JPH01292009A - エチレン系重合体の製造方法 - Google Patents
エチレン系重合体の製造方法Info
- Publication number
- JPH01292009A JPH01292009A JP12138988A JP12138988A JPH01292009A JP H01292009 A JPH01292009 A JP H01292009A JP 12138988 A JP12138988 A JP 12138988A JP 12138988 A JP12138988 A JP 12138988A JP H01292009 A JPH01292009 A JP H01292009A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ethylene
- inorganic oxide
- porous inorganic
- polymer
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title abstract description 16
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 29
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 6
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims abstract description 4
- 150000001845 chromium compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 9
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 8
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- YNBJMIXWGPOBGE-UHFFFAOYSA-N carbanide;cyclopenta-1,3-diene;titanium(4+) Chemical compound [CH3-].[CH3-].[Ti+4].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 YNBJMIXWGPOBGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 abstract description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 abstract 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 15
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N isobutane Chemical compound CC(C)C NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940090961 chromium dioxide Drugs 0.000 description 4
- IAQWMWUKBQPOIY-UHFFFAOYSA-N chromium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Cr+4] IAQWMWUKBQPOIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N chromium(IV) oxide Inorganic materials O=[Cr]=O AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 239000001282 iso-butane Substances 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N methyl(oxo)alumane Chemical compound C[Al]=O CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- -1 tetrahydroindenyl group Chemical group 0.000 description 4
- VPGLGRNSAYHXPY-UHFFFAOYSA-L zirconium(2+);dichloride Chemical compound Cl[Zr]Cl VPGLGRNSAYHXPY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Natural products C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- PHFQLYPOURZARY-UHFFFAOYSA-N chromium trinitrate Chemical compound [Cr+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O PHFQLYPOURZARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJNEQWWZRSFCE-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxy-3-oxo-2-(thiophen-2-ylmethyl)propanoic acid Chemical compound CCOC(=O)C(C(O)=O)CC1=CC=CS1 PMJNEQWWZRSFCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVWHMGOVDMDADW-UHFFFAOYSA-N C1=CC2=CC=CC=C2C1[Ti](C)(C)C1C2=CC=CC=C2C=C1 Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C1[Ti](C)(C)C1C2=CC=CC=C2C=C1 VVWHMGOVDMDADW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHOIVALNJCVPNQ-UHFFFAOYSA-N CC1(C=CC=C1)[Ti](C)(C)C1(C=CC=C1)C Chemical compound CC1(C=CC=C1)[Ti](C)(C)C1(C=CC=C1)C BHOIVALNJCVPNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTALABGIOFMKEH-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C)C(C)=C(C)C1(C)[Ti](C)(C)C1(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C(C)C1(C)[Ti](C)(C)C1(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C GTALABGIOFMKEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGVVIPAIDGTTNN-UHFFFAOYSA-N C[Zr]C Chemical compound C[Zr]C UGVVIPAIDGTTNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical group [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXBKMHHGNJJERO-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].C1=CC2=CC=CC=C2C1[Ti+2]C1C2=CC=CC=C2C=C1 Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC2=CC=CC=C2C1[Ti+2]C1C2=CC=CC=C2C=C1 JXBKMHHGNJJERO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- FQGXXPOPDMJRDS-UHFFFAOYSA-N carbanide;1h-inden-1-ide;zirconium(4+) Chemical compound [CH3-].[CH3-].[Zr+4].C1=CC=C2[CH-]C=CC2=C1.C1=CC=C2[CH-]C=CC2=C1 FQGXXPOPDMJRDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N chromium(3+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Cr+3].[Cr+3] UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);triacetate Chemical compound [Cr+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- GEKDHJTUYGMYFB-UHFFFAOYSA-N chromium;pentane-2,4-dione Chemical compound [Cr].CC(=O)CC(C)=O GEKDHJTUYGMYFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHXGRMIPHCAXFP-UHFFFAOYSA-L chromyl dichloride Chemical compound Cl[Cr](Cl)(=O)=O AHXGRMIPHCAXFP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- BUACSMWVFUNQET-UHFFFAOYSA-H dialuminum;trisulfate;hydrate Chemical compound O.[Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O BUACSMWVFUNQET-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- IVTQDRJBWSBJQM-UHFFFAOYSA-L dichlorozirconium;indene Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C1[Zr](Cl)(Cl)C1C2=CC=CC=C2C=C1 IVTQDRJBWSBJQM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000005243 fluidization Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012685 gas phase polymerization Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Chemical group 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical group [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(1)産業上の利用分野
本発明は新規な触媒系を用いたエチレン系重合体のwi
造右方法関する。さらに詳しくはインフレーション成形
や中空成形等に適した、分子量分布が広くしかも溶融張
力及びダイスウェルの大きなエチレン系重合体の製造方
法に関する。
造右方法関する。さらに詳しくはインフレーション成形
や中空成形等に適した、分子量分布が広くしかも溶融張
力及びダイスウェルの大きなエチレン系重合体の製造方
法に関する。
(2)従来の技術
エチレン系重合体は、各種の成形品の樹脂材料として、
一般に広く用いられており、その成形方法と用途によっ
て要求される特性が異なっている。
一般に広く用いられており、その成形方法と用途によっ
て要求される特性が異なっている。
例えば、射出成形法によって成形される製品には分子量
が比較的低く、狭い分子量分布を有する重合体が適して
いるが、インフレーション成形゛や中空成形などによっ
て成形される製品には1分子量が比鮫的高く、分子量分
布の広いポリマーが適している。
が比較的低く、狭い分子量分布を有する重合体が適して
いるが、インフレーション成形゛や中空成形などによっ
て成形される製品には1分子量が比鮫的高く、分子量分
布の広いポリマーが適している。
分子量分布は、フィルムやブロー製品の表面肌に関係し
ており、分子量分布が広いほど成形品の表面肌荒れが少
ないと考えられている。すなわち、高い分子量を有する
重合体の場合でも、流動性がよく成形品の表面肌にメル
トフラクチュアを生ずることなく、高品質の製品を得る
ことができる。
ており、分子量分布が広いほど成形品の表面肌荒れが少
ないと考えられている。すなわち、高い分子量を有する
重合体の場合でも、流動性がよく成形品の表面肌にメル
トフラクチュアを生ずることなく、高品質の製品を得る
ことができる。
又、インフレーション成形や中空成形においては。
たとえばインフレーションフィルムの高速成形を安定的
に実施する場合や、中空成形時のパリソンの安定桂を確
保する場合、特に大型容器のパリソンの垂れ下がりや、
ちぎれを防止するためには、溶融張力の大きい重合体を
選択することが必要である。
に実施する場合や、中空成形時のパリソンの安定桂を確
保する場合、特に大型容器のパリソンの垂れ下がりや、
ちぎれを防止するためには、溶融張力の大きい重合体を
選択することが必要である。
従来より、広い分子量分布を有し、しかも高い溶融張力
を有するエチレン系重合体を製造するための方法が、い
くつか提案されており、特開昭56−90809号公報
、同56−90810、同59−56406. 同6
0−106806などがある。特開昭56・−9080
9号公報、同56−90810はダイスウェルの改善効
果は認められるもののそのレベルは不充分であり、又、
分子量分布も充分に広くなっているとは言い難い、又。
を有するエチレン系重合体を製造するための方法が、い
くつか提案されており、特開昭56−90809号公報
、同56−90810、同59−56406. 同6
0−106806などがある。特開昭56・−9080
9号公報、同56−90810はダイスウェルの改善効
果は認められるもののそのレベルは不充分であり、又、
分子量分布も充分に広くなっているとは言い難い、又。
特開昭59−56406号公報、同60−106806
は溶融張力は広範囲にコントロールができるものの、分
子量分布の広さがやや不充分であり、溶融張力と分子量
分布との両者のバランスにおりて、改善の余地がみられ
る。
は溶融張力は広範囲にコントロールができるものの、分
子量分布の広さがやや不充分であり、溶融張力と分子量
分布との両者のバランスにおりて、改善の余地がみられ
る。
(3)発明が解決しようとする課題
本発明の目的は、上記従来技術の問題点が改良されて、
広い分子量分布を有し、かつ高い溶融張力及びダイスウ
ェルを有するエチレン系重合体を効率よく製造する方法
を提案することにある。
広い分子量分布を有し、かつ高い溶融張力及びダイスウ
ェルを有するエチレン系重合体を効率よく製造する方法
を提案することにある。
(4)課題を解決するための手段
上記目的を、達成するために、検討した結果。
(A)クロム化合物が担持された多孔質無機酸化物担体
を300℃ないし1000℃の温度範囲で加熱すること
によって得られるクロム含有多孔質無機酸化物担体、 (B)共役π電子を有する基を配位子とした遷移金属化
合物、および(C)アルミノキサンから形成される触媒
の存在下に、エチレン小猿またはエチレンとαオレフィ
ンとを共重合させることにより、上記目的が達成される
ことを見いだし、本発明に到達した。
を300℃ないし1000℃の温度範囲で加熱すること
によって得られるクロム含有多孔質無機酸化物担体、 (B)共役π電子を有する基を配位子とした遷移金属化
合物、および(C)アルミノキサンから形成される触媒
の存在下に、エチレン小猿またはエチレンとαオレフィ
ンとを共重合させることにより、上記目的が達成される
ことを見いだし、本発明に到達した。
本発明の触媒の構成成分の一部である(B)成分と(C
)成分とを組み合わせた触媒は最近提案されており、た
とえば特開昭58−19309号公報、同61−211
307、同62−230802などが例示されるが、こ
れらはいずれも分子量分布の狭い重合体を与える。又、
特開昭61−108610号公報、同61−27680
5. 同61−296008、同63−22804、
同63−54403、同63−61010などは(B)
、(C)成分とある特定の無機酸化物担体とを組み合わ
せた触媒であるが、これらも分子量分布の狭い重合体を
与える。
)成分とを組み合わせた触媒は最近提案されており、た
とえば特開昭58−19309号公報、同61−211
307、同62−230802などが例示されるが、こ
れらはいずれも分子量分布の狭い重合体を与える。又、
特開昭61−108610号公報、同61−27680
5. 同61−296008、同63−22804、
同63−54403、同63−61010などは(B)
、(C)成分とある特定の無機酸化物担体とを組み合わ
せた触媒であるが、これらも分子量分布の狭い重合体を
与える。
本発明は担体として、クロム化合物が担持された多孔質
無機酸化物を300℃ないし1000℃の温度範囲で加
熱することによって得られたものを使用することにより
、広い分子量分布でしかも高い溶融張力及びダイスウェ
ルを有するエチレン系重合体を与えるものであり、従来
の技術からは全く予期できず驚くべきことである。
無機酸化物を300℃ないし1000℃の温度範囲で加
熱することによって得られたものを使用することにより
、広い分子量分布でしかも高い溶融張力及びダイスウェ
ルを有するエチレン系重合体を与えるものであり、従来
の技術からは全く予期できず驚くべきことである。
本発明において担体の製造に使用されるクロム化合物は
クロムの酸化物、ハロゲン化物、オキシハロゲン化物、
硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩、蓚酸塩および有機クロム化合
物などが挙げられる。具体的には二酸化クロム、塩化ク
ロミル、硝酸クロム、酢酸クロム、クロム酸アンモニウ
ム、アセチルアセトンクロム、ビスシクロペンタジェニ
ルクロム等が挙げられる。
クロムの酸化物、ハロゲン化物、オキシハロゲン化物、
硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩、蓚酸塩および有機クロム化合
物などが挙げられる。具体的には二酸化クロム、塩化ク
ロミル、硝酸クロム、酢酸クロム、クロム酸アンモニウ
ム、アセチルアセトンクロム、ビスシクロペンタジェニ
ルクロム等が挙げられる。
多孔質無機酸化物は周期律表第11a族、ma族、IV
a族、およびIVb族の金属酸化物であり、具体例とし
ては、シリカ、アルミナ、マグネシア、ジルコニアまた
はこれらの混合物があげられる。これらの酸化物はその
種類および製法により、その性状は異なるが本発明に好
ましく用いられるものは、比表面積が50m2/g以上
平均細孔径が50A以上、平均粒径が100μm以下の
ものである。多孔質無機酸化物にクロム化合物を担持す
る方法はクロム化合物を水系あるいは非水系溶媒中で含
浸担持する方法が好ましく用いられる。担持温度は。
a族、およびIVb族の金属酸化物であり、具体例とし
ては、シリカ、アルミナ、マグネシア、ジルコニアまた
はこれらの混合物があげられる。これらの酸化物はその
種類および製法により、その性状は異なるが本発明に好
ましく用いられるものは、比表面積が50m2/g以上
平均細孔径が50A以上、平均粒径が100μm以下の
ものである。多孔質無機酸化物にクロム化合物を担持す
る方法はクロム化合物を水系あるいは非水系溶媒中で含
浸担持する方法が好ましく用いられる。担持温度は。
一般には100℃以下であり、0−40℃が好ましい。
このようにして得られたクロム化合物が担持された多孔
質無機酸化物を、溶媒を留去したのちに、300℃ない
し1000℃の温度範囲で加熱することにより、担体が
得られる。加熱は乾燥ガス(例えば空気)によって流動
化された状態で実施することが可能である。多孔質無機
酸化物に対するクロム化合物の使用割合は得られる担体
中のクロム原子の含有量が0.2重量%ないし5重量%
の範囲になるようにするのが好ましい。
質無機酸化物を、溶媒を留去したのちに、300℃ない
し1000℃の温度範囲で加熱することにより、担体が
得られる。加熱は乾燥ガス(例えば空気)によって流動
化された状態で実施することが可能である。多孔質無機
酸化物に対するクロム化合物の使用割合は得られる担体
中のクロム原子の含有量が0.2重量%ないし5重量%
の範囲になるようにするのが好ましい。
触媒成分(B)の共役π電子を有する基を配位子とする
遷移金属化合物としては、たとえば−船底R’m (R
2) 2M R3R’で示される化合物である。
遷移金属化合物としては、たとえば−船底R’m (R
2) 2M R3R’で示される化合物である。
ここでMはチタン、ジルコニウムもしくはハフニウムで
あり、R2はシクロアルカジェニル基であり、R3およ
びR4はそれぞれ炭素数1−20のハイドロカルビル基
、アルコキシ基、ハロゲン原子もしくは水素原子である
。R1は2個のR2を結合する基であり、炭素数1−4
のアルキレン基であり、mは0または1である。シクロ
アルカジェニル基は、たとえば、シクロペンタジェニル
基、メチルシクロペンタジェニル基、ペンタメチルシク
ロペンタジェニル基、インデニル基、テトラヒドロイン
デニル基などである。 R3およびR4のハイドロカ
ルビル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル
、ブチル、アミル、イソアミル、ヘキシル、イソブチル
、ヘプチル、オクチル、ノニル。
あり、R2はシクロアルカジェニル基であり、R3およ
びR4はそれぞれ炭素数1−20のハイドロカルビル基
、アルコキシ基、ハロゲン原子もしくは水素原子である
。R1は2個のR2を結合する基であり、炭素数1−4
のアルキレン基であり、mは0または1である。シクロ
アルカジェニル基は、たとえば、シクロペンタジェニル
基、メチルシクロペンタジェニル基、ペンタメチルシク
ロペンタジェニル基、インデニル基、テトラヒドロイン
デニル基などである。 R3およびR4のハイドロカ
ルビル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル
、ブチル、アミル、イソアミル、ヘキシル、イソブチル
、ヘプチル、オクチル、ノニル。
デシル、セチル、2−エチルヘキシル、フェニルなどを
挙げることができる。アルコキシ基としては、メトキシ
、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどを挙げることが
でき、ハロゲン原子としては。
挙げることができる。アルコキシ基としては、メトキシ
、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどを挙げることが
でき、ハロゲン原子としては。
塩素、臭素、フッ素などを挙げることができる。
−船底R1□(R2) 2M R3R’で示される化合
物の具体例としては、ビス(シクロペンタジェニル)ジ
メチルチタニウム、ビス(メチルシクロペンタジェニル
)ジメチルチタニウム、ビス(ペンタメチルシクロペン
タジェニル)ジメチルチタニウム、ビス(シクロペンタ
ジェニル)メチルクロロチタニウム、ビス(シクロペン
タジェニル)ジクロロチタニウム、ビス(インデニル)
ジメチルチタニウム、ビス(インデニル)ジクロロチタ
ニウム。
物の具体例としては、ビス(シクロペンタジェニル)ジ
メチルチタニウム、ビス(メチルシクロペンタジェニル
)ジメチルチタニウム、ビス(ペンタメチルシクロペン
タジェニル)ジメチルチタニウム、ビス(シクロペンタ
ジェニル)メチルクロロチタニウム、ビス(シクロペン
タジェニル)ジクロロチタニウム、ビス(インデニル)
ジメチルチタニウム、ビス(インデニル)ジクロロチタ
ニウム。
エチレンビス(インデニル)ジクロ−ロチタニウム、エ
チレンビス(テトラヒドロインデニル)ジクロロチタニ
ウム、<ス(シクロペンタジェニル)ジメチルジルコニ
ウム、ビス(メチルシクロペンタジェニル)ジメチルジ
ルコニウム、ビス(ペンタメチルシクロペンタジェニル
)ジメチルジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニル
)メチルクロロジルコニウム、ビス(シクロペンタジェ
ニル)ジクロロジルコニウム、 ビス(インデニル)ジ
メチルジルコニウム、ビス(インデニル)ジクロロジル
コニウム、エチレンビス(インデニル)ジクロロジルコ
ニウム、エチレンビス(テトラヒドロインデニル)ジク
ロロジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニル)ジメ
チルハフニウム、ビス(シクロペンタジェニル)ジクロ
ロハフニウムが挙げられる。
チレンビス(テトラヒドロインデニル)ジクロロチタニ
ウム、<ス(シクロペンタジェニル)ジメチルジルコニ
ウム、ビス(メチルシクロペンタジェニル)ジメチルジ
ルコニウム、ビス(ペンタメチルシクロペンタジェニル
)ジメチルジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニル
)メチルクロロジルコニウム、ビス(シクロペンタジェ
ニル)ジクロロジルコニウム、 ビス(インデニル)ジ
メチルジルコニウム、ビス(インデニル)ジクロロジル
コニウム、エチレンビス(インデニル)ジクロロジルコ
ニウム、エチレンビス(テトラヒドロインデニル)ジク
ロロジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニル)ジメ
チルハフニウム、ビス(シクロペンタジェニル)ジクロ
ロハフニウムが挙げられる。
触媒成分(C)のアルミノキサンとしては、−船底
%式%
で示される縮合物またはその混合物である。ここでR5
は炭素数が多くとも6個のアルキル基またはハロゲン原
子であり、R6は炭素数が多くとも6個のアルキル基で
あり、R5がアルキル基の場合にはR5と同一であり、
nは1またはそれ以上の整数である。R5はたとえば、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等であり、
好ましくは、メチル基、エチル基、特に好ましくはメチ
ル基である。
は炭素数が多くとも6個のアルキル基またはハロゲン原
子であり、R6は炭素数が多くとも6個のアルキル基で
あり、R5がアルキル基の場合にはR5と同一であり、
nは1またはそれ以上の整数である。R5はたとえば、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等であり、
好ましくは、メチル基、エチル基、特に好ましくはメチ
ル基である。
アルミノキサンの製造法はトルエンの如き不活性炭化水
素溶媒に溶かした有機アルミニウム化合物へ所定量の水
を徐々に加え、必要に応じ少し加熱することによって容
易に行うことができるが、硫酸銅水和物、硫酸アルミニ
ウム水和物などの結晶水を利用して行うこともできる。
素溶媒に溶かした有機アルミニウム化合物へ所定量の水
を徐々に加え、必要に応じ少し加熱することによって容
易に行うことができるが、硫酸銅水和物、硫酸アルミニ
ウム水和物などの結晶水を利用して行うこともできる。
本発明の触媒は触媒成分(A)、触媒成分(B)及び触
媒成分(C)を接触させることにより形成される、これ
らの成分の接触順序は特に限定されるものではなく、た
とえばこれら3成分を同時に接触させてもよく、又、触
媒成分(A)と触媒成分(B)とを前もって接触させて
おき、しかる後に触媒成分(C)を接触させてもよい。
媒成分(C)を接触させることにより形成される、これ
らの成分の接触順序は特に限定されるものではなく、た
とえばこれら3成分を同時に接触させてもよく、又、触
媒成分(A)と触媒成分(B)とを前もって接触させて
おき、しかる後に触媒成分(C)を接触させてもよい。
これら3成分の使用割合は通常、触媒成分(A)の1g
に対して、触媒成分(B)をO,Of−1mmolであ
り、−好ましくは、0. 02−0.4mmolである
。触媒成分(C)の使用割合は、触媒成分(B)1モル
に対して、触媒成分(C)中のアルミニウム量が1−1
05g原子の範囲、好ましくは10−104g原子の範
囲である。
に対して、触媒成分(B)をO,Of−1mmolであ
り、−好ましくは、0. 02−0.4mmolである
。触媒成分(C)の使用割合は、触媒成分(B)1モル
に対して、触媒成分(C)中のアルミニウム量が1−1
05g原子の範囲、好ましくは10−104g原子の範
囲である。
以上のようにして形成された触媒を用いて、エチレンの
単独重合またはエチレンとα−オレフィンとの共重合を
行うことによって本発明の重合を達成することができる
。エチレンと共重合する場合に使われるα−オレフィン
としては、炭素数が多くとも20個、好ましくは12個
のα−オレフィンであり、その代表例としては、プロピ
レン、ブテン−1、ヘキセン−1,4−メチルペンテン
−1およびオクテン−1があげられる。得られるエチレ
ン系共重合体中に占める上記のα−オレフィンの割合は
一般には20モル%以下が好ましく、特に15モル%以
下が好適である。
単独重合またはエチレンとα−オレフィンとの共重合を
行うことによって本発明の重合を達成することができる
。エチレンと共重合する場合に使われるα−オレフィン
としては、炭素数が多くとも20個、好ましくは12個
のα−オレフィンであり、その代表例としては、プロピ
レン、ブテン−1、ヘキセン−1,4−メチルペンテン
−1およびオクテン−1があげられる。得られるエチレ
ン系共重合体中に占める上記のα−オレフィンの割合は
一般には20モル%以下が好ましく、特に15モル%以
下が好適である。
本発明の方法を実施するにあたり、重合方法としては、
スラリー重合や溶液重合のような液相重合法や気相重合
などが可能である。液相重合法は通常炭化水素溶媒中で
実施されるが、炭化水素溶媒としては、ブタン、イソブ
タン、ヘキサン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の不活性炭化水素の単
独または混合物が用いられる。重合温度は一般には〇−
300℃であり、実用的には20−200℃である。又
、必要ならば分子量調節のために、重合系内に水素など
を共存させてもよい。
スラリー重合や溶液重合のような液相重合法や気相重合
などが可能である。液相重合法は通常炭化水素溶媒中で
実施されるが、炭化水素溶媒としては、ブタン、イソブ
タン、ヘキサン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の不活性炭化水素の単
独または混合物が用いられる。重合温度は一般には〇−
300℃であり、実用的には20−200℃である。又
、必要ならば分子量調節のために、重合系内に水素など
を共存させてもよい。
次に実施例及び比較例をあげて、本発明をさらに詳細に
説明する。なお、実施例及び比較例において、メルトイ
ンデックス(以下rMI」という)はJIS K−6
760に従い温度190℃および荷重2.16Kgの条
件で測定した。また、ハイロードメルトインデックス(
以下rHLMI」という)はJIS K−6760に
従い、温度190℃および荷重21.6Kgの条件で測
定した。
説明する。なお、実施例及び比較例において、メルトイ
ンデックス(以下rMI」という)はJIS K−6
760に従い温度190℃および荷重2.16Kgの条
件で測定した。また、ハイロードメルトインデックス(
以下rHLMI」という)はJIS K−6760に
従い、温度190℃および荷重21.6Kgの条件で測
定した。
HLMIをMIで除した値、すなわちHLMI/MIは
値が大きいほど、分子量分布が広いことを示す。溶融張
力は、東洋精機(株)製のメルトテンションテスターを
用い、樹脂温度190℃、オリフィス径2. 1mm、
オリフィス長さ8 m m。
値が大きいほど、分子量分布が広いことを示す。溶融張
力は、東洋精機(株)製のメルトテンションテスターを
用い、樹脂温度190℃、オリフィス径2. 1mm、
オリフィス長さ8 m m。
押出し速度15 m m / m i n、巻き取り速
度6゜5m/minの条件で測定した。
度6゜5m/minの条件で測定した。
ダイスウェルはMIと同じ装置を用い、MI測定時の押
出物の外径のオリフィス径(2,1mm)に対する膨張
液(%)で示した。
出物の外径のオリフィス径(2,1mm)に対する膨張
液(%)で示した。
(5)実施例
塞」L思」1
「触媒成分(A)のa8+1」
シリカ(W、R,Graca Co、Davison
952)を150℃で乾燥したちの30gを300m1
の三フロフラスコに入れ100 m lの蒸留水に溶解
した0、7gの二酸化クロムを加え室温において、30
分間攪拌を行った。得られたスラリーより40℃におい
て蒸留水を減圧留去した。
952)を150℃で乾燥したちの30gを300m1
の三フロフラスコに入れ100 m lの蒸留水に溶解
した0、7gの二酸化クロムを加え室温において、30
分間攪拌を行った。得られたスラリーより40℃におい
て蒸留水を減圧留去した。
得られた粉末を円筒状焼成電気炉(径 38mm、多孔
板目肌付)に入れ、まず窒素ガスを用いて線速度が4
c m / s e cの流量で90℃/ h rの昇
温速度で昇温した。600℃に到達したら、窒素を空気
にきりかえて同じ線速度で流動しながらこの温度におい
て8時間焼成したのち、雰囲気を窒素にきりかえて室温
まで降温した。その結果、20gの担体が得られた。こ
の担体の元素分析をしたところ、1.1重量%のクロム
原子が含まれていた。
板目肌付)に入れ、まず窒素ガスを用いて線速度が4
c m / s e cの流量で90℃/ h rの昇
温速度で昇温した。600℃に到達したら、窒素を空気
にきりかえて同じ線速度で流動しながらこの温度におい
て8時間焼成したのち、雰囲気を窒素にきりかえて室温
まで降温した。その結果、20gの担体が得られた。こ
の担体の元素分析をしたところ、1.1重量%のクロム
原子が含まれていた。
「触媒成分(C)の調製」
窒素置換した300m1の三ツロフラスコに硫酸銅・5
水和物を100 m m o l入れ、トルエン100
m lに懸濁させる。ついでトリメチルアルミニウム
300 m m o lを30℃で加え、その温度で4
8時間反応を続ける。ついで、この反応物を渡刑するこ
とにより1反応生成物の溶液を得た。
水和物を100 m m o l入れ、トルエン100
m lに懸濁させる。ついでトリメチルアルミニウム
300 m m o lを30℃で加え、その温度で4
8時間反応を続ける。ついで、この反応物を渡刑するこ
とにより1反応生成物の溶液を得た。
トルエンを留去したところ、8.2gの白色結晶状のメ
チルアルミノキサンが得られた。
チルアルミノキサンが得られた。
「エチレンの重合」
充分に窒素置換した3Lのオートクレーブにイソブタン
2L、上記で得られた担体0.2g、 メチルアルミ
ノキサンのトルエン溶液を2.0mmo1及びビスシク
ロペンタジェニルジクロロジルコニウムのトルエン溶液
を0.01mmol仕込み、内温を90℃まで昇温した
。ついで水素をゲージ圧で1.5kg/am2加え、さ
らにエチレンを圧入し、エチレン分圧を10 k g
/ c m 2となるように保ちながら、1時間重合を
行った。ついで内容ガスを系外に放出することにより、
重合を終結した。その結果、203gの白色粉末状重合
体が得られた。この重合体のMIはQ、94g/10m
1n、HLMIは133g/10m1nであり、HLM
I/MIは142であり、分子量分布は広いものであっ
た。
2L、上記で得られた担体0.2g、 メチルアルミ
ノキサンのトルエン溶液を2.0mmo1及びビスシク
ロペンタジェニルジクロロジルコニウムのトルエン溶液
を0.01mmol仕込み、内温を90℃まで昇温した
。ついで水素をゲージ圧で1.5kg/am2加え、さ
らにエチレンを圧入し、エチレン分圧を10 k g
/ c m 2となるように保ちながら、1時間重合を
行った。ついで内容ガスを系外に放出することにより、
重合を終結した。その結果、203gの白色粉末状重合
体が得られた。この重合体のMIはQ、94g/10m
1n、HLMIは133g/10m1nであり、HLM
I/MIは142であり、分子量分布は広いものであっ
た。
又、溶融張力は13g、ダイスウェルは78%であった
。
。
止301よ
実施例1においてクロム担持シリカの代わりに。
D a v i s o n 952シリカを600℃
で焼成したものを、用いて水素分圧をQ、2kg/am
2に変えた他は、実施例1と全く同様にエチレンの重合
を行った。得られた重合体は148gであり。
で焼成したものを、用いて水素分圧をQ、2kg/am
2に変えた他は、実施例1と全く同様にエチレンの重合
を行った。得られた重合体は148gであり。
MI=0.82g/10m1n、HLM’I/MI=2
0.4であった。又、溶融張力は2.5g。
0.4であった。又、溶融張力は2.5g。
ダイスウェルは20%であった。
11区又二1
実施例1において、二酸化クロムの使用量を表1に示す
ように変えた他は、実施例1と全く同様に触媒成分(A
)をgiIlt、、実施例1と同様にエチレンの重合を
行った。その結果は表1に示す。
ように変えた他は、実施例1と全く同様に触媒成分(A
)をgiIlt、、実施例1と同様にエチレンの重合を
行った。その結果は表1に示す。
夾胤且l二1
実施例1において、クロム化合物として、二酸化クロム
の代わりに、表1に示すクロム化合物を使用した他は、
実施例1と同様に触媒成分(A)を調製し、実施例1と
同様にエチレンの重合を行つた。その結果は表1に示す
。
の代わりに、表1に示すクロム化合物を使用した他は、
実施例1と同様に触媒成分(A)を調製し、実施例1と
同様にエチレンの重合を行つた。その結果は表1に示す
。
−1′ 9〜12
/
実施例3において遷移金属化合物としてビスシクロペン
タジェニルジクロロジルコニウムの代わりに、表2に示
す化合物を用いる他は、実施例3と同様にエチレンの重
合を行った。結果は表2に示す。
タジェニルジクロロジルコニウムの代わりに、表2に示
す化合物を用いる他は、実施例3と同様にエチレンの重
合を行った。結果は表2に示す。
去JL例」−旦
「エチレンとブテン−1との共重合」
充分に窒素置換した3Lのオートクレーブにイソブタン
2 L、 実施例3で調製した触媒成分(A)を0.
2g、メチルアルミノキサンのトルエン溶液を2.0m
mol及びビスシクロペンタジェニルジクロロジルコニ
ウムのトルエン溶液を0.01 m m o 1仕込み
、内温を75℃まで昇温した。
2 L、 実施例3で調製した触媒成分(A)を0.
2g、メチルアルミノキサンのトルエン溶液を2.0m
mol及びビスシクロペンタジェニルジクロロジルコニ
ウムのトルエン溶液を0.01 m m o 1仕込み
、内温を75℃まで昇温した。
ついでブテン−1を80g仕込み、水素を0. 3k
g / c m 2加え、さらにエチレンを圧入し、エ
チレン分圧を10 k g / c m 2となるよう
に保ちなから、1時間重合を行った。その結果、252
gの白色重合体が得られた。この重合体はM I =
O。
g / c m 2加え、さらにエチレンを圧入し、エ
チレン分圧を10 k g / c m 2となるよう
に保ちなから、1時間重合を行った。その結果、252
gの白色重合体が得られた。この重合体はM I =
O。
58g/10m1n、 HLMI=37g/10m1
n、HLMI/MI=64.密度=0.928g /
c cであり、溶融張力は15g、ダイスウェルは65
%であった。
n、HLMI/MI=64.密度=0.928g /
c cであり、溶融張力は15g、ダイスウェルは65
%であった。
笈五五上A
窒素置換した300m1の三ツロフラス・コに実施例1
で調製した触媒成分(A)を1g、トルエンを20 m
l、及びメチルアルミノキサンのトルエン溶液を10
m m o l仕込み、室温で1時間攪拌を行った。
で調製した触媒成分(A)を1g、トルエンを20 m
l、及びメチルアルミノキサンのトルエン溶液を10
m m o l仕込み、室温で1時間攪拌を行った。
ついでビスシクロペンタジェニルジクロロジルコニウム
0.05mmolを仕込み、さらに1時間攪拌を行った
。トルエンを減圧留去することにより、固体触媒成分を
得た。
0.05mmolを仕込み、さらに1時間攪拌を行った
。トルエンを減圧留去することにより、固体触媒成分を
得た。
「エチレンとブテン−1との共重合」
窒素置換した3Lのオートクレーブにイソブタン2L、
上記で得た固体触媒成分Q、25gを仕込、内温な75
℃まで昇温した。ついでブテン−1を65g仕込み、水
素を0.4kg/am2加え、さらにエチレンを圧入し
て、エチレン分圧をI Q k g / c m 2
となるように保ちながら、1時間重合を行った。その結
果、235gの重合体が得られ1MI=2. 3g/1
0m1n、 HLMI=166g/10m1n、HL
MI/MI=72及び密度=0.939g/ccであっ
た。又、溶融張力は5g、ダイスウェルは77%であっ
た。
上記で得た固体触媒成分Q、25gを仕込、内温な75
℃まで昇温した。ついでブテン−1を65g仕込み、水
素を0.4kg/am2加え、さらにエチレンを圧入し
て、エチレン分圧をI Q k g / c m 2
となるように保ちながら、1時間重合を行った。その結
果、235gの重合体が得られ1MI=2. 3g/1
0m1n、 HLMI=166g/10m1n、HL
MI/MI=72及び密度=0.939g/ccであっ
た。又、溶融張力は5g、ダイスウェルは77%であっ
た。
以下余白
(6)発明の詳細
な説明したように、本発明のエチレン系重合体の製造方
法によれば広い分子量分布を有し、しかも溶融張力かた
かく、ダイスウェルの大きいエチレン重合体を効率よく
製造することができる。そのためフィルム成形やブロー
成形に適した高品質のエチレン系重合体が得られる。
法によれば広い分子量分布を有し、しかも溶融張力かた
かく、ダイスウェルの大きいエチレン重合体を効率よく
製造することができる。そのためフィルム成形やブロー
成形に適した高品質のエチレン系重合体が得られる。
第1図は本発明の製造方法における触媒11製のフロー
チャート図である。 特許出願人 昭和電工株式会社 代 理 人 弁理士 寺1)實
チャート図である。 特許出願人 昭和電工株式会社 代 理 人 弁理士 寺1)實
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(A)クロム化合物が担持された多孔質無機酸化物
を、300℃ないし1000 ℃の温度範囲で加熱することによって得 られるクロム含有多孔質無機酸化物担体、 (B)共役π電子を有する基を配位子と した遷移金属化合物、および (C)アルミノキサン から形成される触媒の存在下に、エチレ ン単独またはエチレンとα−オレフィン とを共重合させることを特徴とするエチ レン系重合体の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12138988A JP2678914B2 (ja) | 1988-05-18 | 1988-05-18 | エチレン系重合体の製造方法 |
DE68913226T DE68913226T2 (de) | 1988-04-26 | 1989-04-25 | Verfahren zur Herstellung von Ethylenpolymeren. |
EP89107468A EP0339571B1 (en) | 1988-04-26 | 1989-04-25 | Process for preparation of ethylene polymers |
NO891710A NO172242C (no) | 1988-04-26 | 1989-04-25 | Fremgangsmaate for fremstilling av etylenpolymerer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12138988A JP2678914B2 (ja) | 1988-05-18 | 1988-05-18 | エチレン系重合体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01292009A true JPH01292009A (ja) | 1989-11-24 |
JP2678914B2 JP2678914B2 (ja) | 1997-11-19 |
Family
ID=14809988
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12138988A Expired - Fee Related JP2678914B2 (ja) | 1988-04-26 | 1988-05-18 | エチレン系重合体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2678914B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0763550A1 (en) * | 1995-09-14 | 1997-03-19 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Ethylenic polymerization catalyst |
US8501891B2 (en) | 2007-11-30 | 2013-08-06 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Ethylene-α-olefin copolymer and molded article |
US8841396B2 (en) | 2010-03-15 | 2014-09-23 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Ethylene-α-olefin copolymer and molded article |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7700516B2 (en) | 2007-09-26 | 2010-04-20 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Methods of preparing a polymerization catalyst |
-
1988
- 1988-05-18 JP JP12138988A patent/JP2678914B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0763550A1 (en) * | 1995-09-14 | 1997-03-19 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Ethylenic polymerization catalyst |
US8501891B2 (en) | 2007-11-30 | 2013-08-06 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Ethylene-α-olefin copolymer and molded article |
US8841396B2 (en) | 2010-03-15 | 2014-09-23 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Ethylene-α-olefin copolymer and molded article |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2678914B2 (ja) | 1997-11-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0339571B1 (en) | Process for preparation of ethylene polymers | |
JP2540451B2 (ja) | ポリオレフィン重合用触媒成分 | |
EP1268562B1 (en) | Organometal catalyst compositions | |
US5648439A (en) | Process for producing polyolefins | |
JP3952418B2 (ja) | 単一の反応器での、改善されたバブル安定性を有する2モードの高分子量高密度ポリエチレンフィルム樹脂 | |
JP4049403B2 (ja) | ポリオレフィン類の製造で用いるための支持された触媒成分の製造方法 | |
CA2407602C (en) | Polymerization catalyst compositions and processes to produce polymers and bimodal polymers | |
JP4630458B2 (ja) | 単量体重合用触媒組成物 | |
JPH09227613A (ja) | 幅広いモノモーダルな分子量分布を持つポリエチレンを製造するための担持メタロセン−アルモキサン触媒 | |
US5895770A (en) | Olefin polymerization catalysts with specific silica supports | |
JP2002502895A (ja) | エチレン(共)重合用触媒及びその製造法 | |
CA2105013A1 (en) | Catalyst compositions and process for preparing polyolefins | |
JPH10508631A (ja) | 反応器の汚染を防止するための方法と触媒 | |
JPH0791328B2 (ja) | 幅広い分子量分布を有するポリエチレンの製造方法及びその触媒 | |
KR20190018711A (ko) | 파이프용 폴리에틸렌 | |
JP2000514493A (ja) | 吹込成形およびフィルム用途用コモノマー前処理2金属系触媒 | |
US3959178A (en) | Mixed hydrocarbyloxide treated catalyst activated at different temperatures | |
US6180731B1 (en) | Polymerisates of ethylene with a high degree of resistance to stress crack, and a catalyst system for the production thereof | |
US4025707A (en) | Mixed hydrocarbyloxide treated catalyst activated at different temperatures | |
JPH01292009A (ja) | エチレン系重合体の製造方法 | |
JP2002511500A (ja) | エチレン重合用触媒系 | |
JP4242456B2 (ja) | 気相中におけるα−オレフィンの重合 | |
JPH08505174A (ja) | 線状低密度ポリエチレンフィルム | |
JP2640491B2 (ja) | エチレン系重合体の製造方法 | |
WO1998018842A1 (en) | Lldpe copolymers |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |