JPH01292009A - エチレン系重合体の製造方法 - Google Patents

エチレン系重合体の製造方法

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JPH01292009A
JPH01292009A JP12138988A JP12138988A JPH01292009A JP H01292009 A JPH01292009 A JP H01292009A JP 12138988 A JP12138988 A JP 12138988A JP 12138988 A JP12138988 A JP 12138988A JP H01292009 A JPH01292009 A JP H01292009A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (1)産業上の利用分野 本発明は新規な触媒系を用いたエチレン系重合体のwi
造右方法関する。さらに詳しくはインフレーション成形
や中空成形等に適した、分子量分布が広くしかも溶融張
力及びダイスウェルの大きなエチレン系重合体の製造方
法に関する。
(2)従来の技術 エチレン系重合体は、各種の成形品の樹脂材料として、
一般に広く用いられており、その成形方法と用途によっ
て要求される特性が異なっている。
例えば、射出成形法によって成形される製品には分子量
が比較的低く、狭い分子量分布を有する重合体が適して
いるが、インフレーション成形゛や中空成形などによっ
て成形される製品には1分子量が比鮫的高く、分子量分
布の広いポリマーが適している。
分子量分布は、フィルムやブロー製品の表面肌に関係し
ており、分子量分布が広いほど成形品の表面肌荒れが少
ないと考えられている。すなわち、高い分子量を有する
重合体の場合でも、流動性がよく成形品の表面肌にメル
トフラクチュアを生ずることなく、高品質の製品を得る
ことができる。
又、インフレーション成形や中空成形においては。
たとえばインフレーションフィルムの高速成形を安定的
に実施する場合や、中空成形時のパリソンの安定桂を確
保する場合、特に大型容器のパリソンの垂れ下がりや、
ちぎれを防止するためには、溶融張力の大きい重合体を
選択することが必要である。
従来より、広い分子量分布を有し、しかも高い溶融張力
を有するエチレン系重合体を製造するための方法が、い
くつか提案されており、特開昭56−90809号公報
、同56−90810、同59−56406.  同6
0−106806などがある。特開昭56・−9080
9号公報、同56−90810はダイスウェルの改善効
果は認められるもののそのレベルは不充分であり、又、
分子量分布も充分に広くなっているとは言い難い、又。
特開昭59−56406号公報、同60−106806
は溶融張力は広範囲にコントロールができるものの、分
子量分布の広さがやや不充分であり、溶融張力と分子量
分布との両者のバランスにおりて、改善の余地がみられ
る。
(3)発明が解決しようとする課題 本発明の目的は、上記従来技術の問題点が改良されて、
広い分子量分布を有し、かつ高い溶融張力及びダイスウ
ェルを有するエチレン系重合体を効率よく製造する方法
を提案することにある。
(4)課題を解決するための手段 上記目的を、達成するために、検討した結果。
(A)クロム化合物が担持された多孔質無機酸化物担体
を300℃ないし1000℃の温度範囲で加熱すること
によって得られるクロム含有多孔質無機酸化物担体、 (B)共役π電子を有する基を配位子とした遷移金属化
合物、および(C)アルミノキサンから形成される触媒
の存在下に、エチレン小猿またはエチレンとαオレフィ
ンとを共重合させることにより、上記目的が達成される
ことを見いだし、本発明に到達した。
本発明の触媒の構成成分の一部である(B)成分と(C
)成分とを組み合わせた触媒は最近提案されており、た
とえば特開昭58−19309号公報、同61−211
307、同62−230802などが例示されるが、こ
れらはいずれも分子量分布の狭い重合体を与える。又、
特開昭61−108610号公報、同61−27680
5.  同61−296008、同63−22804、
同63−54403、同63−61010などは(B)
、(C)成分とある特定の無機酸化物担体とを組み合わ
せた触媒であるが、これらも分子量分布の狭い重合体を
与える。
本発明は担体として、クロム化合物が担持された多孔質
無機酸化物を300℃ないし1000℃の温度範囲で加
熱することによって得られたものを使用することにより
、広い分子量分布でしかも高い溶融張力及びダイスウェ
ルを有するエチレン系重合体を与えるものであり、従来
の技術からは全く予期できず驚くべきことである。
本発明において担体の製造に使用されるクロム化合物は
クロムの酸化物、ハロゲン化物、オキシハロゲン化物、
硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩、蓚酸塩および有機クロム化合
物などが挙げられる。具体的には二酸化クロム、塩化ク
ロミル、硝酸クロム、酢酸クロム、クロム酸アンモニウ
ム、アセチルアセトンクロム、ビスシクロペンタジェニ
ルクロム等が挙げられる。
多孔質無機酸化物は周期律表第11a族、ma族、IV
a族、およびIVb族の金属酸化物であり、具体例とし
ては、シリカ、アルミナ、マグネシア、ジルコニアまた
はこれらの混合物があげられる。これらの酸化物はその
種類および製法により、その性状は異なるが本発明に好
ましく用いられるものは、比表面積が50m2/g以上
平均細孔径が50A以上、平均粒径が100μm以下の
ものである。多孔質無機酸化物にクロム化合物を担持す
る方法はクロム化合物を水系あるいは非水系溶媒中で含
浸担持する方法が好ましく用いられる。担持温度は。
一般には100℃以下であり、0−40℃が好ましい。
このようにして得られたクロム化合物が担持された多孔
質無機酸化物を、溶媒を留去したのちに、300℃ない
し1000℃の温度範囲で加熱することにより、担体が
得られる。加熱は乾燥ガス(例えば空気)によって流動
化された状態で実施することが可能である。多孔質無機
酸化物に対するクロム化合物の使用割合は得られる担体
中のクロム原子の含有量が0.2重量%ないし5重量%
の範囲になるようにするのが好ましい。
触媒成分(B)の共役π電子を有する基を配位子とする
遷移金属化合物としては、たとえば−船底R’m (R
2) 2M R3R’で示される化合物である。
ここでMはチタン、ジルコニウムもしくはハフニウムで
あり、R2はシクロアルカジェニル基であり、R3およ
びR4はそれぞれ炭素数1−20のハイドロカルビル基
、アルコキシ基、ハロゲン原子もしくは水素原子である
。R1は2個のR2を結合する基であり、炭素数1−4
のアルキレン基であり、mは0または1である。シクロ
アルカジェニル基は、たとえば、シクロペンタジェニル
基、メチルシクロペンタジェニル基、ペンタメチルシク
ロペンタジェニル基、インデニル基、テトラヒドロイン
デニル基などである。  R3およびR4のハイドロカ
ルビル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル
、ブチル、アミル、イソアミル、ヘキシル、イソブチル
、ヘプチル、オクチル、ノニル。
デシル、セチル、2−エチルヘキシル、フェニルなどを
挙げることができる。アルコキシ基としては、メトキシ
、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどを挙げることが
でき、ハロゲン原子としては。
塩素、臭素、フッ素などを挙げることができる。
−船底R1□(R2) 2M R3R’で示される化合
物の具体例としては、ビス(シクロペンタジェニル)ジ
メチルチタニウム、ビス(メチルシクロペンタジェニル
)ジメチルチタニウム、ビス(ペンタメチルシクロペン
タジェニル)ジメチルチタニウム、ビス(シクロペンタ
ジェニル)メチルクロロチタニウム、ビス(シクロペン
タジェニル)ジクロロチタニウム、ビス(インデニル)
ジメチルチタニウム、ビス(インデニル)ジクロロチタ
ニウム。
エチレンビス(インデニル)ジクロ−ロチタニウム、エ
チレンビス(テトラヒドロインデニル)ジクロロチタニ
ウム、<ス(シクロペンタジェニル)ジメチルジルコニ
ウム、ビス(メチルシクロペンタジェニル)ジメチルジ
ルコニウム、ビス(ペンタメチルシクロペンタジェニル
)ジメチルジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニル
)メチルクロロジルコニウム、ビス(シクロペンタジェ
ニル)ジクロロジルコニウム、 ビス(インデニル)ジ
メチルジルコニウム、ビス(インデニル)ジクロロジル
コニウム、エチレンビス(インデニル)ジクロロジルコ
ニウム、エチレンビス(テトラヒドロインデニル)ジク
ロロジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニル)ジメ
チルハフニウム、ビス(シクロペンタジェニル)ジクロ
ロハフニウムが挙げられる。
触媒成分(C)のアルミノキサンとしては、−船底 %式% で示される縮合物またはその混合物である。ここでR5
は炭素数が多くとも6個のアルキル基またはハロゲン原
子であり、R6は炭素数が多くとも6個のアルキル基で
あり、R5がアルキル基の場合にはR5と同一であり、
nは1またはそれ以上の整数である。R5はたとえば、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等であり、
好ましくは、メチル基、エチル基、特に好ましくはメチ
ル基である。
アルミノキサンの製造法はトルエンの如き不活性炭化水
素溶媒に溶かした有機アルミニウム化合物へ所定量の水
を徐々に加え、必要に応じ少し加熱することによって容
易に行うことができるが、硫酸銅水和物、硫酸アルミニ
ウム水和物などの結晶水を利用して行うこともできる。
本発明の触媒は触媒成分(A)、触媒成分(B)及び触
媒成分(C)を接触させることにより形成される、これ
らの成分の接触順序は特に限定されるものではなく、た
とえばこれら3成分を同時に接触させてもよく、又、触
媒成分(A)と触媒成分(B)とを前もって接触させて
おき、しかる後に触媒成分(C)を接触させてもよい。
これら3成分の使用割合は通常、触媒成分(A)の1g
に対して、触媒成分(B)をO,Of−1mmolであ
り、−好ましくは、0. 02−0.4mmolである
。触媒成分(C)の使用割合は、触媒成分(B)1モル
に対して、触媒成分(C)中のアルミニウム量が1−1
05g原子の範囲、好ましくは10−104g原子の範
囲である。
以上のようにして形成された触媒を用いて、エチレンの
単独重合またはエチレンとα−オレフィンとの共重合を
行うことによって本発明の重合を達成することができる
。エチレンと共重合する場合に使われるα−オレフィン
としては、炭素数が多くとも20個、好ましくは12個
のα−オレフィンであり、その代表例としては、プロピ
レン、ブテン−1、ヘキセン−1,4−メチルペンテン
−1およびオクテン−1があげられる。得られるエチレ
ン系共重合体中に占める上記のα−オレフィンの割合は
一般には20モル%以下が好ましく、特に15モル%以
下が好適である。
本発明の方法を実施するにあたり、重合方法としては、
スラリー重合や溶液重合のような液相重合法や気相重合
などが可能である。液相重合法は通常炭化水素溶媒中で
実施されるが、炭化水素溶媒としては、ブタン、イソブ
タン、ヘキサン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の不活性炭化水素の単
独または混合物が用いられる。重合温度は一般には〇−
300℃であり、実用的には20−200℃である。又
、必要ならば分子量調節のために、重合系内に水素など
を共存させてもよい。
次に実施例及び比較例をあげて、本発明をさらに詳細に
説明する。なお、実施例及び比較例において、メルトイ
ンデックス(以下rMI」という)はJIS  K−6
760に従い温度190℃および荷重2.16Kgの条
件で測定した。また、ハイロードメルトインデックス(
以下rHLMI」という)はJIS  K−6760に
従い、温度190℃および荷重21.6Kgの条件で測
定した。
HLMIをMIで除した値、すなわちHLMI/MIは
値が大きいほど、分子量分布が広いことを示す。溶融張
力は、東洋精機(株)製のメルトテンションテスターを
用い、樹脂温度190℃、オリフィス径2. 1mm、
  オリフィス長さ8 m m。
押出し速度15 m m / m i n、巻き取り速
度6゜5m/minの条件で測定した。
ダイスウェルはMIと同じ装置を用い、MI測定時の押
出物の外径のオリフィス径(2,1mm)に対する膨張
液(%)で示した。
(5)実施例 塞」L思」1 「触媒成分(A)のa8+1」 シリカ(W、R,Graca  Co、Davison
952)を150℃で乾燥したちの30gを300m1
の三フロフラスコに入れ100 m lの蒸留水に溶解
した0、7gの二酸化クロムを加え室温において、30
分間攪拌を行った。得られたスラリーより40℃におい
て蒸留水を減圧留去した。
得られた粉末を円筒状焼成電気炉(径 38mm、多孔
板目肌付)に入れ、まず窒素ガスを用いて線速度が4 
c m / s e cの流量で90℃/ h rの昇
温速度で昇温した。600℃に到達したら、窒素を空気
にきりかえて同じ線速度で流動しながらこの温度におい
て8時間焼成したのち、雰囲気を窒素にきりかえて室温
まで降温した。その結果、20gの担体が得られた。こ
の担体の元素分析をしたところ、1.1重量%のクロム
原子が含まれていた。
「触媒成分(C)の調製」 窒素置換した300m1の三ツロフラスコに硫酸銅・5
水和物を100 m m o l入れ、トルエン100
 m lに懸濁させる。ついでトリメチルアルミニウム
300 m m o lを30℃で加え、その温度で4
8時間反応を続ける。ついで、この反応物を渡刑するこ
とにより1反応生成物の溶液を得た。
トルエンを留去したところ、8.2gの白色結晶状のメ
チルアルミノキサンが得られた。
「エチレンの重合」 充分に窒素置換した3Lのオートクレーブにイソブタン
2L、上記で得られた担体0.2g、  メチルアルミ
ノキサンのトルエン溶液を2.0mmo1及びビスシク
ロペンタジェニルジクロロジルコニウムのトルエン溶液
を0.01mmol仕込み、内温を90℃まで昇温した
。ついで水素をゲージ圧で1.5kg/am2加え、さ
らにエチレンを圧入し、エチレン分圧を10 k g 
/ c m 2となるように保ちながら、1時間重合を
行った。ついで内容ガスを系外に放出することにより、
重合を終結した。その結果、203gの白色粉末状重合
体が得られた。この重合体のMIはQ、94g/10m
1n、HLMIは133g/10m1nであり、HLM
I/MIは142であり、分子量分布は広いものであっ
た。
又、溶融張力は13g、ダイスウェルは78%であった
止301よ 実施例1においてクロム担持シリカの代わりに。
D a v i s o n 952シリカを600℃
で焼成したものを、用いて水素分圧をQ、2kg/am
2に変えた他は、実施例1と全く同様にエチレンの重合
を行った。得られた重合体は148gであり。
MI=0.82g/10m1n、HLM’I/MI=2
0.4であった。又、溶融張力は2.5g。
ダイスウェルは20%であった。
11区又二1 実施例1において、二酸化クロムの使用量を表1に示す
ように変えた他は、実施例1と全く同様に触媒成分(A
)をgiIlt、、実施例1と同様にエチレンの重合を
行った。その結果は表1に示す。
夾胤且l二1 実施例1において、クロム化合物として、二酸化クロム
の代わりに、表1に示すクロム化合物を使用した他は、
実施例1と同様に触媒成分(A)を調製し、実施例1と
同様にエチレンの重合を行つた。その結果は表1に示す
−1′ 9〜12 / 実施例3において遷移金属化合物としてビスシクロペン
タジェニルジクロロジルコニウムの代わりに、表2に示
す化合物を用いる他は、実施例3と同様にエチレンの重
合を行った。結果は表2に示す。
去JL例」−旦 「エチレンとブテン−1との共重合」 充分に窒素置換した3Lのオートクレーブにイソブタン
2 L、  実施例3で調製した触媒成分(A)を0.
2g、メチルアルミノキサンのトルエン溶液を2.0m
mol及びビスシクロペンタジェニルジクロロジルコニ
ウムのトルエン溶液を0.01 m m o 1仕込み
、内温を75℃まで昇温した。
ついでブテン−1を80g仕込み、水素を0. 3k 
g / c m 2加え、さらにエチレンを圧入し、エ
チレン分圧を10 k g / c m 2となるよう
に保ちなから、1時間重合を行った。その結果、252
gの白色重合体が得られた。この重合体はM I = 
O。
58g/10m1n、  HLMI=37g/10m1
n、HLMI/MI=64.密度=0.928g / 
c cであり、溶融張力は15g、ダイスウェルは65
%であった。
笈五五上A 窒素置換した300m1の三ツロフラス・コに実施例1
で調製した触媒成分(A)を1g、トルエンを20 m
 l、及びメチルアルミノキサンのトルエン溶液を10
 m m o l仕込み、室温で1時間攪拌を行った。
ついでビスシクロペンタジェニルジクロロジルコニウム
0.05mmolを仕込み、さらに1時間攪拌を行った
。トルエンを減圧留去することにより、固体触媒成分を
得た。
「エチレンとブテン−1との共重合」 窒素置換した3Lのオートクレーブにイソブタン2L、
上記で得た固体触媒成分Q、25gを仕込、内温な75
℃まで昇温した。ついでブテン−1を65g仕込み、水
素を0.4kg/am2加え、さらにエチレンを圧入し
て、エチレン分圧をI Q k g / c m 2 
となるように保ちながら、1時間重合を行った。その結
果、235gの重合体が得られ1MI=2. 3g/1
0m1n、  HLMI=166g/10m1n、HL
MI/MI=72及び密度=0.939g/ccであっ
た。又、溶融張力は5g、ダイスウェルは77%であっ
た。
以下余白 (6)発明の詳細 な説明したように、本発明のエチレン系重合体の製造方
法によれば広い分子量分布を有し、しかも溶融張力かた
かく、ダイスウェルの大きいエチレン重合体を効率よく
製造することができる。そのためフィルム成形やブロー
成形に適した高品質のエチレン系重合体が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の製造方法における触媒11製のフロー
チャート図である。 特許出願人  昭和電工株式会社 代 理 人  弁理士 寺1)實

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(A)クロム化合物が担持された多孔質無機酸化物
    を、300℃ないし1000 ℃の温度範囲で加熱することによって得 られるクロム含有多孔質無機酸化物担体、 (B)共役π電子を有する基を配位子と した遷移金属化合物、および (C)アルミノキサン から形成される触媒の存在下に、エチレ ン単独またはエチレンとα−オレフィン とを共重合させることを特徴とするエチ レン系重合体の製造方法。
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