JPH01293556A - Semiconductor integrated circuit device and manufacture thereof - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device and manufacture thereof

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JPH01293556A
JPH01293556A JP63123811A JP12381188A JPH01293556A JP H01293556 A JPH01293556 A JP H01293556A JP 63123811 A JP63123811 A JP 63123811A JP 12381188 A JP12381188 A JP 12381188A JP H01293556 A JPH01293556 A JP H01293556A
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chip
semiconductor
lead
leads
chips
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渡辺 昌行
Toshio Sugano
利夫 菅野
Seiichiro Tsukui
誠一郎 津久井
Takashi Ono
貴司 小野
Yoshiaki Wakashima
若島 喜昭
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Hitachi Ltd
Akita Electronics Systems Co Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
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Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
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Akita Electronics Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/181Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with surface mounted components

Abstract

PURPOSE:To enhance the mounting density of a semiconductor device such as a memory device, etc., by connecting the bump electrodes of a semiconductor chip to leads, and connecting the plurality of the chips having the leads to the interconnections of a module board to compose a semiconductor device. CONSTITUTION:The bump electrodes 6 of a semiconductor chip 4 are connected to leads 5, and a plurality of semiconductor chips 4 having the leads 5 are connected to the interconnections of a module board 1 to compose a semiconductor device. For example, eight semiconductor chips 4A to 4D are mounted on the front and rear faces of the board 1 composed by laminating a plurality of ceramic and interconnecting layers. The chips 4A to 4D are not sealed by a package made of ceramics, resin, etc., but the side provided with semiconductor elements and interconnections is molded with resin 7. Bump electrodes 6 are provided on the chips 4A to 4D, and the leads 5A to 5D are connected to the electrodes 6 by TABs.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置に関するものであり、特に、半導
体チップをモジュール化してモジュール基板に複数個搭
載して構成した半導体装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor device, and particularly to a semiconductor device configured by modularizing semiconductor chips and mounting a plurality of semiconductor chips on a module substrate.

更に本発明はテープキャリアの重ね実装技術に関する。Furthermore, the present invention relates to a technology for stacking tape carriers.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

搭載基板(モジ為−ル基板)に、半導体チップを封止し
たパッケージを複数個搭載することにより換成した実装
密度の高い半導体装置が、日経マグロクヒル社発行、日
経エレクトロニクス別冊、−2「iイク四デバイセズJ
p150に示されている。
A semiconductor device with high packaging density, which is created by mounting multiple packages with sealed semiconductor chips on a mounting board (module board), is published by Nikkei McGloch Hill, Nikkei Electronics Special Edition, -2 "i-iku". Four Devices J
p150.

半導体素子の組込技術の一つに、テープキャリア方式が
ある。この方式は、フィルムキャリアあるいはT A 
B (Tape Automated Bonding
 )方式などとも称されている。この方式は、長尺のス
ズロケットホール(/<−7ル−シッンホール)付きの
樹脂製テープに半導体素子を連続的に組込んでいく方法
で、当該テープキャリアは半導体素子(チップ)の電極
配置に合せたリードパターンが、スプロケットホールと
デバイスホールを持つ樹脂フィルム上く形成されたもの
で、例えば、接着剤付きポリイミドフィルムを適宜幅に
スリットし、それに送り用のスプロケットホールとチッ
プを組込みするためのデバイスホールとをパンチングし
、銅箔をラミネートシ、ホトレジスト技術、エツチング
技術を用いて所望のリードパターンを形成する工程を経
て製せられる。
One of the technologies for integrating semiconductor elements is the tape carrier method. This method uses a film carrier or T A
B (Tape Automated Bonding
) method. In this method, semiconductor elements are successively assembled into a resin tape with long tin rocket holes (/<-7 holes), and the tape carrier is used to arrange the electrodes of the semiconductor elements (chips). A lead pattern is formed on a resin film that has a sprocket hole and a device hole. It is manufactured through the steps of punching device holes, laminating copper foil, and forming a desired lead pattern using photoresist technology and etching technology.

なお、当該テープキャリアについて述べた文献の例とし
ては、マツフグロラーヒルブックカンパニージャパン(
Me Graw−Hlll Book Company
Japan )社刊1983年コピーライトl”VLS
ITECHNOLOGYJ p 558があげられる。
An example of a document describing the tape carrier is Matsuf Glorer Hill Book Company Japan (
Me Graw-Hllll Book Company
Japan) Co., Ltd. 1983 Copyright l”VLS
ITECHNOLOGYJ p 558 is mentioned.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本発明者達は、前記半導体装置を検討した結果、次の問
題点を見出した。
As a result of studying the semiconductor device, the present inventors discovered the following problems.

前記パッケージは、それ自体の大きさを縮小することが
困難であるため、モジ為−ル基板上の半導体チップの実
装密度を高めることが島しい。
Since it is difficult to reduce the size of the package itself, it is difficult to increase the packaging density of semiconductor chips on a module board.

しかるに、従来のテープキャリアに合っては、1品種ル
イアウトとなりており、同じリードパターンを持ってい
るために同品株のテープキャリアを重ねて実装用基板に
実装することができない。
However, conventional tape carriers are manufactured in one type and have the same lead pattern, making it impossible to stack tape carriers of the same type and mount them on a mounting board.

そのため、高密度に実装しようとしたら、実装用基板上
に同品種のテープキャリアと並べて配設することが必要
となり、プリント配線基板などの実装用基板表面の層重
を複雑化させ、断線なども生じ易くなり、その信頼性を
低下させることになる。
Therefore, if high-density mounting is attempted, it is necessary to arrange tape carriers of the same type on the mounting board side by side, which complicates the layering on the surface of the mounting board such as a printed wiring board, and may lead to wire breakage. This makes it more likely to occur, reducing its reliability.

本発明の目的は、半導体装置の実装密度を高めることに
ある。
An object of the present invention is to increase the packaging density of semiconductor devices.

本発明の他の目的は面実装に適した高密度メモリ・デバ
イスを提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a high density memory device suitable for surface mounting.

本発明、の他の目的は高密度実装が可能なメモリ・デバ
イスを提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a memory device that can be mounted at high density.

本発明の他の目的はTAB(テープ・オートメイテッド
−ボンディング)技術とのマツチングの良い高密度面実
装技術を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a high-density surface mounting technology that is well matched with TAB (tape automated bonding) technology.

本発明の他の目的はTAB技術を活用できる高密度実装
法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a high-density packaging method that can utilize TAB technology.

本発明の他の目的は組立の簡素化・省力化が可能なメモ
リ・デバイスの組立法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a method for assembling a memory device that can simplify and save labor.

本発明の他の目的は、多数のメそり・チップをコンパク
トに実装できるメモリ・モジュールを提供することにあ
る。
Another object of the present invention is to provide a memory module that can compactly mount a large number of mesori chips.

本発明の他の目的は半田り70−時に半田付性の良好な
多重テップ・リード複合体を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a multi-tipped lead composite which has good solderability during soldering.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細嘗の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を清快するための手段〕[Means to clear the issue]

本願において開示される発明のうち、代表的なものの第
1の概要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
A first summary of typical inventions disclosed in this application will be briefly described below.

すなわち、半導体チップのバンク電極をリードく接続し
、概リードを有する半導体チップを複数個、モジ為−ル
基板の配線に接続して半導体装置をet成する。
That is, bank electrodes of semiconductor chips are connected with leads, and a plurality of semiconductor chips having leads are connected to wiring of a module board to form a semiconductor device.

更に本願において開示される発明のうち代表的なものの
第2の概要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
Furthermore, a second summary of typical inventions disclosed in this application will be briefly explained below.

本発明では、同−撫の複数のテープキャリアにおいて、
各テープキャリアの各リードパターンの一部を変更した
ものを用意する。この変更は、例えばチップセレクト信
号のリードのみとする。そして、このよ5にリードパタ
ーンの一部が変更されたテープ牟ヤリアを実装用基板に
重ね実装する。
In the present invention, in a plurality of tape carriers at the same time,
Prepare a partially changed lead pattern for each tape carrier. This change is made, for example, only to read the chip select signal. Then, in step 5, the tape carrier whose lead pattern has been partially changed is stacked and mounted on a mounting board.

更にその他の発明の概要は下記の如くである。Furthermore, the outline of other inventions is as follows.

半導体集積回路メモリ装置は、以下の構成よりなる。、
: (a)  ほぼ正方形又は長方形の板状のIIl及び第
2のSRAM半導体チップは、それぞれ第1及び第2の
主面をもち、このIllの主面にそれぞれSRAM集積
回路の主要部が形成されている;(b)  上記それぞ
れのチップの上記第1の主面の一対の対向する辺の近傍
に設けられた多数の電極パッドと; (c)  上記それぞれのチップの上記第1の主面の上
記一対の辺の近傍のいずれかに設けられた、それぞれの
チップ・セレクト電極パッドと;(d)  上記それぞ
れのチップの上記多数のパッドとその内端が接続された
メタル・シートからなる多数のリードと; (e)  上記それぞれのチップの上記チップ・セレク
ト・パッドとそり内端が接続されたメタル・シートから
なる第1及び第2のリードと; (f)  上記第1のチップの第2の主面とそれにほぼ
平行に近接する上記第2のチップの第1の主面間に設け
られた絶縁部材と; (g)  上記それぞれの多数のリードの同一の機能を
有するパッドに対応する外端部及びその近傍同志がその
延在方向が一致するように1畳接続された重量接続部と
The semiconductor integrated circuit memory device has the following configuration. ,
(a) The substantially square or rectangular plate-shaped IIl and the second SRAM semiconductor chip have first and second main surfaces, respectively, and the main parts of the SRAM integrated circuit are formed on the main surfaces of the Ill, respectively. (b) a large number of electrode pads provided near a pair of opposing sides of the first main surface of each of the chips; (c) the first main surface of each of the chips; each chip select electrode pad provided near one of the pair of sides; (d) a number of metal sheets each having an inner end connected to the number of pads of each of the chips; (e) first and second leads made of metal sheets whose inner ends of the warp are connected to the chip select pad of each of the chips; (f) a second lead of the first chip; (g) an insulating member provided between the main surface of the second chip and the first main surface of the second chip that is close to the main surface in parallel with the main surface of the second chip; A heavy connection part in which the ends and their neighbors are connected in a manner that their extending directions are the same.

更にその他の発明の概要は以下の如くである。Furthermore, the outline of other inventions is as follows.

キャリア・テープの中央にそフて多数設けられた半導体
チップ搭載用開口部に、それぞれメモリ・チップをバン
ク電極を介して接続する半導体集積回路の組立方法にお
いて、 上記組立方法は以下の工程よりなる。:(a)  第1
.第2のキャリア・テープに同一又はほぼ同一のパター
ンを有するメモリ・テップをそれぞれバンプ電極を介し
てギャング・ボンディングする工程: ここで、上記第1.第2のキャリア・テープは、それぞ
れの第1主面及びチップ搭載用開口部内にメタル・シー
トよりなる多数のリードを有し、上記第1及び第2のテ
ープのリードパターンは、それぞれのチップ・セレクト
端子又はそれと等価な端子と接続されるべきリード以外
のパターンはほぼ同一又は同一のパターンを有する、;
(b)  上記第1及び第2のキャリア・テープの各上
記開口部に同一又はほぼ同一のパターンを有するメモリ
・チップをそれぞれバンプ電極を介してキャンプ・ボン
ディングする工程; (e)  上記第1及び第2のテープを一致するパター
ンが重なるように重畳して、重畳して延在する上記各開
口部のリードを圧着し、上記複数のメモリ・チップと多
数のリードからなる多重テップ・リード複合体を形成す
る工程; (d)  上記各テープより上記複合体を分離する工程
A method for assembling a semiconductor integrated circuit in which memory chips are connected via bank electrodes to a number of openings for mounting semiconductor chips provided along the center of a carrier tape, the above assembly method comprising the following steps. . :(a) 1st
.. A step of gang-bonding memory chips having the same or substantially the same pattern to the second carrier tape through bump electrodes: Here, the first step described above is performed. The second carrier tape has a large number of leads made of a metal sheet on each first main surface and in the chip mounting opening, and the lead patterns of the first and second tapes are arranged so that each chip Patterns other than the leads to be connected to the select terminal or an equivalent terminal are substantially the same or have the same pattern;
(b) Camp-bonding memory chips having the same or substantially the same pattern to each of the openings of the first and second carrier tapes via bump electrodes; (e) A second tape is superimposed so that the matching patterns overlap, and the leads of each of the openings extending in the superimposed manner are crimped to form a multi-tap lead complex consisting of the plurality of memory chips and a large number of leads. (d) A step of separating the composite from each of the tapes.

更に本願発明は、TAB(テープ・オートメイテッド拳
ボンディング)によりメ毫リーチツブを多重に張合せて
チップとリードによって5OP(スモール・アクト2イ
ン・パッケージ)様の多重メモリ・テップ・リード複合
体を形成して、高密度のメモリ・モジュールを面実装技
術により実現可能とするものである。
Furthermore, the present invention forms a 5OP (Small Act 2-in-Package)-like multi-memory tip-lead complex by bonding multiple memory leads together using TAB (Tape Automated Bonding) and using chips and leads. This makes it possible to realize high-density memory modules using surface mount technology.

〔作 用〕[For production]

上述した第1の手段によれは、半導体チップがパッケー
ジで封止されていないので、モジュール基板上の半導体
チップの実装密度を高めることができる。
According to the first means described above, since the semiconductor chips are not sealed with a package, it is possible to increase the packaging density of the semiconductor chips on the module substrate.

上記第2の手段によれば、上記のように、重ね実装しよ
うとするテープキャリアの各リードパターンの一部は重
ね実装可能なように変更されているので、テープキャリ
アの重ね実装が可能で、そのため高密度実装が可能で、
配線も簡略化され、信頼性も向上させることができる。
According to the second means, as described above, a part of each lead pattern of the tape carriers to be stacked is changed so that stacking can be performed, so it is possible to stack the tape carriers, Therefore, high-density mounting is possible.
Wiring can also be simplified and reliability can be improved.

〔実施例〕〔Example〕

(1)実施例・1 本願において、同一の機能を有するものは、別途の記載
がないかぎり、下2ケタを同一の数字表示で示し、でき
るかぎり重複説明を省略する。
(1) Embodiment 1 In this application, unless otherwise specified, those having the same function are indicated by the same number in the last two digits, and redundant explanation will be omitted as much as possible.

以下、本発明の実施例・1の工を図面を用いて説明する
EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the process of Example 1 of this invention is demonstrated using drawings.

第1図は、本発明の実施例・1のIの半導体装置の概略
構成を示した平面図、 第2因は、前記半導体装置の概略構成を示した側面図、 第3図は、前記半導体装置の概略構成を示した正面図で
ある。
FIG. 1 is a plan view showing a schematic structure of the semiconductor device I of Example 1 of the present invention. The second factor is a side view showing the schematic structure of the semiconductor device. FIG. FIG. 1 is a front view showing a schematic configuration of the device.

第1図乃至第3図において、lは積層セラミックによっ
てセラミックlと配線層とを複数層積層して構成したモ
ジュール基板であり、この表面及び裏面のそれぞれに8
個の半導体チップ4A、4Bp 4C,4Dを搭載して
いる。半導体チップ4A、4B、4C,4Dは、例えば
、スタティクRAMが構成されたものであり、またセラ
ミックや樹脂等からなるパッケージによって封止されて
おらず、半導体素子や配線が施されている方の面をレジ
ン7でモールドした構造となりている。
In FIGS. 1 to 3, l is a module board constructed by laminating a plurality of layers of ceramic l and wiring layers using a multilayer ceramic, and each of the front and back sides of this module board has eight
It is equipped with semiconductor chips 4A, 4Bp 4C, and 4D. The semiconductor chips 4A, 4B, 4C, and 4D are, for example, configured static RAM, and are not sealed with a package made of ceramic or resin, and are equipped with semiconductor elements and wiring. It has a structure in which the surface is molded with resin 7.

半導体チップ4A、4B、4C,4DのそれぞれKは、
半田や金等からなるバンプ電極6が設けられており、こ
のバング電極6にT A B (Tape Autan
mt@d Bonding )でリード5A、  5B
、  5C,5Dがそれぞれ接続している。半導体チッ
プ4Aは、ソレソレノリード5Aを半導体チップ4Bの
リード5Bに例えば半田で接続することにより、半導体
チップ4Bの上に積層されている。つまり、例えば、半
導体チップ4Aにアドレス信号を入力するためのリード
5Aは、半導体チップ4Bにアドレス信号を入力するた
めのリード5Bに接続している。同様に、半導体チップ
4Aのデータの入出力を行うためのリード5Aは、半導
体チップ4Bのデータの入出力を行うためのリード5B
に接続している。すなわち、それぞれのり−ド5Aとリ
ード5Bにおいて、同一機能を有するもの同志を、例え
ば半田で接続している。それぞれのリード5Bは、モジ
ュール基板1内の配線(図示していない)を通してデコ
ーダ3及びリード2に接続している。ただし、半導体チ
ップ4Aにチップセレクト信号を入力するためのり−ド
5A、は、半導体テップ4Bにチップセレクト信号を入
力するためのリード5B、  と接続することなく、デ
コーダ3のリード3Aに接続している。また、リード5
B1は、前記リード5A、が接続しているり−ド3Aと
異るリード3Aに接続している。デコーダ3によりて8
個の半導体チップ4A、4Bの中から1つの半導体チッ
プ4A又は4Bを選択するようにしている。
K of each of the semiconductor chips 4A, 4B, 4C, and 4D is
A bump electrode 6 made of solder, gold, etc. is provided, and a T A B (Tape Autan) is provided on this bump electrode 6.
mt@d Bonding) leads 5A, 5B
, 5C, and 5D are connected to each other. The semiconductor chip 4A is stacked on the semiconductor chip 4B by connecting the sole leads 5A to the leads 5B of the semiconductor chip 4B by, for example, solder. That is, for example, a lead 5A for inputting an address signal to the semiconductor chip 4A is connected to a lead 5B for inputting an address signal to the semiconductor chip 4B. Similarly, the leads 5A for inputting and outputting data of the semiconductor chip 4A are the leads 5B for inputting and outputting data of the semiconductor chip 4B.
is connected to. That is, in each of the leads 5A and 5B, those having the same function are connected by, for example, solder. Each lead 5B is connected to the decoder 3 and the lead 2 through wiring (not shown) in the module board 1. However, the lead 5A for inputting the chip select signal to the semiconductor chip 4A is connected to the lead 3A of the decoder 3 without being connected to the lead 5B for inputting the chip select signal to the semiconductor chip 4B. There is. Also, lead 5
B1 is connected to a lead 3A different from the lead 3A to which the lead 5A is connected. 8 by decoder 3
One semiconductor chip 4A or 4B is selected from among the semiconductor chips 4A and 4B.

半導体チップ4Dのそれぞれのリード5Dを半導体チッ
プ4Cのリード5Cに、例えば半田で接続することによ
り、半導体チップ4Cの上に半導体チップ4Dを搭載し
ている。それぞれのリード5Cは、モジュール基板1内
の配線を通してデコーダ3又はリード2に接続している
。ただし、半導体テップ4Dのチップセレクト信号を入
力するためのリード5D、は1半尋体チップ4Cのチッ
プセレクト信号を入力するためのリード5CIと接続せ
ずに、直接デーコダ3のリード3Aに接続している。ま
た、リード5C1は、デコーダ3の前記リード5D、が
接続しているリード3Aと異るリード3Aに接続してい
る。デコーダ3によりて8個の半導体チップ4C,4D
の中から1個の半導体チップ4C又は4Dを選択する。
The semiconductor chip 4D is mounted on the semiconductor chip 4C by connecting each lead 5D of the semiconductor chip 4D to the lead 5C of the semiconductor chip 4C using, for example, solder. Each lead 5C is connected to the decoder 3 or the lead 2 through wiring within the module board 1. However, the lead 5D for inputting the chip select signal of the semiconductor chip 4D is connected directly to the lead 3A of the decoder 3 without being connected to the lead 5CI for inputting the chip select signal of the semicircular chip 4C. ing. Further, the lead 5C1 is connected to a lead 3A different from the lead 3A to which the lead 5D of the decoder 3 is connected. 8 semiconductor chips 4C, 4D by decoder 3
One semiconductor chip 4C or 4D is selected from among them.

半導体チップ4A、4B、4C,4Dのそれぞれの主面
、すなわち半導体素子や配線が施されている面は、シリ
コーンゴム7又はレジン7でモールドしている。
The main surfaces of each of the semiconductor chips 4A, 4B, 4C, and 4D, that is, the surfaces on which semiconductor elements and wiring are provided, are molded with silicone rubber 7 or resin 7.

以上、説明したように、パッケージで封止せずに、TA
Bでリード5A、5B、5C,5Dが接接された半導体
チップ4A、4B、4C,4Dをそれぞれモジュール基
板1に搭載して半導体装置を構成していることにより、
1個の半導体チップ4A、4B、4C,4Dがモジュー
ル基板1上に占める面積を小さくできるので、モジュー
ル基板1に多くの半導体チップ4A、  4B、  4
C,4Dを搭載できる。すなわち、半導体装置の実装密
度を高くすることができる。
As explained above, without sealing with a package, TA
By configuring the semiconductor device by mounting the semiconductor chips 4A, 4B, 4C, and 4D to which the leads 5A, 5B, 5C, and 5D are connected at B on the module substrate 1, respectively,
Since the area occupied by one semiconductor chip 4A, 4B, 4C, 4D on the module board 1 can be reduced, many semiconductor chips 4A, 4B, 4 can be mounted on the module board 1.
C, 4D can be installed. That is, the packaging density of semiconductor devices can be increased.

また、半導体チップ4Bの上に半導体チップ4Aを積層
し、また半導体チップ4Cの上に半導体チップ4Dを積
層していることにより、モジ、−ル基板1を大きくする
ことなく、多くの半導体チップ4A、4B、4C,4D
を搭載することができる。
Furthermore, by stacking the semiconductor chip 4A on the semiconductor chip 4B and stacking the semiconductor chip 4D on the semiconductor chip 4C, many semiconductor chips 4A can be stacked without increasing the size of the module board 1. , 4B, 4C, 4D
can be installed.

次に、実施例・1の工の変形例を説明する。Next, a modification of the process of Example 1 will be described.

第4図は、実施例・1のIの変形例を説明するためのモ
ジュール基板1の一部の斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view of a part of the module board 1 for explaining a modification of I of the first embodiment.

第4図に示すように、半導体チップ4Aの上にさらに半
導体チップ4Bを搭載するようにしてもよい、5gは半
導体テップ4Eのリードであり、リード5Aに接続して
いる。ただし、半導体チップ4Eにチップセレクト信号
を入力するためのリード5E、は、リード5A、、5B
、  と接続せずに、デコーダ3のリード5A、、5B
、が接続しているリード3Aと異るリード3人に接続し
ている。モジュール基板1の裏面は示していないが、裏
面においても同様に、半導体チップ4Dの上にさらに半
導体チップを搭載して、3個を積層した構造とする。
As shown in FIG. 4, a semiconductor chip 4B may be further mounted on the semiconductor chip 4A. Reference numeral 5g is a lead of the semiconductor chip 4E, which is connected to the lead 5A. However, the leads 5E, for inputting the chip select signal to the semiconductor chip 4E, are the leads 5A, 5B.
, without connecting to leads 5A, 5B of decoder 3.
, is connected to three leads different from lead 3A to which it is connected. Although the back surface of the module substrate 1 is not shown, another semiconductor chip is similarly mounted on the semiconductor chip 4D on the back surface, so that three semiconductor chips are stacked.

第5図は、本発明の実施例・1の■の半導体装置の正面
図である。
FIG. 5 is a front view of the semiconductor device (2) of Example 1 of the present invention.

第5図において、モジュール基板10表面の1人は接続
端子であり、IBは裏面の接続端子である。この実施例
では、モジュール基板1の表面に半導体チップ4B、4
A、4Eの3個を1組とし、これを4組配置している。
In FIG. 5, one terminal on the front surface of the module board 10 is a connection terminal, and IB is a connection terminal on the back surface. In this embodiment, semiconductor chips 4B and 4 are provided on the surface of the module substrate 1.
Three pieces A and 4E form one set, and four sets are arranged.

裏面も同様に、半導体チップ4C,4D、4Fの3個を
1組みとし、これを4組配置している。
Similarly, on the back side, four sets of three semiconductor chips 4C, 4D, and 4F are arranged.

実施例■は、半導体チップ4B、  4A、 4E。Example (2) is semiconductor chips 4B, 4A, and 4E.

4C,4D、4Fのそれぞれの主面、すなわち半導体素
子や配縁が施され、レジン7で模れている面をモジュー
ル基板1に向けることによりて、リード5A、5B、 
 5B、5C,5D、5Fの長さを短くしている。
Leads 5A, 5B,
The lengths of 5B, 5C, 5D, and 5F are shortened.

第6因は、本発明の実施例・1の■の半導体装置の側面
図、 第7図は、前記半導体装置の正面図である。
The sixth factor is a side view of the semiconductor device (2) of Example 1 of the present invention, and FIG. 7 is a front view of the semiconductor device.

本発明の実施例■は、モジュール基板1の表面に搭載さ
れる半導体チップ4Aは、その裏面をモジュール基板1
の方へ向け、モジュール基板lの裏面に搭載されている
半導体チップ4Cは、それの主面をモジュール基板lの
方へ向けたものである。このようにすることにより、半
導体装置を半導体チップ4Bの方から見たとき、半導体
チップ4Bのリード5Bと、半導体チップ4Cのリード
5Cとで同一機能のものが重なるようにしている。
In the embodiment (2) of the present invention, the semiconductor chip 4A mounted on the front surface of the module substrate 1 has its back surface mounted on the module substrate 1.
The semiconductor chip 4C mounted on the back surface of the module board l has its main surface facing the module board l. By doing so, when the semiconductor device is viewed from the side of the semiconductor chip 4B, the leads 5B of the semiconductor chip 4B and the leads 5C of the semiconductor chip 4C have the same function.

それぞれの重なった同一機能のリード5Bと5Cを、モ
ジュール基板1の貫通配線(スルーホール配線)8によ
って接続している。つまり、それぞれのリード5Bを1
本ずつ、そのリード5Bと同一機能を有するリード5C
へ貫通配線8で接続することにより、例えば、半導体チ
ップ48にアドレス信号を入力させるリード5Bは、貫
通配線8を通して、半導体チップ4Cにアドレス信号を
入力させるためのり−ド5Cに接続している。同様に、
半導体チップ4Bのデータの人出端子であるそれぞれの
リード5Bは、貫通配線8を通して、半導体チップ4C
のデータの入出力端子であるリード5Cに接続している
。ただし、半導体チップ4Bのチップセレクト信号を入
力するためのり−ド5B、と、半導体チップ4Cのチッ
プセレクト信号を入力するためのリード5C,は貫通配
線8で接続しておらず、リード5B、はモジュール基板
1の表面に設けたデコーダ3に接続され、リード5CL
はモジュール基板1の表面のデコーダ3に接続している
。ここで、本実施例におけるモジュール基板1は、例え
ばガラスエポキシ等の樹脂からなる単層構造となってお
り、内部には貫通配線8以外の配線を設けていない、た
だし、モジ息−ル基板1の表面及び裏面には、半導体チ
ップ4B、4Cとリード20間を接続する配線あるいは
デコーダ3(第6図、第7図には図示していない)と半
導体チップ4B、4Cの間を接続する配線等が設けられ
ている0貫通配M8は、モジ、−ル基板1に例えばドリ
ル等で貫通孔を開けた後、例えば蒸着や無電界メツキ等
で例えば鋼層金メツキして形成したものである。
The overlapping leads 5B and 5C having the same function are connected by through-hole wiring (through-hole wiring) 8 of the module board 1. In other words, each lead 5B is 1
Each book has a lead 5C that has the same function as its lead 5B.
For example, the lead 5B for inputting an address signal to the semiconductor chip 48 is connected to the lead 5C for inputting an address signal to the semiconductor chip 4C through the through wiring 8. Similarly,
Each lead 5B, which is a data output terminal of the semiconductor chip 4B, is connected to the semiconductor chip 4C through the through wiring 8.
It is connected to lead 5C, which is a data input/output terminal. However, the lead 5B for inputting the chip select signal of the semiconductor chip 4B and the lead 5C for inputting the chip select signal of the semiconductor chip 4C are not connected by the through wiring 8, and the lead 5B is It is connected to the decoder 3 provided on the surface of the module board 1, and the lead 5CL
is connected to the decoder 3 on the front surface of the module board 1. Here, the module board 1 in this embodiment has a single-layer structure made of resin such as glass epoxy, and has no wiring other than the through wiring 8 inside.However, the module board 1 Wirings connecting between the semiconductor chips 4B, 4C and the leads 20 or wirings connecting between the decoder 3 (not shown in FIGS. 6 and 7) and the semiconductor chips 4B, 4C are provided on the front and back surfaces of the . The through hole M8 provided with the through hole M8 is formed by drilling a through hole in the module board 1 using a drill or the like, and then plating the steel layer with gold using, for example, vapor deposition or electroless plating. .

以上のように、同−様能のリード5Bと50を貫通配線
8で接続することにより、モジ、−ル基板1内に貫通配
線8以外の配線を設けないようにして単層構造としたの
で、モジ、−ル基板1の信頼性を高めることができる。
As described above, by connecting the leads 5B and 50 of the same function with the through wiring 8, a single layer structure is achieved by eliminating any wiring other than the through wiring 8 in the module board 1. , the reliability of the module board 1 can be improved.

また、同一機能のリード5Bと50を貫通配線8で接続
したことにより、モジ、−ル基板1の表面及び裏面に設
けられる配線の本数を低減することができる。
Further, by connecting the leads 5B and 50 having the same function with the through wiring 8, the number of wirings provided on the front and back surfaces of the module board 1 can be reduced.

なお、峰ジ為−ル基板1及び買通配m8は、積層セフイ
ックによって形成してもよい、この場合は、半導体チッ
プ4B、4Cとリード2を接続する配線、半導体チップ
4B、4Cとデコーダ3を接続する配線等がモジュール
基板1内に埋込まれる。しかし、それらの配線の本数は
、貫通配線8を設けたことにより、例えばそジ為−ル基
板10表面の半導体チップ4Bをリード2、デコーダ3
に接続する配線のみを設ければよいので、埋込まれる配
線の本数を大幅に少くすることができ、したがりて、モ
ジュール基板1の信頼性を高くすることができる。
It should be noted that the circuit board 1 and the wiring board m8 may be formed by laminated security. In this case, the wiring connecting the semiconductor chips 4B, 4C and the leads 2, the semiconductor chips 4B, 4C and the decoder 3 Wiring and the like for connecting are embedded in the module substrate 1. However, the number of these wirings is reduced due to the provision of the through wiring 8. For example, the semiconductor chip 4B on the surface of the board 10 is
Since it is only necessary to provide the wiring that connects to the wiring, the number of embedded wiring can be significantly reduced, and therefore, the reliability of the module board 1 can be increased.

第8図は、本発明の実施例・1の■における2個の半導
体チップの平面図、 第9図は、第8図に示した2個の半導体チップを向い合
せて同一のリードに接続し、これを1の方向から見たと
きの@面図、 第10図は、同一のリードに接続した2個の半導体チッ
プを■の方向から見たときの側面図である。
FIG. 8 is a plan view of two semiconductor chips in Example 1 (■) of the present invention, and FIG. 9 is a plan view of two semiconductor chips shown in FIG. 8 facing each other and connected to the same lead. FIG. 10 is a side view of two semiconductor chips connected to the same lead as viewed from the direction .

本発明の実施例・1の■は、半導体チップ4Aではバン
プ電極6人を左上角から順次配置し、バンブ電極6Aと
同一機能のパンダ電極6Bを半導体チップ4Bでは右上
角から配置している。すなわち、半導体チップ4Aのバ
ンプ電極6A、−6AN−1e 6 A Hz  S 
ANTl ”・SAN◆証と・半導体チップ4Bの6B
、・・・68N−1t 6 B N・” 68N”I 
e6BN+舅において、添字が同じものは同一機能のバ
ンブ電極である。そして、半導体チップ4Bの主面が半
導体チップ4Aの主面と対面するようにして重ねたとき
、半導体チップ4Bのパンダ電極6B、−68N−、,
68Nm 68N、、、68N+麗か、半導体チップ4
Aのバンブ電極6 At = 6 AN−s@ 6AN
#  6AN+1・・・6 AN+麓に重なるように、
それらのパンダ電極6A、6Bを対称的に配置している
。これらの対称的に配置されたパンツ電極6A、6Bは
、同一のり−ド5に接続している。ただし、半導体チッ
プ4人のチップセレクト信号を入力するためのバンブ電
極6A1と、半導体チップ4Bのチップセレクト信号を
入力するためのバンプ電極6B、は重ならないように配
置をずらし、別々のリード5に接続している。9は絶縁
材であり、バンプ電極6A、が接続しているリード5を
半導体テップ4Bから絶縁し、またバンプ’a%6B、
が接続しているり−ド5を半導体チップ4Aから絶縁し
ている。なお、リード5は、半導体チップ4Aと4Bを
向い合せてリード5に接続した後に、適正な形状に成型
する。そして、半導体チップ4Aと4Bを1組として、
モジ、−ル基板10表面及び裏面に複数組ずつ配置する
In Embodiment 1 of the present invention, six bump electrodes are arranged sequentially from the upper left corner on the semiconductor chip 4A, and panda electrodes 6B having the same function as the bump electrodes 6A are arranged from the upper right corner on the semiconductor chip 4B. That is, the bump electrode 6A of the semiconductor chip 4A, -6AN-1e 6 A Hz S
ANTl”・SAN◆proof・6B of semiconductor chip 4B
,...68N-1t 6 B N・"68N"I
In e6BN+, those with the same suffix are bump electrodes with the same function. When stacked so that the main surface of the semiconductor chip 4B faces the main surface of the semiconductor chip 4A, the panda electrodes 6B, -68N-, .
68Nm 68N,,,68N+Reika, semiconductor chip 4
A bump electrode 6 At = 6 AN-s@6AN
# 6AN+1...6 so that it overlaps with AN+ the foot of the mountain,
The panda electrodes 6A and 6B are arranged symmetrically. These symmetrically arranged pant electrodes 6A, 6B are connected to the same board 5. However, the bump electrode 6A1 for inputting the chip select signals of the four semiconductor chips and the bump electrode 6B for inputting the chip select signal of the semiconductor chip 4B are shifted so that they do not overlap, and are connected to separate leads 5. Connected. 9 is an insulating material, which insulates the lead 5 to which the bump electrode 6A is connected from the semiconductor tip 4B, and also insulates the bump 'a% 6B,
The connected board 5 is insulated from the semiconductor chip 4A. Note that the leads 5 are molded into an appropriate shape after the semiconductor chips 4A and 4B are faced to each other and connected to the leads 5. Then, as a set of semiconductor chips 4A and 4B,
A plurality of modules are arranged on the front and back surfaces of the module board 10.

以上のよ5に、バンク電極6Aと6Bの配置を対称にし
て、同一のリード5に接続したことにより、モジュール
基板1上における半導体チップ4A、4Bの実装密度を
2倍にすることができる。
As described in 5 above, by arranging the bank electrodes 6A and 6B symmetrically and connecting them to the same lead 5, the packaging density of the semiconductor chips 4A and 4B on the module substrate 1 can be doubled.

なお、第11図及び第12図に示すように、半導体チッ
プ4人のバンプ電極6A、と、半導体チップ4Bのバン
プ電極6B、を対称位置すなわち半導体チップ4Bを半
導体チップ4人に重ねたとき、それらバンプ電極6A、
、6B、が重なるように配置してもよい、ただし、パン
ク電極6A。
As shown in FIGS. 11 and 12, when the bump electrodes 6A of the four semiconductor chips and the bump electrodes 6B of the semiconductor chip 4B are placed in symmetrical positions, that is, when the semiconductor chip 4B is stacked on the four semiconductor chips, Those bump electrodes 6A,
, 6B may be arranged so that they overlap, provided that the punctured electrodes 6A.

が接続しているリード5と、バンプ電極6B、が接続し
ているり−ド5は重ねられるが、それらの間は絶縁材9
で絶縁する。なお、第11図は重さね合せられる2個の
半導体チップ4Aと4Bの平面図、!12図は半導体チ
ップ4A、4Bを向き合せて同一のリード5に接続し、
それを半導体チップ4Aの工の方向から見たときの側面
図である。
The lead 5 connected to the bump electrode 6B and the lead 5 connected to the bump electrode 6B are overlapped, but there is an insulating material 9 between them.
Insulate with. In addition, FIG. 11 is a plan view of two semiconductor chips 4A and 4B that are stacked on top of each other. In Figure 12, semiconductor chips 4A and 4B are connected to the same lead 5 facing each other,
It is a side view when it is seen from the direction of the semiconductor chip 4A.

以上、本発明を実施例にもとづき具体的に説明したが、
本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において種々変災可能であること
は言うまでもない。
The present invention has been specifically explained above based on examples, but
It goes without saying that the present invention is not limited to the embodiments described above, and can be modified in various ways without departing from the gist thereof.

本願において開示される発明のうち代表的なものにより
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.

パッケージで封止せずに、TABでリードが接続された
半導体チップを複数個モジ、−ル基板に搭載して半導体
装置を構成したことにより、1個の半導体チップがモジ
為−ル基板上に占める面積を小さくできるので、モジ凰
−ル基板に多くの半導体チップを搭載できる。すなわち
、半導体装置の実装密度を高くすることができる。
By configuring a semiconductor device by mounting multiple semiconductor chips with leads connected by TAB on a module board without sealing them with a package, one semiconductor chip occupies less space on the module board. Since the area can be reduced, many semiconductor chips can be mounted on a modular board. That is, the packaging density of semiconductor devices can be increased.

(2)実施例・2 次に、本発明の実施例・2を図面に基づき説明する。(2) Example 2 Next, a second embodiment of the present invention will be described based on the drawings.

第13囚は本発明の実施例・2を示す原理色で、プラス
チックフィルムテープに穿設されたデバイスホール10
1内には当該フィルムテープ上く形成されたリードパタ
ーン102の一部が突出している。また、尚該リードパ
ターン102のうち、図示上右端のリード102mが、
第13デーでは残りのリード102bK対し並行に設け
られているのに対し、!13図(ト)では、図示上右端
のリード102亀が、直角に折れ曲りた形となっている
The 13th prisoner is the principle color showing Embodiment 2 of the present invention, and the device hole 10 drilled in the plastic film tape.
A part of the lead pattern 102 formed on the film tape protrudes into the inside of the film tape 1 . Furthermore, among the lead patterns 102, the lead 102m at the right end in the figure is
On the 13th day, the remaining lead 102bK is installed in parallel, whereas! In FIG. 13 (G), the lead 102 at the right end in the figure is bent at a right angle.

このデバイスホール101内には、図示していないが半
導体素子が組込みされ、第13デーでは図示上右端のリ
ード102aがmt*デバイスホール101内に組込し
た半導体素子(テップ)のチップセレクト信号用のリー
ドとなりており、また、第13図0では上布端の直角に
折れ曲りたリード102畠が同様にチップセレクト信号
用のリードとなっている。
A semiconductor element (not shown) is built into this device hole 101, and on the 13th day, the lead 102a at the right end in the figure is used for the chip select signal of the semiconductor element (Tep) built into the mt* device hole 101. In addition, in FIG. 130, the lead 102 bent at right angles at the end of the upper cloth similarly serves as a lead for a chip select signal.

第13図(Qは、このように各リードパターン102の
一部リード102aを変更したテープキャリアを重ね実
装した様子を概念的に示したもので、図示上右端部のリ
ード102aは、lね実装された上部のチップの当該チ
ップセレクト信号の入出力をつかさどり、また、図示上
右端部のリード1021に隣接したリード102亀は、
lね実装された下部のチップの当該チップセレクト信号
の入出力をつかさどるようになりている。
FIG. 13 (Q conceptually shows how tape carriers in which some of the leads 102a of each lead pattern 102 are changed in this way are stacked and mounted, and the lead 102a at the right end in the diagram is The lead 102, which is in charge of the input/output of the chip select signal of the upper chip selected and adjacent to the lead 1021 at the right end in the figure, is
It is designed to control the input/output of the chip select signal of the lower chip mounted on the chip.

他のリード102bは、各チップに共通の入出力端子と
なりている。第14図は、!!13図囚のデープキャリ
アの詳細を示したもので、また、第15図は第13図■
のテープキャリアの詳細を示す。
The other leads 102b serve as input/output terminals common to each chip. Figure 14 is! ! Figure 13 shows the details of the prisoner's deep carrier, and Figure 15 shows the details of the prisoner's deep carrier.
The details of the tape carrier are shown below.

これら図に示すよ5に、プラスチックフィルムテープ1
03の両端部には、当該テープ103の送りおよび位置
合せ用の複数のスプロケットホール104が適宜間隔を
置いて孔設され、また、当該テープ103の中央部には
半導体素子を組込むだめのデバイスホール101が穿設
され、当該デバイスホール101内に突出したリードパ
ターン102の先端部に、図示のよ5にチップ105を
フェイスダウンボンディング(ギヤングボンディング)
により接合する。
As shown in these figures, plastic film tape 1
A plurality of sprocket holes 104 for feeding and positioning the tape 103 are provided at appropriate intervals on both ends of the tape 103, and a device hole for incorporating a semiconductor element is provided in the center of the tape 103. 101 is drilled, and a chip 105 is face-down bonded (guyang bonding) to the tip of the lead pattern 102 protruding into the device hole 101 as shown in the figure.
Join by.

この接合は、チップ105の電極部にバング108を形
成して、熱圧着法により行われるが、リードパターン1
02mにバング108を形成して同様に行ってもよい、
当該チップ105のボンディング(インナーリードボン
ディング)後に、第169断面図に示すように、封止樹
脂をボッティングして樹脂封止5107を形成して封止
を行なう。
This bonding is performed by forming a bang 108 on the electrode part of the chip 105 and using a thermocompression method.
You may form the bang 108 at 02m and perform the same process.
After the bonding (inner lead bonding) of the chip 105, as shown in the 169th cross-sectional view, sealing is performed by potting a sealing resin to form a resin seal 5107.

このよ5に封止されたテープキャリアパッケージ108
を、第17図に示すよ5に実装用基板109上に重ね実
装する。
Tape carrier package 108 sealed in this way 5
are stacked and mounted on the mounting board 109 at step 5 as shown in FIG.

第17図にて、上部テープキャリアパッケージ108a
は、第13デーに示すリードパターン102をもつテー
プキャリアパッケージで、また、下部テープキャリアパ
ッケージ108bは第13図(6)に示すリードパター
ン102をもつテープキャリアパッケージである。
In FIG. 17, the upper tape carrier package 108a
is a tape carrier package having the lead pattern 102 shown on the 13th day, and the lower tape carrier package 108b is a tape carrier package having the lead pattern 102 shown in FIG. 13(6).

本発明に使用されろプラスチックフィルムテープは、例
えばポリイミド系樹脂フィルムを適宜幅にスリットされ
たものにより構成される。リードパターン102は、当
該フィルムテープ上に例えば鋼箔を2建ネートシ、ホト
レジスト技術やエツチング技術を用いて形成することが
でき、各テープキャリアパッケージ108 m、  1
08 bに応じてその一部しイアウドを変更するように
する。
The plastic film tape used in the present invention is composed of, for example, a polyimide resin film slit to an appropriate width. The lead pattern 102 can be formed on the film tape using, for example, a double layer of steel foil, a photoresist technique, or an etching technique, and each tape carrier package 108 m, 1
08b, some of them will be changed accordingly.

半導体素子(チップ)105は、例えばシリコン単結晶
基板から成り、周知の技術によつてこのチップ内には多
数の回路素子が形成され、1つの回路機能が与えられて
いる0回路素子の臭体例は、例えはMOS)ランジスタ
から成り、これらの回路素子によって1例えば論理回路
およびメモリの回路棲能が形成されている。
The semiconductor element (chip) 105 is made of, for example, a silicon single crystal substrate, and a large number of circuit elements are formed in this chip by a well-known technique, and is an example of a zero-circuit element that is given one circuit function. consists of transistors (for example MOS), and these circuit elements form the circuit functions of one, for example a logic circuit and a memory.

バンプ106は、例えば金(Au)バンプにより構成さ
れる。
The bump 106 is composed of, for example, a gold (Au) bump.

封正に使用されるボッティング樹脂には、例えばエポキ
シ樹脂を主体としたボッティング液が用いられる。
As the botting resin used for sealing, for example, a botting liquid mainly composed of epoxy resin is used.

実装用基板109は、例えばプリント配縁基板により構
成される。
The mounting board 109 is composed of, for example, a printed circuit board.

本発明によれば、上記実施例に示すように、各リードパ
ターン102の一部リード102為ti更することによ
り、二個のテープキャリアパッケージ108m、108
bを実装用基板109上に重ね実装することが可能とな
り、実装用基板109上に仮に当該テープキャリアパッ
ケージ108 m。
According to the present invention, as shown in the above embodiment, by changing the lead 102 of each lead pattern 102, two tape carrier packages 108m and 108
b can be stacked and mounted on the mounting board 109, and the tape carrier package 108 m can be temporarily mounted on the mounting board 109.

108bを並設する場合に比して実装密度を向上させる
ことができ、また、テープキャリアパッケージ108 
m、  108 bを並設する場合には配線も長く、複
雑化するのに対し配線が短く、簡略化され、断心する割
合も低減され、信頼性の向上に薔与する点火である。
The packaging density can be improved compared to the case where the tape carrier packages 108b are arranged in parallel.
In the case of arranging 108b and 108b in parallel, the wiring is long and complicated, whereas the wiring is short and simple, and the rate of disconnection is reduced, which contributes to improved reliability.

以上本発明者によりてなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で洩々変更可
能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained based on Examples above, the present invention is not limited to the above-mentioned Examples, and it is understood that changes can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say.

例えば、上記実施例ではテープキャリアパッケージを実
装用基板上に二個重ね実装する例を示したが、三個以上
重ねることができ、場合により実装用基板の両面にそれ
ぞれ重ね実装することもできる。
For example, in the above embodiment, two tape carrier packages are mounted on the mounting substrate, but three or more tape carrier packages can be stacked, and if necessary, they can be mounted on both sides of the mounting substrate.

本願において開示される発明のうち代表的なものにより
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.

本発明によればテープキャリアにおいて高密度実装を可
能とし、配線上も有利で信頼性の向上した半導体装量を
提供することができた。
According to the present invention, high-density packaging is possible in a tape carrier, and it is possible to provide a semiconductor package that is advantageous in terms of wiring and has improved reliability.

以下余白 (3)  実施例・3 本実施例は、前記実施例・1及び2に対応する一つの変
形例であシ、かつ、更なる具体例を与えるものである。
Margin below (3) Example 3 This example is a modification corresponding to Examples 1 and 2, and provides a further specific example.

第18図は、本実施例のメモリ・モジュールの全体シス
テム回路図である。同図において、 RAM1〜16#
″t1それぞれ256キロ・ビット・SRAM(スタテ
ィック・ランダム・アクセス・メモリ)のMOS型又は
BIMO8(バイポーラ−MOS)型集積回路チップ、
C8はそれらのチップ・セレクト端子、 Decode
rl及び2はデコーダ集積回路用レジン封止デュアル・
イン・ライン型素子、l10i〜■10.はデータの入
出力ビン。
FIG. 18 is an overall system circuit diagram of the memory module of this embodiment. In the same figure, RAM1~16#
``t1 each 256 kilobit SRAM (Static Random Access Memory) MOS type or BIMO8 (Bipolar-MOS) type integrated circuit chip,
C8 is their chip select terminal, Decode
rl and 2 are resin-sealed dual units for decoder integrated circuits.
In-line type element, l10i~■10. is the data input/output bin.

AO−A18(又は、A0〜A、8)は、アドレス入力
ビンである。WE 、 OR、及びDSは、一連のコン
トロール・ビンである。これらのうち、WEはライト・
イネーブル・ビン、OEはアウト・プツト・イネーブル
・ビン、DSは、一般KC8とも称されているが、先の
RAMチップのC8端子とは機能が異なる。すなわち、
このDS端子は入力の10”、″”1”に応じて上下の
デコーダのいずれを選択するかを決定している。V e
 CP V S lは広義の電源端子であり、特KVc
cは電源電圧端子* V 8 Sは基準電圧端子とよぶ
。VccKは、5V、VssKはoVの電圧が供給され
る。
AO-A18 (or A0-A, 8) is an address input bin. WE, OR, and DS are a series of control bins. Among these, WE is light
The enable bin OE is an output enable bin, and DS is also commonly called KC8, but its function is different from the C8 terminal of the RAM chip. That is,
This DS terminal determines which of the upper and lower decoders is selected depending on the input 10'' and ``1''. Ve
CP V S l is a power supply terminal in a broad sense, and special KVc
c is a power supply voltage terminal*V 8 S is called a reference voltage terminal. A voltage of 5V is supplied to VccK, and a voltage of oV is supplied to VssK.

第19図は、メモリ・チップRAM1〜16の第1主面
のレイアウトである。同図において、A6〜AI4は、
アドレス人カパッド、工10゜〜I10゜は、入出力パ
ッド、WEはライト・イネーブル・パッド、OEはアウ
ト・プツト・イネーブル・パッド、cshチップ・セレ
クト・パッド* V CCは電源電圧パッド+VSSは
基準電圧パッド、211及び212は、アドレス・バッ
ファ及びI10バッファ等の周辺回路ブロック、213
〜216は高抵抗ポリSiの負荷を持つ4トランジスタ
型MO8型SRAMセルを有するメモリ・マット、21
7〜218はロクデコーダ等のX系回路ブ0.り。
FIG. 19 is a layout of the first main surface of memory chips RAM1-16. In the same figure, A6 to AI4 are
Address pad, I10° to I10° are input/output pads, WE is write enable pad, OE is output enable pad, csh chip select pad* V CC is power supply voltage pad + VSS is reference Voltage pads, 211 and 212, peripheral circuit blocks such as address buffers and I10 buffers, 213
~216 is a memory mat having a 4-transistor MO8 type SRAM cell with a high resistance poly-Si load, 21
7 to 218 are X-system circuits such as Roku decoders etc. 0. the law of nature.

219〜222は、それぞれ213〜216に対応する
カラム・デコーダ及びセンス・アンプを含むY系回路ブ
ロックである。なお、205は、Si単結晶基板である
219-222 are Y-system circuit blocks including column decoders and sense amplifiers corresponding to 213-216, respectively. Note that 205 is a Si single crystal substrate.

第20図は、先の全体レイアラ)K対応するメモリ・モ
ジュールのビン配置である。
FIG. 20 shows the bin arrangement of memory modules corresponding to the previous overall layerer)K.

第21図a、b、及びCは、上記メ七り・モジ、−ルの
上面図、正面図、及び側面図である。同図において、2
09は、積層セラミ、り基板、第18図中のVCC−V
gs間に接続されたチップ・コンデンサ、232は、こ
のチップ・コンデンサ用の7ツト・プリントすなわち半
田付用パッド。
FIGS. 21a, b, and c are a top view, a front view, and a side view of the above-mentioned menu/module. In the same figure, 2
09 is a laminated ceramic substrate, VCC-V in Fig. 18
The chip capacitor 232 connected between gs and 7 is a soldering pad for this chip capacitor.

233a及びbはそれぞれ第18図のデコート・l及び
2に対応するデコーダIC,234aは第18図のRA
MI及びRAM5に対応するメモリ・チップ複合体、2
34bは、同様にRAM2及びRAM6に対応するチッ
プ複合体# 234C及び234dも同様である。更に
234Cも同様に。
233a and b are decoder ICs corresponding to decoding l and 2 in FIG. 18, respectively, and 234a is an RA in FIG.
Memory chip complex corresponding to MI and RAM5, 2
34b is the same as chip complexes #234C and 234d corresponding to RAM2 and RAM6. Furthermore, the same goes for 234C.

RAM9及び13に対応するチップ複合体で、234f
〜hも上と同様である。235は、セラミック基板の側
面のメタライズ・パッドにろう付けされたメタルリード
で、第20図の各ピンに対応する。
Chip complex corresponding to RAM9 and 13, 234f
~h is also the same as above. 235 is a metal lead soldered to the metallized pad on the side surface of the ceramic substrate, and corresponds to each pin in FIG. 20.

第22図は、本発明の製造方法に使用するポリイミド・
テープを示す。同図において、201はデバイス取付用
ホール(デバイス・ホール)又はバー7オレーシ冒ン、
205は3iチツプ(メモリ・チップ)の取付位置、2
04はキャリア・テープの自動送り又は位置合せ釦用い
るスズロケット・ホール、2ははキャリア・テープ上の
共通銅配線を各単位テープ部分に分離するためのアイソ
レージ璽ン・ホール、242は、ポリイミド薄板上に銅
薄板をフォトリソグラフィーにより所定の形状に形成し
たキャリア・テープとラミネートしたものである。
Figure 22 shows the polyimide used in the manufacturing method of the present invention.
Show tape. In the same figure, 201 is a device mounting hole (device hole) or bar 7
205 is the installation position of the 3i chip (memory chip), 2
04 is a tin rocket hole used for automatic feed or positioning button of carrier tape, 2 is isolation hole for separating common copper wiring on carrier tape into each unit tape section, 242 is polyimide thin plate It is laminated with a carrier tape on which a thin copper plate is formed into a predetermined shape by photolithography.

第23図は、第18図のRAM1〜4及びRAM9〜1
2すなわち上側チップを搭載するための上記第22図に
対応する上側テープの単位部分拡大図である。同図にお
いて、201は、デバイス・ホール、204はスプロケ
ット・ホール、205はチップ取付位置、2ははアイソ
レージ、ン・ホール、242はキャリア・テープ、24
3は幅広鋼ベル)、244は、テープ上に設けられた銅
リード、245は鋼薄板からなるアウタ・リード及びイ
ンナー・リード領域、246はテープ上から延在してデ
バイス・ホール内にのび端部のリードを保持するサポー
ト・リード、247aHC8用鋼リード、248は銅プ
レート、249はテープの両側に14個づつ設けられた
テスト用銅パッド、その他の直線又は折線状の細線は銅
配線パターンである。
FIG. 23 shows RAM1 to 4 and RAM9 to 1 in FIG.
2, that is, an enlarged view of a unit part of the upper tape corresponding to FIG. 22 for mounting the upper chip. In the figure, 201 is a device hole, 204 is a sprocket hole, 205 is a chip mounting position, 2 is an isolation hole, 242 is a carrier tape, and 24 is an isolation hole.
3 is a wide steel bell), 244 is a copper lead provided on the tape, 245 is an outer lead and inner lead area made of thin steel plates, and 246 is an end extending from above the tape into the device hole. 247a is a steel lead for HC8, 248 is a copper plate, 249 is a test copper pad with 14 pads on each side of the tape, and other straight or broken thin wires are copper wiring patterns. be.

第24図は第18図のRAM5〜8及びRAM13〜1
6すなわち下側チップを搭載するなめの上記22図に対
応する下側テープの単位部分拡大図である。同図におい
て247bはC8用鋼リードであり、その他のパターン
は第23図と全く同一である。
Figure 24 shows RAM5-8 and RAM13-1 in Figure 18.
FIG. 6 is an enlarged view of a unit part of the lower tape corresponding to FIG. 22 above, in which the lower chip is mounted. In the figure, 247b is a steel lead for C8, and the other patterns are exactly the same as in FIG. 23.

第25〜28図は、メモリ・チップ205上へのバンプ
電極形成プロセス・フローを示す。同図において、20
5はSi単結晶基板、251は第1パツジページ菅ン膜
としての熱酸化Sin、及び第2バツジベージlン膜と
してのPSG(フォス7オ・シリケイト・グラス)等の
層間絶縁膜を含む下地の無機絶縁膜、254はメモリ・
チップの内部の相互接続用のAJ層と同一のA!膜をパ
ターニングしてつくられたAIボンディング・パッド、
252はSin、又はsi、N4よりなる7アイナル・
パッジページ璽ンl1ll!、253HPIQ(ポリイ
ミド・イソ・インドロ・キナゾリン・ジオン)からなる
樹脂層である。255は下地メタル層でTI(チタン)
よりなり、256は他の下地メタル層でPd(パラジウ
ム)よりなる。257はバング形成用のフォト・レジス
ト層、255はそれを用いて形成されたAu(金)バン
プである。
25-28 show a process flow for forming bump electrodes on memory chip 205. FIG. In the same figure, 20
5 is a Si single crystal substrate, 251 is an underlying inorganic substrate including an interlayer insulating film such as thermally oxidized Sin as a first pass-through film, and PSG (phos 7 silicate glass) as a second pass-through film. Insulating film, 254 is memory
A! which is identical to the AJ layer for interconnections inside the chip. AI bonding pad made by patterning a film,
252 is a 7-ainal consisting of Sin, or si, and N4.
Pudge page seal l1ll! , 253HPIQ (polyimide iso-indolo-quinazoline dione). 255 is the base metal layer and is made of TI (titanium).
256 is another base metal layer made of Pd (palladium). 257 is a photoresist layer for forming a bang, and 255 is an Au (gold) bump formed using the photoresist layer.

第29は、先の第28図のバンプと第23及び24図の
インナーリードをギャング・ボンディングし次状態を示
す断面図である。
29 is a sectional view showing the next state after gang bonding the bump shown in FIG. 28 and the inner lead shown in FIGS. 23 and 24; FIG.

同図において、245は銅インナーリードの先端領域、
259はNiにメタル)メツキ層、260はAu(金)
メツキ層である口 第30図は、上記29図の状態でチップのほぼ全面にレ
ジン封止材をボッティングした状態を周辺のキャリア・
テープとの関係で示した断面図である。同図において、
205はメモリ・チップ。
In the figure, 245 is the tip region of the copper inner lead;
259 is Ni (metal) plating layer, 260 is Au (gold)
Figure 30, which is the plating layer, shows the state shown in Figure 29 above, in which the resin encapsulant is potted almost over the entire surface of the chip, and the surrounding carrier.
FIG. 3 is a cross-sectional view shown in relation to the tape. In the same figure,
205 is a memory chip.

242はキャリア・テープのデバイスホール側内端、2
45はアクタ−リード部(cu7 イルム) t258
はAuバンプ、261は封止レジン層(エポ井シ系レジ
ン)である。
242 is the inner end of the carrier tape on the device hole side, 2
45 is actor lead part (cu7 ilm) t258
261 is an Au bump, and 261 is a sealing resin layer (epoxy resin).

第31図は、前記29図の段階で個々の単位部分に分断
されたテープ・キャリア(上側)の平面図である。同図
において、281及び282Fiキヤリア・テープの両
側にそれぞれ14個づつ設けられたCuテスト・パッド
$ 2048及びbはスズロケット・ホール、zosa
Fi第18図ノ第1又 プの第1の主面P 2628及びbは下側キャリア・テ
ープとともに複合体を形成するための接合領域又は圧接
領域である。
FIG. 31 is a plan view of the tape carrier (upper side) divided into individual unit parts at the stage of FIG. 29. In the same figure, 14 Cu test pads were provided on each side of the 281 and 282 Fi carrier tapes.
The first major surface P 2628 and b of the first orifice of FIG.

第32図は、上記第31図に対応する下側キャリア・テ
ープをその単位部分の要部だけ残すように分離した状1
mを示す上面図である。同図において,205bは第1
8図のRAM5〜8及びRAM13〜16に対応する下
面チップの上l1l(第1の)主面1 262a及びb
は王妃上側チップの同部分と対応するリードが一致して
重なるように圧着接合される上下リード接合領域# 2
84a及びbはスズロケット・ホールである。
Figure 32 shows a state in which the lower carrier tape corresponding to Figure 31 above has been separated so that only the essential parts of the unit parts remain.
It is a top view which shows m. In the same figure, 205b is the first
Upper l1l (first) main surface 1 262a and b of the lower chip corresponding to RAMs 5 to 8 and RAMs 13 to 16 in FIG.
is the upper and lower lead joining area #2 where the leads corresponding to the same part of the queen upper chip are crimped and joined so that they coincide and overlap.
84a and b are tin rocket holes.

第338及びb図は第31及び32図のチアブーテープ
複合体をアクタ−リードを熱圧着し友後、アウターリー
ドをデバイスホール内端近傍で切断分離して最終的くア
ウターリードを5OP(スモール・イン・ライン・パッ
ケージ)様に曲げ成形したチップ多重複合体の下面図及
び断面図(A−A)である。同図において、205a及
び205bは、それぞれ上側及び下側チップ(この図で
は上下反対になっているが、組立法の説明上、このよう
に称する)、245は重畳して曲げ成形され念アウター
リードe 2 4 7 a及びbはそれぞれ上側及び下
側チップのC8端子リードでt畳圧着されることなくそ
れぞれ単独で他のリードと同様の形状忙成形されている
。261.261a及びbは各チップの第1の主百上忙
形成されたレジン・ボッティング層である。
Figures 338 and b show that the actor leads are thermocompression bonded to the chiabu tape composite of Figures 31 and 32, and then the outer leads are cut and separated near the inner edge of the device hole, and the outer leads are finally made into 5OP (small inner).・A bottom view and a cross-sectional view (A-A) of a multi-chip composite body bent and formed into a line package). In the figure, 205a and 205b are upper and lower chips, respectively (although they are upside down in this figure, they are referred to as such for the purpose of explaining the assembly method), and 245 is an outer lead that is overlapped and bent. e 2 4 7 a and b are not crimped by the C8 terminal leads of the upper and lower chips, respectively, and are individually shaped into the same shape as the other leads. 261. 261a and b are the first overly formed resin botting layers of each chip.

第34〜37図は、第21図に示すような積層セラミッ
ク配線基板209上に第331及びb図に示す多重チッ
プ複合体を半田す70−により両面実装するプロセスを
示す断面フロー図である。
34 to 37 are cross-sectional flowcharts showing a process of mounting the multi-chip composite shown in FIGS. 331 and 331b on both sides of the laminated ceramic wiring board 209 as shown in FIG. 21 by soldering 70-.

同図において、209はセラミック・パッケージ基板,
263はモジュールのアクタ−リード、264m−dは
多重fツブ複合体234a−h及びデコーダIC233
a及びbの半田付けのためのメタライズ層からなる7ツ
ト・プリントである。
In the same figure, 209 is a ceramic package board;
263 is the actor lead of the module, 264m-d is the multiple f-tube complex 234a-h and the decoder IC 233.
Seven prints consisting of metallized layers for soldering a and b.

265a−dはその上にスクリーン印刷によシ形成され
た半田クリーム層である。266は半田リフロー時に下
側になる多重チップ複合体を保持するための接着部材で
ある。267a〜dはリフローされた後、凝固した半田
接合部である。
265a-d are solder cream layers formed thereon by screen printing. 266 is an adhesive member for holding the multi-chip composite on the lower side during solder reflow. 267a-d are the solidified solder joints after being reflowed.

第38図は完成したメモリ・モジュールを挿入型プリン
ト配線基板に半田ウェーブ法によシ半田付実装し次状態
を示す実装断面図である。同図において、271はガラ
ス・エポキシ配線基板、273はビン挿入用ホール、2
74はソルダーリング・パッド、272はンルダーレジ
スト層、275#i半田付部分である。
FIG. 38 is a sectional view showing the next state after the completed memory module is soldered and mounted on an insertion type printed wiring board by the solder wave method. In the figure, 271 is a glass epoxy wiring board, 273 is a bottle insertion hole, and 2
74 is a soldering pad, 272 is a soldering resist layer, and 275#i is a soldering portion.

第39〜は図は上記実施例及びその変形例を説明するた
めのチップ・テープ複合体の平面図である。第39及び
40図のパターンはそれぞれ第23及び24図のものと
全く同じである。
Figures 39 to 39 are plan views of a chip/tape composite for explaining the above embodiment and its modifications. The patterns in Figures 39 and 40 are exactly the same as those in Figures 23 and 24, respectively.

第39図は上側チップ用すなわち、上側テップ・リード
・テープ複合体(チップ・テープ・コンプレックス)の
上面図である。同図において% 204a〜hFiスプ
ロケツト・ホール、205aFi上側メモリ・チップ、
247aけ上側チップのC8用リード、281及び28
2Fiそれぞれキャリア・テープの両側にそれぞれ14
個づつ配設されたCuテストパッド、293は上下チッ
プの各リードが圧接され九後、キャリア・テープと分離
切断する部分を示す。
FIG. 39 is a top view of the upper chip, ie, upper tip lead tape complex. In the same figure, % 204a to hFi sprocket holes, 205aFi upper memory chip,
247a upper chip C8 lead, 281 and 28
2Fi each 14 on each side of the carrier tape
Individually disposed Cu test pads 293 indicate portions where the leads of the upper and lower chips are pressed together and then separated and cut from the carrier tape.

第40図は下側チップ・テープ複合体の上面図である。FIG. 40 is a top view of the lower chip/tape composite.

同図において%  284a〜hはスプロケット・ホー
ル、205bは下側メモリ・チップ。
In the figure, %284a-h are sprocket holes, and 205b is a lower memory chip.

247bは下側チップのC8端子用リード、291及び
292はテープの両側に各14個づつ配置されたテスト
・パッド、293はテープと多重チップ複合体間の分離
部分を示す切@領域である。
247b is a lead for the C8 terminal of the lower chip; 291 and 292 are 14 test pads arranged on each side of the tape; and 293 is a cut region indicating the separation between the tape and the multi-chip composite.

第は図は、上記実施例を説明するために、上側テープと
下側テープを上下パターンがほぼ一致するように!ね合
せた場合を仮定して示した重なり状態説明用の上面図で
、下側テープに関しては上側と相異する部分のみ示しで
ある。同図忙おいて、204a〜hはスズロケット・ホ
ール# 205aは上面チップの第1主面e 2478
及びbはそれぞれ上側及び下側CS IJ−ド、293
は多重チップ複合体とテープ間の切断分離領域である。
In Figure 1, in order to explain the above embodiment, the upper and lower tapes are arranged so that the top and bottom patterns almost match! This is a top view for explaining an overlapping state assuming that the tapes are folded together, and only the portions of the lower tape that are different from the upper tape are shown. In the figure, 204a to 204h are tin rocket holes # 205a are the first main surface e of the top chip 2478
and b are upper and lower CS IJ-do, respectively, 293
is the cutting separation area between the multi-chip complex and the tape.

次に製造プロセスについて説明する。まず、上下それぞ
れのキャリア・テープを準備する。125μm厚のポリ
イミド樹脂フィルム・テープを第23及び24図に示す
アイソレージ曹ン・ホール以外の開口を打ぬきKより形
成する。次に35μm厚の銅箔をエツチングにより上記
23及び24図の配線パターンを形成、その全面に第2
9図に示すようにNiにメタル)バリア層259及びA
u(金)層をそれぞれ0.5μmづつメツキにより形成
する。
Next, the manufacturing process will be explained. First, prepare the upper and lower carrier tapes. A polyimide resin film/tape having a thickness of 125 μm is punched to form openings other than the isolation holes shown in FIGS. 23 and 24. Next, the wiring patterns shown in Figures 23 and 24 above were formed by etching a 35 μm thick copper foil, and the second wiring pattern was formed on the entire surface.
As shown in FIG. 9, Ni (metal) barrier layer 259 and A
U (gold) layers are formed by plating each having a thickness of 0.5 μm.

一方、メモリ・チップの工程をウェハ・プロセスから説
明する。第25図忙示す如く81基板(約600μm厚
のウェハ)2o5上にポリSiゲートや層間PSG膜2
51を形成した後、内部のインターコネクシ冒ン用人!
配線と同時Kiボンディング・パッド(100μm角)
254を形成する。このAl膜は、約1μm厚でスパッ
タリングにより全面に被着された後、フォトリングラフ
イーによりパターニングされる。次に無機ファイナル・
パッジベージ冒ンである1、4μm程度0FSGl12
52t−CVD(ケミカル−ペーパー・デポジシ冒ン)
により形成し、先と同様釦フォトリソグラフィーにより
開口を形成する。次KPIO等のポリイミド塗布液を2
.3μm程度の厚さにスピン・コートする。このとき、
P2O,yイルム252表面をAlキレート処理してお
くと、ポリイミド・フィルム253とPSGフィルム2
52の接着性が良好となる。ポリイミド・コートの後、
溶媒をとばすためにベークを行な−1それにっづき先の
開口部より10μmi1度広めにポリイミド・フィルム
[7,トリソゲラフイー忙より開口部を形成し、その後
、硬化のためのベークを行なう。
On the other hand, the memory chip process will be explained starting from the wafer process. As shown in FIG.
After forming 51, the internal interconnector was attacked!
Ki bonding pad (100μm square) at the same time as wiring
254 is formed. This Al film is deposited on the entire surface by sputtering to a thickness of about 1 μm, and then patterned by photophosphorography. Next, the inorganic final
Approximately 1.4 μm 0FSGl12, which is a pudge page attack
52t-CVD (chemical paper deposition)
Then, as before, an opening is formed by button photolithography. Next, apply 2 coats of polyimide coating liquid such as KPIO.
.. Spin coat to a thickness of about 3 μm. At this time,
When the surface of P2O,y film 252 is subjected to Al chelate treatment, polyimide film 253 and PSG film 2
52 has good adhesion. After polyimide coat,
Baking is performed to evaporate the solvent, and then an opening is formed in the polyimide film [7, Trisogera fiber] 10 μm wider than the previous opening, and then baking is performed for curing.

更に第26図に示す如く、バンプ電極用の下地バリア・
メタル・フィルム、すなわチ、0. i sμmo’r
i (fタン)74kA及び0.17μm0Pd(パラ
ジウム)フィルムを順次蒸着により形成する。
Furthermore, as shown in Fig. 26, the base barrier for the bump electrode
Metal Film, Nawachi, 0. i sμmo'r
i (f tan) 74 kA and 0.17 μm 0 Pd (palladium) films are formed by sequential vapor deposition.

次に第27図に示す如く20μm厚のラミネイテ、ド−
7,トレジスト(Laminated photo−r
esist )257を全面に張付け、下地のポリイミ
ド開口よりも10μm穆度広めに7オトエツチングによ
り開口を形成する。この状態でこの開口部に203a程
度の厚さのAu(金)電気メツキによ、?Au(金)パ
ンダ電極を形成する。
Next, as shown in Fig. 27, a 20 μm thick laminate and dowel
7, Tresist (Laminated photo-r)
esist) 257 is pasted on the entire surface, and an opening is formed 10 μm wider than the underlying polyimide opening by etching. In this state, this opening is electroplated with Au (gold) with a thickness of about 203a. Form an Au (gold) panda electrode.

次に第28図に示す如(、Auバンプ258を残してフ
ォトレジスト・フィルム257を除去する。更にこのA
uバンプ258をマスクとして化学エツチング又はバッ
ク・スパッタリングによりUBM(下地バリア・メタル
)の不要部分を除去する。これで、Auバンプ電極が完
成する。
Next, as shown in FIG. 28, the photoresist film 257 is removed leaving the Au bumps 258.
Using the u-bump 258 as a mask, unnecessary portions of the UBM (underlying barrier metal) are removed by chemical etching or back sputtering. This completes the Au bump electrode.

次に、ウェハ状態での電気的テストの後、ダイシング法
によりウェハを第19図に示すような個々のチップ(4
mmX 10mmX O,25mm)に分割する。ここ
で、ダイシング前忙りエハけ、バック・グラインディン
グにより250μm厚にされている。
Next, after an electrical test in the wafer state, the wafer is diced into individual chips (4
Divide into 25 mm x 10 mm x O, 25 mm). Here, the thickness was made to be 250 μm by back-etching and back-grinding before dicing.

次に第29図に示す如く、第23及び24図の205で
示す破線の位置だそれぞれチップの第1の主面がくるよ
うに配置して、上から加熱したTAB用ボンディング・
ツールを押圧することKよりAuバンプとリード245
のAuメツキ層260を熱圧着する。これは、いわゆる
ギャング・ボンディングといわれる工程である。
Next, as shown in FIG. 29, the first main surface of the chip is placed at the position indicated by the broken line 205 in FIGS. 23 and 24, and the TAB bonding is heated from above.
Pressing the tool K from Au bump and lead 245
The Au plating layer 260 is bonded by thermocompression. This is a process called gang bonding.

次に第30図に示す如く、長いテープ242に多数のチ
ップをボンディングした状態で、上から流動性のエポキ
シ系レジンをボッティング及びキュアすることKより、
約50μmの厚さの有機レジン封止層261を形成する
。この封止層によって、チップ205の表面が保護され
るとともに、Auバンプ258及びリード245自身及
びそれらの接合を担保することができる。
Next, as shown in FIG. 30, with a large number of chips bonded to the long tape 242, a fluid epoxy resin is applied from above and cured.
An organic resin sealing layer 261 with a thickness of about 50 μm is formed. This sealing layer protects the surface of the chip 205 and can ensure the Au bumps 258 and leads 245 themselves and their bonding.

次に長いテープ状態で第39及び40図に示す如く、テ
ストパッド281,282,291、及び292を用い
て上段TAB 、下段TABのそれぞれとついてエージ
ング及び選別テストを行なう。
Next, as shown in FIGS. 39 and 40, aging and selection tests are performed on the upper TAB and lower TAB using test pads 281, 282, 291, and 292 in the long tape state.

次に第31及び32図に示す如く、上段及び下段TAB
ft単位に分断し、上側及び下側TABKついて262
a及びb部分を上下側TAB<重ねられるよ15KSO
P状にリードの7オーミンクを行なう。この場合、上段
TABは変形が小さいので完全な単位TAB状態ででき
るが、下段TABの方は変形量が多きいのでアクタ−リ
ードの最外側近傍でテープを分断している。
Next, as shown in Figures 31 and 32, the upper and lower TAB
Divided into ft units, with upper and lower TABKs 262
Parts a and b can be overlapped by TAB on the upper and lower sides, 15KSO
Perform a 7-ohm mink of the lead in a P shape. In this case, the upper stage TAB is deformed so little that it can be made into a complete unit TAB state, but the lower stage TAB has a large amount of deformation, so the tape is divided near the outermost side of the actor lead.

次に第は図に模式的に示すようなリードの位置関係にな
るようにスゲロケットホール204aを位置合せホール
にして重ね合せ、第31及び32図の262a及びbK
あ九る部分にボンディング・ツール(ツール荷重:57
0〜750 g/リード。
Next, the sedge rocket holes 204a are used as alignment holes to overlap the leads so that the leads are in a positional relationship as schematically shown in the figure.
Bonding tool (tool load: 57
0-750 g/lead.

ツール温度:530〜570℃、抑圧時間21〜5秒)
を押圧して対応するリード同志を熱圧着する。
Tool temperature: 530-570℃, suppression time 21-5 seconds)
Press to heat and press the corresponding leads together.

次に第は図の切断領域293にあ九る部分でキャリア・
テープとテップ・リード複合体をす=ド切断することK
よって分離する。このようにして第33図の(b)K示
すような断面形状の多重チップ複合体が完成する。
Next, remove the carrier from the cutting area 293 in the figure.
Cutting the tape and tape lead composite
Therefore, separate. In this way, a multi-chip composite having a cross-sectional shape as shown in FIG. 33(b)K is completed.

第34〜37図は第21図に示すメモリ・モジ1−ル用
セラミック基板209への実装プロセスを示す。
34 to 37 show a mounting process on the memory module ceramic substrate 209 shown in FIG. 21.

まず、第34図に示す如きセラミック・パッケージ基体
を準備する。セラミック・パッケージの代表的サイズは
、すなわち、長さ:4011111r幅:15m、厚さ
2 rm pリード(N’  8”)yキI。
First, a ceramic package substrate as shown in FIG. 34 is prepared. Typical sizes for ceramic packages are: Length: 4011111r Width: 15m Thickness 2 rm P-lead (N'8") y Ki.

た42アロイ)263のピッチ:2.54amである。42 alloy) 263 pitch: 2.54 am.

材質としてはアルミナ・セラミックスの多層配線基板か
らなっている。
The material is a multilayer wiring board made of alumina ceramics.

次に第35図に示す如く、この基板上のメタ2イズ・フ
ット・プリント264麿〜d上忙スクリーン印刷により
半田クリーム層265aS−dを形成する。
Next, as shown in FIG. 35, solder cream layers 265aS-d are formed by screen printing on the metal 2 size foot prints 264-d on this substrate.

次に第36図に示す如くアクタ−リード先端およびその
近傍がそれぞれの半田クリーム層に当接するように上記
基板209上下に載置する。下側の方は、接着体266
により裏面忙粘着又は接着させる必要がある。
Next, as shown in FIG. 36, the actuator leads are placed on top and bottom of the substrate 209 so that the tips and their vicinity are in contact with the respective solder cream layers. The lower side is the adhesive body 266
Depending on the back surface, it may be necessary to adhere or adhere it.

次に上記の状態で約220℃のり70−炉に挿入して第
37図に示すようにす70−半田付けを行なう。
Next, in the above state, the product is inserted into a glue furnace at about 220 DEG C., and soldering is performed as shown in FIG.

更に第38図に示す如くガラス・エポキシ等がら々るプ
リント配線基板にメモリ・モジュールを挿入した状態で
プリント基板271の下方から半田ウェーブをあてるこ
とKより半田付けを完了する。
Further, as shown in FIG. 38, soldering is completed by applying a solder wave from below the printed circuit board 271 with the memory module inserted into the printed circuit board made of glass, epoxy, etc.

第42.i及びbrI!Jは本発明の他の一つの実施例
の多重テップ・リード複合体の下面図及びB−B断面図
である。同図圧おいて205a及びbFi上側及び下側
のメモリ・チップ、245は同一の機能を有するC8以
外のパッドに接続されたリード(外部リード)、247
Jl及びbはそれぞれ上側及び下側のCSパ、ドに接続
された外部リード。
No. 42. i and brI! J is a bottom view and a BB sectional view of a multi-tipped lead composite according to another embodiment of the present invention. In the same figure, 205a and bFi upper and lower memory chips, 245 are leads (external leads) connected to pads other than C8 having the same function, 247
Jl and b are external leads connected to the upper and lower CS pins and pins, respectively.

261a及びbは上側及び下側チップのデバイス面上に
ポツティング形成されたエポΦシ・レジン層である。こ
の例の場合、組立工程は前記第18〜は図の例とほぼ同
一であるが、リード成形のみは多層チップ複合体とテー
プを分離した後に行なう必要があるが、第23図の保持
リード246以外をテープから分離した状態でテープ状
態で多重テップ・リード複合体のアクタ−リードを曲げ
成形することもできる。このことは、先のSOPタイプ
についてもいえる。
261a and 261b are epoxy resin layers potted onto the device surfaces of the upper and lower chips. In the case of this example, the assembly process is almost the same as the example shown in FIG. It is also possible to bend and form the actor lead of the multi-tipped lead composite in the tape state with the other parts separated from the tape. This also applies to the SOP types mentioned above.

以上第18〜42図については、具体的TAB方式を例
にとシ本発明を説明したが、本発明はこれに限定される
ものではない。
Although the present invention has been described above using a specific TAB method as an example with respect to FIGS. 18 to 42, the present invention is not limited thereto.

すなわち、第18〜42図の例は第1〜17図の例に対
する具体例であり、これらの例に適用されることはいう
までもない。
That is, the examples shown in FIGS. 18 to 42 are specific examples of the examples shown in FIGS. 1 to 17, and it goes without saying that the examples shown in FIGS. 18 to 42 are applicable to these examples.

更に、ここでは2重テップ・リード複合体についてのみ
説明したが3〜5xさら忙それ以上の複合体もほぼ同様
に実施可能である。
Further, although only a double step-read complex has been described here, complexes of 3 to 5 times or more can be implemented in substantially the same manner.

更に、モジ、−ル配線基板としては、セラミックに限定
4.gれることなく、以下引用文献に示す如くガラス・
エポキシ・プリント・配線基板等のプラスチック基板が
適用できる。
Furthermore, module wiring boards are limited to ceramics4. As shown in the cited document below, glass and
Plastic substrates such as epoxy, printed, and wiring boards can be used.

更に、上下TABのアウターリード同志の圧接は長いT
AB状態でも可能であシ、アウターリードがほぼ平面の
状態で行なうことができる。
Furthermore, the pressure contact between the outer leads of the upper and lower TABs is a long T.
This is possible even in the AB state, and can be performed with the outer lead being substantially flat.

更に以上のほか、以下の引用文献に示され念如き、種々
の技術的変更が可能であることはいうまでもない。
Furthermore, in addition to the above, it goes without saying that various technical changes are possible, as shown in the cited documents below.

(4)各実施例の記載を補足するための、文献等につい
て、 8RAM(スタテ、り・ランダム・アクセス・メモリ)
のモノリシック、・チップのウェハ・プロセス、デバイ
ス構造、システム等の詳細については、米国特許出願宛
899,404(1986年8月22日出願)、同N1
875,674(1986年6月18日)、開隔764
,208(1985年8月8日)、及び米国特許第4,
554.279号及び同対応英国特許第2,092,8
26号等に記載されているので、これらをもって本願の
記述となす。
(4) Regarding literature, etc. to supplement the description of each example, 8RAM (state random access memory)
For details on the monolithic chip wafer process, device structure, system, etc., see U.S. Patent Application No. 899,404 (filed August 22, 1986), N1
875,674 (June 18, 1986), opening 764
, 208 (August 8, 1985), and U.S. Pat.
No. 554.279 and corresponding UK patent no. 2,092,8
No. 26, etc., so these constitute the description of the present application.

TAB(テープ・オートメイテッド・ポンディング)に
関して、例えば、ポリイミド・テープ。
Regarding TAB (Tape Automated Bonding), for example, polyimide tape.

その上への銅メタライズ、半導体チップ上へのTABイ
ンナーリード接続用のバンプ電極の形成法、TABイン
ナーリードのチップとのギャング・ボンディング、実装
法、封止法については、米国特許出願宛052,386
(1987年5月21日出願)、同電946,951(
1986年12月29日出願)、[日経エレクトロニク
スJ1978年11’月27日号197頁〜211頁(
NikkeiElectronics ) 、同誌19
83年12月19日号82頁〜85頁、「日経マイクロ
・デバイセスは98フ年10月号36頁〜38頁(Ni
kkeiMicrodevices )、同誌1987
年2月号43頁〜44頁、同誌1984年6月11日号
148頁〜159頁、同誌同号130頁〜147頁、同
誌同号46頁〜48頁、同誌1986年3月号128頁
〜135頁、「ソリッド・ステイト・テクノロジーJ 
1979年3月号(Solid  5tate ’l’
ech −nologY ) O52頁〜55頁、「電
子材料コ(Denshi  Zalryo ) 198
7年9月号51〜56Jj 、  l”’工vp ) 
oニクスJ(Electron−fcs)1986年8
月21日号の74〜76頁。
Regarding the copper metallization thereon, the method of forming bump electrodes for connecting the TAB inner leads to the semiconductor chip, the gang bonding of the TAB inner leads to the chip, the mounting method, and the sealing method, please refer to U.S. Patent Application No. 052, 386
(filed on May 21, 1987), Doden 946,951 (filed on May 21, 1987)
(filed on December 29, 1986), [Nikkei Electronics J November 27, 1978 issue, pages 197-211 (
Nikkei Electronics), same magazine 19
December 19, 1983 issue, pages 82 to 85, “Nikkei Micro Devices, October 1998 issue, pages 36 to 38
kkeiMicrodevices), same magazine 1987
February 1984 issue, pages 43-44; June 11, 1984 issue, pages 148-159; same issue, pages 130-147; same issue, pages 46-48; March 1986 issue, page 128. ~Page 135, “Solid State Technology J
March 1979 issue (Solid 5tate 'l'
ech-nologY) O pages 52-55, "Electronic Materials Co. (Denshi Zalryo) 198
September 7th issue 51-56 Jj, l"' Engineering vp)
o Nix J (Electron-fcs) 1986 8
Pages 74-76 of the 21st issue of the month.

「ジェイ・ニス・ティー・ニューズJ  (JETNe
ws )第3巻2号1984年4月の42〜43頁、「
VLSIテクノロジーJ(VLSI  Tech −n
ology)ジー1F(Sze)1983年0558X
〜570頁、  「IC化実装技術」日本マイクロ・エ
レクトロニクス協会編、工業調査会(株)発行の102
〜175頁、「電子部品の自動組立入門」1986年7
月30日日刊工業新聞社発行の90〜100頁に記載さ
れているので、これらをもって本願の記述にかえる。
“JETNe
ws) Volume 3, No. 2, April 1984, pp. 42-43, “
VLSI Technology J
ology) G 1F (Sze) 1983 0558X
~570 pages, “IC Mounting Technology” edited by Japan Microelectronics Association, published by Kogyo Kenkyukai Co., Ltd. 102
~175 pages, "Introduction to automatic assembly of electronic components" 1986 July
Since it is described on pages 90 to 100 of the Nikkan Kogyo Shimbun issue on March 30th, the description of the present application will be replaced with these.

更に、メモリ・モジュールについては、「日経エレクト
ロニクxJ (Nikkei  Electronic
s)1987年9月7日号の99〜107頁に、それに
用いるプリント配線基板の製造方法等についてハ、「日
経マイクロ・デパイセズJ (NikkeiMicro
devices)1984年6月11日号160〜16
8頁に記載されているので、これらをもって本願の実施
例の記述にかえる。
Furthermore, regarding memory modules, "Nikkei Electronic
s) On pages 99 to 107 of the September 7, 1987 issue, there is an article titled ``Nikkei Micro
devices) June 11, 1984 issue 160-16
Since these are described on page 8, the description of the embodiments of the present application will be changed with these.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的な第1のもの
によって得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとお
りである。
A brief explanation of the effects obtained by the first representative invention disclosed in this application is as follows.

パッケージで封止せずに%TABでリードが接続され次
半導体チップを複数個モジ、−ル基板に搭載して半導体
装置を構成したことくより、1個の半導体チップがモジ
、−ル基板上に占める面積を小さくできるので、モジュ
ール基板に多くの半導体チップを搭載できる。すなわち
、半導体装置の実装密度を高くすることができる。
Since the leads are connected with TAB without being sealed in a package and the semiconductor device is constructed by mounting multiple semiconductor chips on a module board, one semiconductor chip can be mounted on a module board. Since the area occupied can be reduced, many semiconductor chips can be mounted on the module board. That is, the packaging density of semiconductor devices can be increased.

本願において開示される発明のうち代表的な第2のもの
くよって得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとお
りである。
A brief explanation of the effects obtained by the second typical invention disclosed in this application is as follows.

本発明によればテープキャリアにおいて高密度実装を可
能とし、配線上も有利で信頼性の向上した半導体装置を
提供することができ念。
According to the present invention, it is possible to provide a semiconductor device that enables high-density mounting on a tape carrier, is advantageous in terms of wiring, and has improved reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の実施例・1の1の半導体装置の概略
構成を示した平面図、 第2図は、前記半導体装置の概略構成を示した側面図、 第3図は、前記半導体装置の概略構成を示した正面図、 第4図は、実施例・lのIの変形例を説明する念めのモ
ジ、−ル基板1の一部の斜視図、第5図は、本発明の実
施例・lの■の半導体装置の正面図、 第6図は、本発明の実施例・1の■の半導体装置の側面
図、 第7図は、前記半導体装置の正面図、 第8図は、本発明の実施例・1のIVKおける2個の半
導体チップの平面図、 第9図は、第8図に示した2個の半導体チップを向い合
せて同一のリードに接続し、これをIの方向から見たと
きの側面図、 第10図は、同一のリードに接続した2個の半導体チッ
プを■の方向から見たときの側面図、第11図は重さね
合せられる2個の半導体チップ4人と4Bの平面図、 第12図は半導体チップ4A、4Bを向き合せて同一の
リード5に接続し、それを半導体チップ4AのIの方向
から見たときの側面図である。 第13図(A)〜0はそれぞれ本発明の実施例・2を示
す原理図、 第14図は本発明の実施例・2を示す要部平面図、 第15図は本発明の実施例・2を示す要部平面図、 第16図は本発明の実施例・2を示す断面図、第17図
は本発明の実施例・2を示す断面図である。 第18図は本発明のメモリ・モジー−ルの全体システム
を示す回路ブロック図、 第19図は本発明の多重チップ複合体の8RAM(スタ
ティック・ランダム・アクセス・メモリ)のチップ第1
主面の回路及びボンディング・パッド・レイアウト図、 第20図は本発明のメモリ・モジュールのピン。 アウト図、 第21(a)〜(c)図は本発明のメモリ・モジュール
の外形を示す上面図、正面図、側面図、第22図は本発
明のテープ・キャリアの大域的性質を示す平面図、 第23図及び24図は本発明のテープ・キャリア(上段
TAB 、下段TAB)の単位部分の上面図、 第25〜28図は本発明のSRAMチップのウェハ・プ
ロセスを示すフロー断面図、 第29図は、テープ・キャリアのリードとチップのバン
プ電極間のギャング・ボンディングされた状態を示す要
部断面拡大図、 第30図#′iキャリア・テープとチップの接合状況及
びボッティング・レジンのコーティング状態を示す断面
図、 第31図は単位部分に分断された上段TABを示す上面
図、 第32図は単位部分内で分断された下段TABを示す上
面図、 第33(a)及び(b)図は多重メモリ・テップ・リー
ド複合体の下面図及びA−A断面図、 第34〜37図は積層セ2之ツク配線基板への5op(
スモール・アウトライン・パッケージ)様の多重テップ
・リード複合体及びデコーダICの面実装プロセス・フ
ローを示すフロー断面図、第38図はガラス・エポキシ
・プリント配線基板へのメモリ・モジュールの挿入実装
の状態を示す断面吋、 第39図はギャング・ボンディングが完了し念状態の上
段TABを示す上面図、 第40図は同様の下段TABの上面図、第は図は上べT
ABを下段TABに重ねた状態を示す上面図、 第42(a)及び(b)図は、第33図の多重テップ・
リード複合体の他の実施例すなわちバラ) IJ−ド(
Butt  Lead )タイプを示す下面図及び断面
図である。 図中、1・・・モジュール基板、2.3A、5A。 5B、5C,5D、5E、5F・・・リード、3・・・
デコーダ、4A、4B、4C,4D・・・半導体チップ
、6A、6B・・・バンプ電極、7・・・シリコーンゴ
ム又はレジン、8・・・貫通配線、9・・・絶縁材。 第  4  図 第  5   図 * 73(c1)図   第73(b)図第  13(
c)図 01b 第76図 第  77  図 o U NC’J 第  23  図 第  24  図 第  25  図 ′205 第  31  図            第   3
2rjgJl○は)                
    284b第  33(a)図 M 35 図 第  36 図 第  37  図 第38図 第  39  図 204f 204b 2)4g
FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a semiconductor device according to Example 1-1 of the present invention, FIG. 2 is a side view showing a schematic configuration of the semiconductor device, and FIG. FIG. 4 is a perspective view of a part of the module board 1 for explaining a modification of I of Example 1, and FIG. 5 is a front view showing the schematic configuration of the device. FIG. 6 is a side view of the semiconductor device of Example 1 of the present invention (■); FIG. 7 is a front view of the semiconductor device; FIG. 9 is a plan view of two semiconductor chips in the IVK of Example 1 of the present invention. FIG. 9 is a plan view of two semiconductor chips shown in FIG. 8 facing each other and connected to the same lead. Figure 10 is a side view of two semiconductor chips connected to the same lead, viewed from direction ■. Figure 11 is a side view of two semiconductor chips that are stacked together. FIG. 12 is a side view of the semiconductor chips 4A and 4B facing each other and connected to the same lead 5 when viewed from the direction I of the semiconductor chip 4A. . 13(A) to 0 are principle diagrams showing Embodiment 2 of the present invention, FIG. 14 is a plan view of essential parts showing Embodiment 2 of the present invention, and FIG. 15 is a diagram showing Embodiment 2 of the present invention. FIG. 16 is a sectional view showing Embodiment 2 of the present invention, and FIG. 17 is a sectional view showing Embodiment 2 of the present invention. FIG. 18 is a circuit block diagram showing the overall system of the memory module of the present invention, and FIG. 19 is a circuit block diagram showing the first chip of 8 RAM (static random access memory) of the multi-chip complex of the present invention.
Main surface circuit and bonding pad layout diagram; FIG. 20 shows the pins of the memory module of the present invention. 21(a) to 21(c) are top views, front views, and side views showing the external shape of the memory module of the present invention, and FIG. 22 is a plan view showing the global characteristics of the tape carrier of the present invention. Figures 23 and 24 are top views of unit parts of the tape carrier (upper stage TAB, lower stage TAB) of the present invention; Figures 25 to 28 are flow sectional views showing the wafer process of the SRAM chip of the present invention; Figure 29 is an enlarged cross-sectional view of the main part showing the state of gang bonding between the leads of the tape carrier and the bump electrodes of the chip. 31 is a top view showing the upper TAB divided into unit parts; FIG. 32 is a top view showing the lower TAB divided into unit parts; 33(a) and ( b) The figure shows the bottom view and A-A sectional view of the multiplex memory tip lead complex, and Figures 34 to 37 show the 5op (
Figure 38 is a cross-sectional flow diagram showing the surface mounting process flow for a multi-tipped lead composite and decoder IC manufactured by Small Outline Package (Small Outline Package). Figure 39 is a top view showing the upper TAB in a tentative state after gang bonding has been completed; Figure 40 is a top view of the similar lower TAB;
The top view showing the state where AB is stacked on the lower TAB, Figures 42(a) and 42(b) are the multi-step structure shown in Figure 33.
Other examples of lead complexes i.e. rose) IJ-do (
FIG. 2 is a bottom view and a sectional view showing the Butt Lead) type. In the figure, 1... module board, 2.3A, 5A. 5B, 5C, 5D, 5E, 5F...Lead, 3...
Decoder, 4A, 4B, 4C, 4D...Semiconductor chip, 6A, 6B...Bump electrode, 7...Silicone rubber or resin, 8...Through wiring, 9...Insulating material. Figure 4 Figure 5 * Figure 73(c1) Figure 73(b) Figure 13(
c) Figure 01b Figure 76 Figure 77 o U NC'J Figure 23 Figure 24 Figure 25 Figure '205 Figure 31 Figure 3
2rjgJl○ is)
284b Fig. 33(a) M 35 Fig. 36 Fig. 37 Fig. 38 Fig. 39 Fig. 204f 204b 2) 4g

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、半導体チップのバンプ電極をリードに接続し、該リ
ードを有する半導体チップを複数個、モジュール基板の
配線に接続して構成した半導体装置。 2、前記半導体チップは、パッケージで封止されていな
いことを特徴とする請求項第1項記載の半導体装置。 3、前記半導体チップは、前記モジュール基板の表面と
裏面の両面に搭載されていることを特徴とする請求項第
1項記載の半導体装置。 4、前記半導体装置は、第1の半導体チップの上に第2
の半導体チップを重ることにより、同一信号あるいは同
一電位を入力又は出力するリード同志を接続して半導体
チップの組を構成し、該半導体チップの組を前記モジュ
ール基板に複数組搭載して構成したものであることを特
徴とする請求項第1項記載の半導体装置。 5、前記モジュール基板の表面に搭載されている半導体
チップは、バンプ電極が設けられている方の面と反対側
の面が搭載基板と対面し、モジュール基板の裏面に搭載
されている半導体チップは、バンプ電極が設けられてい
る方の面がモジュール基板と対面していることを特徴と
する請求項第1項記載の半導体装置。 6、前記半導体チップのバンプ電極の配置を、第1の半
導体チップと第2の半導体チップとで対称にし、バンプ
電極同志が接続するように、第2の半導体チップを裏返
しにして第1の半導体チップに重ね、それら第1の半導
体チップと第2の半導体チップの間にリードを介在させ
たことを特徴とする請求項第1項記載の半導体装置。 7、各リードパターンの一部を当該テープキャリアパッ
ケージの重ね実装が可能なように変更した二以上のテー
プキャリアパッケージを、実装用基板上に重ね実装して
成ることを特徴とする半導体装置。 8、変更したリードパターンの一部が、テープキャリア
パッケージ内チップセレクト信号用のリードである、請
求項第7項記載の半導体装置。 9、半導体集積回路メモリ装置は、以下の構成よりなる
: (a)ほぼ正方形又は長方形の板状の第1及び第2のS
RAM半導体チップは、それぞれ第1及び第2の主面を
もち、この第1の主面にそれぞれSRAM集積回路の主
要部が形成されている;(b)上記それぞれのチップの
上記第1の主面の一対の対向する辺の近傍に設けられた
多数の電極パッドと; (c)上記それぞれのチップの上記第1の主面の上記一
対の辺の近傍のいずれかに設けられた、それぞれのチッ
プ・セレクト電極パッドと;(b)上記それぞれのチッ
プの上記多数のパッドとその内端が接続されたメタル・
シートからなる多数のリードと; (e)上記それぞれのチップの上記チップ・セレクト・
パッドとその内端が接続されたメタル・シートからなる
第1及び第2のリードと; (f)上記第1のチップの第2の主面とそれにほぼ平行
に近接する上記第2のチップの第1の主面間に設けられ
た絶縁部材と; (g)上記それぞれの多数のリードの同一の機能を有す
るパッドに対応する外端部及びその近傍同志がその延在
方向が一致するように重畳接続された重畳接続部と、 10、上記リードはSOP(スモール・アウトライン・
パッケージ)様に形成されている上記請求項第9項のメ
モリ装置。 11、上記リードはリードの先端が半田付面とほぼ直角
に当接できるようにパッド・リード (Butt)様に成形された上記請求項第9項のメモリ
装置。 12、キャリア・テープの中央にそって多数設けられた
半導体チップ搭載用開口部に、それぞれメモリ・チップ
をバンプ電極を介して接続する半導体集積回路の組立方
法において、 上記組立方法は以下の工程よりなる: (a)第1、第2のキャリア・テープに同一又はほぼ同
一のパターンを有するメモリ・チップをそれぞれバンプ
電極を介してギャング・ボンディングする工程; ここで、上記第1、第2のキャリア・テープは、それぞ
れの第1主面及びチップ搭載用開口部内にメタル・シー
トよりなる多数のリードを有し、上記第1及び第2のテ
ープのリードパターンは、それぞれのチップ・セレクト
端子又はそれと等価な端子と接続されるべきリード以外
のパターンはほぼ同一又は同一のパターンを有する; (b)上記第1及び第2のキャリア・テープの各上記開
口部に同一又はほぼ同一のパターンを有するメモリ・チ
ップをそれぞれバンプ電極を介してギャング・ボンディ
ングする工程; (c)上記第1及び第2のテープを一致するパターンが
重なるように重畳して、重畳して延在する上記各開口部
のリードを圧着し、上記複数のメモリ・チップと多数の
リードからなる多重テップ・リード複合体を形成する工
程; (d)上記各テープより上記複合体を分離する工程。 13、上記工程(b)と(c)の間に、上記第1、第2
のメモリ・チップのデバイス形成主面にそれぞれの当該
主面及び同主面上の各リード及びバンプ電極を覆うよう
にレジン封止材をボッティングする工程(e)を有する
上記請求項第12項の組立方法。 14、上記工程(b)と(c)の間に各キャリアテープ
の状態で各チップの電気的テストを行なう上記請求項第
12項の組立方法。 15、上記工程(d)の後、上記複合体をそのリードを
介して基板に面実装法により半田リフロー実装する上記
請求項第12項の組立方法。
[Scope of Claims] 1. A semiconductor device configured by connecting bump electrodes of a semiconductor chip to leads, and connecting a plurality of semiconductor chips having the leads to wiring on a module board. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor chip is not sealed with a package. 3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor chip is mounted on both the front and back surfaces of the module substrate. 4. The semiconductor device has a second semiconductor chip on top of the first semiconductor chip.
By stacking the semiconductor chips, leads that input or output the same signal or the same potential are connected to form a set of semiconductor chips, and a plurality of sets of semiconductor chips are mounted on the module board. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is a semiconductor device. 5. The semiconductor chip mounted on the front surface of the module board faces the mounting board with the surface opposite to the surface on which the bump electrode is provided, and the semiconductor chip mounted on the back surface of the module board faces the mounting board. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the surface on which the bump electrodes are provided faces the module substrate. 6. Make the arrangement of the bump electrodes of the semiconductor chip symmetrical between the first semiconductor chip and the second semiconductor chip, and turn the second semiconductor chip upside down so that the bump electrodes are connected to each other. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is stacked on a chip, and a lead is interposed between the first semiconductor chip and the second semiconductor chip. 7. A semiconductor device comprising two or more tape carrier packages in which a part of each lead pattern is modified so that the tape carrier packages can be mounted in a stacked manner on a mounting substrate. 8. The semiconductor device according to claim 7, wherein a part of the changed lead pattern is a lead for a chip select signal in a tape carrier package. 9. The semiconductor integrated circuit memory device consists of the following configuration: (a) First and second S in the form of substantially square or rectangular plates;
Each of the RAM semiconductor chips has a first main surface and a second main surface, and a main part of the SRAM integrated circuit is formed on each of the first main surfaces; a large number of electrode pads provided near a pair of opposing sides of the surface; (c) a large number of electrode pads provided near either of the pair of sides of the first main surface of each of the chips; a chip select electrode pad; (b) a metal electrode whose inner ends are connected to the plurality of pads of each of the chips;
a large number of leads consisting of sheets; (e) the chip select of each of the chips;
(f) a second main surface of the first chip and the second main surface of the second chip adjacent thereto in a substantially parallel manner; an insulating member provided between the first principal surfaces; (g) such that the outer ends of each of the plurality of leads corresponding to pads having the same function and their neighboring comrades have the same extending direction; 10. The above leads are SOP (Small Outline).
10. The memory device of claim 9, wherein the memory device is shaped like a package. 11. The memory device according to claim 9, wherein the lead is shaped like a pad lead so that the tip of the lead can come into contact with the soldering surface at a substantially right angle. 12. In a method for assembling a semiconductor integrated circuit in which memory chips are connected via bump electrodes to a number of semiconductor chip mounting openings provided along the center of a carrier tape, the above assembly method includes the following steps: (a) Gang-bonding memory chips having the same or substantially the same pattern to the first and second carrier tapes via bump electrodes;・The tape has a large number of leads made of metal sheets on each first main surface and in the chip mounting opening, and the lead patterns of the first and second tapes are connected to the respective chip select terminals or the like. Patterns other than the leads to be connected to equivalent terminals have substantially the same or the same pattern; (b) a memory having the same or substantially the same pattern in each of the openings of the first and second carrier tapes;・Gang-bonding the chips through their respective bump electrodes; (c) Overlapping the first and second tapes so that matching patterns overlap, and forming the leads of each of the openings extending in an overlapping manner. (d) separating the composite from each of the tapes; and (d) separating the composite from each of the tapes. 13. Between the above steps (b) and (c), the above first and second
Claim 12, further comprising the step (e) of botting a resin encapsulant on the device-forming main surface of the memory chip so as to cover each of the main surfaces and each lead and bump electrode on the same main surface. How to assemble. 14. The assembly method according to claim 12, wherein between steps (b) and (c), each chip is electrically tested on each carrier tape. 15. The assembly method according to claim 12, wherein after said step (d), said composite body is solder reflow mounted on a board via its leads by a surface mounting method.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0320051A (en) * 1989-03-20 1991-01-29 Seiko Epson Corp Semiconductor device mounting structure and mounting method and mounting device
EP0473796A4 (en) * 1990-03-15 1994-05-25 Fujitsu Ltd Semiconductor device having a plurality of chips

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