの蓄えはこの発明に関連
してガス放電スイッチのための圧力調節系として働く、
この実施例では例えば予イオン化放電の維持電圧又はガ
スの圧力を測定し、これらの(tiに関係してガス補給
をyJmすることができる。
ガス補給のために第9図に示すように電気的に制御され
たガス配量弁71又はダイアフラム弁を設けることがで
き、この弁は圧力低下又は維持電圧上昇の際に、圧力又
は維持電圧が再び正常な作動値に到達するまで、外部の
ガス貯蔵器69からのガス供給をIfmする。
たガス配量弁71又はダイアフラム弁を設けることがで
き、この弁は圧力低下又は維持電圧上昇の際に、圧力又
は維持電圧が再び正常な作動値に到達するまで、外部の
ガス貯蔵器69からのガス供給をIfmする。
第1図ないし第3図及び第6図はそれぞれこの発明に基
づくガス放電スイッチの異なる実施例の縦断面図、第4
図、第5図及び第7図はそれぞれガス放電スイッスの予
イオン化空間を備えた陰極の後側空間の更にスの実施例
の縦断面図、第8図はガス放電スイッチのための特殊な
電子源の一実施例を示す縦断面図、第9図はガス放電ス
イー2千のためのガス貯蔵器の二つの実施例を示す縦断
面図である。 2.3・・・電極 5.6・・・孔 1O544,45・・・放電路 11・・・放電域 12・・・遮蔽域 13・・・絶縁域 16・・・絶縁体 24・・・陰極後側空間 25・・・制御装置 26・・・ケース 27・・・孔 28・・・予イオン化中空陰極 30・・・予イオン化空間 31・・・陽極域 32・・・中空陰極域 33・・・制御電極 51・・・窓 52・・・阻止電極 54・・・減結合電極 62・・・熱陰極 68.69・・・ガス貯蔵器 h1181 iで・°・へ弁理士冨村 沿 ・ −。 ’、、 ” ”、、lj FIG 2
づくガス放電スイッチの異なる実施例の縦断面図、第4
図、第5図及び第7図はそれぞれガス放電スイッスの予
イオン化空間を備えた陰極の後側空間の更にスの実施例
の縦断面図、第8図はガス放電スイッチのための特殊な
電子源の一実施例を示す縦断面図、第9図はガス放電ス
イー2千のためのガス貯蔵器の二つの実施例を示す縦断
面図である。 2.3・・・電極 5.6・・・孔 1O544,45・・・放電路 11・・・放電域 12・・・遮蔽域 13・・・絶縁域 16・・・絶縁体 24・・・陰極後側空間 25・・・制御装置 26・・・ケース 27・・・孔 28・・・予イオン化中空陰極 30・・・予イオン化空間 31・・・陽極域 32・・・中空陰極域 33・・・制御電極 51・・・窓 52・・・阻止電極 54・・・減結合電極 62・・・熱陰極 68.69・・・ガス貯蔵器 h1181 iで・°・へ弁理士冨村 沿 ・ −。 ’、、 ” ”、、lj FIG 2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)少なくとも二つの同軸の電極(2、3)が設けられ
、これらの電極が同軸の孔(5、6)を備え、中央の放
電域(11)の中にガス放電路(10)を形成し、また
電極の縁に絶縁域(13)を形成し、陰極の後側空間(
24)の中に荷電粒子を注入することによりガス放電を
点弧するために制御装置(25)が設けられ、放電域(
11)の中の電極(2、3)の間隔(D)が、リング円
板形の絶縁体(16)の内縁に沿う電極(2、3)の軸
線方向における絶縁域(13)の中の電極(2、3)の
間隔(d_1)より大きく、絶縁域の中で電極(2、3
)がそれぞれ絶縁体(16)の板面のうちの一つに結合
され、後者の間隔(d_1)が少なくとも絶縁域(13
)の間に形成された遮蔽域(12)の中の電極(2、3
)の間隔(d_2)と同じ大きさであり、遮蔽域の中に
は絶縁体(16)を遮蔽するための手段が設けられてい
ることを特徴とするガス放電スイッチ。 2)遮蔽域(12)の中の電極(2、3)の間隔(d_
2)が放電路(10)の電極(2、3)の間隔(D)の
半分以下であることを特徴とする請求項1記載のスイッ
チ。 3)絶縁域(13)の中の電極(2、3)の間隔(d_
1)が絶縁体(16)の厚さ(A)にほぼ等しいことを
特徴とする請求項1記載のスイッチ。 4)放電域(11)と絶縁域(13)との間に遮蔽域(
12)の少なくとも一つのU字リング形の形状を備える
ことを特徴とする請求項1記載のスイッチ。 5)放電路(44、45)の直列回路が設けられている
ことを特徴とする請求項1記載のスイッチ。 6)ガス放電の制御のためにグロー放電が用いられるこ
とを特徴とする請求項1記載のスイッチ。 7)中空円筒形のケース(26)が陰極の後側空間(2
4)を形成しかつ中空円筒形の予イオン化中空陰極(2
8)を備え、この予イオン化中空陰極が中空陰極域(3
2)を囲み、予イオン化中空陰極の開放端と予イオン化
空間(30)の陽極域(31)とが向かい合うことを特
徴とする請求項6記載のスイッチ。 8)ケース(26)の円筒部が孔(27)を備え、これ
らの孔に阻止電極(52)が付設されていることを特徴
とする請求項7記載のスイッチ。 9)予イオン化空間(30)が磁界の中に配置されてい
ることを特徴とする請求項7記載のスイッチ。 10)阻止電極(52)が制御電極(33)と陰極(2
)とに対して電気的に絶縁されていることを特徴とする
請求項8記載のスイッチ。 11)阻止電極(52)が制御電極(33)の中に組み
込まれていることを特徴とする請求項8記載のスイッチ
。 12)制御電極(33)がマイクロ波を入射するための
窓(51)を備えることを特徴とする請求項16記載の
スイッチ。 13)制御電極(33)に減結合電極(54)が付設さ
れていることを特徴とする請求項6記載のスイッチ。 14)作動ガスの少なくとも一つの成分が水銀から成る
ことを特徴とする請求項1記載のスイッチ。 15)沿面放電によりガス放電が制御されることを特徴
とする請求項1記載のスイッチ。16)熱陰極(62)
が電子源として用いられることを特徴とする請求項1記
載のスイッチ。 17)予イオン化放電の維持電圧又は作動ガスの圧力に
関係して作動ガスの供給が制御されることを特徴とする
請求項1記載のスイッチ。 18)ガス圧力調節のためにガス貯蔵器(68、69)
が用いられることを特徴とする請求項17記載のスイッ
チ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3812018 | 1988-04-11 | ||
DE3812018.6 | 1988-04-11 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01298670A true JPH01298670A (ja) | 1989-12-01 |
Family
ID=6351742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1086675A Pending JPH01298670A (ja) | 1988-04-11 | 1989-04-05 | ガス放電スイッチ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4939416A (ja) |
EP (1) | EP0337192B1 (ja) |
JP (1) | JPH01298670A (ja) |
AT (1) | ATE108946T1 (ja) |
DE (1) | DE58908057D1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP0337192B1 (de) * | 1988-04-11 | 1994-07-20 | Siemens Aktiengesellschaft | Gasentladungschalter |
DE3904013A1 (de) * | 1989-02-10 | 1990-08-16 | Knorr Bremse Ag | Klotzbremseinrichtung fuer schienenfahrzeuge |
DE3904031A1 (de) * | 1989-02-10 | 1990-08-16 | Siemens Ag | Gasentladungsschalter |
EP0433480B1 (de) * | 1989-12-20 | 2000-04-12 | Siemens Aktiengesellschaft | Hohlelektrodenschalter |
EP0473813A1 (de) * | 1990-09-03 | 1992-03-11 | Siemens Aktiengesellschaft | Hohlelektrodenschalter |
DE59009153D1 (de) * | 1990-09-03 | 1995-06-29 | Siemens Ag | Hohlelektrodenschalter. |
DE59106733D1 (de) * | 1991-04-25 | 1995-11-23 | Siemens Ag | Gasentladungsschalter. |
DE9117007U1 (de) * | 1991-04-25 | 1995-01-26 | Siemens AG, 80333 München | Gasentladungsschalter |
US5126638A (en) * | 1991-05-13 | 1992-06-30 | Maxwell Laboratories, Inc. | Coaxial pseudospark discharge switch |
GB9502423D0 (en) * | 1995-02-08 | 1995-03-29 | Eev Ltd | Gas discharge device |
KR0166644B1 (ko) * | 1995-11-28 | 1999-01-15 | 박주탁 | 대전력 의사방전 스위치 |
DE10118210B4 (de) * | 2001-04-11 | 2012-02-23 | Dehn + Söhne Gmbh + Co. Kg | Gekapselter Überspannungsableiter mit einer Funkenstreckenanordnung |
WO2006026504A2 (en) * | 2004-08-27 | 2006-03-09 | Spherics, Inc. | Mucoadhesive oral formulations of high permeability, high solubility drugs |
DE102010011592A1 (de) * | 2010-03-16 | 2011-09-22 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Hohlkathoden-Plasmaquelle sowie Verwendung der Hohlkathoden-Plasmaquelle |
US9153427B2 (en) | 2012-12-18 | 2015-10-06 | Agilent Technologies, Inc. | Vacuum ultraviolet photon source, ionization apparatus, and related methods |
US11482394B2 (en) * | 2020-01-10 | 2022-10-25 | General Electric Technology Gmbh | Bidirectional gas discharge tube |
CN113709958B (zh) * | 2021-08-30 | 2022-10-28 | 西安交通大学 | 一种基于金属薄片堆栈层叠的微腔放电等离子体喷射装置 |
CN113721066B (zh) * | 2021-09-10 | 2022-12-27 | 华北电力大学 | 一种传导电流测量装置及方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5032414B2 (ja) * | 1973-06-09 | 1975-10-21 | ||
US3854068A (en) * | 1973-12-26 | 1974-12-10 | Gen Electric | Shield structure for vacuum arc discharge devices |
US4019079A (en) * | 1976-05-07 | 1977-04-19 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Gas injected vacuum switch |
DE2804393C2 (de) * | 1978-02-02 | 1987-01-02 | Jens Prof. Dr. 8520 Buckenhof Christiansen | Verfahren zum Erzeugen und Beschleunigen von Elektronen bzw. Ionen in einem Entladungsgefäß, sowie dazugehöriger Teilchenbeschleuniger und ferner dazugehörige Anwendungen des Verfahrens |
US4596945A (en) * | 1984-05-14 | 1986-06-24 | Hughes Aircraft Company | Modulator switch with low voltage control |
EP0259045A3 (en) * | 1986-08-30 | 1989-10-25 | English Electric Valve Company Limited | Gas discharge devices |
EP0337192B1 (de) * | 1988-04-11 | 1994-07-20 | Siemens Aktiengesellschaft | Gasentladungschalter |
-
1989
- 1989-03-29 EP EP89105562A patent/EP0337192B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-03-29 DE DE58908057T patent/DE58908057D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-03-29 AT AT89105562T patent/ATE108946T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-04-05 JP JP1086675A patent/JPH01298670A/ja active Pending
- 1989-04-10 US US07/335,281 patent/US4939416A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-07-02 US US07/547,476 patent/US5075592A/en not_active Expired - Fee Related
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